JP2007304452A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Setsuo Kobayashi
節郎 小林
Hiroaki Miwa
広明 三輪
Katsuhiko Ishii
克彦 石井
Takashi Yamamoto
貴史 山本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To hold adhesion strength of a sealing material in a liquid crystal display where an alignment layer is formed and two substrates are made to adhere to each other by using the sealing material of the peripheral part of the substrates. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display having the alignment layer and the sealing material, the alignment layer is formed also on the outer side of the sealing material in a side where end parts of the two substrates are aligned and an end part of the alignment layer is formed on the inner side of the sealing material in a terminal connection part where one substrate is extended to the outer side from the other substrate. A constitution product 72 excluding alignment layers 14 and 18 is further formed in a region where the sealing material 7 comes in contact with the alignment layers 14 and 18 to expand the area of the sealing material 7 coming in contact with a ground. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関係する、特に配向膜を用いる液晶表示装置に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and particularly to a technique effective when applied to a liquid crystal display device using an alignment film.

近年、表示装置として液晶表示装置が多用されている。特に液晶表示装置は、薄型、軽量、省電力であることから、大型テレビや携帯用機器の表示部として用いられている。   In recent years, liquid crystal display devices are frequently used as display devices. In particular, the liquid crystal display device is thin, lightweight, and power-saving, and thus is used as a display unit for large televisions and portable devices.

しかしながら液晶表示装置は、液晶組成物を使用することから、配向膜を必要とする。また、液晶表示装置は２枚の基板の間に液晶組成物を封入した構造を有する。そのため、基板周辺には液晶組成物を封止するシール材が設けられている。また、狭額縁化の要求により配向膜とシール材とは近接して設けられている。   However, since a liquid crystal display device uses a liquid crystal composition, an alignment film is required. In addition, the liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal composition is sealed between two substrates. Therefore, a sealing material for sealing the liquid crystal composition is provided around the substrate. In addition, the alignment film and the sealing material are provided close to each other due to the demand for narrowing the frame.

シール材の形成領域にまで配向膜を形成した液晶表示装置について、特許文献１に記載がある。しかしながら、特許文献１では配向膜をシール形成領域で除去する工程が増加しており、工程の簡略化や配向膜とシール材の接着強度について考慮されていない。   Patent Document 1 describes a liquid crystal display device in which an alignment film is formed even in a sealing material formation region. However, in Patent Document 1, the process of removing the alignment film in the seal formation region is increasing, and the simplification of the process and the adhesive strength between the alignment film and the seal material are not taken into consideration.

特開２００１−２３５７４９号JP 2001-235749 A

一般的に配向膜はオフセット印刷等によって、基板上の定められた領域に形成されている。すなわちシール材で区画された領域内に、シール材と充分に離れて配向膜が形成されている。そのために、配向膜がシール材におよぼす問題については考慮されていなかった。   In general, the alignment film is formed in a predetermined region on the substrate by offset printing or the like. That is, the alignment film is formed in the region partitioned by the sealing material sufficiently away from the sealing material. Therefore, the problem that the alignment film has on the sealing material has not been considered.

しかしながら、表示領域に対して周辺部を小さくする要求が高まっており、所謂狭額縁化が進んでいる。そのため、周辺部であるシール材が形成される領域も面積が減少しており、シール材と配向膜の端部との距離も狭くなっている。   However, there is an increasing demand for reducing the peripheral portion of the display area, and so-called narrowing of the frame is progressing. For this reason, the area of the peripheral portion where the sealing material is formed is also reduced, and the distance between the sealing material and the end portion of the alignment film is also reduced.

さらなる狭額縁化を検討するにあたって、配向膜の位置ズレを考慮すると、配向膜形成領域とシール材とが重なってしまう可能性が高くなっている。しかしながら、配向膜の上にシール材を形成してしまうと、シール材の接着強度が著しく低下するという問題が見出された。   In considering the further narrowing of the frame, if the positional deviation of the alignment film is taken into consideration, there is a high possibility that the alignment film forming region and the sealing material overlap. However, it has been found that if a sealing material is formed on the alignment film, the adhesive strength of the sealing material is significantly reduced.

本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、配向膜の形成領域がシール材に近接し、さらにはシール材よりも外側に配向膜が形成されても充分な接着強度を有するシール材を製造工程が増加することなく実現するものである。   The present invention has been made based on such circumstances, and its purpose is to provide sufficient adhesion even when the alignment film formation region is close to the seal material and the alignment film is formed outside the seal material. A sealing material having strength can be realized without increasing the number of manufacturing steps.

第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板または第２の基板の周辺部に設けられたシール材と、第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、第１の基板の端面と第２の基板の端面とが揃った辺では、配向膜をシール材で区画された内側と外側とに形成する、また、第１の基板の接続端子が形成された辺では、配向膜の端部をシール材で区画された内側に形成する。   A liquid crystal display device having a first substrate and a second substrate, wherein a sealing material provided in a peripheral portion of the first substrate or the second substrate, and the first substrate or the second substrate The alignment film is formed on the inner side and the outer side partitioned by the sealing material on the side where the end face of the first substrate and the end face of the second substrate are aligned. On the side where the connection terminal of one substrate is formed, the end portion of the alignment film is formed on the inner side partitioned by the sealing material.

また、第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板の周囲に設けられたシール材と、第１の基板に形成された配向膜とを有し、配向膜を第１の基板のシール材で区画された内側と外側とに形成する、また、配向膜のシール材が設けられる位置に配向膜を除去する構造を形成する。   Further, the liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate, and includes a sealing material provided around the first substrate and an alignment film formed on the first substrate. The alignment film is formed on the inner side and the outer side partitioned by the sealing material of the first substrate, and the structure in which the alignment film is removed at the position where the sealing material of the alignment film is provided is formed.

また、第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板の周囲に設けられたシール材と、第１の基板に形成された配向膜とを有し、シール材が設けられる位置に配向膜に対して親和性の低い表面を有する構造を形成する。   Further, the liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate, and includes a sealing material provided around the first substrate and an alignment film formed on the first substrate. A structure having a surface having low affinity for the alignment film is formed at a position where the sealant is provided.

本願発明は、液晶表示装置において、シール材に近接して配向膜を形成した構造において、狭額縁化に寄与する辺部において配向膜をシール材の外側に形成するものである。   In the liquid crystal display device according to the present invention, in the structure in which the alignment film is formed in the vicinity of the sealing material, the alignment film is formed on the outer side of the sealing material in the side portion that contributes to the narrowing of the frame.

また、本願発明は、液晶表示装置において、シール材に近接して配向膜を形成した構造において、製造工程を増加させることなく、シール材の形成部より配向膜を排除するものである。   Further, the present invention eliminates the alignment film from the sealing material forming portion without increasing the number of manufacturing steps in the structure in which the alignment film is formed close to the sealing material in the liquid crystal display device.

本願発明によれば、シール材の形成領域と配向膜とを近接させて、表示部周辺を狭く形成した液晶表示装置を得ることが可能となる。   According to the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal display device in which the periphery of the display unit is formed narrow by bringing the sealing material forming region and the alignment film close to each other.

本願発明によれば、シール材の形成領域から配向膜を容易に排除することが可能であり、工程数を増加することなく、周辺部に対して表示領域の広い液晶表示装置を得ることが可能となる。   According to the present invention, the alignment film can be easily excluded from the sealing material forming region, and a liquid crystal display device having a wide display region with respect to the peripheral portion can be obtained without increasing the number of steps. It becomes.

液晶パネルを有する液晶表示装置であって、液晶パネルは、液晶層を挟んで対向する２枚の基板を有し、液晶組成物を封止するように、重ね合せた２枚の基板の周囲にシール材を設け、２枚の基板の液晶層側に配向膜を形成し、２枚の基板のすくなくとも一方の基板のシール材が形成される位置には、配向膜を排除する構造物を形成する。   A liquid crystal display device having a liquid crystal panel, the liquid crystal panel having two substrates opposed to each other with a liquid crystal layer sandwiched therebetween, around the two stacked substrates so as to seal the liquid crystal composition A sealing material is provided, an alignment film is formed on the liquid crystal layer side of the two substrates, and a structure that excludes the alignment film is formed at a position where the sealing material of at least one of the two substrates is formed. .

液晶パネルは４辺を有し、３辺は２枚の基板の端面を揃えて形成し、１辺は一方の辺から他方の辺が外側に向けて延在して、外部接続部を形成し、外部接続部が形成されない３辺では、シール材の外側に配向膜が形成され、外部接続部の形成される１辺では、シール材の内側に配向膜の端部が形成される。   The liquid crystal panel has four sides, the three sides are formed by aligning the end surfaces of two substrates, and one side extends from one side to the other side to form an external connection portion. The alignment film is formed on the outer side of the sealing material on the three sides where the external connection portion is not formed, and the end of the alignment film is formed on the inner side of the sealing material on the one side where the external connection portion is formed.

２枚の基板のすくなくとも一方の基板のシール材が形成される位置の近傍には、配向膜に対して親和性の低い構造物を形成する。   A structure having a low affinity for the alignment film is formed in the vicinity of the position where the sealing material of at least one of the two substrates is formed.

図１は、本発明による液晶表示装置１００を示す平面図である。液晶表示装置１００は液晶パネル１と制御回路８０とで構成される。制御回路８０からは液晶パネル１の表示に必要な信号及び、電源電圧が供給される。制御回路８０はフレキシブル基板7０に搭載されており、配線7１、端子7５を介して信号が液晶パネル１に伝達される。   FIG. 1 is a plan view showing a liquid crystal display device 100 according to the present invention. The liquid crystal display device 100 includes the liquid crystal panel 1 and a control circuit 80. The control circuit 80 supplies a signal necessary for display on the liquid crystal panel 1 and a power supply voltage. The control circuit 80 is mounted on the flexible substrate 70, and a signal is transmitted to the liquid crystal panel 1 through the wiring 71 and the terminal 75.

液晶パネル１の画素部８には画素電極１２が設けられている。なお、液晶パネル１は多数の画素部８をマトリクス状に備えているが、図が煩雑になることを避けて、図１では画素部８を１つだけ図示している。マトリクス状に配置された画素部８は表示領域９を形成し、各画素部８が表示画像の画素の役割をはたし、表示領域９に画像を表示する。   A pixel electrode 12 is provided in the pixel portion 8 of the liquid crystal panel 1. Although the liquid crystal panel 1 includes a large number of pixel portions 8 in a matrix, only one pixel portion 8 is shown in FIG. The pixel portions 8 arranged in a matrix form a display region 9, and each pixel portion 8 plays a role of a pixel of a display image and displays an image in the display region 9.

図１においては、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線（走査線とも呼ぶ）２１と、ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線（映像信号線とも呼ぶ）２２とが設けられており、ゲート信号線２１とドレイン信号線２２とで囲まれる領域に画素部８を形成している。   In FIG. 1, a gate signal line (also referred to as a scanning line) 21 extending in the x direction and juxtaposed in the y direction, and a drain signal line (video) extending in the y direction and juxtaposed in the x direction. The pixel portion 8 is formed in an area surrounded by the gate signal line 21 and the drain signal line 22.

画素部８にはスイッチング素子１０が設けられている。ゲート信号線２１からは制御信号が供給され、スイッチング素子１０のオン・オフが制御される。スイッチング素子１０がオン状態となることで、ドレイン信号線２２を介して伝送された映像信号が画素電極１２に供給される。画素電極１２はＩＴＯ等の透明導電膜により形成される。   A switching element 10 is provided in the pixel portion 8. A control signal is supplied from the gate signal line 21 to control on / off of the switching element 10. When the switching element 10 is turned on, the video signal transmitted through the drain signal line 22 is supplied to the pixel electrode 12. The pixel electrode 12 is formed of a transparent conductive film such as ITO.

ドレイン信号線２２は接続端子５１を介して駆動回路５に接続されている。駆動回路５からはドレイン信号線２２に映像信号が出力する。ゲート信号線２１は駆動回路６に接続されており、駆動回路６からは制御信号が出力する。なお、ゲート信号線２１、ドレイン信号線２２及び、及び駆動回路６とは同じＴＦＴ基板２上に形成されている。駆動回路５はＩＣチップであり、ＴＦＴ基板２に実装されている。   The drain signal line 22 is connected to the drive circuit 5 via the connection terminal 51. A video signal is output from the drive circuit 5 to the drain signal line 22. The gate signal line 21 is connected to the drive circuit 6, and a control signal is output from the drive circuit 6. Note that the gate signal line 21, the drain signal line 22, and the drive circuit 6 are formed on the same TFT substrate 2. The drive circuit 5 is an IC chip and is mounted on the TFT substrate 2.

ＴＦＴ基板２は微小な間隙を介して対向基板３と重ねられている。また、表示領域９の外周にはシール材７が設けられており、ＴＦＴ基板２と対向基板３とを接着している。ＴＦＴ基板２と対向基板３とシール材７とは、微小な間隙を有する容器の形状をなし、内部に液晶組成物が保持される。   The TFT substrate 2 is overlapped with the counter substrate 3 through a minute gap. Further, a sealing material 7 is provided on the outer periphery of the display area 9 to bond the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 together. The TFT substrate 2, the counter substrate 3, and the sealing material 7 form a container having a minute gap, and the liquid crystal composition is held inside.

次に、図２を用いて液晶パネル１の外観につてい説明する。図２は液晶パネル１の斜視図で、前述したようにＴＦＴ基板２に対向基板３が重なっている。ＴＦＴ基板２と対向基板３とは、３つの辺２８で端面が揃った形状をしており、残りの１辺では、ＴＦＴ基板２が対向基板３よりも外側に突出して端子接続部２９を形成している。このＴＦＴ基板２が対向基板３の辺より外側に延在している端子接続部２９には、接続端子５１や接続端子７５が設けられており、駆動回路５や、フレキシブル基板７０が接続される。   Next, the appearance of the liquid crystal panel 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a perspective view of the liquid crystal panel 1, and the counter substrate 3 overlaps the TFT substrate 2 as described above. The TFT substrate 2 and the counter substrate 3 have a shape in which the end faces are aligned on the three sides 28, and the TFT substrate 2 projects outward from the counter substrate 3 on the remaining one side to form a terminal connection portion 29. is doing. A connection terminal 51 and a connection terminal 75 are provided on the terminal connection portion 29 where the TFT substrate 2 extends outside the side of the counter substrate 3, and the drive circuit 5 and the flexible substrate 70 are connected thereto. .

端面が揃った３辺２８では、シール材７は端辺近傍に形成されており、シール材７と端辺２８との間隔ｗが狭くなっている。次に図２に切断線Ａ−Ａで示す断面図を図３に示し、図２に切断線Ｂ−Ｂで示す断面図を図４に示す。   On the three sides 28 where the end surfaces are aligned, the sealing material 7 is formed in the vicinity of the end sides, and the interval w between the sealing material 7 and the end sides 28 is narrow. Next, FIG. 3 shows a cross-sectional view taken along section line AA in FIG. 2, and FIG. 4 shows a cross-sectional view taken along section line BB in FIG.

図３は端子接続部２９側のシール材７の近傍を示す断面図である。図３に示すように、ＴＦＴ基板２と対向基板３とが重ねられて、シール材７によりＴＦＴ基板２と対向基板３とが接続されている。また、ＴＦＴ基板２と対向基板３とシール材７で囲まれた内部に液晶組成物４が保持されている。ＴＦＴ基板２と対向基板３との間隔はスペーサ２７によって保たれている。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing the vicinity of the sealing material 7 on the terminal connection portion 29 side. As shown in FIG. 3, the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 are overlapped with each other, and the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 are connected by the seal material 7. The liquid crystal composition 4 is held inside the TFT substrate 2, the counter substrate 3, and the sealing material 7. The distance between the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 is maintained by a spacer 27.

ＴＦＴ基板２には、下地膜４１が形成され、下地膜４１の上にはゲート信号線２１が形成されている。ゲート信号線２１の上にはゲート絶縁膜４３が形成されている。図中右側の表示領域からはドレイン信号線２２がシール材７の近傍まで伸びている。   A base film 41 is formed on the TFT substrate 2, and a gate signal line 21 is formed on the base film 41. A gate insulating film 43 is formed on the gate signal line 21. From the display area on the right side of the drawing, the drain signal line 22 extends to the vicinity of the sealing material 7.

ドレイン信号線２２はシール材７の内部で、ゲート絶縁膜４３に形成されたスルーホール５２を介してゲート信号線２１に接続され、シール材７の外側でスルーホール５３を介してドレイン信号線２２に接続されている。   The drain signal line 22 is connected to the gate signal line 21 through the through hole 52 formed in the gate insulating film 43 inside the sealing material 7, and is connected to the drain signal line 22 through the through hole 53 outside the sealing material 7. It is connected to the.

ドレイン信号線２２の上には、無機絶縁膜４５と有機絶縁膜４４とが積層されている。シール材７の外側では、無機絶縁膜４５と有機絶縁膜４４とにスルーホール５４が形成されている。ドレイン信号線２２はスルーホール５４を介して透明導電膜３７と接続して接続端子５１を形成している。   An inorganic insulating film 45 and an organic insulating film 44 are stacked on the drain signal line 22. A through hole 54 is formed in the inorganic insulating film 45 and the organic insulating film 44 outside the sealing material 7. The drain signal line 22 is connected to the transparent conductive film 37 through the through hole 54 to form a connection terminal 51.

シール材７はＴＦＴ基板２側で無機絶縁膜４５に接着している。無機絶縁膜４５を窒化シリコン膜ＳｉＮや酸化シリコン膜ＳｉＯ２で形成すれば、シール材７の接着強度が増加する。   The sealing material 7 is bonded to the inorganic insulating film 45 on the TFT substrate 2 side. If the inorganic insulating film 45 is formed of the silicon nitride film SiN or the silicon oxide film SiO2, the adhesive strength of the sealing material 7 increases.

配向膜１４と１８の端部１４ａと１８ａは、シール材７の内部に形成されており、配向膜１４、または配向膜１８と、シール材７とが重なることにより接着強度が低下する問題を避けることが可能である。なお、端部１４ａと１８ａでは配向膜の膜厚が厚くなっており、図３に示すように突起状となっている。   The end portions 14 a and 18 a of the alignment films 14 and 18 are formed inside the sealing material 7, and the problem that the adhesion strength is reduced due to the alignment film 14 or the alignment film 18 and the sealing material 7 being overlapped is avoided. It is possible. Note that the end portions 14a and 18a have a thick alignment film, which has a protruding shape as shown in FIG.

次に図４にＴＦＴ基板２と対向基板３との端面が揃った辺２８近傍の断面図を示す。図４に示すように辺２８ではＴＦＴ基板２と対向基板３とが揃った位置で切断されている。   Next, FIG. 4 shows a sectional view of the vicinity of the side 28 where the end surfaces of the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 are aligned. As shown in FIG. 4, the side 28 is cut at a position where the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 are aligned.

ゲート信号線２１、ゲート絶縁膜４３、ドレイン信号線２２、無機絶縁膜４５、有機絶縁膜４４はシール材７に達してないが、近接に形成されている。対して配向膜１４と配向膜１８はシール材７に達しており、一部がシール材７と重なっている。   Although the gate signal line 21, the gate insulating film 43, the drain signal line 22, the inorganic insulating film 45, and the organic insulating film 44 do not reach the sealing material 7, they are formed close to each other. On the other hand, the alignment film 14 and the alignment film 18 reach the sealing material 7, and a part thereof overlaps with the sealing material 7.

ゲート信号線２１、ゲート絶縁膜４３、ドレイン信号線２２、無機絶縁膜４５、有機絶縁膜４４はフォトリソ工程により、高い精度で形成することが可能であるが、配向膜１４と配向膜１８は印刷で形成されており、フォトリソ工程より精度が低い。そのため、配向膜１４と配向膜１８とをシール材７の近傍に形成すると、製造バラツキ等により配向膜１４と配向膜１８の一部がシール材７と重なってしまう。   The gate signal line 21, the gate insulating film 43, the drain signal line 22, the inorganic insulating film 45, and the organic insulating film 44 can be formed with high accuracy by a photolithography process, but the alignment film 14 and the alignment film 18 are printed. And is less accurate than the photolithographic process. Therefore, when the alignment film 14 and the alignment film 18 are formed in the vicinity of the seal material 7, a part of the alignment film 14 and the alignment film 18 overlaps the seal material 7 due to manufacturing variation.

配向膜１４、または配向膜１８の印刷による位置精度は±０．４５ｍｍであり、シール材７を形成するディスペンサや印刷の位置制度は±０．１５ｍｍ程度である。そのため最大０．７０ｍｍのバラツキが生じることになる。よって、配向膜１４、または配向膜１８の端部とシール材７との距離が０．７０ｍｍ以下になると配向膜１４、または配向膜１８とシール材７とが重なる可能性が生じることになる。   The positional accuracy by printing the alignment film 14 or the alignment film 18 is ± 0.45 mm, and the dispenser for forming the sealing material 7 and the printing position system are about ± 0.15 mm. Therefore, a maximum variation of 0.70 mm occurs. Therefore, if the distance between the alignment film 14 or the end of the alignment film 18 and the sealing material 7 is 0.70 mm or less, the alignment film 14 or the alignment film 18 and the sealing material 7 may possibly overlap.

すなわち、シール材７の幅をＳＷとし配向膜とシール材の位置精度をＭとすると、ＴＦＴ基板２と対向基板３との端辺からＳＷ＋Ｍの距離以内に、配向膜の端部を形成する場合に、印刷で形成する配向膜の精度が劣るために、配向膜１４または１８がシール材７と重なってしまうことになる。   That is, when the width of the sealing material 7 is SW and the positional accuracy of the alignment film and the sealing material is M, the end of the alignment film is formed within a distance of SW + M from the end sides of the TFT substrate 2 and the counter substrate 3. In addition, since the alignment film formed by printing is inferior in accuracy, the alignment film 14 or 18 overlaps with the sealing material 7.

図５に配向膜にシール材が重なった場合の接着強度の実験結果を示す。図５はシール材のピール強度試験の結果である。グラフ上の線６１はシール材と配向膜とが重なってない液晶パネルの接着強度で、線６２はシール材と配向膜とが重なった場合を示す。   FIG. 5 shows the experimental results of the adhesive strength when the sealing material overlaps the alignment film. FIG. 5 shows the results of the peel strength test of the sealing material. A line 61 on the graph indicates the adhesive strength of the liquid crystal panel where the sealing material and the alignment film do not overlap, and a line 62 indicates a case where the sealing material and the alignment film overlap.

線６１に比較して線６２は強度が３分の２程度に低下しており、配向膜にシール材が重なった場合には、製品としてシール材の接着強度が不足することが判明した。   Compared with the line 61, the strength of the line 62 is reduced to about two-thirds, and it was found that when the sealing material overlaps the alignment film, the adhesive strength of the sealing material as a product is insufficient.

次に、図６を用いてシール材７の接着強度を向上させる構造について説明する。図６はＴＦＴ基板側のシール材７と接触する部分に構造物７２を形成したものである。構造物７２は有機絶縁膜４４をハーフ露光等により傾斜面を有する形状としたものである。   Next, a structure for improving the adhesive strength of the sealing material 7 will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows a structure 72 that is formed on the TFT substrate side in contact with the sealing material 7. The structure 72 is obtained by forming the organic insulating film 44 into a shape having an inclined surface by half exposure or the like.

傾斜面を有する構造物７２により、配向膜１４または１８がシール材７の形成領域から排除され、シール材７は接着面の一部が下地膜４１等の無機絶縁膜、またはＴＦＴ基板２と対向基板３と直接に接触している。   The alignment film 14 or 18 is excluded from the formation region of the sealing material 7 by the structure 72 having the inclined surface, and a part of the bonding surface of the sealing material 7 faces the inorganic insulating film such as the base film 41 or the TFT substrate 2. It is in direct contact with the substrate 3.

図６に示す構成のように、シール材７の接着面に配向膜よりも接着強度の高い材質の構造を設けることで、シール材の接着強度を高めることが可能となる。また、配向膜１４または１８を塗布しても排除する構造物７２を形成することで、配向膜１４または１８以外でシール材７を接着させることで、シール材７の接着強度を高めることができる。   As shown in FIG. 6, it is possible to increase the adhesive strength of the sealing material by providing the adhesive surface of the sealing material 7 with a structure having a higher adhesive strength than the alignment film. Further, by forming the structure 72 that is excluded even if the alignment film 14 or 18 is applied, the sealing material 7 can be adhered to other than the alignment film 14 or 18, thereby increasing the adhesive strength of the sealing material 7. .

次に図７を用いてシール材７形成部の塗膜性を低下させた構造について説明する。図７に示すように、シール材７形成領域にマスク６４を設けて紫外線６３の照射を妨げている。図７（ａ）はカラーフィルタ８１の形成された対向基板３側で、図７（ｂ）はＴＦＴ基板２側である。   Next, the structure which reduced the coating-film property of the sealing material 7 formation part using FIG. 7 is demonstrated. As shown in FIG. 7, a mask 64 is provided in the sealing material 7 formation region to prevent the irradiation of ultraviolet rays 63. FIG. 7A shows the counter substrate 3 side where the color filter 81 is formed, and FIG. 7B shows the TFT substrate 2 side.

図７に示すように、構造物７２は有機樹脂からなるオーバーコート膜８３や有機絶縁膜４４から離れて形成され、構造物７２とオーバーコート膜８３および有機絶縁膜４４との間には段差６５が生じている。   As shown in FIG. 7, the structure 72 is formed away from the overcoat film 83 made of an organic resin and the organic insulating film 44, and a step 65 is formed between the structure 72, the overcoat film 83, and the organic insulating film 44. Has occurred.

この段差６５の近傍には、ＩＴＯなどからなる透明導電膜６６が形成されている。段差６５を境にして、オーバーコート膜８３と有機絶縁膜４４側には紫外線６３が照射される。紫外線６３が照射されたオーバーコート膜８３および有機絶縁膜４４は配向膜に含まれる溶媒との親和性が良くなり、塗膜性が向上する。   Near the step 65, a transparent conductive film 66 made of ITO or the like is formed. The ultraviolet ray 63 is irradiated to the overcoat film 83 and the organic insulating film 44 side with the step 65 as a boundary. The overcoat film 83 and the organic insulating film 44 irradiated with the ultraviolet rays 63 have better affinity with the solvent contained in the alignment film, and the coating properties are improved.

対して透明導電膜６６と構造物７２には紫外線６３が照射されない。紫外線６３が照射されないため、構造物７２と透明導電膜６６から外側の領域では、塗膜性の向上が生じない。そのため、段差６５近傍に設けた透明導電膜６６から外側のシール材７が形成される領域では、塗布された配向膜が液滴状になり排除され易くなる。特に紫外線６３が照射されない透明導電膜６６は、画素領域の紫外線６３が照射された透明導電膜に対して塗膜性が低下している。   In contrast, the transparent conductive film 66 and the structure 72 are not irradiated with the ultraviolet rays 63. Since the ultraviolet rays 63 are not irradiated, the coating property is not improved in the region outside the structure 72 and the transparent conductive film 66. Therefore, in the region where the outer sealing material 7 is formed from the transparent conductive film 66 provided in the vicinity of the step 65, the applied alignment film becomes droplets and is easily removed. In particular, the transparent conductive film 66 that is not irradiated with the ultraviolet rays 63 has a lower coating property than the transparent conductive film that is irradiated with the ultraviolet rays 63 in the pixel region.

段差６５は、フォトリソ工程により図７（ａ）に示すように、垂直に近い形状にも、図７（ｂ）に示すように、基板２に対して角度を有するように形成することも可能である。また、塗布により形成される端部を段差６５として利用することも可能である。   The step 65 can be formed in a nearly vertical shape as shown in FIG. 7A by an photolithography process so as to have an angle with respect to the substrate 2 as shown in FIG. 7B. is there. Moreover, it is also possible to use the edge part formed by application | coating as the level | step difference 65. FIG.

図８は端子接続部２９側のシール材７の近傍を示す断面図で、透明導電膜６６を段差６５の近傍に設けたものである。また、図９はＴＦＴ基板２と対向基板３との端面が揃った辺２８近傍の断面図で、透明導電膜６６を段差６５の近傍に設け、配向膜１４と１８を塗布、焼成した状態を示す。   FIG. 8 is a cross-sectional view showing the vicinity of the sealing material 7 on the terminal connection portion 29 side, in which a transparent conductive film 66 is provided in the vicinity of the step 65. FIG. 9 is a sectional view of the vicinity of the side 28 where the end surfaces of the TFT substrate 2 and the counter substrate 3 are aligned. The transparent conductive film 66 is provided in the vicinity of the step 65, and the alignment films 14 and 18 are applied and baked. Show.

透明導電膜６６は配向膜１４および１８との親和性が悪いため、段差６５で途切れている。また、段差６５の下側では配向膜１８は表面張力により液滴状になり、そのため配向膜１８は透明導電膜６６の上に留まって、端部１８ａをシール材７の内部に形成している。   Since the transparent conductive film 66 has poor affinity with the alignment films 14 and 18, the transparent conductive film 66 is interrupted at the step 65. Further, below the step 65, the alignment film 18 is formed into droplets due to surface tension. Therefore, the alignment film 18 remains on the transparent conductive film 66, and the end portion 18a is formed inside the sealing material 7. .

なお、紫外線６３を照射しないとシール材７の接着強度も低下するが、シール材７の接着強度は配向膜に比較して２倍程度高いため、配向膜によるはがれ易さに比較して、紫外線６３を照射しないことによるシール材７におよぼす接着強度低下の影響は小さい。   If the ultraviolet ray 63 is not irradiated, the adhesive strength of the sealing material 7 also decreases. However, since the adhesive strength of the sealing material 7 is about twice as high as that of the alignment film, the ultraviolet ray is higher than the ease of peeling by the alignment film. The effect of lowering the adhesive strength on the sealing material 7 due to the fact that 63 is not irradiated is small.

次に図１０、図１１を用いて構造物７２について説明する。図１０は構造物７２の斜視図である。有機樹脂層４４を用いることで、高さＨを２μｍ程度とすることが可能である。また、半径Ｒは任意に設定可能であるが、シール材７の幅が３００μｍから１０００μｍであることから、５０μｍから１００μｍであることが好ましい。   Next, the structure 72 is demonstrated using FIG. 10, FIG. FIG. 10 is a perspective view of the structure 72. By using the organic resin layer 44, the height H can be about 2 μm. The radius R can be arbitrarily set, but since the width of the sealing material 7 is 300 μm to 1000 μm, it is preferably 50 μm to 100 μm.

図１１は構造物７２に配向膜１８をオフセット印刷により塗布した状態を示す。構造物７２は底面に向かって広がる傾斜面を有しているため、底面側で構造物７２の間隔が狭まっている。   FIG. 11 shows a state in which the alignment film 18 is applied to the structure 72 by offset printing. Since the structure 72 has an inclined surface that widens toward the bottom surface, the interval between the structures 72 is narrowed on the bottom surface side.

構造物７２の間隔が狭い部分では、毛細管現象により配向膜１８は外側に向かう力Ｆにより排除される。また、配向膜１８は塗布時に厚さが約１μｍ程度であり、塗布後に乾燥、焼成されることで、厚さが約０．１μｍに減少する。   In the portion where the interval between the structures 72 is narrow, the alignment film 18 is excluded by the outward force F due to capillary action. The alignment film 18 has a thickness of about 1 μm at the time of application, and the thickness is reduced to about 0.1 μm by drying and baking after application.

乾燥前の配向膜は、溶媒の割合が多いために流動的であり、容易に溶質が構造物７２の間を移動し、溶媒の蒸発量が大きい場所に溶質が溜まる性質を有している。特に構造物７２の表面に対して下地の溶媒に対する親和性を悪くしおくと、構造物７２の表面に溶質が集まり、そのため下地表面の配向膜が排除されることになる。   The alignment film before drying is fluid due to a large proportion of the solvent, and has a property that the solute easily moves between the structures 72 and the solute accumulates at a place where the amount of evaporation of the solvent is large. In particular, if the affinity of the underlying solvent with respect to the surface of the structure 72 is deteriorated, the solute collects on the surface of the structure 72, so that the alignment film on the underlying surface is eliminated.

図１２に、配向膜１８を乾燥、焼成した後の構造物７２の断面を示す。配向膜１８の厚さは塗布時に比較して1／１０程度に減少し、構造物７２側面に付着している。特に液体状の配向膜１８は下地である透明導電膜６６との境界を伝わり流動するため、構造物７２と下地との境界部に残っているが、部分的には下地表面から除去されている。   FIG. 12 shows a cross section of the structure 72 after the alignment film 18 is dried and baked. The thickness of the alignment film 18 is reduced to about 1/10 of that at the time of application, and is attached to the side surface of the structure 72. In particular, since the liquid alignment film 18 flows along the boundary with the transparent conductive film 66 that is the base, it remains at the boundary between the structure 72 and the base, but is partially removed from the base surface. .

配向膜に対して親和性が悪い下地を選び、さらに配向膜より接着強度が大きい構造物７２により下地の一部が露出するようにすることで、基板からシール材がはがれる問題に対しての信頼性を向上させることが可能となる。   Trusting the problem that the sealing material is peeled off from the substrate by selecting a substrate having a low affinity for the alignment film and exposing a part of the substrate by the structure 72 having a higher adhesive strength than the alignment film. It becomes possible to improve the property.

次に図１３に構造物７２の並べ方を平面図で示す。構造物７２はシール材７の塗布される領域に形成されるが、角部でシール材７の塗布形状がなまるために、角部には冗長な構造物７３を設けている。構造物７２の一部はシール材７の形成領域からはみでている。   FIG. 13 is a plan view showing how the structures 72 are arranged. The structure 72 is formed in a region where the sealing material 7 is applied. Since the application shape of the sealing material 7 is reduced at the corner, a redundant structure 73 is provided at the corner. A part of the structure 72 protrudes from the region where the sealing material 7 is formed.

図１４は構造物７２を楕円に形成し、長軸方向を配向膜７が排除される方向にそろえ、中心位置を交互にずらしたものを示す。構造物７２の長軸方向を配向膜が排除される方向にそろえることで、より配向膜７の移動が容易になり、さらに中心位置を交互にずらすことで、隙間の間隔を狭くすることが可能である。   FIG. 14 shows a structure 72 in which an ellipse is formed, the major axis direction is aligned with the direction in which the alignment film 7 is excluded, and the center positions are alternately shifted. By aligning the major axis direction of the structure 72 with the direction in which the alignment film is eliminated, the alignment film 7 can be moved more easily, and the gaps can be narrowed by alternately shifting the center position. It is.

図１５は楕円の短軸の長さを配向膜７の端部から中心側に向かい小さくしたものである。中心部で間隔が広く、端部で間隔が狭いために、配向膜がより外側に移動するようにしている。   In FIG. 15, the length of the minor axis of the ellipse is reduced from the end of the alignment film 7 toward the center. Since the interval is wide at the center and the interval is narrow at the end, the alignment film moves more outward.

図１６、図１７に傾斜面を有する構造物７４を示す。図１６は構造物７４と重なるシール材７を示す断面図であり、図１７は構造物７４の斜視図である。構造物７４に傾斜を設けることで、傾斜によりシール材７が構造物７４の上から排除される。   16 and 17 show a structure 74 having an inclined surface. FIG. 16 is a cross-sectional view showing the sealing material 7 overlapping the structure 74, and FIG. 17 is a perspective view of the structure 74. By providing the structure 74 with an inclination, the sealing material 7 is removed from the structure 74 by the inclination.

本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の液晶パネルの概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the liquid crystal panel of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の接着強度を示すグラフである。It is a graph which shows the adhesive strength of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール材形成領域を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the sealing material formation area | region of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。It is a top view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。It is a top view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。It is a top view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention. 本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the seal part structure of the liquid crystal display device which is embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…液晶パネル、２…ＴＦＴ基板、５…駆動回路、６…駆動回路、８…画素部、９…表示領域、１０…スイッチング素子、１２…画素電極、２１…ゲート配線（走査信号線）、２２…映像信号線、２８…端部が揃った辺、２９…外側に突出た辺、３７…透明導電膜、４１…下地膜、４３…ゲート絶縁膜、４４…有機絶縁膜、４５…無機絶縁膜、５１…接続端子、５２…スルーホール、５３…スルーホール、５４…スルーホール、７０…ＦＰＣ、７１…配線、７２…配向膜を排除する構造物、７５…端子、８０…制御回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal panel, 2 ... TFT substrate, 5 ... Drive circuit, 6 ... Drive circuit, 8 ... Pixel part, 9 ... Display area, 10 ... Switching element, 12 ... Pixel electrode, 21 ... Gate wiring (scanning signal line), 22 ... Video signal lines, 28 ... Sides with aligned edges, 29 ... Sides protruding outward, 37 ... Transparent conductive film, 41 ... Underlayer film, 43 ... Gate insulating film, 44 ... Organic insulating film, 45 ... Inorganic insulation Membrane 51 ... Connection terminal 52 ... Through hole 53 ... Through hole 54 ... Through hole 70 ... FPC 71 ... Wiring 72 ... Structure excluding alignment film 75 ... Terminal 80 ... Control circuit

Claims (9)

第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板に設けられた表示領域と、
上記表示領域の周囲に設けられたシール材と、
上記第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、
上記第１の基板の端面と第２の基板の端面とが揃った辺では
上記配向膜はシール材で区画された内側と外側とに形成され、
上記第１の基板の接続端子が形成される辺では、
上記配向膜の端部はシール材で区画された内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device having a first substrate and a second substrate,
A display area provided on the first substrate;
A sealing material provided around the display area;
An alignment film formed on the first substrate or the second substrate,
In the side where the end face of the first substrate and the end face of the second substrate are aligned, the alignment film is formed on the inner side and the outer side partitioned by a sealing material,
On the side where the connection terminal of the first substrate is formed,
An end portion of the alignment film is formed on an inner side partitioned by a sealing material. 上記シール材が設けられる位置に配向膜を除去する構造が設けられたことを特徴とする特許請求の範囲の請求項１に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a structure for removing the alignment film is provided at a position where the sealing material is provided. 上記第１の基板とシール材とが接着する領域は、上記表示領域と比較して配向膜との親和性が低いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項１に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the region where the first substrate and the sealing material are bonded has a lower affinity with the alignment film than the display region. 第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板および第２の基板の周囲に設けられたシール材と、
上記第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、
上記第１の基板の端辺と第２の基板の端辺とが揃った辺では
上記配向膜はシール材に接して形成され、
上記第１の基板の接続端子が形成される辺では、
上記配向膜の端部は有機樹脂膜により形成される段差の内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device having a first substrate and a second substrate,
A sealing material provided around the first substrate and the second substrate;
An alignment film formed on the first substrate or the second substrate,
In the side where the end side of the first substrate and the end side of the second substrate are aligned, the alignment film is formed in contact with the sealing material,
On the side where the connection terminal of the first substrate is formed,
An end portion of the alignment film is formed inside a step formed by an organic resin film. 上記シール材が設けられる位置に配向膜を除去する突起物が設けられ、上記突起物は接着力が配向膜よりも高いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項４に記載の液晶表示装置。 5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein a protrusion for removing the alignment film is provided at a position where the sealing material is provided, and the protrusion has an adhesive force higher than that of the alignment film. . 上記突起物は、画素領域と比較して配向膜との親和性が低いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項５に記載の液晶表示装置。 6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the protrusion has a lower affinity with the alignment film than the pixel region. 第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板と第２の基板とは周囲に設けられたシール材により接着されて液晶パネルを形成し、
上記第１の基板または第２の基板には配向膜が形成され、
上記液晶パネルは４辺を有し、
上記４辺の内の第１の辺は第１の基板が第２の基板の端辺よりも外側に突出して接続部を形成し、
第１の辺以外の辺では上記配向膜はシール材に接して形成され、
上記第１の辺では、配向膜の端部は有機樹脂膜により形成される段差の内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device having a first substrate and a second substrate,
The first substrate and the second substrate are bonded to each other by a sealing material provided around the liquid crystal panel,
An alignment film is formed on the first substrate or the second substrate,
The liquid crystal panel has four sides,
The first side of the four sides is formed such that the first substrate protrudes outside the end side of the second substrate to form a connection portion,
On the side other than the first side, the alignment film is formed in contact with the sealing material,
In the first side, an end portion of the alignment film is formed inside a step formed by an organic resin film. 上記第１の基板のシール材が設けられる位置に複数の突起物を有し、
上記突起物は上記シール材との接着力が配向膜よりも高いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項７に記載の液晶表示装置。 A plurality of protrusions at a position where the sealing material of the first substrate is provided;
8. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the protrusion has a higher adhesive force with the sealing material than the alignment film. 上記第１の基板とシール材とが接着する領域には、画素領域よりも配向膜との親和性が低く、配向膜よりもシール材との接着力が強い突起を形成したことを特徴とする特許請求の範囲の請求項７に記載の液晶表示装置。 In the region where the first substrate and the sealing material are bonded, a protrusion having a lower affinity with the alignment film than the pixel region and a stronger adhesion with the sealing material than the alignment film is formed. The liquid crystal display device according to claim 7.
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