JP2007296415A - ポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法及びその処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリ塩化ビフェニル汚染物11を入れるプラズマ分解炉12と、プラズマ分解炉12に設けられ、高温状態のプラズマアークを発生するプラズマトーチ13とを有し、プラズマ分解炉12内にポリ塩化ビフェニル汚染物11を入れ、プラズマ分解炉12内に酸素含有ガスを供給して、ポリ塩化ビフェニル汚染物を無害安定化させる。
【選択図】図1
Description
そこで、PCBの処理方法として、(1)1100℃以上で2秒間以上滞留させる高温焼却法、(2)金属ナトリウム等のアルカリ剤によってPCBから塩素を脱離させる脱塩素化分解法、(3)紫外線と触媒による光分解法、及び(4)PCBをプラズマアークによって分解するプラズマ分解法(例えば、特許文献1参照)等が開発されている。
前記プラズマ分解炉内に酸素含有ガスを供給して、前記ポリ塩化ビフェニル汚染物を無害安定化させる。
第1の発明に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、前記酸素含有ガスが酸素ガス(純酸素)であって、前記プラズマ分解炉内を実質的に酸素雰囲気にするのが好ましい。
前記恒温チャンバー内及び前記ダクト内のいずれか一方又は双方に酸素含有ガスを供給して、前記ポリ塩化ビフェニル汚染物を無害安定化させる。
第2の発明に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、前記酸素含有ガスが酸素ガスであるのが好ましい。
ここで、酸素含有ガスとしは、酸素の濃度が20容量%以上、すなわち、空気又は空気以上に酸素を含有するガスが使用でき、特に、酸素ガス(純酸素)を使用するのが好ましい。
第3の発明に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記酸素含有ガスは、前記プラズマ分解炉内に直接供給されてもよい。
第3の発明に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記酸素含有ガスは、前記プラズマトーチを介して前記プラズマ分解炉内に供給されてもよい。
プラズマトーチには、プラズマ分解炉内に供給される酸素含有ガスの一部もしくは全部が供給される。
第4の発明に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、更に、前記酸素含有ガスは前記プラズマ分解炉内に供給されてもよい。
請求項3記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法においては、酸素含有ガスが酸素ガスであって、プラズマ分解炉内を実質的に酸素雰囲気にするので、窒素酸化物の生成を抑えることができる。
請求項6記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法においては、酸素含有ガスが酸素ガスであるので、窒素酸化物の生成を抑えることができる。
特に、請求項8記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいては、酸素含有ガスがプラズマ分解炉内に直接供給されるので、プラズマ分解炉を簡単な構造とすることができる。
請求項10記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいては、酸素含有ガスがプラズマトーチを介してプラズマ分解炉内に供給されるので、より効率的に酸素プラズマを発生させることができる。
請求項13記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいては、更に、酸素含有ガスがプラズマ分解炉内に供給されるので、プラズマ分解炉内でもポリ塩化ビフェニル及びその分解物を酸化することができ、より効率的にポリ塩化ビフェニル汚染物を処理できる。
ここで、図1は本発明の第1の実施の形態に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムの説明図、図2は同処理システムのプラズマ分解装置の説明図、図3は本発明の第2の実施の形態に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムの説明図、図4は本発明の第3の実施の形態に係るポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムの説明図である。
更に、プラズマ分解炉12には、プラズマ分解炉12内で発生するドラム缶20やPCB汚染物11の溶融成分、例えば、土砂、金属、及びコンクリート等から生成するスラグ25をプラズマ分解炉12外に排出するスラグ排出口26が設けられている。
まず、ポンプ29を駆動させて空気をプラズマ分解炉12内に供給しながら、プラズマトーチ13によって、15000℃程度のプラズマアークを発生させる。
次に、PCB汚染物11が封入されたドラム缶20をプラズマ分解装置14の投入室21に配置し、仕切板22を操作して投入室21内のドラム缶20をプラズマ分解炉12に供給する。
PCB処理システム40は、ガス供給管30が、ポンプ29からプラズマトーチ13に接続されている点がPCB処理システム10と異なっている。これによって、プラズマ分解炉12内では、空気プラズマ(特に、酸素プラズマ)が発生し、PCB及びその分解物を熱分解させた後、速やかに酸化させ無害安定化することができる。なお、プラズマトーチ13に供給する酸素含有ガスを酸素にした場合には、高効率で酸素プラズマを発生させることができ、PCB及びその分解物の酸化を促進することができる。
PCB処理システム50は、プラズマ分解炉12にダクト51を介して接続され、プラズマ分解炉12でポリ塩化ビフェニルを熱分解した際に発生する排気中に含まれる未分解のポリ塩化ビフェニル及びポリ塩化ビフェニルの分解物を、1100〜1400℃で1〜5秒間保持して完全に分解する恒温チャンバー52を備え、しかも、ダクト51にはガス供給管30を介してポンプ29が接続され、ダクト51内に空気(酸素含有ガス)が供給されている点が、PCB処理システム10、40と異なっている。
なお、PCB処理システム50では、ガス供給管30をダクト51に接続したが、恒温チャンバー52に接続して、直接酸素含有ガスを恒温チャンバー52内に供給してもよい。また、ダクト51と恒温チャンバー52の双方に酸素含有ガスを供給してもよい。更に、プラズマ分解炉12内に酸素含有ガスを供給し、プラズマ分解炉12内でもポリ塩化ビフェニル及びその分解物を酸化し、より効率的にポリ塩化ビフェニル汚染物を処理してもよい。
Claims (13)
- プラズマ分解炉内にポリ塩化ビフェニル汚染物を入れ、前記プラズマ分解炉に設けたプラズマトーチから発生する高温状態のプラズマアークによって、前記ポリ塩化ビフェニルを熱分解するポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、
前記プラズマ分解炉内に酸素含有ガスを供給して、前記ポリ塩化ビフェニル汚染物を無害安定化させることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。 - 請求項1記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、前記プラズマアークのガスに酸素含有ガスを使用することを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。
- 請求項1及び2のいずれか1項に記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、前記酸素含有ガスが酸素ガスであって、前記プラズマ分解炉内を実質的に酸素雰囲気にすることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。
- プラズマ分解炉内にポリ塩化ビフェニル汚染物を入れ、前記プラズマ分解炉に設けたプラズマトーチから発生する高温状態のプラズマアークによって、前記ポリ塩化ビフェニルを熱分解し、その際に発生する排気中に含まれる未分解のポリ塩化ビフェニル及びポリ塩化ビフェニルの分解物を、前記プラズマ分解炉にダクトを介して接続された恒温チャンバー内で1100〜1400℃で1〜5秒間保持して完全に分解するポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、
前記恒温チャンバー内及び前記ダクト内のいずれか一方又は双方に酸素含有ガスを供給して、前記ポリ塩化ビフェニル汚染物を無害安定化させることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。 - 請求項4記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、更に、前記プラズマ分解炉内に酸素含有ガスを供給することを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。
- 請求項4及び5のいずれか1項に記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法において、前記酸素含有ガスが酸素ガスであることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法。
- ポリ塩化ビフェニル汚染物を入れるプラズマ分解炉と、該プラズマ分解炉に設けられ、高温状態のプラズマアークを発生するプラズマトーチとを有し、前記プラズマ分解炉内に酸素含有ガスを供給することを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- 請求項7記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記酸素含有ガスは、前記プラズマ分解炉内に直接供給されることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- 請求項8記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記プラズマ分解炉の外側には、該プラズマ分解炉を囲む密閉容器が配置され、該密閉容器内は正圧に、前記プラズマ分解炉内は負圧になって、しかも、前記密閉容器内には前記酸素含有ガスが充填されていることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- 請求項7〜9のいずれか1項に記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記酸素含有ガスは、前記プラズマトーチを介して前記プラズマ分解炉内に供給されることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- ポリ塩化ビフェニル汚染物を入れるプラズマ分解炉と、該プラズマ分解炉に設けられ、高温状態のプラズマアークを発生するプラズマトーチと、前記プラズマ分解炉にダクトを介して接続され、該プラズマ分解炉からの排気を1100〜1400℃で1〜5秒間保持する恒温チャンバーとを有し、前記恒温チャンバー内に酸素含有ガスを供給することを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- 請求項11記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、前記酸素含有ガスは、前記恒温チャンバー内及び前記ダクト内のいずれか一方又は双方に供給されることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
- 請求項12記載のポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システムにおいて、更に、前記酸素含有ガスは前記プラズマ分解炉内に供給されることを特徴とするポリ塩化ビフェニル汚染物の処理システム。
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