JP2007281311A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薬液や純水等の処理液を貯留し、この貯留された処理液に被処理基板を浸漬して処理する洗浄槽3と、この洗浄槽3の上方に配置して洗浄済み被処理基板を洗浄槽から引上げて乾燥処理する乾燥室6とを備え、洗浄槽3と乾燥室6との間には、これらの間を仕切るともに乾燥流体を排出させる排気穴を有するシャッター部材8がスライド移動自在に配設されている。
【選択図】 図2
Description
基板処理装置100は、図10に示すように、薬液や純水等が貯留され、この貯留された薬液等にウェーハWを浸漬して薬液・洗浄処理する洗浄槽101と、この洗浄槽101の上方に配置して洗浄槽101で薬液・洗浄処理されたウェーハWを乾燥処理する乾燥室102と、これらの洗浄槽101と乾燥室102とが連通穴で連結されてこの連絡穴を開閉するスライド扉を有したスライド扉機構Sと、乾燥室102の底部を閉鎖する回転扉機構Dとを備えた構成を有している。
請求項1、2の発明によれば、洗浄槽と乾燥室との間には、これらの間を仕切るともに乾燥流体を排出させる排気穴を有するシャッター部材をスライド移動自在に配設することにより、被処理基板の乾燥処理時に、乾燥室へ供給された乾燥流体は乾燥室内で対流して被処理基板に接触し、その後、シャッター部材の排気穴から室外へ排出され、この過程で被処理基板に略均一に乾燥流体が接触して良好な乾燥処理が可能になる。特に、乾燥流体の多くが中央下方に集まり排出されるため、水滴が残りやすい基板の下方中央部にはより多くの乾燥流体が接触することで、従来技術の課題であった被処理基板の中心を通る垂直線上での乾燥処理のムラを解消できる。また、洗浄槽の上に乾燥室を配置したので、装置を小型化できるとともに処理効率を上げることが可能になる。
先ず、乾燥室6の蓋体7を開けて、不図示の基板搬送機構を乾燥室6内へ下降させて、乾燥室6内の基板保持具(図示省略)に複数枚のウェーハWを受渡し、搬送機構を退去させた後に蓋体7を閉じ、ほぼ同時に乾燥室6下方のシャッター部材8を開け、ウェーハWが保持された保持具を下降させて、ウェーハWを内槽4内に移送し、シャッター部材8を閉じる。次いで、薬液供給源15から内槽4内の各噴射ノズル41〜45へ所定の薬液を供給してウェーハWの薬液処理を行う。なお、このとき、予め、内槽4内へ薬液を貯留して置き、この貯留された薬液にウェーハを浸漬するのが好ましい。その後、薬液の供給を停止し、直ちに薬液を排出することなく、薬液を貯留した状態で純水供給源16から各噴射ノズル15a、15bへ純水を供給して徐々に薬液を希釈しながら内槽4内を薬液から純水へ置換してウェーハWの水洗い洗浄を行う。
2、2' 処理装置
3 洗浄槽
4 内槽
5 外槽
6 乾燥室
7 蓋体
8、8'、35、45、50 シャッター部材
81、82 第1、第2排気口
83 開口
91 排気穴
10、30 シャッター装置
Claims (6)
- 薬液や純水等の処理液を貯留し、この貯留された処理液に被処理基板を浸漬して処理する洗浄槽と、前記洗浄槽の上方に配置して洗浄済み被処理基板を前記洗浄槽から引上げて乾燥処理する乾燥室とを備えた基板処理装置において、
前記洗浄槽と前記乾燥室との間には、これらの間を仕切るとともに乾燥流体を排出させる排気穴を有するシャッター部材がスライド移動自在に配設されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記シャッター部材は、内部が空洞な扁平ダクトからなり、該扁平ダクトの略中央部に前記排気穴が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記扁平ダクトは、一端部に吸引口が形成され、該吸引口が前記排気穴に連通していることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記シャッター部材は、それぞれ***を有する2枚のシャッター扉からなり、これらのシャッター扉を重ねて少なくとも一方を移動させて前記各***を合わせることにより前記排気穴を形成し、該排気穴を通して前記乾燥流体が洗浄槽から吸引排気されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記乾燥室は、天井面を開口させ、この開口部に開閉自在な蓋体を設け、両側壁の対向する面にそれぞれ乾燥流体を噴射するノズルを装着したことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記噴射ノズルは、前記側壁面の上方又は下方に対向して設けられていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
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