JP2007281099A - ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 - Google Patents
ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007281099A JP2007281099A JP2006103660A JP2006103660A JP2007281099A JP 2007281099 A JP2007281099 A JP 2007281099A JP 2006103660 A JP2006103660 A JP 2006103660A JP 2006103660 A JP2006103660 A JP 2006103660A JP 2007281099 A JP2007281099 A JP 2007281099A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- flat plate
- mold
- film
- transferred
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 93
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Micromachines (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板20のほか、上記表面の側にある表側ローラー11とその反対側にある裏側ローラー12・13とによって当該平板20をはさみ付け得るローラー組10、および、上記平板20とそれをはさみ付けたローラー組10との間に相対移動をもたらす移動機構30を組み合わせてナノインプリント装置1を構成する。そして裏側ローラー12・13は、表側ローラー11の長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって、平板20をはさみ付ける向きの力を個別に調整できるものにより構成している。
【選択図】 図1
Description
・ モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板のほか、上記表面の側にある表側ローラーとその反対側にある裏側ローラーとによって当該平板をはさみ付け得るローラー組、および、上記平板とそれをはさみ付けたローラー組との間に相対移動(平板の表面と平行で各ローラーの中心線と直角な方向への相対移動。以下も同様)をもたらす移動機構を組み合わせ、
・ 上記ローラー組のうちに、表側ローラーの長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって、平板をはさみ付ける向きの力(押し付け力)を個別に調整できるものを含めることを特徴とする。
なお、上記ローラー組の各ローラーは、回転駆動手段に接続されない回転自在なものであってよい。回転自在であれば、平板をはさみ付けた状態で上記移動機構により平板・ローラー組間を相対移動させるとき、各ローラーは当該相対速度と同じ周速で回転(連れ回り)するからである。
i) 平板の表面上に微細パターンを表側に向けたモールドを取り付けるとともに、当該モールドの表側に被転写膜を置き、上記ローラー組によって当該平板をはさみ付け、はさみ付けたその状態で移動機構により平板・ローラー組間を相対移動させる(たとえば図5または図6のようにする。または被転写膜の全面をモールド上に重ねたうえローラー組ではさみ付ける)。ローラー組が平板をはさみ付けるとき、平板上に重ねて取り付けたモールドと被転写膜とをローラー組の作用により加圧できる。その状態で平板・ローラー組間を相対移動させると、被転写膜の全域を順次モールドに押し付けることができて被転写膜へのパターン転写を行える。モールドには、被転写膜のうち表側ローラーに沿った線状の部分のみを押し付けるのであるから、必要な押し付け力は小さいもので足りる。
そのようにすれば、裏側ローラーの構成が簡単になりコスト上有利である。平板を特に高剛性にする必要もないので、その点でもコストを抑制できる。表側ローラーの背面に接触させて支持ローラーを設けることも可能だが、表側ローラーを一定以上の太さにするなど高剛性にすれば、上記のとおり表側ローラーとして1本のローラーのみを配置することで足り、装置構成を簡単化できる。
そのようにすると、平板をローラー組にてはさみ付けたとき両者間の姿勢が安定して変化しがたくなり、上記のとおり相対移動させるとき、ローラー組が平板に対して傾くこと等が防止される。それにより、正確なパターン転写が安定的に行えることとなる。
そうすると、熱可塑性樹脂の薄膜を被転写膜としてパターン転写を行う場合に、上記ヒーターを利用して当該被転写膜をガラス転移点以上の温度に加熱することができ、いわゆる熱式ナノインプリントを円滑に実施することができる。
そうすれば、紫外線硬化性の樹脂を含む被転写膜に対するいわゆる光硬化式ナノインプリントを円滑に実施することができる。平板および表側ローラーの各表面を反射率の高い金属面とするなら、照射する紫外線がそれら表面で反射されることにより上記接触箇所付近に到達しやすいという利点がある。
表側ローラーそのものをモールドとするのでなく、シート状のモールドを平板上に取り付けて使用するので、転写に要するコスト等が抑えられる。つまり、表側ローラーをモールドとする場合には円筒面上に微細パターンを形成する必要があり、モールド製作の困難さとかなりのコストとがともなうのに対し、この方法ではそれが解消されるわけである。
そうすれば、掛け渡された被転写膜が、上記の相対移動につれて順次モールドから剥がれていくため、全域へのパターン転写が終了したのちモールドから被転写膜を剥離させる作業を行わう必要がない。また、ローラー組による平板のはさみ付けを解除したとき、被転写膜を移動してモールド上に位置する部分を変更することも容易になるので、さらに長尺の被転写膜にパターン転写をすることも難しくない。
この方法によれば、平板上に取り付けるモールドと等しい長さか、または表側ローラーの外周の長さかのうち短い方の長さ範囲で、被転写膜上に、連続的かつほぼ同時にパターン転写を行うことが可能である。また、表側ローラーを円筒状モールドとするのでなく、シート状のモールドを平板上に取り付けて使用するので、モールド製作の難易度およびコストの面で有利である。
この方法によれば、平板上に取り付けた被転写膜の全長にわたり、連続的かつほぼ同時にパターン転写を行うことが可能である。表側ローラーにかぶせるように円筒状にモールドを形成するにはそれなりのコストが必要だが、上記のモールドは表側ローラーそのものを構成するものではなく当該ローラーに対して取り替え可能に取り付けるものである点では、コスト上昇が抑制される。ニッケルフィルム等のシート状のモールドを表側ローラーに巻き付ける場合には、モールド製作コストはさらに低減される。なお、前記のように、表側ローラーを含めてローラー組の各ロールは回転駆動させる必要がないので、表側ローラーにモールドを取り付ける上で、はめ合いの精度や固定方法に関して特別の手段は必要なく、したがってコスト面でも有利である。
そうすれば、紫外線硬化性の樹脂を含む被転写膜に対するいわゆる光硬化式ナノインプリントを円滑に実施することができる。
a) 一般的なローラー型ナノインプリント技術における効果と同様、被転写膜に対するモールドの押し付けに必要な力やその後の剥離のための力を小さくできる。
b) 平板をはさみ付ける向きの力を個別に調整できる複数の支持ローラーを使用することから、表側ローラーが長い場合であってもモールドと被転写膜との接触圧力を均一にすることができる。そしてその点から、大面積の微細パターンをも正確に被転写膜上に転写することが可能になる。
c) 平板や表側ローラー等の使い方によって、種々の態様で被転写膜へのパターン転写が行える。熱式ナノインプリントや紫外線硬化式ナノインプリント、あるいは、高粘性樹脂皮膜を用いる室温式ナノインプリントのいずれにも使用することができる。
d) 上記によって大面積のナノインプリント技術が実用化されることにより、表示デバイス、パターンドメディアをはじめとするIT情報デバイス、DNAチップに代表されるバイオデバイス、燃料電池部材関連の環境デバイス等について、高性能化および量産化が促進される。
1) 表面に微細な凹凸パターンを形成された、ニッケルやシリコン等でできた平板状のモールドA1を、表面(凹凸パターンを有する面)を上に向けて平板20の表面20aに設置する。
2) 前記のヒーターによって平板20を加熱し、モールドA1の温度を上記樹脂フィルムX1のガラス転移点温度以上にし、その温度に保持する。表側ローラー11および裏側ローラー12・13は室温のままでよい。
3) 樹脂フィルムX1は、巻出しおよび巻取り用のリール51とその内側に配置されるピンチロール52とを使用して、図示のように一部のみが表側ローラー11の下になるよう平板20上に掛け渡す。
5) ローラー組10が移動して表側ローラー11がモールドA1の端部(図示右方の端部)に達したとき、裏側ローラー12・13を下げて平板20を下降させたうえ、ローラー組10を元の位置(図示左方)に戻す。そしてこの間に、リール51によって樹脂フィルムX1を1ストローク分だけ送っておく。
6) 上記4)・5)を繰り返すことにより、リール51上の樹脂フィルムX1のほぼ全域に微細パターンの転写を行うことが可能である。
また、樹脂フィルムX1は、図5・図6のようにモールドA1上に掛け渡すのでなく、表側ローラー11の周面に巻き付けるか、またはモールドA1の上に全面的に重ね合わせることとしてもよい。前者の場合、表側ローラー11上に巻き付けた端部は、粘着テープ等で留めればよい。後者の場合、転写後に樹脂フィルムX1をモールドA1から剥離させる際、全面を同時に剥離させようとすると大きな力が必要なので、一方の側から順に引きはがすようにするのがよい。
1) 平板20の表面上に、熱可塑性樹脂フィルムX2(またはレジスト基板)を取り付ける。
2) 表側ローラー11の外周面上に、つぎのいずれかの手段によってモールドA2を取り付ける。すなわち、a)厚さ0.1mm程度の薄いニッケルシートでできたモールドを巻き付けるか、b)円筒状に作製したモールドを表側ローラー11に差し込む。ただし、モールドA2として樹脂製のものを使用する場合には、樹脂フィルムX2よりもガラス転移点温度が高いものを選択する。たとえば、被転写膜がPMMA(ガラス転移点温度は105℃)の場合には、ポリカーボネイトやPET(いずれもガラス転移点温度は140℃以上)にてなるモールドA2を使用するのがよい。なお、表側ローラー11を回転駆動させることがないので、同ローラー11に対して回転方向にモールドA2を固定しておく必要はとくにない。
3) 表側ローラー11を前記ヒーターによって加熱し、モールドA2の温度を樹脂フィルムX2のガラス転移点温度以上にして保持する。裏側ローラー12・13および平板20は室温のままでよい。
5) ローラー組10が移動して表側ローラー11が樹脂フィルムX2の端部に達したとき、裏側ローラー12・13を下げて平板20を下降させ、ローラー組10を元の位置に戻すとともに、樹脂フィルムX2を未転写のものに交換する。
6) 上記4)・5)を繰り返すことにより、多数の樹脂フィルムX2に対して次々と転写が行える。
10 ローラー組
11 表側ローラー
12・13 裏側ローラー(支持ローラー)
20 平板
30 移動機構
A1・A2 モールド
X1・X2 樹脂フィルム(被転写膜)
Claims (10)
- モールドに形成された微細パターンを被転写膜に転写するためのナノインプリント装置であって、
モールドもしくは被転写膜またはそれらの双方を表面上に取り付け可能な平板のほか、上記表面の側にある表側ローラーとその反対側にある裏側ローラーとによって当該平板をはさみ付け得るローラー組、および、上記平板とそれをはさみ付けたローラー組との間に相対移動をもたらす移動機構を有し、
上記ローラー組のうちに、表側ローラーの長さの方向に不連続な複数の支持ローラーであって平板をはさみ付ける向きの力を個別に調整できるものを含むことを特徴とするナノインプリント装置。 - 表側ローラーとして1本のローラーのみが配置され、裏側ローラーとして、上記のとおり表側ローラーの長さ方向に不連続に配置されて力を個別に調整できる複数の支持ローラーのみが配置されていることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント装置。
- 裏側ローラーである上記の支持ローラーが、上記相対移動の方向において表側ローラーの前および後ろの位置に配置されていることを特徴とする請求項2に記載のナノインプリント装置。
- 上記平板もしくは表側ローラーまたはそれらの双方にヒーターが内蔵されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のナノインプリント装置。
- 上記平板と表側ローラーとの接触箇所付近に向けて照射が可能な紫外線照射器を有することを特徴とする請求項1〜4に記載のナノインプリント装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のナノインプリント装置を使用し、
上記平板の表面上に、微細パターンを表側に向けたモールドを取り付けるとともに、当該モールドの表側に被転写膜を置き、上記ローラー組によって当該平板をはさみ付け、はさみ付けたその状態で平板・ローラー組間を相対移動させることを特徴とするナノインプリント方法。 - 上記の被転写膜として、帯状のものを、上記ローラー組がはさみ付ける部分のみでモールドに重なるようモールドの表側に掛け渡した状態に置くことを特徴とする請求項6に記載のナノインプリント方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のナノインプリント装置を使用し、
上記平板の表面上に、微細パターンを表側に向けたモールドを取り付けるとともに、表側ローラーの側面上に被転写膜を巻き付け、上記ローラー組によって当該平板をはさみ付け、はさみ付けたその状態で平板・ローラー組間を相対移動させることを特徴とするナノインプリント方法。 - 請求項1〜5のいずれかに記載のナノインプリント装置を使用し、
上記平板の表面上に被転写膜を取り付けるとともに、表側ローラーの側面上に微細パターンを外側に向けてモールドを取り付け、上記ローラー組によって当該平板をはさみ付け、はさみ付けたその状態で平板・ローラー組間を相対移動させることを特徴とするナノインプリント方法。 - 被転写膜として紫外線硬化性の樹脂を含むものを使用し、ローラー組にて平板をはさみ付けたとき、平板と表側ローラーとの接触箇所付近に向けて紫外線照射を行うことを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載のナノインプリント方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006103660A JP4792323B2 (ja) | 2006-04-04 | 2006-04-04 | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006103660A JP4792323B2 (ja) | 2006-04-04 | 2006-04-04 | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007281099A true JP2007281099A (ja) | 2007-10-25 |
JP4792323B2 JP4792323B2 (ja) | 2011-10-12 |
Family
ID=38682262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006103660A Active JP4792323B2 (ja) | 2006-04-04 | 2006-04-04 | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4792323B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007335647A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 |
WO2009107294A1 (ja) | 2008-02-27 | 2009-09-03 | シャープ株式会社 | ローラー型ナノインプリント装置、ローラー型ナノインプリント装置用金型ロール、ローラー型ナノインプリント装置用固定ロール、及び、ナノインプリントシートの製造方法 |
WO2010071055A1 (ja) | 2008-12-17 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | ローラー型インプリント装置、及び、インプリントシートの製造方法 |
JP2010256402A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 液晶光変調器及びそれを用いた液晶表示装置、並びに液晶光変調器の製造方法 |
KR101062128B1 (ko) | 2010-06-24 | 2011-09-02 | 한국기계연구원 | 임프린트 장치 |
JP2011183782A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置及び転写方法 |
CN102360161A (zh) * | 2011-10-09 | 2012-02-22 | 兰红波 | 大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法 |
USRE43694E1 (en) | 2000-04-28 | 2012-10-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece |
JP2013219334A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-10-24 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | フィルム状モールドを用いた基板の製造方法及び製造装置 |
JP2014172331A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Meisho Kiko Kk | 微細パターン熱転写装置 |
JP2015119104A (ja) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | パナソニック株式会社 | 微細パターン形成方法および微細パターン形成装置 |
TWI501861B (zh) * | 2011-12-06 | 2015-10-01 | 私立中原大學 | 滾輪式壓印系統 |
JP2017103369A (ja) * | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 凸版印刷株式会社 | インプリント方法及びインプリントモールド |
JP2022013799A (ja) * | 2020-07-01 | 2022-01-18 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101037903B1 (ko) | 2010-12-09 | 2011-05-30 | 한국기계연구원 | 롤프린팅/롤임프린팅용 롤 제조방법 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157511A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-08-17 | ズルツアー―エツシアー ウイス ゲゼルシャフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ロール装置 |
JPH0580530A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | 薄膜パターン製造方法 |
JP2002350631A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表示装置の製造方法 |
JP2003011218A (ja) * | 2001-04-09 | 2003-01-15 | Idemitsu Unitech Co Ltd | マイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシート |
JP2004335243A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 厚膜パターン形成方法 |
JP2004341070A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性フィルム及びその製造方法、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2006005022A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント方法及びインプリント装置 |
-
2006
- 2006-04-04 JP JP2006103660A patent/JP4792323B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157511A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-08-17 | ズルツアー―エツシアー ウイス ゲゼルシャフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ロール装置 |
JPH0580530A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | 薄膜パターン製造方法 |
JP2003011218A (ja) * | 2001-04-09 | 2003-01-15 | Idemitsu Unitech Co Ltd | マイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシート |
JP2002350631A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表示装置の製造方法 |
JP2004335243A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 厚膜パターン形成方法 |
JP2004341070A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性フィルム及びその製造方法、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置 |
JP2006005022A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント方法及びインプリント装置 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE46606E1 (en) | 2000-04-28 | 2017-11-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece |
USRE44830E1 (en) | 2000-04-28 | 2014-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece |
USRE43694E1 (en) | 2000-04-28 | 2012-10-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece |
JP2007335647A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 |
WO2009107294A1 (ja) | 2008-02-27 | 2009-09-03 | シャープ株式会社 | ローラー型ナノインプリント装置、ローラー型ナノインプリント装置用金型ロール、ローラー型ナノインプリント装置用固定ロール、及び、ナノインプリントシートの製造方法 |
US7938640B2 (en) | 2008-02-27 | 2011-05-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Roller nanoimprint apparatus, mold roller for use in roller nanoimprint apparatus, fixing roller for use in roller nanoimprint apparatus, and production method of nanoimprint sheet |
EP2348359A1 (en) | 2008-02-27 | 2011-07-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Roller type nano-imprint device, mold roll for the roller type nano-imprint device, fixed roll for the roller type nano-imprint device, and nano-imprint sheet manufacturing method |
US8673193B2 (en) | 2008-02-27 | 2014-03-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Roller nanoimprint apparatus, mold roller for use in roller nanoimprint apparatus, fixing roller for use in roller nanoimprint apparatus, and production method of nanoimprint sheet |
WO2010071055A1 (ja) | 2008-12-17 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | ローラー型インプリント装置、及び、インプリントシートの製造方法 |
US8733243B2 (en) | 2008-12-17 | 2014-05-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Roller imprinter and production method of imprinted sheet |
JP2010256402A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 液晶光変調器及びそれを用いた液晶表示装置、並びに液晶光変調器の製造方法 |
JP2011183782A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置及び転写方法 |
KR101062128B1 (ko) | 2010-06-24 | 2011-09-02 | 한국기계연구원 | 임프린트 장치 |
CN102360161A (zh) * | 2011-10-09 | 2012-02-22 | 兰红波 | 大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法 |
TWI501861B (zh) * | 2011-12-06 | 2015-10-01 | 私立中原大學 | 滾輪式壓印系統 |
JP2013219334A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-10-24 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | フィルム状モールドを用いた基板の製造方法及び製造装置 |
JP2014172331A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Meisho Kiko Kk | 微細パターン熱転写装置 |
JP2015119104A (ja) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | パナソニック株式会社 | 微細パターン形成方法および微細パターン形成装置 |
JP2017103369A (ja) * | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 凸版印刷株式会社 | インプリント方法及びインプリントモールド |
JP2022013799A (ja) * | 2020-07-01 | 2022-01-18 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
JP2022160517A (ja) * | 2020-07-01 | 2022-10-19 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
JP7169404B2 (ja) | 2020-07-01 | 2022-11-10 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
JP7432254B2 (ja) | 2020-07-01 | 2024-02-16 | ギガレーン カンパニー リミテッド | ナノインプリント用レプリカモールド製作装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4792323B2 (ja) | 2011-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4792323B2 (ja) | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 | |
US7547205B2 (en) | Microimprint/nanoimprint uniform pressing apparatus | |
TWI574912B (zh) | 大區域壓印微影術 | |
KR102328775B1 (ko) | 가요성 스탬프로 개별 기판을 임프린트하기 위한 장치 | |
EP1972997B1 (en) | Nano-imprinting apparatus and method | |
JP6032492B2 (ja) | 微細パターン形成方法、及び微細パターン形成装置 | |
KR102428754B1 (ko) | 광학 폴리머 필름 및 이를 캐스팅하기 위한 방법 | |
US9604402B2 (en) | Transfer device and molded material | |
KR20140109624A (ko) | 대면적 임프린트 장치 및 방법 | |
JP5469941B2 (ja) | 転写装置および転写方法 | |
TW201221329A (en) | Demolding device | |
TW201314527A (zh) | 用以製造觸控螢幕面板的方法及其裝置 | |
TW201207980A (en) | Substrate processing device | |
CN101271269A (zh) | 纳米压印设备及方法 | |
US20120256353A1 (en) | Pattern transfer apparatus and pattern transfer method | |
JP5406777B2 (ja) | 転写装置及び転写方法 | |
US20120070621A1 (en) | Conductive film forming method, conductive film forming apparatus and conductive film | |
JP2013218157A (ja) | 露光装置、露光方法及び基板処理装置 | |
KR102574036B1 (ko) | 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법 | |
TW548495B (en) | Liquid crystal display panel sealing apparatus having a plurality of pressurizing actuators | |
JP5752889B2 (ja) | 転写方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110712 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110725 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4792323 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |