JP2007265609A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】L字状に屈曲して構成されたゲート電極3cのインコーナ部に、矩形領域2bと対向するように配置されたリセス8を設ける。
【選択図】図2
Description
一方、これら4個のnチャネル型トランジスタおよび2個のpチャネル型トランジスタに1個のpチャネル型トランジスタをさらに追加し、この追加したpチャネル型トランジスタを読み出しトランジスタとして用いることで、ワード線の信号に依存することなく読み出しを可能とした1.5ポートSRAMを構成する方法がある。
そこで、本発明の目的は、メモリセルの面積の増大を抑制しつつ、読み出しトランジスタのゲート幅が変動を低減させることが可能な半導体記憶装置を提供することである。
このため、第3ゲート電極のコーナ部分でゲート幅が変動した場合においても、第3ゲート電極のコーナ部分を読み出しトランジスタに近接配置することを可能としつつ、第3ゲート電極のゲート幅の変動部分が読み出しトランジスタにかかることを防止することが可能となり、メモリセルの面積の増大を抑制しつつ、読み出しトランジスタの能力の低下を防止することが可能となる。
このため、第3ゲート電極のコーナ部分でゲート幅が変動した場合においても、第3ゲート電極の配置位置を変更することなく、第3ゲート電極のゲート幅の変動部分が読み出しトランジスタにかかることを防止することが可能となり、メモリセルの面積の増大を抑制しつつ、読み出しトランジスタの能力の低下を防止することが可能となる。
これにより、デザインルールを変更することなく、第3ゲート電極のインコーナ部にリセスを設けることが可能となり、メモリセルの面積の増大を抑制しつつ、読み出しトランジスタの能力の低下を防止することができる。
図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図1において、nチャネル型トランジスタMN1とpチャネル型トランジスタMP1とは直列接続されるとともに、nチャネル型トランジスタMN2とpチャネル型トランジスタMP2とは直列接続されている。そして、nチャネル型トランジスタMN1のゲートは、pチャネル型トランジスタMP1のゲートおよびnチャネル型トランジスタMN2のドレインに接続され、nチャネル型トランジスタMN2のゲートは、pチャネル型トランジスタMP2のゲートおよびnチャネル型トランジスタMN1のドレインに接続されている。また、nチャネル型トランジスタMN1、MN2のソースはVss端子に接続され、pチャネル型トランジスタMP1、MP2のソースはVcc端子に接続されている。
ここで、nチャネル型トランジスタMN1、MN2をドライバトランジスタとして使用し、nチャネル型トランジスタMN3、MN4をトランスファーゲートとして使用し、pチャネル型トランジスタMP1、MP2を負荷トランジスタとして使用することで、SRAMを構成することができる。また、pチャネル型トランジスタMP3を読み出しトランジスタとして使用することで、1.5ポートSRAMを構成することができる。
図2において、メモリセルには、素子分離領域4で互いに素子分離されたアクティブ領域1、2が設けられている。なお、アクティブ領域1、2は、ゲート電極3a〜3cに印加される電圧によってキャリア濃度が制御されるチャネル領域と、チャネル領域の両側のソース/ドレイン領域とを含むことができる。
また、ゲート電極3aは、矩形領域1a、1cと交差するように配置することができる。また、ゲート電極3bは、矩形領域1b、2aを横切るように配置することができる。また、ゲート電極3cは、L字状に屈曲して構成することができ、矩形領域1b、2aを横切るとともに、矩形領域2bを横切るように配置することができる。
また、ゲート電極3cには、ゲートコンタクト6bを配置するためのゲートコンタクト領域7bが設けられている。ここで、ゲートコンタクト領域7bは、pチャネル型トランジスタMP3側の素子分離領域4上に配置することができる。
そして、L字状に屈曲して構成されたゲート電極3cのインコーナ部にはリセス8が設けられ、リセス8は、矩形領域2bと対向するように配置することができる。そして、ゲート電極3a〜3cは、アクティブ領域1、2上に堆積された多結晶シリコン膜などをパターニングすることにより形成することができる。
これにより、デザインルールを変更することなく、ゲート電極3のインコーナ部にリセス8を設けることが可能となり、メモリセルの面積の増大を抑制しつつ、pチャネル型トランジスタMP3の能力の低下を防止することが可能となるとともに、pチャネル型トランジスタMP1、MP2間でトランジスタ特性にずれが発生することを防止することが可能となる。
図3において、アクティブ領域1、2上に堆積された多結晶シリコン膜のエッチング抜けにバラツキが発生したために、ゲート電極3cのインコーナ部に裾引き9が発生したものとする。ここで、ゲート電極3cのインコーナ部にはリセス8が設けられているので、インコーナ部に発生した裾引き9を矩形領域2bから遠ざけることが可能となり、インコーナ部に発生した裾引き9が矩形領域2bにかかることを防止することが可能となる。
図4において、メモリセルには、図2のゲート電極3cの代わりにゲート電極13cが設けられている。ここで、ゲート電極13cのインコーナ部にはリセス18が設けられ、リセス18は、インコーナ部で交わる2辺にかかるように配置することができる。
図5において、メモリセルには、図2のゲート電極3cの代わりにゲート電極23cが設けられ、ゲート電極23cのインコーナ部にはリセス28が設けられている。ここで、ゲート電極23cのインコーナ部にリセス28を設ける場合、pチャネル型トランジスタMP3から遠ざかる方向にゲート電極23cを一旦迂回させてから、pチャネル型トランジスタMP3の方向にゲート電極23cを屈曲させることができる。
Claims (6)
- 第1ドライバトランジスタと、
ドレインが前記第1ドライバトランジスタのゲートに接続され、ゲートが前記第1ドライバトランジスタのドレインに接続された第2ドライバトランジスタと、
前記第1ドライバトランジスタに直列接続され、ゲートが前記第1ドライバトランジスタのゲートを延伸させて形成された第1負荷トランジスタと、
前記第2ドライバトランジスタに直列接続され、ゲートが前記第2ドライバトランジスタのゲートを延伸させて形成された第2負荷トランジスタと、
ソースが前記第1ドライバトランジスタのドレインに接続され、ドレインが第1ビット線に接続され、ゲートがワード線に接続された第1トランスファーゲートと、
ソースが前記第2ドライバトランジスタのドレインに接続され、ドレインが第2ビット線に接続され、ゲートが前記ワード線に接続された第2トランスファーゲートと、
前記第2負荷トランジスタに直列接続され、ゲートが前記第2負荷トランジスタのゲートを屈曲させて形成された読み出しトランジスタと、
前記第2ドライバトランジスタ、前記第2負荷トランジスタおよび前記読み出しトランジスタのゲートのインコーナ部に設けられたリセスとを備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 素子分離領域で互いに素子分離された第1および第2アクティブ領域と、
前記第1アクティブ領域に2箇所で交差するように配置され、1対のトランスファーゲートに用いられる第1ゲート電極と、
前記第1アクティブ領域および前記第2アクティブ領域を横切るように配置され、第1ドライバトランジスタおよび第1負荷トランジスタに用いられる第2ゲート電極と、
前記第1アクティブ領域を横切るとともに、前記第2アクティブ領域を2箇所で横切るように屈曲して配置され、第2ドライバトランジスタ、第2負荷トランジスタおよび読み出しトランジスタに用いられる第3ゲート電極と、
前記第3ゲート電極のインコーナ部に設けられたリセスとを備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - コ字状パターンを有する第1アクティブ領域と、
T字状パターンを有する第2アクティブ領域と、
前記第1アクティブ領域と前記第2アクティブ領域とを素子分離する素子分離領域と、
前記コ字状パターンに2箇所で交差するように配置され、1対のトランスファーゲートに用いられる第1ゲート電極と、
前記コ字状パターンおよび前記T字状パターンを横切るように配置され、第1ドライバトランジスタおよび第1負荷トランジスタに用いられる第2ゲート電極と、
前記コ字状パターンを横切るとともに、前記T字状パターンを2箇所で横切るように屈曲して配置され、第2ドライバトランジスタ、第2負荷トランジスタおよび読み出しトランジスタに用いられる第3ゲート電極と、
前記第3ゲート電極のインコーナ部に設けられたリセスとを備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記コ字状パターンは、第1矩形領域と、前記第1矩形領域の両端に直交してそれぞれ結合された第2および第3矩形領域を備え、
前記T字状パターンは、第4矩形領域と、前記第4矩形領域の中央に直交して結合された第5矩形領域を備え、
前記第1アクティブ領域および前記第2アクティブ領域は、前記第1矩形領域と前記第4矩形領域とが互いに対向するように配置され、
前記第1ゲート電極は、前記第2および第3矩形領域に交差するように配置され、
前記第2ゲート電極は、前記第1矩形領域および前記第4矩形領域を横切るように配置され、
前記第3ゲート電極は、前記第1矩形領域、前記第4矩形領域および記第5矩形領域を横切るようにL字状に屈曲されて配置され、
前記リセスは、前記第4矩形領域と交差するように延伸された部分が前記第5矩形領域から遠ざかるように形成されていることを特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。 - 前記リセスと前記第4矩形領域との距離は、前記第2負荷トランジスタの特性変動を発生させないように設定され、前記リセスの深さは、前記第3ゲート電極の幅が最小デザイン寸法を下回らない範囲に設定されることを特徴とする請求項4記載の半導体記憶装置。
- 前記第1ドライバトランジスタと前記第1負荷トランジスタとの間に配置され、前記第2ゲート電極に設けられた第1ゲートコンタクトと、
前記読み出しトランジスタ側に設けられ、前記第3ゲート電極に設けられた第2ゲートコンタクトと、
前記第1ゲート電極で区切られた第2矩形領域に設けられた第1アクティブコンタクトと、
前記第1ゲート電極で区切られた第3矩形領域に設けられた第2アクティブコンタクトと、
前記第1ゲート電極と前記第2ゲート電極との間の第1矩形領域に設けられた第3アクティブコンタクトと、
前記第1ゲート電極と前記第3ゲート電極との間の第1矩形領域に設けられた第4アクティブコンタクトと、
前記第2ゲート電極と前記第3ゲート電極との間の第1矩形領域に設けられた第5アクティブコンタクトと、
前記第2ゲート電極で区切られた第4矩形領域に設けられた第6アクティブコンタクトと、
前記第3ゲート電極で区切られた第4矩形領域に設けられた第7アクティブコンタクトと、
前記第3ゲート電極で区切られた第5矩形領域に設けられた第8アクティブコンタクトと、
前記第2ゲート電極と前記第3ゲート電極との間の第4矩形領域に設けられた第9アクティブコンタクトと、
前記第3アクティブコンタクト、前記第6アクティブコンタクトおよび前記第2ゲートコンタクトとを接続する第1配線層と、
前記第4アクティブコンタクト、前記第7アクティブコンタクトおよび前記第1ゲートコンタクトとを接続する第2配線層と、
前記第1ゲート電極に接続されたワード線と、
前記第1アクティブコンタクトに接続された第1ビット線と、
前記第2アクティブコンタクトに接続された第2ビット線とを備えることを特徴とする請求項4または5記載の半導体記憶装置。
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- 2007-05-28 JP JP2007140691A patent/JP2007265609A/ja not_active Withdrawn
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