JP2007253344A - 凸版反転オフセット印刷用凸版およびその製造方法、あるいはそれを用いた印刷物製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版10を接触させて凸版10の凸部14に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版10であって、該凸版10のインキ膜接触面にインキ剥離性処理がされている凸版反転オフセット印刷用凸版とする。
【選択図】図1
Description
まず、インキ供給手段61からインキをインキ膜形成基材62上に塗布してインキ膜63を形成する(図6(a))。このとき、インキはインキ膜形成基材上で予備乾燥状態に置かれ、多少の溶媒を失ってインキ膜となる。ついで、該インキ膜に対し所定形状の除去版64を接触させて該インキ膜の不要部63bを転写してインキ膜形成基材から除去する(図6(b))。ここでは除去版として要部に対応する部位が凹部、不要部に対応する部位が凸部となった凸版を使用している。次に、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部63aを被印刷基板65に転写して、印刷物を得ることができる(図6(c))。
さらに、印刷物である電子部品等の汎用性と、生産効率を向上させるために、被印刷基材としてロール状となった長尺のフレキシブルなフィルムを用い、連続して画像パターンを形成することが求められている。連続的に除去版の使用と洗浄を繰り返す場合、除去版が確実に洗浄されているか、そして洗浄後すぐに使用可能であるかどうかはその生産性に密接にかかわってくる。
請求項3に係る第3の発明は、前記シランカップリング剤はアルキルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項2記載の凸版反転オフセット印刷用凸版である。
請求項6に係る第6の発明は、前記凸版の備える凸部側面及び凹部底面になされたインキ剥離性処理はフルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンによる処理であることを特徴とする請求項4または5記載の凸版反転オフセット印刷用凸版である。
また、本発明の印刷物製造方法は、洗浄が容易で確実かつ洗浄後にすぐに次の印刷が可能な凸版を除去版として用いているので、印刷を停止することなく連続的に印刷物の生産を行うことができる。
本発明の凸版について、図1及び図2を用いて説明する。
本発明の凸版の材料は、ガラス、ステンレスなどの金属、各種材料あるいはそれらを組み合わせたものをなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。堅牢で加工が容易であることから、ガラスが好ましい。
本発明の凸版の製造工程の一例を図3を用いて、他の例を図4を用いて説明する。図4では図3と共通する工程は省略してある。
まず、凸版基材31となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスク32する(図3(a))。マスクは次に行われるレリーフ形成工程において基材表面を保護できればよく、例えば金属や感光性樹脂を用いることができる。金属の場合は蒸着の後、必要な部分を覆うようレジストを形成し、金属のみをエッチングする条件でエッチングを行うことでパターン状に形成できる。
こうして得られた本発明の凸版を用いた凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造について図5及び図6を用い説明する。なお、既に説明したものについては説明を省略する。
本発明の凸版は、凸版反転オフセット印刷法の除去版として使用される。
以下、本発明の実施の形態を例を挙げて説明する。
このクロム皮膜をマスクとし、フッ酸を用いたガラスエッチングにより、凹部の深さが5μmになるように凹凸を形成後、クロムパターンをエッチングにより剥離して不要部に対応する部位が凸部、要部に対応する部位が凹部となった反転オフセット印刷用凸版を作製した。
<赤色顔料分散液>
・赤色顔料
C.I. Pigment Red 254(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製 「イルガーフォーレッド B−CF」)…18重量部
C.I. Pigment Red 177 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製 「クロモフタールレッド A2B」)…2重量部
・アクリルワニス(固形分20%)…108重量部
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
・上記赤色顔料分散液…100重量部
・メチル化メチロールメラミン(三洋化成工業株式会社製:商品名MW−30)…20重量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業株式会社製:商品名メガファック F−483SF)…1重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…45重量部
ブランケットから転移した凸版上のインキ膜は、粘着フィルムと当該凸版のインキ膜転移面を接触させることで、凸版上からすべて取り除くことができた。ここで用いた粘着フィルムはエチレン酢酸ビニル共重合体のフィルムにアクリル系粘着剤が塗布してあるものである。
次いで、シランカップリング剤としてフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン社製:商品名TSL8233)をイソプロピルアルコールに0.5重量%となるよう溶解させた溶液にこの凸版を10分間浸漬後、120℃で10分乾燥させることにより凸部側面および底面に第1のインキ剥離性処理として撥インキ性処理を施した。その後、エッチングによりクロムパターンを剥離し、次いで、n−ヘキシルトリメトキシシラン(日本ユニカー製AZ−6177)をイソプロピルアルコールに0.5重量%で溶解させた溶液を凸版上にスピンコートし、120℃で10分乾燥させることにより第2のインキ剥離性処理を凸版頂部に施した。こうして本発明の他の形態の凸版反転オフセット印刷用凸版を作製した。この他の実施形態の凸版の、凸部頂部の純水に対する接触角は79.8度、凸部側面及び凹部底面の純水に対する接触角は101.1度である。
ブランケットから転移した凸版上のインキ膜を、メチルエチルケトンを用いて洗浄し、凸版を圧縮エアーにより乾燥した。結果、本発明の他の実施形態である凸版からインキは除去でき、且つ凹部にもインキは残っていなかった。
その結果、得られた印刷物に欠陥や汚れはなく、100枚すべて良好に印刷されていた。
その結果、洗浄不良(インキ膜除去不良)によると見られる汚れが100枚中3枚に付着していた。
11:インキ剥離性処理面
14:凸部頂部
15:凸部側面
16:凹部底面
20:凸版
21:第1のインキ剥離性処理面
22:第2のインキ剥離性処理面
30、40:凸版
31、41:凸版基材
32、42:マスク
33:マスク済みの基材
34、44:レリーフ
35:インキ剥離性処理
45a:第1のインキ剥離性処理
45b:第2のインキ剥離性処理
36:インキ剥離性処理面
46a:第1のインキ剥離性処理面
46b:第2のインキ剥離性処理面
50:凸版反転オフセット印刷装置
51、61:インキ供給手段
52:ブランケット
62:インキ膜形成基材
53、63:インキ膜
53a、63a:インキ膜の要部
53b、63b:インキ膜の不要部
54:除去版
64:凸版
55、65:被印刷基板
56:搬送手段
Claims (8)
- インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、
該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、
該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版であって、
該凸版の凹凸を有している面にインキ剥離性処理がされていることを特徴とする凸版反転オフセット印刷用凸版。 - 前記インキ剥離性処理はシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項1記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記シランカップリング剤はアルキルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項2記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記凸版の備える凸部の頂部と、凸部側面及び凹部底面とでは異なるインキ剥離性処理がされていることを特徴とする請求項1記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記凸版の備える凸部側面及び凹部底面の純水に対する接触角が、前記凸版の備える凸部の頂部の純水に対する接触角よりも大きいことを特徴とする請求項4記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記凸版の備える凸部側面及び凹部底面になされたインキ剥離性処理はフルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンによる処理であることを特徴とする請求項4または5記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、
該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、
該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、
凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスクする工程、
基板表面のマスクされていない領域をエッチングする工程、
基板表面のエッチングされた領域に第2のインキ剥離性処理を施す工程、
パターン状になされたマスクを剥離する工程、
マスク剥離後に第1のインキ剥離性処理を施す工程、
を備えることを特徴とする凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法。 - 少なくとも、
インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、
該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、
該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に連続的に転写する転写工程とを繰り返す凸版反転オフセット印刷法による印刷物製造方法であって、
さらに、前記除去工程後に凸版の凸部と粘着性フィルムの粘着面とを接触させて凸版の凸部が保持するインキ膜を粘着性フィルムへ転移させ凸版を洗浄する洗浄工程を備え、
該凸版として請求項1乃至6記載の凸版反転オフセット印刷用凸版を用いることを特徴とする印刷物製造方法。
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