JP2007226911A - Manufacturing method of optical information recording medium, manufacturing apparatus and optical information recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture an optical information recording medium having uniform film thickness distribution of a light transmission layer which is irradiated with a laser upon recording and reproduction, free from resin swelling (ski jump) of an outer peripheral end part of the light transmission layer and achieving high density reproduction. <P>SOLUTION: A manufacturing method of the optical information recording medium 10 has a step for forming the light transmission layer 6 by a spin coating method comprising a step for supplying a photosetting resin onto a substrate 1, a step for spreading the photosetting resin by centrifugal force and a step for curing the photosetting resin by irradiation with light. The manufacturing method further has a first heating step for imparting heat energy concentrically to a rotational center when the photosetting resin is spread to at least either one of the substrate 1 and the substrate with the photosetting resin applied thereon at least either before the resin is supplied onto the substrate, during supply of the resin or during spread of the resin and a second heating step for imparting heat energy locally to a region of the outer peripheral end part of the substrate where an information recording layer 7 is not formed during spread of the resin on the substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光情報記録媒体の製造方法、製造装置、及び光情報記録媒体に関するものである。   The present invention relates to an optical information recording medium manufacturing method, a manufacturing apparatus, and an optical information recording medium.

従来、文字情報、静止画像情報、更には動画情報を記録・再生可能な光情報記録媒体に関する提案がなされている。
例えば、結晶状態と非晶質(アモルファス)状態との可逆的相変化を利用したいわゆる相変化型の光情報記録媒体が、実用化されている。
相変化記録材料としては、GeTe−Sb2Te3擬似2元系組成を有しており、Ge2Sb2Te5等の化合物組成に代表されるGe−Sb−Te系3元合金材料、及びSb70Te30共晶組成近傍を主成分とし、Ag−In−Sb−Teに代表されるSbTe共晶系材料がある。
前記GeSbTe系材料はDVD−RAM用材料として、後者のAgInSbTe共晶系材料は、CD−RW、DVD−RW、及びDVD+RW用材料として、広く実用化されている。
Conventionally, proposals have been made regarding optical information recording media capable of recording / reproducing character information, still image information, and moving image information.
For example, a so-called phase change type optical information recording medium using a reversible phase change between a crystalline state and an amorphous state has been put into practical use.
The phase change recording material has a GeTe—Sb 2 Te 3 pseudo binary composition, a Ge—Sb—Te ternary alloy material represented by a compound composition such as Ge 2 Sb 2 Te 5 , and There are SbTe eutectic materials typified by Ag-In-Sb-Te, mainly composed of Sb 70 Te 30 eutectic composition.
The GeSbTe-based material is widely used as a DVD-RAM material, and the latter AgInSbTe eutectic material is widely used as a CD-RW, DVD-RW, and DVD + RW material.

上述したような各種の光情報記録媒体は、いずれも螺旋状、もしくは同心円状の溝を有するプラスチック基板(光透過性樹脂基板)上に、下部保護層、記録層、上部保護層、反射層等が積層形成された構成を有しており、前記記録層の、結晶状態とアモルファス状態における光学定数変化、及び前記積層構造の多重干渉を利用して、反射率を制御し、情報の記録・再生を行うものである。   Each of the various optical information recording media as described above has a lower protective layer, a recording layer, an upper protective layer, a reflective layer, etc. on a plastic substrate (light transmissive resin substrate) having spiral or concentric grooves. The recording layer has a configuration in which the recording layer is formed, and the reflectance is controlled by using the optical constant change in the crystalline state and the amorphous state of the recording layer, and the multiple interference of the laminated structure, and information is recorded / reproduced. Is to do.

一方、デジタル化の進展やブロードバンドの普及に伴って、扱う情報量が増大しており、高品位の動画像を高密度かつ高速でデータを記録・再生できる新たな記録システムが求められている。
このような背景から、記録再生波長の短波長化や開口数NA(Numerical Aperture)の増大化が進み、集光ビーム径を小さくし、記録されるマークのサイズを小さくして、高密度化及び高速化を図った光記録システムが提案された。
例えば、従来公知の記録型DVDは、記録再生波長λ=650〜660nm、開口数NA=0.65で、記録容量が4.7GBであるが、記録再生波長λを400nm程度まで短波長化し、開口数NA=0.85とした記録容量20GBの光ディスクシステム、例えばBlue-ray disc 規格が提案されている。
On the other hand, with the progress of digitization and the spread of broadband, the amount of information to be handled is increasing, and a new recording system capable of recording and reproducing high-quality moving images at high density and high speed is demanded.
Against this background, the recording / reproducing wavelength has been shortened and the numerical aperture NA (Numerical Aperture) has been increased, the focused beam diameter is reduced, the recorded mark size is reduced, and the recording density is increased. An optical recording system with high speed was proposed.
For example, a conventionally known recordable DVD has a recording / reproducing wavelength λ = 650 to 660 nm, a numerical aperture NA = 0.65, and a recording capacity of 4.7 GB, but the recording / reproducing wavelength λ is shortened to about 400 nm, An optical disk system having a recording capacity of 20 GB with a numerical aperture NA = 0.85, for example, a Blue-ray disc standard has been proposed.

しかしながら、上述のようにして光学系を高NA化することによって、種々の問題が生じている。
例えば、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からずれる角度、いわゆるチルト角により発生する収差の許容量が小さくなってしまうという問題がある。ここで、記録・再生レーザ光の波長をλ、基板の厚さをtとすると、レンズの開口数NAによって光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度、いわゆるチルトマージンMが決まる。
すなわち、チルトマージンMは、λ/{t×(NA)3}に比例する。チルトマージンを充分な値に確保するためには、基板の厚さtを薄くすることが必要となる。そこで、高NAシステムにおいては、記録・再生レーザ光を、0.1mm程度もの薄層に成膜されている光透過層を通して照射する技術が考案されている(下記特許文献1、2参照。)。
However, various problems are caused by increasing the NA of the optical system as described above.
For example, there is a problem in that an allowable amount of aberration caused by an angle at which the disk surface deviates from the optical axis of the optical pickup, that is, a so-called tilt angle, becomes small. Here, assuming that the wavelength of the recording / reproducing laser beam is λ and the thickness of the substrate is t, the tolerance of the tilt of the optical recording medium with respect to the optical system, the so-called tilt margin M, is determined by the numerical aperture NA of the lens.
That is, the tilt margin M is proportional to λ / {t × (NA) 3 }. In order to ensure a sufficient tilt margin, it is necessary to reduce the thickness t of the substrate. Therefore, in a high NA system, a technique for irradiating a recording / reproducing laser beam through a light transmission layer formed in a thin layer of about 0.1 mm has been devised (see Patent Documents 1 and 2 below). .

このように、光透過層の膜厚が、0.1mm程度の薄層である場合、従来公知のポリカーボネート等の射出成形法によりこれを成形しようとすると、充分な機械的強度や板厚分布、光学特性の面内均一性等が確保できなくなるという問題が生じていた。
このような問題に鑑みて、下記特許文献1及び2においては、基板側とは反対側に、レーザ光透過用の光透過層を設けた構成の記録媒体が提案された。すなわち、ポリカーボネート等からなる基板上に、反射層、誘電体層、相変化記録層、誘電体層、及び光透過層を順次積層形成した構成とし、光透過層が極めて薄膜となるようにするのである。
このような構成の相変化記録媒体は、先ず、スタンパを用いてプリグルーブを有する基板を射出成形し、次にプリグルーブが形成されている基板表面にスパッタリング法等によって反射層、第1誘電体層、相変化記録層、第2誘電体層を順次成膜する。そして第2誘電体層の表面に紫外線硬化型樹脂のスピンコートやフィルムシートの貼り合わせによって光透過層を形成することにより作製できる。
Thus, when the thickness of the light transmission layer is a thin layer of about 0.1 mm, sufficient mechanical strength and plate thickness distribution, when trying to mold this by a conventionally known injection molding method such as polycarbonate, There has been a problem that in-plane uniformity of optical characteristics cannot be secured.
In view of such problems, the following Patent Documents 1 and 2 have proposed a recording medium having a configuration in which a light transmission layer for transmitting laser light is provided on the side opposite to the substrate side. That is, a reflective layer, a dielectric layer, a phase change recording layer, a dielectric layer, and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate made of polycarbonate or the like, so that the light transmission layer becomes a very thin film. is there.
In the phase change recording medium having such a structure, first, a substrate having a pregroove is injection-molded using a stamper, and then the reflective layer and the first dielectric are formed on the surface of the substrate on which the pregroove is formed by a sputtering method or the like. A layer, a phase change recording layer, and a second dielectric layer are sequentially formed. And it can produce by forming a light transmissive layer on the surface of a 2nd dielectric material layer by the spin coat of ultraviolet curable resin, or bonding of a film sheet.

上述したようにして作製された相変化記録媒体においては、記録・再生の際に、基板の反対側に形成された光透過層側からレーザ光を入射させるので、基板の厚さを充分に確保できる。
また、基板には透過率や複屈折等の光学特性が要求されないため、溝の転写性や媒体の機械特性のみに着目した基板成形を行えばよく、このようなタイプの光記録媒体を用いれば、基板の機械的強度を確保しつつ、高NAの光記録媒体用ヘッドを利用することが可能となる。
In the phase change recording medium manufactured as described above, the laser beam is incident from the side of the light transmission layer formed on the opposite side of the substrate at the time of recording / reproduction, so that the thickness of the substrate is sufficiently secured. it can.
Also, since the substrate is not required to have optical characteristics such as transmittance and birefringence, it is only necessary to perform substrate molding that focuses only on the transferability of the grooves and the mechanical characteristics of the medium. If such an optical recording medium is used, It is possible to use a high NA optical recording medium head while ensuring the mechanical strength of the substrate.

上述した光透過層の形成方法について説明する。
下記特許文献1には、スピンコート法が提案されている。
スピンコーティング法は、所定の基板上に、紫外線硬化樹脂等の液状材料を供給し、ディスク体を回転させて回転による遠心力で該液状材料を展延・硬化させて、ディスク表面に液状材料の薄膜を形成するという技術である。
下記特許文献2には、球面収差の面内変動を抑えるために均一な厚さの光透過層を形成する製造方法として、マスクでディスク中心孔を塞いだスピンコート法が開示されている。
A method for forming the above-described light transmission layer will be described.
The following Patent Document 1 proposes a spin coating method.
In the spin coating method, a liquid material such as an ultraviolet curable resin is supplied onto a predetermined substrate, the disk body is rotated, and the liquid material is spread and cured by a centrifugal force caused by the rotation. This is a technique for forming a thin film.
Patent Document 2 below discloses a spin coating method in which a disk central hole is closed with a mask as a manufacturing method for forming a light transmission layer having a uniform thickness in order to suppress in-plane variation of spherical aberration.

しかしながら、このような従来提案されている技術については、下記のような問題を有している。
第1の問題点としては、特許文献2において開示されている技術に関しては、マスク洗浄工程が必要であることに起因する生産性悪化の問題である。
すなわち、ディスク基板の中心孔を塞ぐキャップ状治具を有機溶剤等で洗浄し、再利用するという工程があるため、治具の清浄度を保つべく、多量の有機溶剤が必要となり、コストアップを招来し、かつ環境負荷の問題も引き起こすのである。
マスクの洗浄頻度を減らし、樹脂が残留したままのキャップ治具でスピンコートを行うと、マスクで遮蔽したディスク内周部に樹脂が回り込んで、突発的な外観不良を発生させるという問題を生じた。
また、スピンコート中に、部分的に紫外線を照射する操作を行うと、回り込んだ紫外線によりキャップ上の樹脂が硬化してしまい、除去が困難になるという問題を生じた。
部分的に樹脂が固着した洗浄が不充分なキャップ治具を用いてスピンコートを行うと、樹脂残留部を基点として膜厚の薄い部分が放射状に発生したりして、歩留まりを劣化させる原因になっていた。
However, such conventionally proposed techniques have the following problems.
As a first problem, with respect to the technique disclosed in Patent Document 2, there is a problem of productivity deterioration due to the necessity of a mask cleaning process.
That is, the cap-shaped jig that closes the center hole of the disk substrate is cleaned with an organic solvent and reused. Therefore, a large amount of organic solvent is required to maintain the cleanliness of the jig, which increases costs. Inviting and causing environmental impact problems.
If the frequency of cleaning the mask is reduced and spin coating is performed with a cap jig with the resin remaining, the resin wraps around the inner periphery of the disk shielded by the mask, causing a sudden appearance defect. It was.
In addition, when an operation of partially irradiating ultraviolet rays was performed during the spin coating, the resin on the cap was cured by the ultraviolet rays that wrap around, and it was difficult to remove.
When spin coating is performed using a cap jig with insufficiently fixed resin with the resin partially fixed, thin portions with a thin film thickness are generated radially from the resin residual portion, which may cause the yield to deteriorate. It was.

第2の問題点としては、スキージャンプと呼ばれるディスク外周端での樹脂の盛り上がりに関する問題である。
スピンコーティング法により、ディスク中央付近に滴下された液状樹脂は、遠心力によりディスク全体に均一な膜厚で塗布されるが、回転を止めて遠心力がなくなると、液体の表面張力によりディスクの外周端で塗膜が盛り上がる等の膜厚不均一な状態となる。このような現象は、コーティングされる液状材料の粘度が高いほど顕著となる。このような、いわゆるスキージャンプと呼ばれる現象が、ディスク基板の外周部における記録形成領域にまで及んでしまい、トラッキング不良や信号品質の悪化を招来するという問題を引き起こしていた。
このため、Blue-ray disc 規格では、外周端におけるスキージャンプの高さを30μm以下に抑制するということが規定されている。
As a second problem, there is a problem related to the swelling of the resin at the outer peripheral edge of the disk called ski jump.
The liquid resin dripped near the center of the disk by spin coating is applied to the entire disk by centrifugal force with a uniform film thickness, but when the rotation stops and the centrifugal force disappears, the outer periphery of the disk is affected by the surface tension of the liquid. The film becomes non-uniform, such as the coating swells at the edges. Such a phenomenon becomes more prominent as the viscosity of the liquid material to be coated is higher. Such a phenomenon called so-called ski jump has reached the recording formation area on the outer peripheral portion of the disk substrate, causing a problem of tracking failure and deterioration of signal quality.
For this reason, the Blue-ray disc standard stipulates that the height of the ski jump at the outer peripheral end is suppressed to 30 μm or less.

これに対し、スピンコーティング工程で、ディスクの回転を止める前に紫外線を照射し、ディスク上に塗膜されている液状材料の流動性を低下させる技術についての提案がなされている(下記特許文献3参照。)。
このような方法により、ディスク基板の外周端におけるスキージャンプを、上記規格内に抑えることができるようになったが、ディスク基板の側面に、スピンコートされた樹脂がバリ状の凹凸となって残ってしまい、外観不良のみならずユーザーがハンドリングする際に怪我の原因となったりするという問題が生じた。
このため、外周バリを除去する後工程が必要となり、工程数の増加によるコストアップや歩留まり低下を引き起こした。
On the other hand, in the spin coating process, there has been proposed a technique for irradiating ultraviolet rays before stopping the rotation of the disk to reduce the fluidity of the liquid material coated on the disk (Patent Document 3 below). reference.).
With this method, the ski jump at the outer peripheral edge of the disk substrate can be suppressed within the above-mentioned standard, but the spin-coated resin remains as burr-like irregularities on the side surface of the disk substrate. As a result, there is a problem that not only the appearance is deteriorated but also the user is injured when handling.
For this reason, a post-process for removing the peripheral burr is required, which causes an increase in cost and a decrease in yield due to an increase in the number of processes.

また、照射した紫外線は、スピンコート装置内のディスク周囲に配置された樹脂回収トレイにも照射されてしまうため、トレイ内に付着した樹脂が硬化したり、あるいは粘度が変化してしまったりし、樹脂の再生利用が困難になるという問題を生じた。
このため、回収トレイの洗浄が必要になったり、あるいは樹脂の利用率が悪くなったりし、コストアップの原因になっていた。
Moreover, since the irradiated ultraviolet rays are also irradiated to the resin recovery tray arranged around the disk in the spin coater, the resin adhering to the tray is cured or the viscosity is changed. There was a problem that it was difficult to recycle the resin.
For this reason, it becomes necessary to clean the collection tray, or the utilization rate of the resin deteriorates, which causes an increase in cost.

また、スピンコート法において、樹脂の温度制御により塗布される膜厚分布を適正化する技術についての提案がなされている(下記特許文献4、5参照。)。
特許文献4においては、2層構成のDVDの貼り合わせに際して、光ディスク外周部を加熱することで外周側の中間層(=接着層)膜厚を薄くするという技術が開示されている。
しかしながら、0.1mm程度もの薄層の光透過層を有する記録媒体とは構造が異なっており、光ディスク外周部のみを加熱しても、光透過層の膜厚を、例えばBlue-ray disc 規格の±2μm以内に抑制することは困難であった。
また、引用文献4に記載されている技術は、基板外周の膜厚が厚くなる部分を平坦化するのに、外周部の比較的広い範囲を加熱する方法であるため、外周端のスキージャンプの発生を回避することも困難である。
In addition, in the spin coating method, a technique for optimizing the film thickness distribution applied by controlling the temperature of the resin has been proposed (see Patent Documents 4 and 5 below).
Patent Document 4 discloses a technique of thinning the outer peripheral side intermediate layer (= adhesive layer) film thickness by heating the outer peripheral part of the optical disc when the two-layer DVD is bonded.
However, the structure is different from a recording medium having a thin light transmission layer of about 0.1 mm, and even if only the outer periphery of the optical disk is heated, the thickness of the light transmission layer can be reduced, for example, according to the Blue-ray disc standard. It was difficult to suppress within ± 2 μm.
Further, since the technique described in the cited document 4 is a method of heating a relatively wide range of the outer peripheral portion in order to flatten the portion where the film thickness on the outer periphery of the substrate is thick, It is also difficult to avoid the occurrence.

引用文献5には、シートを接着して光透過層を形成した構成の高密度型の光ディスク構造において、接着剤を展延する際に、熱エネルギーを付与して接着層の厚さを均一化し、トータルの光透過層全体の膜厚を均一化する技術についての開示がなされている。
特許文献4の技術が光ディスク外周部のみを加熱する方法であるのに対し、特許文献5の技術は、内周から外周に向かって基板面に集光した光源を走査することにより光ディスク全体を加熱する方法であり、これにより、Blue-ray disc 規格を満足する光透過層の膜厚分布が得られるとしている。更には、この方法を応用して、スピンコーティングで光透過層を直接形成する方法についても開示されている。
しかしながら、外周端のスキージャンプに関しては、やはり具体的な解決手段が示されておらず、スピンコート法によりスキージャンプを確実に防止した光ディスク媒体は得られなかった。
また、引用文献5の技術においては、ディスクの内周から外周に向かって樹脂温度を高くするための具体的な手段として、基板にスポット集光された光源を樹脂展延中に半径方向に掃引する方法についての開示がなされているが、実際には、膜厚平坦化のために必要な加熱温度はそれほど高くはなく、集光した高強度の加熱スポットでは、短時間で半径方向に高速度で掃引しなければならなくなり、ディスク面内の温度分布の再現性が得られにくく、膜厚分布にロット間ばらつきが生じやすいという製造上の欠点があった。
この問題を回避すべく、掃引中の光源の出力調整を行い、温度分布を調整しようとすると、加熱源自体の温度変動により、負荷インピーダンスが変動して、照度の繰り返し精度が悪化してしまい、膜厚分布がばらついてしまうという問題を生じた。
In Cited Document 5, in a high-density optical disk structure in which a light transmissive layer is formed by bonding sheets, thermal energy is applied to spread the adhesive to make the thickness of the adhesive layer uniform. A technique for making the film thickness of the entire light transmission layer uniform is disclosed.
The technique of Patent Document 4 is a method of heating only the outer peripheral part of the optical disk, whereas the technique of Patent Document 5 heats the entire optical disk by scanning a light source condensed on the substrate surface from the inner periphery toward the outer periphery. According to this method, the thickness distribution of the light transmission layer satisfying the Blue-ray disc standard is obtained. Furthermore, a method of directly forming a light transmission layer by spin coating by applying this method is also disclosed.
However, no specific means for solving the ski jump at the outer peripheral edge has been shown, and an optical disk medium in which ski jump is reliably prevented by the spin coat method has not been obtained.
Further, in the technique of the cited document 5, as a specific means for increasing the resin temperature from the inner periphery to the outer periphery of the disk, the light source spot-condensed on the substrate is swept in the radial direction during the resin spreading. However, in reality, the heating temperature required for flattening the film thickness is not so high, and a high-intensity heating spot that has been focused has a high speed in the radial direction in a short time. In other words, it is difficult to obtain the reproducibility of the temperature distribution in the disk surface, and the film thickness distribution tends to cause lot-to-lot variations.
In order to avoid this problem, when adjusting the output of the light source during sweeping and adjusting the temperature distribution, the load impedance fluctuates due to the temperature fluctuation of the heating source itself, and the repeatability of illuminance deteriorates. There arises a problem that the film thickness distribution varies.

特許第3241560号公報Japanese Patent No. 3241560 特開平11−213459号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-213459 特開2002−319192号公報JP 2002-319192 A 特開2000−228038号公報JP 2000-228038 A 特開2004−103085号公報JP 2004-103085 A

そこで本発明においては、上述したような従来の技術で問題となっていたことに鑑み、光透過層の膜厚分布が均一で、外周端の樹脂盛り上がり(スキージャンプ)のない高密度再生可能な光記録媒体とその製造方法および製造装置を提供することとした。   Therefore, in the present invention, in view of the problems with the conventional techniques as described above, the film thickness distribution of the light transmission layer is uniform, and high density reproduction is possible without the resin bulge (ski jump) at the outer peripheral edge. An optical recording medium, a manufacturing method thereof, and a manufacturing apparatus are provided.

本発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対してレーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体の製造方法であって、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とによりスピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱工程と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱工程とを有しているものとした光情報記録媒体の製造方法を提供する。   In the present invention, an information recording layer and a light transmission layer are provided on the substrate, and data recording is performed by irradiating the information recording layer with the laser light through the light transmission layer, and A method of manufacturing an optical information recording medium in which reproduction is performed, wherein at least a step of supplying a photocurable resin onto a substrate, a step of spreading the photocurable resin by centrifugal force, and light irradiation A step of forming the light transmission layer by a spin coating method with a step of curing the photocurable resin, before supplying the photocurable resin onto the substrate, during supply, and during the spreading. In at least one of the steps, at least one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin, the thermal energy concentrically with respect to the rotation center when the photocurable resin is spread. To give the first And a second heating step of locally applying thermal energy to a region where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. An optical information recording medium manufacturing method is provided.

請求項2の発明においては、前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第1の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させる工程を有しているものとした請求項1に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a step of stabilizing the temperature of the substrate before the step of supplying the photocurable resin onto the substrate or before the first heating step. An optical information recording medium manufacturing method according to claim 1 is provided.

請求項3の発明においては、前記光硬化性樹脂は、供給前に温度を安定化させる工程を経てから供給されるようになされていることとした請求項1又は2に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。   3. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the photocurable resin is supplied after a step of stabilizing the temperature before supply. A manufacturing method is provided.

請求項4の発明においては、前記基板温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御することとした請求項2に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the method for producing an optical information recording medium according to the second aspect, wherein in the step of stabilizing the substrate temperature, the temperature fluctuation range is controlled to ± 0.2 ° C. or less. provide.

請求項5の発明においては、前記光硬化性樹脂の温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御することとした請求項3に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。   5. The optical information recording medium according to claim 3, wherein in the step of stabilizing the temperature of the photocurable resin, the temperature fluctuation range is controlled to ± 0.2 ° C. or less. A manufacturing method is provided.

請求項6の発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体の製造装置であって、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱手段と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱手段とを具備している光情報記録媒体の製造装置を提供する。   According to a sixth aspect of the present invention, an information recording layer and a light transmission layer are provided on a substrate, and the information recording layer is irradiated with laser light through the light transmission layer. For recording and / or reproducing optical information recording medium, at least a resin supply means for supplying a photocurable resin onto a substrate, and the photocurable resin is spread by centrifugal force Resin spreading means and resin curing means for curing the photocurable resin by light irradiation and forming the light transmission layer by spin coating, and supplying the photocurable resin onto the substrate At the time of spreading the photocurable resin on at least one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin in at least one of the stages before, during supply, and during the spreading. Concentric with the center of rotation The first heating means for applying thermal energy and the thermal energy is locally applied to the area where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. And an optical information recording medium manufacturing apparatus including the second heating means.

請求項7の発明においては、前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第1の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させるようになされているものとした請求項6に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。   According to a seventh aspect of the invention, the temperature of the substrate is stabilized before the step of supplying the photocurable resin onto the substrate or before the first heating step. An apparatus for manufacturing an optical information recording medium according to claim 6 is provided.

請求項8の発明においては、前記光硬化性樹脂を供給するノズルの手前に、この光硬化性樹脂の温度を安定化させる樹脂温度安定化手段が設けられているものとした請求項6又は7に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。   In the invention of claim 8, a resin temperature stabilizing means for stabilizing the temperature of the photocurable resin is provided before the nozzle for supplying the photocurable resin. An optical information recording medium manufacturing apparatus described in 1) is provided.

請求項9の発明においては、前記基板の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御されるようになされていることとした請求項7に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。   In the invention of claim 9, when stabilizing the temperature of the substrate, the fluctuation range of the temperature is controlled to be ± 0.2 ° C. or less. An apparatus for manufacturing a recording medium is provided.

請求項10の発明においては、前記樹脂温度安定化手段においては、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御されるようになされていることとした請求項8に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。   According to a tenth aspect of the present invention, in the resin temperature stabilizing means, the temperature fluctuation range is controlled to be ± 0.2 ° C. or less. An apparatus for manufacturing a medium is provided.

請求項11の発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体であって、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法を適用し、請求項6乃至10のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造装置を用いて、前記光透過層の形成がなされたものであり、レーザ光波長=405±15nm、対物レンズの開口数NA=0.85±0.05の光学系により、記録及び/又は再生がなされるものである光情報記録媒体を提供する。   In the invention of claim 11, an information recording layer and a light transmission layer are provided on the substrate, and the information recording layer is irradiated with laser light through the light transmission layer, whereby data is obtained. An optical information recording medium on which recording and / or reproduction is performed, wherein the method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 1 to 5 is applied, and any one of claims 6 to 10 is applied. The light transmission layer is formed using the apparatus for manufacturing an optical information recording medium described in Item 1. The laser light wavelength is 405 ± 15 nm, and the numerical aperture NA of the objective lens is 0.85 ± 0. An optical information recording medium on which recording and / or reproduction is performed by the optical system of 05 is provided.

本発明によれば、光透過層の膜厚分布が均一で、外周端の樹脂盛り上がり(スキージャンプ)を効果的に抑制できた。   According to the present invention, the film thickness distribution of the light transmission layer is uniform, and the resin bulge (ski jump) at the outer peripheral edge can be effectively suppressed.

本発明について、以下具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、薄層に形成された光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる構成の光情報記録媒体を製造するものである。
The present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to the following examples.
The method for producing an optical information recording medium of the present invention comprises an information recording layer and a light transmission layer on a substrate, and the information recording layer is formed through a light transmission layer formed in a thin layer. An optical information recording medium configured to record and / or reproduce data by irradiating a laser beam is manufactured.

本発明方法は、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とにより、スピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しているものであるが、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱工程と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱工程とを有しているものである。   The method of the present invention comprises a spin coating method comprising a step of supplying a photocurable resin onto a substrate, a step of spreading the photocurable resin by centrifugal force, and a step of curing the photocurable resin by light irradiation. The step of forming the light-transmitting layer is carried out, but before supplying the photo-curable resin onto the substrate, during supply, during the spreading, at least in any stage, A first heating step of applying thermal energy concentrically with respect to a rotation center when the photocurable resin is spread on at least one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin; A second heating step of locally applying thermal energy to a region where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. It is what.

上記本発明方法を実現するための光情報記録媒体の製造装置は、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱手段と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱手段とを具備しているものとする。   An apparatus for producing an optical information recording medium for realizing the method of the present invention comprises at least a resin supply means for supplying a photocurable resin onto a substrate, and a resin spreading for spreading the photocurable resin by centrifugal force. And a resin curing unit that cures the photocurable resin by light irradiation and forms the light transmission layer by spin coating, and supplies the photocurable resin before supplying the photocurable resin onto the substrate. During the spreading, at least in any stage, at least one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin, the center of rotation when the photocurable resin is spread And a first heating means for applying heat energy concentrically to the region where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. Giving heat energy to It assumed to be and a second heating means.

上記第1の加熱工程について説明する。
これは、光硬化性樹脂を基板上に供給する前段階における基板、及び/又は供給中における基板、もしくは展延中の光硬化性樹脂を含めた基板に対し、この基板回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する工程である。
すなわち、この第1の加熱工程は、光硬化性樹脂を供給する前段階、供給中、樹脂展延中のいずれのタイミングで行われてもよいものであり、またこれらを併用して行ってもよい。
The first heating step will be described.
This is a concentric circle with respect to the center of rotation of the substrate in the previous stage of supplying the photocurable resin onto the substrate, and / or the substrate including the photocurable resin being spread or being supplied. This is a step of applying thermal energy to the shape.
In other words, this first heating step may be performed at any stage of the stage before supplying the photocurable resin, during supply, or during resin spreading, and may be performed in combination. Good.

この第1の加熱工程における加熱対象は、情報記録層が積層された基板単体、あるいは表面に樹脂が塗布された状態の基板である。
例えば、光硬化性樹脂を供給しながら、基板の中周付近に熱エネルギーを付与すると、続くスピンコート工程において樹脂を展延する際に、基板からの熱伝導により、加熱された部分を通過する樹脂の温度が内周側よりも高くなる。その結果、樹脂粘度が低下するため、熱エネルギーを付与しない場合に比べ、中周から外周にかけての樹脂膜が平坦化でき、かつ薄く形成することが可能になるのである。
The heating target in the first heating step is a single substrate on which an information recording layer is laminated, or a substrate in which a resin is applied to the surface.
For example, if thermal energy is applied to the vicinity of the center of the substrate while supplying a photocurable resin, when the resin is spread in the subsequent spin coating process, it passes through the heated portion due to heat conduction from the substrate. The temperature of the resin is higher than that on the inner peripheral side. As a result, since the resin viscosity is lowered, the resin film from the middle circumference to the outer circumference can be flattened and can be formed thinner than when no thermal energy is applied.

基板に対する加熱によってどのように温度分布を制御するかについては、加熱のタイミング、光硬化性樹脂の初期粘度、樹脂温度−粘度特性、スピンコート工程における樹脂の振り切り時間、スピンコート工程の回転数等によって最適なエネルギー照射条件を選択する。   Regarding how the temperature distribution is controlled by heating the substrate, the timing of heating, the initial viscosity of the photocurable resin, the resin temperature-viscosity characteristics, the resin shaking time in the spin coating process, the rotation speed of the spin coating process, etc. Select the optimum energy irradiation conditions.

次に、基板の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する方法について説明する。
目的とする光透過層の膜厚分布は、特に光ディスク駆動装置のピックアップの走査方向に均一であることが望ましい。
このため、理想的には、基板の温度分布もグルーブ溝の円周方向に均一で、円中心に対して同心円状に所望の温度分布を有していることが望ましい。
実際の生産においては、時間的照度変化のない熱エネルギー源をディスク基板の周方向に相対的に移動させ、基板の回転中心に対してほぼ同心円状の基板温度分布を付与することが好ましい手法として行われる。
この第1の加熱工程において使用する第1の加熱手段としては、例えば、赤外線ランプやハロゲンランプのような熱エネルギー源を適用でき、これを基板上に固定し、基板を回転させながら周方向に加熱する。
この際、基板の周方向の温度分布を無くすために、加熱時間(照射時間)に対し、エネルギー照射部分が充分に平均的に加熱されるような回転数で基板を回転させたり、熱エネルギー源を周方向に複数配置したりすることが好ましい。
上述したような、基板の回転と熱エネルギー源の相対運動により得られる温度分布は、基板の回転中心に対して同心円状となり、周方向の光透過層膜厚分布が良好となって、例えばBlue-ray disc 規格の面内膜厚分布規格±2μm以下を満足できることが確かめられた。
Next, a method for applying thermal energy concentrically with respect to the rotation center of the substrate will be described.
It is desirable that the target light transmission layer has a uniform film thickness distribution, particularly in the scanning direction of the pickup of the optical disk drive.
Therefore, ideally, it is desirable that the temperature distribution of the substrate is uniform in the circumferential direction of the groove groove and has a desired temperature distribution concentrically with respect to the center of the circle.
In actual production, it is preferable to move the thermal energy source without temporal illuminance change relative to the circumferential direction of the disk substrate to give a substantially concentric substrate temperature distribution with respect to the rotation center of the substrate. Done.
As the first heating means used in the first heating step, for example, a thermal energy source such as an infrared lamp or a halogen lamp can be applied, fixed on the substrate, and rotated in the circumferential direction while rotating the substrate. Heat.
At this time, in order to eliminate the temperature distribution in the circumferential direction of the substrate, the substrate is rotated at a rotation speed such that the energy irradiation portion is sufficiently heated with respect to the heating time (irradiation time), or a thermal energy source. It is preferable to arrange a plurality of in the circumferential direction.
As described above, the temperature distribution obtained by the rotation of the substrate and the relative movement of the thermal energy source is concentric with respect to the rotation center of the substrate, and the thickness distribution of the light transmission layer in the circumferential direction is good. It was confirmed that the in-plane thickness distribution standard of -ray disc standard can satisfy ± 2μm or less.

次に、第1の加熱工程における加熱温度について説明する。
約0.1mmもの薄層の光透過層を形成する場合、1000〜3000mPa・s程度の粘度の光硬化樹脂を用いることが望ましい。
図1は、上述したような第1の工程を行わずに光透過層を形成したときの、光透過層の膜厚状態を示す。横軸にディスク基板中心から外周方向への距離を示し、縦軸は光透過層の膜厚を示す。
上述した加熱工程を行わないと、光透過層の膜厚は、外周側で約2割程度(膜厚0.1mmに対して20μm程度)厚くなってしまうことが確かめられた。
Next, the heating temperature in the first heating step will be described.
When forming a light-transmitting layer as thin as about 0.1 mm, it is desirable to use a photo-curing resin having a viscosity of about 1000 to 3000 mPa · s.
FIG. 1 shows a film thickness state of the light transmission layer when the light transmission layer is formed without performing the first step as described above. The horizontal axis indicates the distance from the center of the disk substrate to the outer peripheral direction, and the vertical axis indicates the film thickness of the light transmission layer.
Without the heating step described above, it was confirmed that the film thickness of the light transmission layer would be about 20% thicker (about 20 μm with respect to the film thickness of 0.1 mm) on the outer peripheral side.

図2においては、横軸に光硬化性樹脂の樹脂粘度を示し、縦軸に平均膜厚を示す。
図3においては、横軸に光硬化性樹脂の温度を示し、縦軸に粘度を示す。
図2に示されているように、約200mPa・sの粘度変化に対して、5μmの膜厚変化が生じることが分かった。
また、図3より、室温付近で−200mPa・s/℃程度の温度―粘度特性を示すことが分かった。
これらの関係から、光硬化性樹脂の温度と、光透過層の膜厚の関係について、およそ−5μm/℃の関係が得られることが分かった。
すなわち、図2、3の物性を示す光硬化樹脂について、スピンコート法を適用して基板外周部の膜厚を20μm程度薄くするためには、4℃程度の温度分布を面内でコントロールすれば良いことが分かった。
また、基板の厚さを例えばt=1.1mmとするとき、これに対し光透過層の膜厚はその約1/10なので、基板表面だけが上記温度に加熱される程度の熱エネルギーを付与すれば充分である。
In FIG. 2, the horizontal axis indicates the resin viscosity of the photocurable resin, and the vertical axis indicates the average film thickness.
In FIG. 3, the horizontal axis indicates the temperature of the photocurable resin, and the vertical axis indicates the viscosity.
As shown in FIG. 2, it was found that a film thickness change of 5 μm occurred with respect to a viscosity change of about 200 mPa · s.
Further, FIG. 3 shows that a temperature-viscosity characteristic of about −200 mPa · s / ° C. is exhibited near room temperature.
From these relationships, it was found that a relationship of approximately −5 μm / ° C. was obtained for the relationship between the temperature of the photocurable resin and the film thickness of the light transmission layer.
That is, for the photo-curing resin having the physical properties shown in FIGS. 2 and 3, in order to reduce the film thickness of the outer peripheral portion of the substrate by about 20 μm by applying the spin coating method, the temperature distribution of about 4 ° C. is controlled in the plane. I found it good.
Further, when the thickness of the substrate is set to t = 1.1 mm, for example, the thickness of the light transmission layer is about 1/10 of that, so that thermal energy is applied to the extent that only the substrate surface is heated to the above temperature. It is enough.

上記第1の加熱工程を行う加熱手段としては、赤外線ランプやハロゲンランプのようなランプ光源を用いることが好ましいが、これは、基板表面の加熱温度は、せいぜい数℃程度で足りるので、特に結像光学系で基板上に光を集光させて加熱を行う必要はないのであり、むしろ基板上で発散光の照度分布が最適になるようにランプ出力や位置や個数等を調整できるという点においても上記のようなものが好適だからである。   As the heating means for performing the first heating step, it is preferable to use a lamp light source such as an infrared lamp or a halogen lamp. However, since the heating temperature of the substrate surface is about several degrees Celsius at the most, it is particularly concluded. It is not necessary to focus the light on the substrate with the image optical system and to heat it. This is because the above is preferable.

基板上で展延される光硬化性樹脂は、内周側から徐々に加熱されて外周に広がるため、半径方向の温度分布は基板中周付近を最も高くすることが好ましい。仮に外周側の温度を高くしすぎると、逆に外側の光硬化性樹脂の膜厚が薄くなりすぎてしまい、不適当である。   Since the photocurable resin spread on the substrate is gradually heated from the inner peripheral side and spreads to the outer periphery, it is preferable that the temperature distribution in the radial direction is highest around the central periphery of the substrate. If the temperature on the outer peripheral side is too high, the film thickness of the outer photocurable resin becomes too thin, which is inappropriate.

ランプ光源以外の熱エネルギー源としては、例えば、加熱気体のような流体を吹き付ける手段や、マイクロ波のような電磁波等も適用できるが、第1の加熱手段は、これらに限定されるものではない。   As a thermal energy source other than the lamp light source, for example, a means for spraying a fluid such as a heated gas or an electromagnetic wave such as a microwave can be applied, but the first heating means is not limited to these. .

次に、第2の加熱工程について説明する。
これは、樹脂の展延中に、情報記録層が形成されていない外端領域に対して局所的に熱エネルギーを付与するものである。すなわち光硬化性樹脂の展延中、基板外周端の非成膜領域(例えば,φ120mmの光ディスクにおいて、r(半径)>58.5mm部分)に、局所的に熱エネルギーを付与するものである。
かかる位置は、記録形成領域外の位置であり、光透過層が基板と直接密着して、内周側の記録領域を保護する保護膜としての機能を強固にする部分である。
Next, the second heating process will be described.
This is to apply thermal energy locally to the outer end region where the information recording layer is not formed during the spreading of the resin. That is, during the spreading of the photocurable resin, thermal energy is locally applied to a non-film formation region (for example, r (radius)> 58.5 mm portion in a φ120 mm optical disk) at the outer peripheral edge of the substrate.
This position is a position outside the recording formation area, and is a part that strengthens the function as a protective film that protects the recording area on the inner peripheral side by the light transmission layer being in direct contact with the substrate.

上述した第1の加熱工程で、記録領域における光透過層の膜厚分布は充分に均一化されるが、上述した第1の加熱工程のみでは従来問題となっていた、いわゆる「スキージャンプ」が依然残存してしまう。
上述のように、0.1mmもの薄層の光透過層を得るには、粘度数1000mPa・sの樹脂を1000〜3000rpm程度の回転数でスピンコートすることが必要である。
本発明においては、第2の加熱工程で、基板の外周端の樹脂温度を局所的に、40〜50℃程度に加熱し、1000〜3000rpmの回転数によるスピンコートにより、樹脂溜まりが飛散できるような数100Pa・sにまで樹脂粘度を低下させるものである。これにより、従来問題となっていた端部におけるスキージャンプの残存を回避できることが確かめられた。
In the first heating process described above, the film thickness distribution of the light transmission layer in the recording area is sufficiently uniform, but the so-called “ski jump”, which has been a problem in the prior art only in the first heating process described above, occurs. Still remains.
As described above, in order to obtain a light-transmitting layer as thin as 0.1 mm, it is necessary to spin coat a resin having a viscosity of 1000 mPa · s at a rotational speed of about 1000 to 3000 rpm.
In the present invention, the resin temperature at the outer peripheral edge of the substrate is locally heated to about 40 to 50 ° C. in the second heating step, and the resin pool can be scattered by spin coating at a rotational speed of 1000 to 3000 rpm. The resin viscosity is reduced to a few hundred Pa · s. As a result, it was confirmed that the remaining ski jump at the end, which has been a problem in the past, can be avoided.

第2の加熱工程で用いる第2の加熱手段としては、基板上での樹脂展延中の短時間に局所的に熱エネルギーを付与できるものであることが必要である。例えば、赤外線ランプやハロゲンランプをφ1mm程度の点光源として集光したもの、あるいは赤外線レーザ、YAGレーザ、炭酸ガスレーザ等のレーザ光源をφ1mm程度に絞ったものが好適である。   The second heating means used in the second heating step needs to be capable of locally applying thermal energy in a short time during the resin spreading on the substrate. For example, an infrared lamp or halogen lamp condensed as a point light source of about φ1 mm, or a laser light source such as an infrared laser, a YAG laser, a carbon dioxide gas laser, etc., narrowed down to about φ1 mm is suitable.

また、第2の加熱工程は、光硬化性樹脂を基板上に供給する前段階に行ってもよいが、光硬化性樹脂を展延するまでにタイムラグが生ずると、基板の熱伝導により加熱部位が広がってしまい、記録領域最外周付近の膜厚分布に悪影響を及ぼすので樹脂展延中において充分に加熱を行うことが最も望ましい。   In addition, the second heating step may be performed before the photocurable resin is supplied onto the substrate. However, if a time lag occurs before the photocurable resin is spread, the heating site is heated by the heat conduction of the substrate. Spreads and adversely affects the film thickness distribution in the vicinity of the outermost periphery of the recording area. Therefore, it is most desirable to perform sufficient heating during resin spreading.

上述したように、第1の加熱工程と第2の加熱工程とは、より最適な加熱のタイミングが異なり、狙いの加熱温度や温度分布が異なるため、それぞれ個別の加熱手段として本発明に係る製造装置に具備されることが望ましい。   As described above, the first heating step and the second heating step have different optimum heating timings and different target heating temperatures and temperature distributions. It is desirable to be provided in the apparatus.

光硬化性樹脂を展延させる工程、及び第1の加熱工程より前段階として、ディスク基板の温度を安定化させておくことが好ましい。
基板の温度を安定化させる手法としては、例えば温度制御された気体を基板表面に吹き付ける方法や、基板が設置されうる閉空間内の温度を一定に保ち、基板を回転させながら熱交換の効率を上げて基板温度を閉空間内の雰囲気温度に漸近させる方法、基板を恒温体に接近させて保持し、その間隙に熱交換効率の良い気体流体を流す方法等が挙げられる。
It is preferable to stabilize the temperature of the disk substrate as a step prior to the step of spreading the photocurable resin and the first heating step.
As a method for stabilizing the temperature of the substrate, for example, a method in which a temperature-controlled gas is blown onto the substrate surface, a temperature in a closed space where the substrate can be installed is kept constant, and the efficiency of heat exchange is improved while rotating the substrate. A method of raising the temperature of the substrate asymptotically to an ambient temperature in the closed space, a method of holding the substrate close to a constant temperature body, and a method of flowing a gas fluid with good heat exchange efficiency through the gap, and the like.

また、本発明においては,基板上に供給する光硬化性樹脂を、供給前にその温度を安定化させておくことが望ましい。
光硬化性樹脂の温度を安定化させるための、樹脂温度安定化手段としては、例えば供給ノズルの直前に設けた恒温に保たれた熱交換器が挙げられ、この中に樹脂を通すことにより温度を安定化できる。また、供給ノズル近くに温度制御されたリザーブタンクを設置することや、前記熱交換器あるいはリザーブタンクを前記基板の温度制御手段における恒温体と兼用する方法等が挙げられる。
熱交換器としては、温度制御した流体を内部に循環させる機能を有するものや、ペルチェ素子等により温度制御する機能を有するものが好適である。
In the present invention, it is desirable to stabilize the temperature of the photocurable resin supplied on the substrate before supply.
As a resin temperature stabilizing means for stabilizing the temperature of the photocurable resin, for example, a heat exchanger maintained at a constant temperature provided immediately before the supply nozzle can be cited. Can be stabilized. In addition, a temperature-controlled reserve tank is installed near the supply nozzle, and the heat exchanger or the reserve tank is also used as a constant temperature body in the temperature control means of the substrate.
As the heat exchanger, a heat exchanger having a function of circulating a temperature-controlled fluid therein or a function of controlling a temperature by a Peltier element or the like is preferable.

一般に、光透過層の膜厚は、スピナーの回転条件や、上述した第1の加熱工程の加熱条件を一定にしても、加熱前の基板温度や樹脂温度の変動、光硬化性樹脂の調整粘度のばらつき等により、その中央値が変動してしまう。すなわち目的とした膜厚からずれてしまう。
上述したように、一般的な樹脂の膜厚−温度係数は、−5μm/℃程度なので、Blue-ray disc 規格で許容される光透過層の厚さ100±5μmを満たすには、少なくとも±1℃以内に系の温度ドリフトを抑える必要がある。この程度の温度制御であれば、スピナー装置内全体の温度を±0.5℃程度に温度調節すれば実現可能である。
In general, the film thickness of the light transmission layer is not limited to the rotation conditions of the spinner or the heating conditions of the first heating process described above, but changes in the substrate temperature and resin temperature before heating, and the adjusted viscosity of the photocurable resin. The median value will fluctuate due to the variation of the. That is, it deviates from the intended film thickness.
As described above, since the film thickness-temperature coefficient of a general resin is about −5 μm / ° C., at least ± 1 to satisfy the thickness 100 ± 5 μm of the light transmission layer allowed by the Blue-ray disc standard. It is necessary to suppress the temperature drift of the system within ℃. This level of temperature control can be realized by adjusting the temperature of the entire spinner apparatus to about ± 0.5 ° C.

しかしながら、光透過層の膜厚のばらつきは、目的とする光情報記録媒体の球面収差を変化させるため、あらかじめ設定されている記録条件の最適条件から乖離してしまう。このような場合、記録ジッターが上がってしまい、レーザ光源の汚れや劣化による記録パワー変動や、記録環境の違いによる光情報記録媒体のチルト変化に対する記録マージンが狭くなってしまう。
このため、光透過層の膜厚は、±2μm以内に膜厚変動幅を抑えることが望ましいことが確認された。
これを実現するためには、上記温度を安定化する工程において、基板温度を変動幅±0.2℃以下に制御することが望ましい。
また、光硬化性樹脂の温度を安定化する上記工程においても、樹脂温度を変動幅±0.2℃以下に制御することが望ましいことを確かめた。
これにより基板や樹脂の温度ドリフトによる膜厚変動を効果的に抑えることができ、製造上好ましい膜厚仕様の「変動幅±2μm以下」を実現することが可能である。
However, the variation in the film thickness of the light transmission layer changes the spherical aberration of the target optical information recording medium, and therefore deviates from the optimum recording conditions set in advance. In such a case, the recording jitter is increased, and the recording margin for the recording power fluctuation due to the contamination and deterioration of the laser light source and the tilt change of the optical information recording medium due to the difference in the recording environment is narrowed.
For this reason, it was confirmed that it is desirable that the thickness of the light transmission layer be suppressed within ± 2 μm.
In order to realize this, it is desirable to control the substrate temperature within a fluctuation range of ± 0.2 ° C. or less in the step of stabilizing the temperature.
Further, it was confirmed that it is desirable to control the resin temperature within a fluctuation range of ± 0.2 ° C. or less also in the above-described step of stabilizing the temperature of the photocurable resin.
As a result, film thickness fluctuation due to temperature drift of the substrate or resin can be effectively suppressed, and a film thickness specification of “preferable fluctuation range ± 2 μm or less” can be realized.

基板および光硬化性樹脂の温度制御は、いずれか一方行うだけでも上記効果が得られるが、両者を併用した方がより精度の高い、光透過層の膜厚管理が可能となる。
基板温度もしくは樹脂温度が±0.2℃を越えて変動すると、膜厚の中央値が±2μm以上変動してしまい好ましくない。
The above effect can be obtained by controlling the temperature of the substrate and the photocurable resin only by either one. However, it is possible to control the thickness of the light transmission layer with higher accuracy by using both in combination.
If the substrate temperature or the resin temperature fluctuates beyond ± 0.2 ° C., the median value of the film thickness fluctuates by ± 2 μm or more, which is not preferable.

また、基板及び光硬化性樹脂の温度制御は、スピナー装置内全体を温度調整することにより実現しても良いが、別途第1および第2の加熱手段を組み込んで行うようにしてもよい。
装置内全体を±0.2℃以下の一定温度に制御するには,容量の大きい温調設備が必要になり、装置コストおよびランニングコスト上好ましくないからである。
The temperature control of the substrate and the photocurable resin may be realized by adjusting the temperature of the entire spinner apparatus, but may be performed by separately incorporating the first and second heating means.
This is because, in order to control the entire inside of the apparatus to a constant temperature of ± 0.2 ° C. or less, a temperature control facility with a large capacity is required, which is not preferable in terms of apparatus cost and running cost.

本発明による光情報記録媒体は、基板上に情報記録層と光透過層とを備え、光透過層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録及び/又は再生が行われるものである。
本発明の光情報記録媒体は、上述した方法、および上述した製造装置により光透過層を形成するものである。これはレーザ光波長405±15nm、対物レンズの開口数NA=0.85±0.05の光学系により記録及び/または再生を行うものである。
An optical information recording medium according to the present invention comprises an information recording layer and a light transmission layer on a substrate, and data is recorded and / or reproduced by irradiating the information recording layer with laser light through the light transmission layer. It is what is said.
In the optical information recording medium of the present invention, the light transmission layer is formed by the method described above and the manufacturing apparatus described above. In this case, recording and / or reproduction is performed by an optical system having a laser beam wavelength of 405 ± 15 nm and a numerical aperture NA = 0.85 ± 0.05 of the objective lens.

次に、上述した製造方法、及び製造装置を適用して最終的に得られる本発明の光情報記録媒体について、以下説明する。
図4に光情報記録媒体の一例として、相変化型の光情報記録媒体の概略断面図を示す。
光情報記録媒体10は、基板1上に、情報記録層7、及び光透過層6が形成されている。
情報記録層7は、反射層2、第1誘電体層3、相変化記録層4、及び第2誘電体層5により構成されている。
Next, the optical information recording medium of the present invention finally obtained by applying the above-described manufacturing method and manufacturing apparatus will be described below.
FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of a phase change optical information recording medium as an example of the optical information recording medium.
In the optical information recording medium 10, an information recording layer 7 and a light transmission layer 6 are formed on a substrate 1.
The information recording layer 7 includes a reflective layer 2, a first dielectric layer 3, a phase change recording layer 4, and a second dielectric layer 5.

基板1は、ポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィン等の樹脂の射出成形することにより作製できる。基板1は、情報記録層7形成面側に、螺旋状のグルーブ溝を有している。
図4の光情報記録媒体10においては、記録再生用のレーザ光の入射は、光透過層6側から行われるので、基板1の材料は必ずしも透光性である必要はなく、グルーブ溝の転写性や反り等の機械特性の良好な成形材料から選択すればよい。例えばCDやDVDにおいて実績があり、安価なポリカーボネート樹脂が好適である。
The substrate 1 can be manufactured by injection molding of a resin such as polycarbonate, acrylic, or polyolefin. The substrate 1 has a spiral groove on the information recording layer 7 formation surface side.
In the optical information recording medium 10 shown in FIG. 4, since the recording / reproducing laser beam is incident from the light transmitting layer 6 side, the material of the substrate 1 does not necessarily need to be translucent. What is necessary is just to select from the molding material with favorable mechanical characteristics, such as property and curvature. For example, an inexpensive polycarbonate resin having a track record in CD and DVD is preferable.

情報記録層7は、相変化型記録材料を含有する相変化型情報記録層、あるいは色素材料や無機材料を含む追記型情報記録層である。
情報記録層7が相変化型情報記録層の場合、前記基板1上に反射層2、第1誘電体層3、記録層4、第2誘電体層5を公知のスパッタ法等により順次積層形成する。
The information recording layer 7 is a phase change type information recording layer containing a phase change type recording material or a write-once information recording layer containing a dye material or an inorganic material.
When the information recording layer 7 is a phase change type information recording layer, the reflective layer 2, the first dielectric layer 3, the recording layer 4, and the second dielectric layer 5 are sequentially stacked on the substrate 1 by a known sputtering method or the like. To do.

反射層2は、Agを主成分とするAg合金であり、充分な冷却能を有するようにするため、その膜厚は100〜250nm程度であることが好ましい。
具体的なAg合金としては,Ag−Bi、Ag−In、Ag−Pd−Cu、Ag−Nd−Cu等が選択できる。
前記合金元素は、Ag膜の高温環境下での凝集や結晶粒成長を抑制するために添加されるがAgの良好な熱伝導率を損ねることのないよう、その総含有量は3atm%以下とすることが望ましい。
The reflective layer 2 is an Ag alloy containing Ag as a main component, and the thickness thereof is preferably about 100 to 250 nm in order to have sufficient cooling ability.
As a specific Ag alloy, Ag-Bi, Ag-In, Ag-Pd-Cu, Ag-Nd-Cu, or the like can be selected.
The alloy element is added to suppress aggregation and crystal grain growth in a high temperature environment of the Ag film, but its total content is 3 atm% or less so as not to impair the good thermal conductivity of Ag. It is desirable to do.

第1誘電体層3及び第2誘電体層5は、金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物等の透明性が高い高融点材料を用いて形成する。
例えば、SiOx、ZnO、SnO2、Al23、TiO2、In23、MgO、ZrO2、Ta25等の金属酸化物、Si34、AlN、TiN、BN、ZrN等の窒化物、ZnS、TaS4等の硫化物、SiC、TaC、B4C、WC、TiC、ZrC等の炭化物が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、混合物として用いてもよい。また、2層以上からなる多層構造としてもよい。これらの層の最適な材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。
特に、ZnSを60〜90mol%で含有するSiO2との混合膜は、繰り返し記録、高温環境下での膜自身の結晶化や化学変化、膜変形がないため好適である。また、熱伝導率が、0.5W/mK以下と低いため、記録層の溶融ピーク温度を高く保ち、変調度の高いアモルファスマークの形成に有利である点等からも、記録層に接する誘電体膜として最も適している。
The first dielectric layer 3 and the second dielectric layer 5 are formed using a high-melting-point material having high transparency such as metal, semiconductor oxide, sulfide, nitride, and carbide.
For example, SiOx, ZnO, SnO 2, Al 2 O 3, TiO 2, In 2 O 3, MgO, ZrO 2, Ta 2 O metal oxide such as 5, Si 3 N 4, AlN , TiN, BN, ZrN and the like Nitrides, sulfides such as ZnS and TaS 4 , and carbides such as SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, and ZrC. These may be used alone or as a mixture. Moreover, it is good also as a multilayer structure which consists of two or more layers. The optimal material for these layers is determined taking into account the refractive index, thermal conductivity, chemical stability, mechanical strength, adhesion, and the like.
In particular, a mixed film with SiO 2 containing 60 to 90 mol% of ZnS is preferable because there is no repeated recording, crystallization of the film itself in a high temperature environment, chemical change, and film deformation. In addition, since the thermal conductivity is as low as 0.5 W / mK or less, the dielectric that is in contact with the recording layer is also advantageous in that the melting peak temperature of the recording layer is kept high and it is advantageous for forming an amorphous mark with a high degree of modulation. Most suitable as a membrane.

相変化記録層4としては、Ge2Sb2Te5に代表される公知のGeTe−Sb2Te3擬似2元系材料や、AgInSbTeGeに代表されるSbTe共晶系材料を用いることができる。特に、記録再生波長として405±15nm、対物レンズの開口数NA=0.85±0.05の光学系を用いる場合は、Ge、Sb、Sn及びMnからなる合金を主成分とした相変化記録材料が、再生光安定性と保存信頼性(アモルファスマークの安定性)に優れており好ましい。
各元素の好適な組成は、5≦Ge≦20原子%、45≦Sb≦70原子%、10≦Sn≦20原子%、0<Mn≦20原子%である。Geは、結晶化温度を上げて保存性を高める一方で、繰り返し記録特性を悪化させるので、20原子%を越えないことが望ましい。
逆に、高温高湿環境下での保存信頼性を確保するためには、少なくとも5原子%以上が必要である。
Snは、波長405nmにおける充分な反射率とコントラストを得るために、10原子%より多く含む必要がある。しかしSnが多すぎると、Ge同様、繰り返し記録特性を損ねるため、20原子%を越えないことが望ましい。
Mnは、反射率低下や記録ジッターへの悪影響がGeよりも小さいため、結晶化速度を遅くする際にGeに代替して添加される。Mnの添加量は、Ge同様に繰り返し記録特性を悪化させるので、20原子%を越えないことが望ましい。
SnとSbは結晶化速度を速め、GeとMnは結晶化速度を遅くする元素なので、総合的な記録特性と狙いの記録線速を考慮して、各元素の組成比が最適化される。基本的には,狙いの記録線速をGe−Sb系で設計し、Geに対してMn、Sbに対してSnを適量に置換する。Sb+Snが90原子%を超えると、結晶化速度が速くなり過ぎ、アモルファスマークの形成が困難になるので、Sbの上限はSb≦70原子%が望ましい。
また、10≦Sn≦20原子%において記録線速5〜30m/sとするには、45原子%≦Sbが好ましい。
また、Ge、Sb、Sn及びMnの総量が95原子%以上で、記録特性や保存信頼性等を改善するための5原子%以下の第五元素を含む構成としてもよい。
As the phase change recording layer 4, a known GeTe—Sb 2 Te 3 pseudo binary material represented by Ge 2 Sb 2 Te 5 or an SbTe eutectic material represented by AgInSbTeGe can be used. In particular, when an optical system having a recording / reproducing wavelength of 405 ± 15 nm and an objective lens numerical aperture NA = 0.85 ± 0.05 is used, phase change recording mainly composed of an alloy of Ge, Sb, Sn, and Mn. The material is preferable because of excellent reproduction light stability and storage reliability (amorphous mark stability).
The preferred composition of each element is 5 ≦ Ge ≦ 20 atomic%, 45 ≦ Sb ≦ 70 atomic%, 10 ≦ Sn ≦ 20 atomic%, and 0 <Mn ≦ 20 atomic%. Since Ge raises the crystallization temperature and improves the storage stability, but repeatedly deteriorates the recording characteristics, it is desirable not to exceed 20 atomic%.
Conversely, in order to ensure storage reliability in a high temperature and high humidity environment, at least 5 atomic% or more is required.
Sn needs to be contained more than 10 atomic% in order to obtain sufficient reflectance and contrast at a wavelength of 405 nm. However, if there is too much Sn, it is desirable not to exceed 20 atomic% because the recording characteristics are impaired similarly to Ge.
Since Mn has a smaller adverse effect on reflectivity reduction and recording jitter than Ge, Mn is added in place of Ge when the crystallization speed is reduced. Since the amount of Mn added repeatedly deteriorates the recording characteristics as in Ge, it is desirable not to exceed 20 atomic%.
Since Sn and Sb are elements that increase the crystallization speed and Ge and Mn are elements that decrease the crystallization speed, the composition ratio of each element is optimized in consideration of the overall recording characteristics and the target recording linear velocity. Basically, the target recording linear velocity is designed by the Ge—Sb system, and Mn is substituted for Ge and Sn is substituted for Sb by appropriate amounts. If Sb + Sn exceeds 90 atomic%, the crystallization speed becomes too fast and it becomes difficult to form an amorphous mark. Therefore, the upper limit of Sb is preferably Sb ≦ 70 atomic%.
In order to obtain a recording linear velocity of 5 to 30 m / s at 10 ≦ Sn ≦ 20 atomic%, 45 atomic% ≦ Sb is preferable.
Alternatively, the total amount of Ge, Sb, Sn, and Mn may be 95 atomic% or more, and may include a fifth element that is 5 atomic% or less for improving recording characteristics, storage reliability, and the like.

光透過層6は、紫外線硬化性樹脂等の放射線硬化樹脂からなる。
光透過層6の上には、スピンコート法等によりハードコート層を設けてもよい。
波長405±15nm、対物レンズの開口数NA=0.85±0.05の光学系を用いて記録再生を行う場合、充分なチルトマージンを確保するための前記光透過層6の膜厚は、5〜200μmが好ましく、更には5〜200μmとすることが好ましく、より好ましくは5〜120μmである。
紫外線硬化性樹脂は、特に限定されるものではないが、エポキシアクリレートオリゴマー(2官能オリゴマー)、多官能アクリルモノマー、単官能アクリルモノマー、及び光重合開始剤等から構成される。光重合開始剤は400nm以下に反応波長を有するものが望ましい。また硬化後に未硬化成分等の揮発が少ないものが望ましい。
The light transmission layer 6 is made of a radiation curable resin such as an ultraviolet curable resin.
A hard coat layer may be provided on the light transmission layer 6 by spin coating or the like.
When recording / reproducing is performed using an optical system having a wavelength of 405 ± 15 nm and a numerical aperture NA = 0.85 ± 0.05 of the objective lens, the film thickness of the light transmission layer 6 for securing a sufficient tilt margin is as follows: 5-200 micrometers is preferable, Furthermore, it is preferable to set it as 5-200 micrometers, More preferably, it is 5-120 micrometers.
Although ultraviolet curable resin is not specifically limited, It is comprised from an epoxy acrylate oligomer (bifunctional oligomer), a polyfunctional acrylic monomer, a monofunctional acrylic monomer, a photoinitiator, etc. The photopolymerization initiator preferably has a reaction wavelength of 400 nm or less. Moreover, the thing with little volatilization of an uncured component etc. after hardening is desirable.

なお、本発明方法により得られる光情報記録媒体は、相変化記録型の情報記録媒体に限定されるものではなく、情報記録層は相変化記録層以外に、ライトワンス用の色素記録層や無機記録層であってもよい。また所定の中間層を介して情報記録層を2層以上有する多層記録媒体としてもよい。   The optical information recording medium obtained by the method of the present invention is not limited to the phase change recording type information recording medium. The information recording layer is not only the phase change recording layer but also a write-once dye recording layer or an inorganic recording layer. It may be a recording layer. A multilayer recording medium having two or more information recording layers via a predetermined intermediate layer may be used.

〔実施例1〕
図5(a)〜(d)に、本発明による光情報記録媒体10の作製工程の一例の概略図を示す。
先ず、溝深さ21nm、溝幅0.16μm、トラックピッチ0.32μmのグルーブ溝を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)を用意し、以下の積層膜をスパッタリング法により順次形成して情報記録層7とした。
反射層2:Ag−0.5atm%Bi:140nm
第1誘電体層3:ZnS・20mol%SiO2:8nm
相変化記録層4:Ge11Sb62.5Sn20Mn6.5:14nm
第2誘電体層5:ZnS・30mol%SiO2:40nm
[Example 1]
5A to 5D are schematic views showing an example of a manufacturing process of the optical information recording medium 10 according to the present invention.
First, prepare a polycarbonate substrate (product name: ST3000, manufactured by Teijin Bayer Polytech Co., Ltd.) having a groove depth of 21 nm, a groove width of 0.16 μm, a groove groove having a track pitch of 0.32 μm, a thickness of 1.1 mm, and a diameter of 120 mm. The information recording layer 7 was sequentially formed by the sputtering method.
Reflective layer 2: Ag-0.5 atm% Bi: 140 nm
First dielectric layer 3: ZnS · 20 mol% SiO 2 : 8 nm
Phase change recording layer 4: Ge 11 Sb 62.5 Sn 20 Mn 6.5 : 14 nm
Second dielectric layer 5: ZnS · 30 mol% SiO 2 : 40 nm

次に、図5(a)に示すように、基板1を500rpmで回転させ、第1の加熱手段(この例においては赤外線ランプ装置20)により、中周付近を3秒間加熱した。
図6(a)赤外線ランプ装置の概略断面図を示し、図6(b)に赤外線ランプ装置の概略平面図を示す。
この例の赤外線ランプ装置20は、ランプハウジング25によって覆われた赤外線ランプ21を具備しており、円周状に80Wの赤外線ランプ21が等間隔に6個配置されている。光硬化性樹脂(この例においては紫外線硬化樹脂)を滴下する基板中心部への照度が相対的に小さくなるように基板の回転中心上に遮光部26を設けた構成となっている。
Next, as shown in FIG. 5A, the substrate 1 was rotated at 500 rpm, and the vicinity of the middle periphery was heated for 3 seconds by the first heating means (infrared lamp device 20 in this example).
FIG. 6A shows a schematic sectional view of the infrared lamp device, and FIG. 6B shows a schematic plan view of the infrared lamp device.
The infrared lamp device 20 of this example includes an infrared lamp 21 covered by a lamp housing 25, and six 80W infrared lamps 21 are arranged at equal intervals in a circumferential shape. The light shielding portion 26 is provided on the center of rotation of the substrate so that the illuminance to the central portion of the substrate where the photocurable resin (ultraviolet curable resin in this example) is dropped is relatively small.

次に、図5(b)に示すように、基板1の内周部に、樹脂供給ノズル22から円環状に紫外線硬化樹脂23(日本化薬製、BRD-806)を供給した。
次に、図5(c)に示すように、第2の加熱手段(この場合はハロゲンランプ光源30と集光光学系31)により、基板1の最外周の非成膜部分を加熱しながら、回転数1700rpmで樹脂を振り切った。
次に、図5(d)に示すように、超高圧水銀ランプからなる紫外線光源40で1200mJ/cm2の紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層とした。
Next, as shown in FIG. 5 (b), an ultraviolet curable resin 23 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., BRD-806) was supplied in an annular shape from the resin supply nozzle 22 to the inner peripheral portion of the substrate 1.
Next, as shown in FIG. 5C, the second heating means (in this case, the halogen lamp light source 30 and the condensing optical system 31) is used to heat the non-film forming portion on the outermost periphery of the substrate 1, The resin was shaken off at a rotation speed of 1700 rpm.
Next, as shown in FIG. 5D, an ultraviolet light source 40 composed of an ultra-high pressure mercury lamp was irradiated with ultraviolet rays of 1200 mJ / cm 2 to cure the ultraviolet curable resin to form a light transmission layer.

干渉膜厚測定器ETA−RT(STEAG ETA-Optik社製)を用いて、上記工程により作製した光透過層6の膜厚分布を測定した。図7においては、横軸に基板の中心から外周方向への距離(r)を示し、縦軸に光透過層5の膜厚を示す。
図7は、光情報記録媒体の半径R=22.0〜58.5mmを等間隔に分けた10ヶ所の各1周について、10°刻みに36点の膜厚を測定し、その最大値(Max)、平均値(Ave)、最小値(Min)を示したものである。
図7に示すように、R=22.0〜58.5mm全面で、Blue-ray disc規格内の100±2.0μmを満足していた。
The film thickness distribution of the light transmission layer 6 produced by the above process was measured using an interference film thickness measuring instrument ETA-RT (manufactured by STEAG ETA-Optik). In FIG. 7, the horizontal axis indicates the distance (r) from the center of the substrate to the outer peripheral direction, and the vertical axis indicates the film thickness of the light transmission layer 5.
FIG. 7 shows the measurement of the film thickness at 36 points in increments of 10 ° for each circumference of 10 places where the radius R = 22.0 to 58.5 mm of the optical information recording medium is equally spaced. Max), average value (Ave), and minimum value (Min) are shown.
As shown in FIG. 7, R = 22.0 to 58.5 mm was satisfied over the entire surface of 100 ± 2.0 μm within the Blue-ray disc standard.

また、外周端部における、いわゆるスキージャンプについて測定した。測定結果を図8に示す。
図8は、触針式の表面形状測定器(Dektak3030)により、光情報記録媒体の外周端(R=50mm付近より外側、図左側が内周)付近の光透過層の表面形状プロファイルを示したものである。
図8に示すように、r=58.5mmまでは、充分に平坦な光透過層6が形成され、r=59.0mmの外で、樹脂溜まりによるスキージャンプが約20μmの高さで生じているのみであることがわかった。
In addition, the so-called ski jump at the outer peripheral edge was measured. The measurement results are shown in FIG.
FIG. 8 shows a surface shape profile of the light transmission layer near the outer peripheral edge of the optical information recording medium (outside R = 50 mm, the left side in the figure is the inner periphery) using a stylus type surface shape measuring instrument (Dektak3030). Is.
As shown in FIG. 8, a sufficiently flat light transmission layer 6 is formed up to r = 58.5 mm, and a ski jump due to a resin pool occurs at a height of about 20 μm outside r = 59.0 mm. It turns out that there is only.

上述したようにして作製した本発明の光情報記録媒体10に対し、所定の記録再生装置(Pulstek社製ODU1000)で信号評価を行った。その結果、周内の反射率変動が無く、全面で記録ジッターが6.5%以下であることが確かめられた。   The optical information recording medium 10 of the present invention produced as described above was subjected to signal evaluation with a predetermined recording / reproducing apparatus (Pulstek ODU1000). As a result, it was confirmed that there was no reflectance fluctuation in the circumference and the recording jitter was 6.5% or less over the entire surface.

〔実施例2〕
図9(a)〜(c)に、本発明による光情報記録媒体の製造方法のより好適な作製工程図を示す。
図9(a)は、基板1の温度を安定化させる工程の概略図である。上記実施例1と同様に情報記録層7をスパッタ積層形成した基板1に対し、ブロアー60を用いて、±0.2℃に温度調節された空気61で全面をブローしながら一定温度に安定化する。
このとき、基板1と空気の熱交換を効率よく行うために、ブロアー60と基板1との距離を数cm以下となるように接近させ、基板1を300rpmで回転させている。
図9(b)に示すように、上記実施例1と同様に基板1の加熱を行った。
次に図9(c)に示すように、樹脂供給ノズル22の手前側に、樹脂温度調整ユニット70を設置した。これにより、温度変動幅が±0.2℃になるように温度調整された紫外線硬化樹脂(日本化薬BRD-806)23を円環状に供給した。
なお、この樹脂温度調整ユニット70は、内部に水管を通した金属製ヒートシンクで樹脂供給管を囲み、ヒートシンクを循環冷却水で温度の変動幅を±0.2℃になるようにしたものである。
[Example 2]
9 (a) to 9 (c) show more preferable production process diagrams of the method for producing an optical information recording medium according to the present invention.
FIG. 9A is a schematic diagram of a process for stabilizing the temperature of the substrate 1. The substrate 1 on which the information recording layer 7 is formed by sputtering as in the first embodiment is stabilized at a constant temperature using the blower 60 while blowing the entire surface with air 61 adjusted to ± 0.2 ° C. To do.
At this time, in order to efficiently exchange heat between the substrate 1 and air, the distance between the blower 60 and the substrate 1 is made to approach several cm or less, and the substrate 1 is rotated at 300 rpm.
As shown in FIG. 9B, the substrate 1 was heated in the same manner as in Example 1 above.
Next, as shown in FIG. 9C, a resin temperature adjustment unit 70 was installed on the front side of the resin supply nozzle 22. Thereby, an ultraviolet curable resin (Nippon Kayaku BRD-806) 23, the temperature of which was adjusted so that the temperature fluctuation range was ± 0.2 ° C., was supplied in an annular shape.
The resin temperature adjustment unit 70 is a unit in which a resin supply pipe is surrounded by a metal heat sink with a water pipe passing through it, and the temperature fluctuation range is ± 0.2 ° C. with circulating cooling water. .

次に、上記実施例1と同様に、図5(c)、図5(d)に示した工程を経て、図4に示した本発明の光情報記録媒体を得た。
光透過層6の膜厚分布についての測定を行ったところ、中心から外周への距離r=22.0〜58.5mmの全面において、Blue-ray disc規格内の100±2.0μmが満足されており、外周端におけるスキージャンプも全く生じていないことが確認された。
また膜厚中央値の変動は、タクト3秒・連続5000枚の生産で、±2.0μm以下の変動であった。
Next, in the same manner as in Example 1, the optical information recording medium of the present invention shown in FIG. 4 was obtained through the steps shown in FIGS. 5C and 5D.
When the film thickness distribution of the light transmission layer 6 was measured, 100 ± 2.0 μm within the blue-ray disc standard was satisfied on the entire surface with a distance r = 22.0 to 58.5 mm from the center to the outer periphery. It was confirmed that no ski jump occurred at the outer edge.
The variation in the median film thickness was a variation of ± 2.0 μm or less in the production of tact 3 seconds and continuous 5000 sheets.

実施例1においては、第1の加熱工程を樹脂供給工程の直前に行ったが、本発明においては、紫外線硬化樹脂を基板上に供給した後に、基板中心部を遮光した赤外線ランプ装置20を用いて第1の加熱工程を行うようにしてもよい。
また、紫外線硬化樹脂の展延工程における第2の加熱工程と同じタイミングで加熱を行うようにしてもよい。
更に、樹脂供給工程中で基板1の加熱を行うようにしてもよい。
また、基板温度安定化工程は、紫外線硬化樹脂を供給する工程よりも前、かつ第1の加熱工程の前に行うようにしてもよい。
In the first embodiment, the first heating step is performed immediately before the resin supply step. However, in the present invention, the infrared lamp device 20 in which the central portion of the substrate is shielded after the ultraviolet curable resin is supplied onto the substrate is used. Then, the first heating step may be performed.
Moreover, you may make it heat at the same timing as the 2nd heating process in the extending process of ultraviolet curable resin.
Further, the substrate 1 may be heated during the resin supply process.
Further, the substrate temperature stabilization step may be performed before the step of supplying the ultraviolet curable resin and before the first heating step.

〔比較例1〕
上記実施例1において行った図5(c)の、第2の加熱手段(ハロゲンランプ光源等)を適用せず、これによる加熱工程を行わなかった。その他の条件は、実施例1と同様にして光情報記録媒体10を作製した。
比較例1の光情報記録媒体は、実施例1と同様に、第1の加熱工程を行ったため、中心からの距離r=22.0〜57mm付近までの光透過層の膜厚分布は、100±2.0μmの平坦性を満足し良好であったが、最外周には、図10(光透過層の表面形状プロファイル)に示すようにスキージャンプが残存してしまい、r=57mmよりも外周においては、記録もトラッキングも出来ない状態となってしまった。
[Comparative Example 1]
The second heating means (halogen lamp light source or the like) of FIG. 5C performed in Example 1 was not applied, and the heating step by this was not performed. Other conditions were the same as in Example 1, and the optical information recording medium 10 was produced.
Since the optical information recording medium of Comparative Example 1 was subjected to the first heating step in the same manner as in Example 1, the film thickness distribution of the light transmission layer from the center to the distance r = 22.0 to 57 mm was 100 The flatness of ± 2.0 μm was satisfied and good, but the ski jump remained in the outermost periphery as shown in FIG. 10 (surface profile of the light transmitting layer), and the outer periphery was larger than r = 57 mm. In this situation, neither recording nor tracking was possible.

このように、樹脂の展延工程において基板外周端に局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱工程を有することにより,スキージャンプを効果的に抑制できることが確かめられた。   As described above, it was confirmed that the ski jump can be effectively suppressed by including the second heating step of locally applying thermal energy to the outer peripheral edge of the substrate in the resin spreading step.

光透過層の膜厚状態を示す。The film thickness state of the light transmission layer is shown. 樹脂の粘度と光透過層の平均膜厚との関係を示す。The relationship between the viscosity of resin and the average film thickness of a light transmissive layer is shown. 樹脂の温度と粘度との関係を示す。The relationship between resin temperature and viscosity is shown. 本発明の光情報記録媒体の概略断面図を示す。1 is a schematic sectional view of an optical information recording medium of the present invention. (a)〜(d)本発明による光情報記録媒体の作製工程の一例の概略図を示す。(A)-(d) The schematic of an example of the manufacturing process of the optical information recording medium by this invention is shown. (a)赤外線ランプ装置の概略断面図を示す。(b)赤外線ランプ装置の概略平面図を示す。(A) The schematic sectional drawing of an infrared lamp apparatus is shown. (B) The schematic plan view of an infrared lamp apparatus is shown. 基板の中心から外周方向への距離と光透過層の膜厚との関係を示す。The relationship between the distance from the center of a board | substrate to an outer peripheral direction and the film thickness of a light transmissive layer is shown. 光透過層の表面形状プロファイルを示す。The surface shape profile of a light transmissive layer is shown. (a)〜(c)本発明の光情報記録媒体の製造方法の作製工程図を示す。(A)-(c) The manufacturing process figure of the manufacturing method of the optical information recording medium of this invention is shown. 光透過層の表面形状プロファイルを示す。The surface shape profile of a light transmissive layer is shown.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 反射層
3 第1誘電体層
4 相変化記録層
5 第2誘電体層
6 光透過層
7 情報記録層
20 赤外線ランプ装置
21 赤外線ランプ
22 樹脂供給ノズル
23 紫外線硬化樹脂
25 ランプハウジング
26 遮光部
30 ハロゲンランプ
31 集光光学系
40 紫外線光源
60 ブロアー
61 空気
70 樹脂温度調節ユニット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Reflective layer 3 1st dielectric layer 4 Phase change recording layer 5 2nd dielectric layer 6 Light transmission layer 7 Information recording layer 20 Infrared lamp device 21 Infrared lamp 22 Resin supply nozzle 23 Ultraviolet curable resin 25 Lamp housing 26 Light shielding Unit 30 Halogen lamp 31 Condensing optical system 40 Ultraviolet light source 60 Blower 61 Air 70 Resin temperature control unit

Claims (11)

基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体の製造方法であって、
少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、
遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、
光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とにより、スピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しており、
前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱工程と、
前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱工程とを有していることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
An information recording layer and a light transmission layer are provided on the substrate, and data recording and / or reproduction is performed by irradiating the information recording layer with the laser light through the light transmission layer. An optical information recording medium manufacturing method performed,
At least supplying a photocurable resin on the substrate;
Spreading the photocurable resin by centrifugal force;
A step of curing the photocurable resin by light irradiation, and a step of forming the light transmission layer by a spin coating method,
Before supplying the photocurable resin onto the substrate, during supply, during the spreading, at least any one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin, A first heating step of applying thermal energy concentrically with respect to the rotation center when the photocurable resin is spread;
A second heating step of locally applying thermal energy to a region where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. A method of manufacturing an optical information recording medium.
前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第1の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させる工程を有していることを特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体の製造方法。   The method includes a step of stabilizing the temperature of the substrate at a stage prior to the step of supplying the photocurable resin on the substrate or at a stage prior to the first heating step. The method for producing an optical information recording medium according to claim 1. 前記光硬化性樹脂は、供給前に温度を安定化させる工程を経て供給されるようになされていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光情報記録媒体の製造方法。   3. The method of manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the photocurable resin is supplied through a step of stabilizing the temperature before supply. 前記基板温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御することを特徴とする請求項2に記載の光情報記録媒体の製造方法。   3. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 2, wherein, in the step of stabilizing the substrate temperature, a fluctuation range of the temperature is controlled to ± 0.2 ° C. or less. 前記光硬化性樹脂の温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御することを特徴とする請求項3に記載の光情報記録媒体の製造方法。   4. The method of manufacturing an optical information recording medium according to claim 3, wherein, in the step of stabilizing the temperature of the photocurable resin, a temperature fluctuation range is controlled to ± 0.2 ° C. or less. 基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体の製造装置であって、
少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、
遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、
光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、
前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第1の加熱手段と、
前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第2の加熱手段とを具備していることを特徴とする光情報記録媒体の製造装置。
An information recording layer and a light transmission layer are provided on the substrate, and data recording and / or reproduction is performed by irradiating the information recording layer with the laser light through the light transmission layer. An optical information recording medium manufacturing apparatus to be performed,
At least a resin supply means for supplying a photocurable resin onto the substrate;
Resin spreading means for spreading the photocurable resin by centrifugal force;
A resin curing means for curing the photocurable resin by light irradiation and forming the light transmission layer by spin coating,
Before supplying the photocurable resin onto the substrate, during supply, during the spreading, at least any one of the substrate and the substrate coated with the photocurable resin, A first heating means for applying thermal energy concentrically with respect to the rotation center when the photocurable resin is spread;
A second heating unit that locally applies thermal energy to a region where the information recording layer is not formed on the outer peripheral edge of the substrate while the photocurable resin is spread on the substrate. An optical information recording medium manufacturing apparatus.
前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第1の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させるようになされていることを特徴とする請求項6に記載の光情報記録媒体の製造装置。   The temperature of the substrate is stabilized before the step of supplying the photocurable resin onto the substrate or before the first heating step. Item 7. The optical information recording medium manufacturing apparatus according to Item 6. 前記光硬化性樹脂を供給するノズルの手前に、当該光硬化性樹脂の温度を安定化させる樹脂温度安定化手段が設けられていることを特徴とする請求項6又は7に記載の光情報記録媒体の製造装置。   8. The optical information recording according to claim 6, wherein a resin temperature stabilizing means for stabilizing the temperature of the photocurable resin is provided before the nozzle for supplying the photocurable resin. Medium production equipment. 前記基板の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御されるようになされていることを特徴とする請求項7に記載の光情報記録媒体の製造装置。   8. The apparatus for manufacturing an optical information recording medium according to claim 7, wherein when the temperature of the substrate is stabilized, the fluctuation range of the temperature is controlled to be ± 0.2 ° C. or less. 前記樹脂の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±0.2℃以下に制御されるようになされていることを特徴とする請求項8に記載の光情報記録媒体の製造装置。   9. The apparatus for manufacturing an optical information recording medium according to claim 8, wherein when the temperature of the resin is stabilized, a fluctuation range of the temperature is controlled to be ± 0.2 ° C. or less. 基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び/又は再生が行われる光情報記録媒体であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法を適用し、
請求項6乃至10のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造装置を用いて、前記光透過層の形成がなされたものであり、
レーザ光波長が、405±15nm、対物レンズの開口数NA=0.85±0.05の光学系により、記録及び/又は再生がなされるものであることを特徴とする光情報記録媒体。
An information recording layer and a light transmission layer are provided on the substrate, and data recording and / or reproduction is performed by irradiating the information recording layer with the laser light through the light transmission layer. An optical information recording medium to be performed,
Applying the method for producing an optical information recording medium according to any one of claims 1 to 5,
The light transmission layer is formed using the optical information recording medium manufacturing apparatus according to any one of claims 6 to 10.
An optical information recording medium which is recorded and / or reproduced by an optical system having a laser beam wavelength of 405 ± 15 nm and an objective lens numerical aperture NA = 0.85 ± 0.05.
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