JP2007219492A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 15
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims 9
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 8
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- 230000002093 peripheral Effects 0.000 claims 1
Claims (10)
- アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムが順に積層するアセンブリ母基板形成ステップと、
前記アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化するステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記アセンブリ母基板は、第1及び第2母基板を含み、
前記アセンブリ母基板形成ステップは、
前記第1及び第2母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び/またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記第1及び第2母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
前記積層ステップの後、前記第1及び第2母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記アセンブリ母基板は、第1及び第2母基板を含み、
前記アセンブリ母基板形成ステップは、
前記第1及び第2母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び/またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記第1及び第2母基板をアセンブリするアセンブリステップと、
前記アセンブリステップの後、前記第1及び第2母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記アセンブリ母基板は、第1及び第2母基板を含み、
前記アセンブリ母基板の形成ステップは、
前記第1及び第2母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
前記各母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び/または前記カラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記セル形成ステップの後、前記第1及び第2母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記緩衝層は、接着性を有することを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記緩衝層は、第1及び第2接着層と、前記第1及び第2接着層間に位置するクッション層と、を含むことを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 液晶パネルと、
前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
前記偏光板上の緩衝層と、
前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルムの外周縁は同じ切断面を含むことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記緩衝層は接着性を有することを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記緩衝層は、第1及び第2接着層と、前記第1及び第2接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
- 液晶パネルと、
前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
前記偏光板上の緩衝層と、
前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルム間の公差は20ないし30μmであることを特徴とする液晶表示装置。
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