JP2007212913A - 液晶配向膜形成用組成物及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液滴吐出装置により安定な吐出を行うことができ、均質で平坦な液晶配向膜を形
成できる液晶配向膜形成用組成物、及びこの組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布
して液晶配向膜を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物で
あって、(A)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラ
クトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種と
を含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒、並びに(B
)液晶配向膜形成用材料を含有することを特徴とする液晶配向膜形成用組成物;並びに、
この組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工程を有する
液晶表示装置の製造方法。
【選択図】なし
成できる液晶配向膜形成用組成物、及びこの組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布
して液晶配向膜を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物で
あって、(A)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラ
クトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種と
を含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒、並びに(B
)液晶配向膜形成用材料を含有することを特徴とする液晶配向膜形成用組成物;並びに、
この組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工程を有する
液晶表示装置の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物及
び液晶表示装置の製造方法に関する。
び液晶表示装置の製造方法に関する。
従来、液晶表示装置の液晶配向膜を形成する方法として、液滴吐出装置を用いる方法が
知られている。
この方法は、ポリイミドやポリアミック酸等の液晶配向膜形成用材料を適当な溶媒に溶
解した溶液(液晶配向膜形成用組成物)を液滴吐出装置を用いて基板上に吐出し、これを
乾燥して塗膜とし、この塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜を形成するものである。
この液滴吐出装置を用いる方法は、所望の位置に所望の厚みの液晶配向膜を正確に形成す
ることができ、使用する液晶配向膜形成用組成物が少量でよいこと等の理由から、近年注
目されている。
知られている。
この方法は、ポリイミドやポリアミック酸等の液晶配向膜形成用材料を適当な溶媒に溶
解した溶液(液晶配向膜形成用組成物)を液滴吐出装置を用いて基板上に吐出し、これを
乾燥して塗膜とし、この塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜を形成するものである。
この液滴吐出装置を用いる方法は、所望の位置に所望の厚みの液晶配向膜を正確に形成す
ることができ、使用する液晶配向膜形成用組成物が少量でよいこと等の理由から、近年注
目されている。
液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物としては、例
えば、特許文献1に記載された、γ−ブチロラクトンとブチルセロソルブの少なくとも一
種を含有し、その合計含有量が溶剤全体に対して90重量%以上である溶剤に、液晶配向
膜形成用材料を溶解させたものが知られている。
えば、特許文献1に記載された、γ−ブチロラクトンとブチルセロソルブの少なくとも一
種を含有し、その合計含有量が溶剤全体に対して90重量%以上である溶剤に、液晶配向
膜形成用材料を溶解させたものが知られている。
しかしながら、この文献に記載された液晶配向膜形成用組成物は、液滴吐出装置による
吐出の際、吐出が安定せず、結果として均質で平坦な液晶配向膜が得られない場合があり
、問題となっていた。また、液晶配向膜形成用組成物中に、貧溶媒であるブチルセロソル
ブとを含有する場合においては、固形分である液晶配向膜形成用材料が凝集し、得られる
液晶配向膜にスジムラを誘発する場合もあった。
特開2003−295195号公報
吐出の際、吐出が安定せず、結果として均質で平坦な液晶配向膜が得られない場合があり
、問題となっていた。また、液晶配向膜形成用組成物中に、貧溶媒であるブチルセロソル
ブとを含有する場合においては、固形分である液晶配向膜形成用材料が凝集し、得られる
液晶配向膜にスジムラを誘発する場合もあった。
本発明は、上記した従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、液滴吐出装置により
安定な吐出を行うことができ、均質で平坦な液晶配向膜を形成できる液晶配向膜形成用組
成物、及びこの組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工
程を有する液晶表示装置の製造方法を提供することを課題とする。
安定な吐出を行うことができ、均質で平坦な液晶配向膜を形成できる液晶配向膜形成用組
成物、及びこの組成物を液滴吐出装置により基板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工
程を有する液晶表示装置の製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、溶媒と液晶配向膜形成用材料を含有する液晶配
向膜形成用組成物について鋭意検討した。そして、前記溶媒として、γ−ブチロラクトン
と、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒
及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材
料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒を用いることで、吐出の安定性に優れ、均質で平
坦な液晶配向膜を効率よく形成できる液晶配向膜形成用組成物が得られることを見出し、
本発明を完成するに到った。
向膜形成用組成物について鋭意検討した。そして、前記溶媒として、γ−ブチロラクトン
と、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒
及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材
料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒を用いることで、吐出の安定性に優れ、均質で平
坦な液晶配向膜を効率よく形成できる液晶配向膜形成用組成物が得られることを見出し、
本発明を完成するに到った。
かくして本発明の第1によれば、液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶
配向膜形成用組成物であって、(A)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%
以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ば
れる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない
混合溶媒、並びに(B)液晶配向膜形成用材料を含有することを特徴とする液晶配向膜形
成用組成物が提供される。
配向膜形成用組成物であって、(A)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%
以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ば
れる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない
混合溶媒、並びに(B)液晶配向膜形成用材料を含有することを特徴とする液晶配向膜形
成用組成物が提供される。
本発明の液晶配向膜形成用組成物においては、前記、γ−ブチロラクトン以外の非プロ
トン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種が、N−メチル−2−
ピロリドンであることが好ましい。
本発明の液晶配向膜形成用組成物は、表面張力が30〜45mN/mの溶液であること
が好ましく、粘度が3〜20mPa・sの溶液であることが好ましい。
本発明の液晶配向膜形成用組成物は、前記液晶配向膜形成用材料が、式(I)
トン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種が、N−メチル−2−
ピロリドンであることが好ましい。
本発明の液晶配向膜形成用組成物は、表面張力が30〜45mN/mの溶液であること
が好ましく、粘度が3〜20mPa・sの溶液であることが好ましい。
本発明の液晶配向膜形成用組成物は、前記液晶配向膜形成用材料が、式(I)
(式中、P1は4価の有機基であり、Q1は2価の有機基を表す。)で示される繰り返し
単位、及び式(II)
単位、及び式(II)
(式中、P2は4価の有機基であり、Q2は2価の有機基を表す。)で示される繰り返し
単位から選ばれる少なくとも一種を有する重合体であるものが好ましい。
単位から選ばれる少なくとも一種を有する重合体であるものが好ましい。
本発明の液晶配向膜形成用組成物は優れた弾性特性を有するので吐出の安定性に優れ、
表面が均質で平坦な液晶配向膜を形成することができる。
表面が均質で平坦な液晶配向膜を形成することができる。
本発明の第2によれば、本発明の液晶配向膜形成用組成物を、液滴吐出装置を用いて基
板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法が提供され
る。
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、高品質の液晶表示装置を低コストで効率よ
く製造することができる。
板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法が提供され
る。
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、高品質の液晶表示装置を低コストで効率よ
く製造することができる。
以下、本発明を、1)液晶配向膜形成用組成物、及び、2)液晶表示装置の製造方法に
項分けして詳細に説明する。
項分けして詳細に説明する。
1)液晶配向膜形成用組成物
本発明の液晶配向膜形成用組成物(以下、「本発明組成物」ということがある。)は、
液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物であって、(A
)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラクトン以外の
非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種とを含み、かつ
、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒、並びに(B)液晶配向膜
形成用材料を含有することを特徴とする。
本発明の液晶配向膜形成用組成物(以下、「本発明組成物」ということがある。)は、
液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物であって、(A
)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラクトン以外の
非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種とを含み、かつ
、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒、並びに(B)液晶配向膜
形成用材料を含有することを特徴とする。
(A)混合溶媒
本発明組成物に用いる混合溶媒は、γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%
以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ば
れる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含まないも
のである。溶媒として、このような混合溶媒を使用すると、液滴吐出装置による液晶配向
膜形成用組成物の吐出が安定し、均質で平坦な液晶配向膜を効率よく形成することができ
る。
本発明組成物に用いる混合溶媒は、γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%
以上の、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ば
れる少なくとも一種とを含み、かつ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含まないも
のである。溶媒として、このような混合溶媒を使用すると、液滴吐出装置による液晶配向
膜形成用組成物の吐出が安定し、均質で平坦な液晶配向膜を効率よく形成することができ
る。
γ−ブチロラクトンは、液晶配向膜形成用材料(特に、前記式(I)で示される繰り返
し単位、及び前記式(II)で示される繰り返し単位から選ばれる少なくとも一種を有す
る重合体)に対する良溶媒である。
し単位、及び前記式(II)で示される繰り返し単位から選ばれる少なくとも一種を有す
る重合体)に対する良溶媒である。
本発明においては、γ−ブチロラクトンに加えて、γ−ブチロラクトン以外の非プロト
ン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種を添加する。
ン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種を添加する。
γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒としては、アミド系溶媒、スルホキシ
ド系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒等が挙げられる。なかでも、吐出の安定性を
向上させ、均質で平滑性に優れる高品質な液晶配向膜を効率よく形成できる観点から、ア
ミド系溶媒、スルホキシド系溶媒の使用が好ましい。
ド系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒等が挙げられる。なかでも、吐出の安定性を
向上させ、均質で平滑性に優れる高品質な液晶配向膜を効率よく形成できる観点から、ア
ミド系溶媒、スルホキシド系溶媒の使用が好ましい。
アミド系溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド
、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチル尿素等が
挙げられる。スルホキシド系溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシ
ド等が挙げられる。
、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチル尿素等が
挙げられる。スルホキシド系溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシ
ド等が挙げられる。
また、フェノール系溶媒としては、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール
等のクレゾール;o−キシレノール、m−キシレノール、p−キシレノール等のキシレノ
ール;フェノール;o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、o−ブロモフェノー
ル、m−ブロモフェノール等のハロゲン化フェノール;等が挙げられる。
これらの中でもアミド系溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリドンの使用が特に好
ましい。
等のクレゾール;o−キシレノール、m−キシレノール、p−キシレノール等のキシレノ
ール;フェノール;o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、o−ブロモフェノー
ル、m−ブロモフェノール等のハロゲン化フェノール;等が挙げられる。
これらの中でもアミド系溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリドンの使用が特に好
ましい。
γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒も、液晶配向膜
形成用材料に対する良溶媒である。
形成用材料に対する良溶媒である。
γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒(以下、「他の
良溶媒」ということがある)の添加量は、全溶媒に対して10重量%以上、好ましくは1
0重量%〜50重量%、より好ましくは10重量%〜20重量%である。他の良溶媒の添
加量が10重量%未満の場合には、得られる液晶配向膜にスジムラが発生するおそれがあ
る。一方、添加量が50重量%を超えると、吐出が安定しなくなるため、基板表面に均一
な塗布が困難となる。
良溶媒」ということがある)の添加量は、全溶媒に対して10重量%以上、好ましくは1
0重量%〜50重量%、より好ましくは10重量%〜20重量%である。他の良溶媒の添
加量が10重量%未満の場合には、得られる液晶配向膜にスジムラが発生するおそれがあ
る。一方、添加量が50重量%を超えると、吐出が安定しなくなるため、基板表面に均一
な塗布が困難となる。
本発明組成物において、他の良溶媒の添加量が、全溶媒に対して10重量%〜50重量
%である場合には、前記スジムラ防止という効果に加えて、表面粗さRaが2.3nm以
下の平坦な基板(ITO基板など)表面に塗布する場合であっても、均一な塗布が可能に
なるという効果を得ることができる。
%である場合には、前記スジムラ防止という効果に加えて、表面粗さRaが2.3nm以
下の平坦な基板(ITO基板など)表面に塗布する場合であっても、均一な塗布が可能に
なるという効果を得ることができる。
本発明組成物に用いる混合溶媒は、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない
ものである。本発明組成物においては、貧溶媒が存在すると、前記、γ−ブチロラクトン
と他の良溶媒とを含有する混合溶媒を用いても、液晶配向膜形成用組成物の弾性が低下し
、結果として、吐出の安定性が低下する。
ものである。本発明組成物においては、貧溶媒が存在すると、前記、γ−ブチロラクトン
と他の良溶媒とを含有する混合溶媒を用いても、液晶配向膜形成用組成物の弾性が低下し
、結果として、吐出の安定性が低下する。
(B)液晶配向膜形成用材料
本発明組成物に用いる液晶配向膜形成用材料としては、特に制限されず、従来公知の液
晶配向膜形成用材料が使用できる。例えば、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック
酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセ
タール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
本発明組成物に用いる液晶配向膜形成用材料としては、特に制限されず、従来公知の液
晶配向膜形成用材料が使用できる。例えば、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック
酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセ
タール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも、優れた液晶配向能を有する配向膜を形成できること等の理由から、前
記式(I)で示される繰り返し単位、及び前記式(II)で示される繰り返し単位から選
ばれる少なくとも一種を有する重合体であることが好ましい。
記式(I)で示される繰り返し単位、及び前記式(II)で示される繰り返し単位から選
ばれる少なくとも一種を有する重合体であることが好ましい。
このような重合体としては、(i)前記式(I)で示される繰り返し単位を有するポリ
アミック酸、(ii)前記式(II)で示される繰り返し単位を有するイミド化重合体、(
iii)前記式(I)で示される繰り返し単位を有するアミック酸プレポリマーと、上記式
(II)で示される繰り返し単位を有するイミドプレポリマーとを有してなるブロック共
重合体等が挙げられる。これらは単独で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。
二種以上を組み合わせて用いる場合には、ポリアミック酸とイミド化重合体とを混合して
用いることが好ましい。
アミック酸、(ii)前記式(II)で示される繰り返し単位を有するイミド化重合体、(
iii)前記式(I)で示される繰り返し単位を有するアミック酸プレポリマーと、上記式
(II)で示される繰り返し単位を有するイミドプレポリマーとを有してなるブロック共
重合体等が挙げられる。これらは単独で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。
二種以上を組み合わせて用いる場合には、ポリアミック酸とイミド化重合体とを混合して
用いることが好ましい。
(i)ポリアミック酸
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得
ることができる。
ポリアミック酸の合成に用いるテトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2
,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ジシクロヘキ
シルテトラカルボン酸二無水物、シス−3,7−ジブチルシクロオクタ−1,5−ジエン
−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペン
チル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボニル−2−カルボキシノルボルナン−2:3
,5:6−ジ無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、
1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3
−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5
,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニ
ル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−
ヘキサヒドロ−5−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナ
フト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒ
ドロ−7−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1
,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7
−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c
]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル
−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラ
ン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5(テ
トラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,
3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5(テト
ラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3
−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2
,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3−オキサビシクロ[3,2,1]オクタン
−2,4−ジオン−6−スピロ−3'−(テトラヒドロフラン−2',5'−ジオン)、下
記式(1)及び(2)で示される化合物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物;
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得
ることができる。
ポリアミック酸の合成に用いるテトラカルボン酸二無水物としては、1,2,3,4−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2
,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ジシクロヘキ
シルテトラカルボン酸二無水物、シス−3,7−ジブチルシクロオクタ−1,5−ジエン
−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペン
チル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボニル−2−カルボキシノルボルナン−2:3
,5:6−ジ無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、
1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3
−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5
,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニ
ル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−
ヘキサヒドロ−5−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナ
フト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒ
ドロ−7−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1
,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7
−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c
]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル
−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラ
ン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5(テ
トラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,
3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5(テト
ラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3
−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2
,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3−オキサビシクロ[3,2,1]オクタン
−2,4−ジオン−6−スピロ−3'−(テトラヒドロフラン−2',5'−ジオン)、下
記式(1)及び(2)で示される化合物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物;
(式中、R4、R5、R7及びR8は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を表し
、R6及びR9は、それぞれ独立して芳香環を有する2価の有機基を表す。)
、R6及びR9は、それぞれ独立して芳香環を有する2価の有機基を表す。)
ブタンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物;
ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、3,3',4,4'−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8
−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3'
,4,4'−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−
テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボ
ン酸二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィ
ド二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二
無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水
物、3,3',4,4'−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3',
4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィン
オキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フ
ェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4
,4'−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4'−ジフェ
ニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、プロピ
レングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−ブタンジオール−ビス(
アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテ
ート)、1,8−オクタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−ビス(アンヒドロトリメリテート)、下記式(3
)〜(6)で表されるステロイド骨格を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは1種単独で、あるいは2種
以上組み合わせて用いることができる。
ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、3,3',4,4'−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8
−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3'
,4,4'−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−
テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボ
ン酸二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィ
ド二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二
無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水
物、3,3',4,4'−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3',
4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィン
オキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フ
ェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4
,4'−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4'−ジフェ
ニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、プロピ
レングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−ブタンジオール−ビス(
アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテ
ート)、1,8−オクタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−ビス(アンヒドロトリメリテート)、下記式(3
)〜(6)で表されるステロイド骨格を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香
族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは1種単独で、あるいは2種
以上組み合わせて用いることができる。
ポリアミック酸の合成に用いるジアミンとしては、例えば、p−フェニレンジアミン、
m−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフ
ェニルエタン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4'−ジアミノジフェニル
スルホン、2,2'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジメチル−4
,4'−ジアミノビフェニル、4,4'−ジアミノベンズアニリド、4,4'−ジアミノジ
フェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチル−4,4'−ジアミ
ノビフェニル、5−アミノ−1−(4'−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、6−アミノ−1−(4'−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン
、3,4'−ジアミノジフェニルエーテル、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、3,4'
−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1
,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノ
フェニル)−10−ヒドロアントラセン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(
4−アミノフェニル)フルオレン、4,4'−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、
2,2',5,5'−テトラクロロ−4,4'−ジアミノビフェニル、2,2'−ジクロロ−
4,4'−ジアミノ−5,5'−ジメトキシビフェニル、3,3'−ジメトキシ−4,4'−
ジアミノビフェニル、1,4,4'−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン
、4,4'−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2'−ビス[4−(
4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、
4,4'−ジアミノ−2,2'−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4'−ビス
[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル等
の芳香族ジアミン;
m−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフ
ェニルエタン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4'−ジアミノジフェニル
スルホン、2,2'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジメチル−4
,4'−ジアミノビフェニル、4,4'−ジアミノベンズアニリド、4,4'−ジアミノジ
フェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチル−4,4'−ジアミ
ノビフェニル、5−アミノ−1−(4'−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルイ
ンダン、6−アミノ−1−(4'−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン
、3,4'−ジアミノジフェニルエーテル、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、3,4'
−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1
,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノ
フェニル)−10−ヒドロアントラセン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(
4−アミノフェニル)フルオレン、4,4'−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、
2,2',5,5'−テトラクロロ−4,4'−ジアミノビフェニル、2,2'−ジクロロ−
4,4'−ジアミノ−5,5'−ジメトキシビフェニル、3,3'−ジメトキシ−4,4'−
ジアミノビフェニル、1,4,4'−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン
、4,4'−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2'−ビス[4−(
4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、
4,4'−ジアミノ−2,2'−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4'−ビス
[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル等
の芳香族ジアミン;
1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オク
タメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン
、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタ
ジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、
トリシクロ[6.2.1.02,7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4'−メチ
レンビス(シクロヘキシルアミン)等の脂肪族及び脂環式ジアミン;
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オク
タメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン
、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタ
ジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、
トリシクロ[6.2.1.02,7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4'−メチ
レンビス(シクロヘキシルアミン)等の脂肪族及び脂環式ジアミン;
2,3−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、
2,4−ジアミノピリミジン、5,6−ジアミノ−2,3−ジシアノピラジン、5,6−
ジアミノ−2,4−ジヒドロキシピリミジン、2,4−ジアミノ−6−ジメチルアミノ−
1,3,5−トリアジン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、2,4−ジ
アミノ−6−イソプロポキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メトキ
シ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−フェニル−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジアミノ−6−メチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−1,3,5−
トリアジン、4,6−ジアミノ−2−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−5−
フェニルチアゾール、2,6−ジアミノプリン、5,6−ジアミノ−1,3−ジメチルウ
ラシル、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、6,9−ジアミノ−2−エトキ
シアクリジンラクテート、3,8−ジアミノ−6−フェニルフェナントリジン、1,4−
ジアミノピペラジン、3,6−ジアミノアクリジン、ビス(4−アミノフェニル)フェニ
ルアミン等の、分子内に2つの1級アミノ基及び該1級アミノ基以外の窒素原子を有する
ジアミン;式(7)
2,4−ジアミノピリミジン、5,6−ジアミノ−2,3−ジシアノピラジン、5,6−
ジアミノ−2,4−ジヒドロキシピリミジン、2,4−ジアミノ−6−ジメチルアミノ−
1,3,5−トリアジン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、2,4−ジ
アミノ−6−イソプロポキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メトキ
シ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−フェニル−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジアミノ−6−メチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−1,3,5−
トリアジン、4,6−ジアミノ−2−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−5−
フェニルチアゾール、2,6−ジアミノプリン、5,6−ジアミノ−1,3−ジメチルウ
ラシル、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、6,9−ジアミノ−2−エトキ
シアクリジンラクテート、3,8−ジアミノ−6−フェニルフェナントリジン、1,4−
ジアミノピペラジン、3,6−ジアミノアクリジン、ビス(4−アミノフェニル)フェニ
ルアミン等の、分子内に2つの1級アミノ基及び該1級アミノ基以外の窒素原子を有する
ジアミン;式(7)
(式中、R10〜R13は、それぞれ独立して炭素数1〜12の炭化水素基を表し、p、
rはそれぞれ独立して1〜3の整数であり、qは1〜20の整数である。)で示されるジ
アミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらのジアミンは一種単独で、あるいは二
種以上を組み合わせて用いることができる。
rはそれぞれ独立して1〜3の整数であり、qは1〜20の整数である。)で示されるジ
アミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらのジアミンは一種単独で、あるいは二
種以上を組み合わせて用いることができる。
また、本発明組成物にプレチルト角発現性を付与したい場合には、上記式(I)におけ
るQ1及び/又は上記式(II)におけるQ2の一部又は全部が、下記式(8)及び(9
)で表される少なくとも一種の基であることが好ましい。
るQ1及び/又は上記式(II)におけるQ2の一部又は全部が、下記式(8)及び(9
)で表される少なくとも一種の基であることが好ましい。
(式中、X1は、単結合、−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−NHCO−、
−CONH−、−S−又はアリーレン基であり、R14は、炭素数10〜20のアルキル
基、炭素数4〜40の脂環式骨格を有する1価の有機基又は炭素数6〜20のフッ素原子
を有する1価の有機基である。)
−CONH−、−S−又はアリーレン基であり、R14は、炭素数10〜20のアルキル
基、炭素数4〜40の脂環式骨格を有する1価の有機基又は炭素数6〜20のフッ素原子
を有する1価の有機基である。)
(式中、X2、X3はそれぞれ独立して、単結合、−O−、−CO−、−COO−、−O
CO−、−NHCO−、−CONH−、−S−又はアリーレン基であり、R15は、炭素
数4〜40の脂環式骨格を有する2価の有機基である。)
CO−、−NHCO−、−CONH−、−S−又はアリーレン基であり、R15は、炭素
数4〜40の脂環式骨格を有する2価の有機基である。)
上記式(8)において、R14で表される炭素数10〜20のアルキル基としては、例
えば、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−
オクタデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
えば、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−
オクタデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
また、上記式(8)におけるR14、及び上記式(9)におけるR15で表される炭素
数4〜40の脂環式骨格を有する有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロデカン等のシクロアルカン由来の脂環式骨格を有する基;コ
レステロール、コレスタノール等のステロイド骨格を有する基;ノルボルネン、アダマン
タン等の有橋脂環式骨格を有する基等が挙げられる。なお、上記脂環式骨格を有する有機
基は、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子や、フルオロアルキル基、好ましくはトリフ
ルオロメチル基で置換された基であってもよい。
数4〜40の脂環式骨格を有する有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロデカン等のシクロアルカン由来の脂環式骨格を有する基;コ
レステロール、コレスタノール等のステロイド骨格を有する基;ノルボルネン、アダマン
タン等の有橋脂環式骨格を有する基等が挙げられる。なお、上記脂環式骨格を有する有機
基は、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子や、フルオロアルキル基、好ましくはトリフ
ルオロメチル基で置換された基であってもよい。
さらに、上記式(8)におけるR14で表される炭素数6〜20のフッ素原子を有する
有機基としては、例えば、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の炭素数6
以上の直鎖状アルキル基;シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の炭素数6以上の脂環
式炭化水素基;フェニル基、ビフェニル基等の炭素数6以上の芳香族炭化水素基等の有機
基における水素原子の一部又は全部を、フッ素原子又はトリフルオロメチル基等のフルオ
ロアルキル基で置換した基が挙げられる。
有機基としては、例えば、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の炭素数6
以上の直鎖状アルキル基;シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の炭素数6以上の脂環
式炭化水素基;フェニル基、ビフェニル基等の炭素数6以上の芳香族炭化水素基等の有機
基における水素原子の一部又は全部を、フッ素原子又はトリフルオロメチル基等のフルオ
ロアルキル基で置換した基が挙げられる。
また、上記式(8)及び(9)におけるX1〜X3のアリーレン基としては、フェニレ
ン基、トリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
ン基、トリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
上記式(8)で表される基を有するジアミンの具体例としては、ドデカノキシ−2,4
−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ
−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、下記式(
10)〜(15)で表される化合物を好ましいものとして挙げることができる。
−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ
−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、下記式(
10)〜(15)で表される化合物を好ましいものとして挙げることができる。
また、上記式(9)で表される基を有するジアミンの具体例としては、下記式(16)
〜(18)で表されるジアミンを好ましいものとして挙げることができる。
〜(18)で表されるジアミンを好ましいものとして挙げることができる。
特定ジアミンの全ジアミン量に対する使用割合は、発現させたいプレチルト角の大きさ
によっても異なるが、TN型、STN型液晶表示素子の場合には0〜5モル%、垂直配向
型液晶表示素子の場合には5〜100モル%が好ましい。
によっても異なるが、TN型、STN型液晶表示素子の場合には0〜5モル%、垂直配向
型液晶表示素子の場合には5〜100モル%が好ましい。
ポリアミック酸は、上述したテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、適当な有機溶
媒中、通常−20℃〜+150℃、好ましくは0〜100℃で反応させることにより、製
造することができる。
媒中、通常−20℃〜+150℃、好ましくは0〜100℃で反応させることにより、製
造することができる。
テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対
して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、
より好ましくは0.3〜1.2当量となる割合である。
して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、
より好ましくは0.3〜1.2当量となる割合である。
ポリアミック酸の合成反応に用いる有機溶媒としては、ポリアミック酸を溶解できるも
のであれば特に制限はない。例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルア
セトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;m
−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒
;等が挙げられる。
のであれば特に制限はない。例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルア
セトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;m
−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール系溶媒
;等が挙げられる。
有機溶媒の使用量(α)は、通常、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の総
量(β)が、反応溶液の全量(α+β)に対して0.1〜30重量%になるような量であ
ることが好ましい。
量(β)が、反応溶液の全量(α+β)に対して0.1〜30重量%になるような量であ
ることが好ましい。
なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸の貧溶媒を、生成するポリアミック酸が析出
しない範囲で併用することができる。
しない範囲で併用することができる。
ポリアミック酸の貧溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、シクロヘキサノール、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン(ジ
アセトンアルコール)、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、トリエチレングリコール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレング
リコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコ
ールイソプロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソル
ブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;乳酸エチル、乳酸ブチ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネート、エチルエト
キシプロピオネート、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル等のエステル系溶媒;ジクロ
ロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロ
ルベンゼン、o−ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;n−ヘキサン、n−
ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒;等が挙げられる。これらの溶媒は一種単独で、あるいは二種以上
を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、ブチルセロソルブの使用が特に好ましい。
ルアルコール、シクロヘキサノール、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン(ジ
アセトンアルコール)、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、トリエチレングリコール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレング
リコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコ
ールイソプロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソル
ブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;乳酸エチル、乳酸ブチ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネート、エチルエト
キシプロピオネート、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル等のエステル系溶媒;ジクロ
ロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロ
ルベンゼン、o−ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;n−ヘキサン、n−
ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素系溶媒;等が挙げられる。これらの溶媒は一種単独で、あるいは二種以上
を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、ブチルセロソルブの使用が特に好ましい。
ポリアミック酸を含む反応液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧
下乾燥することにより、ポリアミック酸を単離することができる。
また、得られたポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解させ、次いで貧溶媒で析出させる
工程を1回又は数回行うことにより、ポリアミック酸を精製することができる。
下乾燥することにより、ポリアミック酸を単離することができる。
また、得られたポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解させ、次いで貧溶媒で析出させる
工程を1回又は数回行うことにより、ポリアミック酸を精製することができる。
(ii)イミド化重合体
イミド化重合体は、上記ポリアミック酸を、公知の方法、例えば、特開2003−29
5195号公報に記載された方法により脱水閉環させることにより得ることができる。な
お、イミド化重合体は、繰り返し単位の100%が脱水閉環していなくてもよく、全繰り
返し単位におけるイミド環を有する繰り返し単位の割合(以下、「イミド化率」ともいう
。)が100%未満のものであってもよい。
イミド化重合体は、上記ポリアミック酸を、公知の方法、例えば、特開2003−29
5195号公報に記載された方法により脱水閉環させることにより得ることができる。な
お、イミド化重合体は、繰り返し単位の100%が脱水閉環していなくてもよく、全繰り
返し単位におけるイミド環を有する繰り返し単位の割合(以下、「イミド化率」ともいう
。)が100%未満のものであってもよい。
イミド化重合体のイミド化率は特に制限されないが、好ましくは40モル%以上、より
好ましくは70モル%以上である。イミド化率が40モル%以上の重合体を用いることに
よって、残像消去時間の短い液晶配向膜が形成可能な液晶配向膜形成用組成物を得ること
ができる。
好ましくは70モル%以上である。イミド化率が40モル%以上の重合体を用いることに
よって、残像消去時間の短い液晶配向膜が形成可能な液晶配向膜形成用組成物を得ること
ができる。
本発明で用いる重合体は、分子量が調節された末端修飾型のものであってもよい。この
末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損われることなく液晶配向膜形
成用組成物の塗布適性等を改善することができる。
末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損われることなく液晶配向膜形
成用組成物の塗布適性等を改善することができる。
このような末端修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、酸一無水物、モノ
アミン化合物、モノイソシアネート化合物等を反応系に添加することにより合成すること
ができる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イ
タコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−
テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物等が挙げら
れる。また、モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、n−
ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オ
クチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデ
シルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン
、n−ヘキサデシルアミン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミン、n−エ
イコシルアミン等が挙げられる。また、モノイソシアネート化合物としては、例えばフェ
ニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が挙げられる。
アミン化合物、モノイソシアネート化合物等を反応系に添加することにより合成すること
ができる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イ
タコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−
テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物等が挙げら
れる。また、モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、n−
ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オ
クチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデ
シルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン
、n−ヘキサデシルアミン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミン、n−エ
イコシルアミン等が挙げられる。また、モノイソシアネート化合物としては、例えばフェ
ニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が挙げられる。
(iii)ブロック共重合体
ブロック共重合体は、末端にアミノ基又は酸無水物基を有するアミック酸プレポリマー
と、末端に酸無水物基又はアミノ基を有するイミドプレポリマーとをそれぞれ合成し、各
プレポリマーの末端のアミノ基と酸無水物基を結合させることにより、得ることができる
。
ブロック共重合体は、末端にアミノ基又は酸無水物基を有するアミック酸プレポリマー
と、末端に酸無水物基又はアミノ基を有するイミドプレポリマーとをそれぞれ合成し、各
プレポリマーの末端のアミノ基と酸無水物基を結合させることにより、得ることができる
。
アミック酸プレポリマーは、上述したポリアミック酸の合成方法と同様の方法により合
成することができる。また、イミドプレポリマーは、上述したイミド化重合体の合成方法
と同様にして合成することができる。なお、末端に有する官能基の選択は、ポリアミック
酸合成時のテトラカルボン酸二無水物とジアミンの量を調整することにより行うことがで
きる。
成することができる。また、イミドプレポリマーは、上述したイミド化重合体の合成方法
と同様にして合成することができる。なお、末端に有する官能基の選択は、ポリアミック
酸合成時のテトラカルボン酸二無水物とジアミンの量を調整することにより行うことがで
きる。
本発明組成物には、基板表面に対する接着性を向上させる目的で、前記混合溶媒及び液
晶配向膜形成用材料の他に、官能性シラン含有化合物又はエポキシ基含有化合物を含有さ
せてもよい。
晶配向膜形成用材料の他に、官能性シラン含有化合物又はエポキシ基含有化合物を含有さ
せてもよい。
用いる官能性シラン含有化合物、エポキシ基含有化合物としては、特に制限なく、従来
公知のものを使用することができる。これら官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化
合物の配合割合は、液晶配向膜形成用材料100重量部に対して、通常、40重量部以下
、好ましくは30重量部以下である。
公知のものを使用することができる。これら官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化
合物の配合割合は、液晶配向膜形成用材料100重量部に対して、通常、40重量部以下
、好ましくは30重量部以下である。
本発明組成物は、前記液晶配向膜形成用材料及び所望により官能性シラン含有化合物等
を、前記混合溶媒に溶解又は分散、好ましくは溶解させることによって製造することがで
きる。
を、前記混合溶媒に溶解又は分散、好ましくは溶解させることによって製造することがで
きる。
得られる本発明組成物の固形分濃度は、粘性、揮発性等を考慮して選択されるが、好ま
しくは1〜10重量%の範囲である。固形分濃度が1重量%未満である場合には、本発明
組成物の塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、固形分濃度が
10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得ることが
できず、また、液晶配向膜形成用組成物の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる。
しくは1〜10重量%の範囲である。固形分濃度が1重量%未満である場合には、本発明
組成物の塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、固形分濃度が
10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得ることが
できず、また、液晶配向膜形成用組成物の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる。
本発明組成物の表面張力は特に制限されないが、30〜45mN/m(20℃)である
のが好ましい。表面張力が30〜45mN/m(20℃)の範囲にある配向膜形成用組成
物は、基板表面へのぬれ性に優れ、液滴吐出装置により、均一な厚みの塗膜を効率よく形
成することができる。
のが好ましい。表面張力が30〜45mN/m(20℃)の範囲にある配向膜形成用組成
物は、基板表面へのぬれ性に優れ、液滴吐出装置により、均一な厚みの塗膜を効率よく形
成することができる。
本発明組成物の粘度は、特に制限されないが、3〜20mPa・s(20℃)であるこ
とが好ましい。この範囲の粘度を有する本発明組成物は、流動性に優れ、液滴吐出装置に
よる吐出の安定性に優れる。
とが好ましい。この範囲の粘度を有する本発明組成物は、流動性に優れ、液滴吐出装置に
よる吐出の安定性に優れる。
本発明組成物は弾性特性に優れるため吐出の安定性に優れ、均質で平坦な液晶配向膜を
形成でき、歩留まりを大幅に向上させることができる。本発明組成物は、表面粗さ(Ra
)が2.3nm以下の平坦な基板であっても、液滴吐出装置を用いて、基板表面に均一で
平坦な液晶配向膜を形成できる。
従って、本発明組成物によれば、高品質な配向膜を形成でき、結果として高品質な液晶
表示装置を製造することができる。
形成でき、歩留まりを大幅に向上させることができる。本発明組成物は、表面粗さ(Ra
)が2.3nm以下の平坦な基板であっても、液滴吐出装置を用いて、基板表面に均一で
平坦な液晶配向膜を形成できる。
従って、本発明組成物によれば、高品質な配向膜を形成でき、結果として高品質な液晶
表示装置を製造することができる。
2)液晶表示装置の製造方法
本発明の液晶表示装置の製造方法は、本発明組成物を液滴吐出装置を用いて基板表面に
塗布して液晶配向膜を形成する工程を有することを特徴とする。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、本発明組成物を液滴吐出装置を用いて基板表面に
塗布して液晶配向膜を形成する工程を有することを特徴とする。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、例えば、図1に示す液晶表示装置の製造ラインを
用いて実施することができる。
図1に示すように、液晶表示装置製造ラインIは、各工程においてそれぞれ用いられる
洗浄装置1、親液化処理装置2、液滴吐出装置3a、乾燥装置4、焼成装置5、ラビング
装置6、液滴吐出装置3b、液滴吐出装置3c、貼り合せ装置7、各装置を接続するベル
トコンベアA、ベルトコンベアAを駆動させる駆動装置8、及び液晶表示装置製造ライン
I全体の制御を行う制御装置9により構成されている。
用いて実施することができる。
図1に示すように、液晶表示装置製造ラインIは、各工程においてそれぞれ用いられる
洗浄装置1、親液化処理装置2、液滴吐出装置3a、乾燥装置4、焼成装置5、ラビング
装置6、液滴吐出装置3b、液滴吐出装置3c、貼り合せ装置7、各装置を接続するベル
トコンベアA、ベルトコンベアAを駆動させる駆動装置8、及び液晶表示装置製造ライン
I全体の制御を行う制御装置9により構成されている。
本発明に用いる液滴吐出装置の例を図2に示す。
図2は、インクジェット式の吐出装置3aの構成の概略を示す図である。吐出装置3a
としては、いわゆるインクジェット方式の吐出装置であれば、特に制限されない。例えば
、加熱発泡により気泡を発生し、液滴の吐出を行うサーマル方式の吐出装置、ピエゾ素子
を利用する圧縮により、液滴の吐出を行うピエゾ方式の吐出装置等が挙げられる。
図2は、インクジェット式の吐出装置3aの構成の概略を示す図である。吐出装置3a
としては、いわゆるインクジェット方式の吐出装置であれば、特に制限されない。例えば
、加熱発泡により気泡を発生し、液滴の吐出を行うサーマル方式の吐出装置、ピエゾ素子
を利用する圧縮により、液滴の吐出を行うピエゾ方式の吐出装置等が挙げられる。
この吐出装置3aは、基板上に吐出物を吐出するインクジェットヘッド22を備えてい
る。このインクジェットヘッド22は、ヘッド本体24及び吐出物を吐出する多数のノズ
ルが形成されているノズル形成面26を備えている。このノズル形成面26のノズルから
、基板上に吐出物(本発明組成物)が吐出される。
る。このインクジェットヘッド22は、ヘッド本体24及び吐出物を吐出する多数のノズ
ルが形成されているノズル形成面26を備えている。このノズル形成面26のノズルから
、基板上に吐出物(本発明組成物)が吐出される。
吐出装置3aは、基板を載置するテーブル28を備えている。このテーブル28は、所
定の方向、例えば、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能に設置されている。また
、テーブル28は、図中矢印で示すようにX軸に沿った方向に移動することにより、ベル
トコンベアAにより搬送される基板をテーブル28上に載置して吐出装置3a内に取り込
む。
定の方向、例えば、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能に設置されている。また
、テーブル28は、図中矢印で示すようにX軸に沿った方向に移動することにより、ベル
トコンベアAにより搬送される基板をテーブル28上に載置して吐出装置3a内に取り込
む。
また、インクジェットヘッド22には、ノズル形成面26に形成されているノズルから
吐出される吐出物である本発明組成物を収容しているタンク30が接続されている。即ち
、タンク30とインクジェットヘッド22とは、吐出物を搬送する吐出物搬送管32によ
って接続されている。
吐出される吐出物である本発明組成物を収容しているタンク30が接続されている。即ち
、タンク30とインクジェットヘッド22とは、吐出物を搬送する吐出物搬送管32によ
って接続されている。
この吐出物搬送管32は、吐出物搬送管32の流路内の帯電を防止するための吐出物流
路部アース継手32aとヘッド部気泡排除弁32bとを備えている。このヘッド部気泡排
除弁32bは、後述する吸引キャップ40により、インクジェットヘッド22内の吐出物
を吸引する場合に用いられる。即ち、吸引キャップ40によりインクジェットヘッド22
内の吐出物を吸引するときは、このヘッド部気泡排除弁32bを閉状態にし、タンク30
側から吐出物が流入しない状態にする。そして、吸引キャップ40で吸引すると、吸引さ
れる吐出物の流速が上がり、インクジェットヘッド22内の気泡が速やかに排出されるこ
とになる。
路部アース継手32aとヘッド部気泡排除弁32bとを備えている。このヘッド部気泡排
除弁32bは、後述する吸引キャップ40により、インクジェットヘッド22内の吐出物
を吸引する場合に用いられる。即ち、吸引キャップ40によりインクジェットヘッド22
内の吐出物を吸引するときは、このヘッド部気泡排除弁32bを閉状態にし、タンク30
側から吐出物が流入しない状態にする。そして、吸引キャップ40で吸引すると、吸引さ
れる吐出物の流速が上がり、インクジェットヘッド22内の気泡が速やかに排出されるこ
とになる。
吐出装置3aは、タンク30内に収容されている吐出物の収容量、即ち、タンク30内
に収容されている本発明組成物の液面34aの高さを制御するための液面制御センサ36
を備えている。この液面制御センサ36は、インクジェットヘッド22が備えるノズル形
成面26の先端部27とタンク30内の液面34aとの高さの差h(以下、水頭値という
)を所定の範囲内に保つ制御を行う。液面34aの高さを制御することで、タンク30内
の吐出物34が所定の範囲内の圧力でインクジェットヘッド22に送られることになる。
そして、所定の範囲内の圧力で吐出物34を送ることで、インクジェットヘッド22から
安定的に吐出物34を吐出することができる。
に収容されている本発明組成物の液面34aの高さを制御するための液面制御センサ36
を備えている。この液面制御センサ36は、インクジェットヘッド22が備えるノズル形
成面26の先端部27とタンク30内の液面34aとの高さの差h(以下、水頭値という
)を所定の範囲内に保つ制御を行う。液面34aの高さを制御することで、タンク30内
の吐出物34が所定の範囲内の圧力でインクジェットヘッド22に送られることになる。
そして、所定の範囲内の圧力で吐出物34を送ることで、インクジェットヘッド22から
安定的に吐出物34を吐出することができる。
また、インクジェットヘッド22のノズル形成面26に対向して一定の距離を隔てて、
インクジェットヘッド22のノズル内の吐出物を吸引する吸引キャップ40が配置されて
いる。この吸引キャップ40は、図3中に矢印で示すZ軸に沿った方向に移動可能に構成
されており、ノズル形成面26に形成された複数のノズルを囲むようにノズル形成面26
に密着し、ノズル形成面26との間に密閉空間を形成してノズルを外気から遮断できる構
成となっている。
インクジェットヘッド22のノズル内の吐出物を吸引する吸引キャップ40が配置されて
いる。この吸引キャップ40は、図3中に矢印で示すZ軸に沿った方向に移動可能に構成
されており、ノズル形成面26に形成された複数のノズルを囲むようにノズル形成面26
に密着し、ノズル形成面26との間に密閉空間を形成してノズルを外気から遮断できる構
成となっている。
なお、吸引キャップ40によるインクジェットヘッド22のノズル内の吐出物の吸引は
、インクジェットヘッド22が吐出物34を吐出していない状態、例えば、インクジェッ
トヘッド22が、退避位置等に退避しており、テーブル28が破線で示す位置に退避して
いるときに行われる。
、インクジェットヘッド22が吐出物34を吐出していない状態、例えば、インクジェッ
トヘッド22が、退避位置等に退避しており、テーブル28が破線で示す位置に退避して
いるときに行われる。
また、この吸引キャップ40の下方には、流路が設けられており、この流路には、吸引
バルブ42、吸引異常を検出する吸引圧検出センサ44及びチューブポンプ等からなる吸
引ポンプ46が配置されている。また、この吸引ポンプ46等で吸引され、流路を搬送さ
れてきた吐出物34は、廃液タンク48内に収容される。
バルブ42、吸引異常を検出する吸引圧検出センサ44及びチューブポンプ等からなる吸
引ポンプ46が配置されている。また、この吸引ポンプ46等で吸引され、流路を搬送さ
れてきた吐出物34は、廃液タンク48内に収容される。
以下に述べる本実施形態では、液滴吐出装置3b、3cは、吐出する材料が異なること
を除き、吐出装置3aと同じ構成のものを使用している。
を除き、吐出装置3aと同じ構成のものを使用している。
次に、本発明を、図3に示す液晶表示装置を製造する場合を例にとって詳細に説明する
。図3は、本実施形態により製造される液晶表示装置の断面の概略を示す図である。
図3に示す液晶表示装置は、パッシブマトリクス方式の半透過反射型カラー液晶表示装
置である。液晶表示装置50は、ガラス、プラスチック等からなる矩形平板形状の下基板
52aと、上基板52bとがシール材及びスペーサ(図示せず)を介して対向配置され、
この下基板52aと上基板52bとの間に液晶層56が挟持されている。
。図3は、本実施形態により製造される液晶表示装置の断面の概略を示す図である。
図3に示す液晶表示装置は、パッシブマトリクス方式の半透過反射型カラー液晶表示装
置である。液晶表示装置50は、ガラス、プラスチック等からなる矩形平板形状の下基板
52aと、上基板52bとがシール材及びスペーサ(図示せず)を介して対向配置され、
この下基板52aと上基板52bとの間に液晶層56が挟持されている。
下基板52aと液晶層56との間には、下基板52aの側から複数のセグメント電極5
8及び液晶配向膜60が形成されている。セグメント電極58は、図3に示すように、ス
トライプ状に形成されており、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide
、以下、「ITO」という。)等の透明導電膜により形成されている。また、液晶配向膜
60は、液晶配向膜形成用材料により形成されている。
8及び液晶配向膜60が形成されている。セグメント電極58は、図3に示すように、ス
トライプ状に形成されており、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide
、以下、「ITO」という。)等の透明導電膜により形成されている。また、液晶配向膜
60は、液晶配向膜形成用材料により形成されている。
また、上基板52bと液晶層56との間には、上基板52b側から順に、カラーフィル
タ62、オーバーコート膜66、コモン電極68及び液晶配向膜70が形成されている。
カラーフィルタ62は、赤(R)、緑(G)、青(B)の各色素層62r、62g、62
bから構成されており、カラーフィルタ62を構成する各色素層62r、62g、62b
の間(境界)には、樹脂ブラックや光の反射率が低いクロム(Cr)等の金属により構成
されるブラックマトリクス64が形成されている。なお、カラーフィルタ62を構成する
各色素層62r、62g、62bは下基板52aに形成されているセグメント電極58に
対向して配置されている。
タ62、オーバーコート膜66、コモン電極68及び液晶配向膜70が形成されている。
カラーフィルタ62は、赤(R)、緑(G)、青(B)の各色素層62r、62g、62
bから構成されており、カラーフィルタ62を構成する各色素層62r、62g、62b
の間(境界)には、樹脂ブラックや光の反射率が低いクロム(Cr)等の金属により構成
されるブラックマトリクス64が形成されている。なお、カラーフィルタ62を構成する
各色素層62r、62g、62bは下基板52aに形成されているセグメント電極58に
対向して配置されている。
オーバーコート膜66は、各色素層62r、62g、62b間の段差を平坦化すると共
に各色素層の表面を保護するものであり、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン酸化
膜等の無機膜により形成されている。
に各色素層の表面を保護するものであり、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン酸化
膜等の無機膜により形成されている。
コモン電極68は、ITO等の透明導電膜から形成されており、下基板52aに形成さ
れているセグメント電極58と直交する位置にストライプ状に形成されている。
また、液晶配向膜70は、ポリイミド樹脂等により形成されている。
れているセグメント電極58と直交する位置にストライプ状に形成されている。
また、液晶配向膜70は、ポリイミド樹脂等により形成されている。
図3に示す液晶表示装置は、図4に示すように、(S10)〜(S19)の各ステップ
を経て製造することができる。以下、各ステップを順に説明する。
を経て製造することができる。以下、各ステップを順に説明する。
(S10)
まず、液晶配向膜を形成する基板を用意する。
基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス;ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等の
プラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電
膜としては、酸化スズ(SnO2)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化
インジウム−酸化スズ(In2O3−SnO2)からなるITO膜等を用いることができ
る。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用い
る方法が用いられる。本実施形態においては、セグメント電極58が形成された下基板5
2aを用いる。
まず、液晶配向膜を形成する基板を用意する。
基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス;ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等の
プラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電
膜としては、酸化スズ(SnO2)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化
インジウム−酸化スズ(In2O3−SnO2)からなるITO膜等を用いることができ
る。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用い
る方法が用いられる。本実施形態においては、セグメント電極58が形成された下基板5
2aを用いる。
次に、この基板の配向膜を形成する表面を洗浄する(S10)。すなわち、セグメント
電極58が形成された下基板52aが、ベルトコンベアAにより洗浄装置1まで搬送され
、ベルトコンベアAにより搬送された下基板52aが洗浄装置1内に取り込まれ、アルカ
リ系洗剤、純水等を用いて下基板52aが洗浄された後、所定の温度及び時間、例えば、
80〜90℃で5〜10分間、乾燥処理が行われる。
洗浄及び乾燥が行われた下基板52aは、ベルトコンベアAにより親液化処理装置2ま
で搬送される。
電極58が形成された下基板52aが、ベルトコンベアAにより洗浄装置1まで搬送され
、ベルトコンベアAにより搬送された下基板52aが洗浄装置1内に取り込まれ、アルカ
リ系洗剤、純水等を用いて下基板52aが洗浄された後、所定の温度及び時間、例えば、
80〜90℃で5〜10分間、乾燥処理が行われる。
洗浄及び乾燥が行われた下基板52aは、ベルトコンベアAにより親液化処理装置2ま
で搬送される。
(S11)
次に、洗浄及び乾燥が行われた基板表面が親液化処理される(S11)。即ち、ベルト
コンベアAにより親液化処理装置2まで搬送された基板、例えば、下基板52aが、親液
化処理装置2内に取り込まれ、紫外線照射又はプラズマ処理により表面が親液化処理され
る。親液化処理を施すことにより、液晶配向膜形成用組成物(本発明組成物)のぬれ性が
さらに向上し、より均一、平坦でかつ密着性に優れる液晶配向膜を基板上に形成すること
ができる。
次に、洗浄及び乾燥が行われた基板表面が親液化処理される(S11)。即ち、ベルト
コンベアAにより親液化処理装置2まで搬送された基板、例えば、下基板52aが、親液
化処理装置2内に取り込まれ、紫外線照射又はプラズマ処理により表面が親液化処理され
る。親液化処理を施すことにより、液晶配向膜形成用組成物(本発明組成物)のぬれ性が
さらに向上し、より均一、平坦でかつ密着性に優れる液晶配向膜を基板上に形成すること
ができる。
(S12)
次に、S11において親液化処理された基板上に本発明組成物が塗布される(S12)
。即ち、まず、ベルトコンベアAにより液滴吐出装置3aまで搬送された基板、例えば、
下基板52aが、テーブル28に載置されて液滴吐出装置3a内に取り込まれる。液滴吐
出装置3a内においては、タンク30内に収容されている本発明組成物がノズル形成面2
6のノズルを介して吐出され、下基板52a上に本発明組成物が塗布される。
次に、S11において親液化処理された基板上に本発明組成物が塗布される(S12)
。即ち、まず、ベルトコンベアAにより液滴吐出装置3aまで搬送された基板、例えば、
下基板52aが、テーブル28に載置されて液滴吐出装置3a内に取り込まれる。液滴吐
出装置3a内においては、タンク30内に収容されている本発明組成物がノズル形成面2
6のノズルを介して吐出され、下基板52a上に本発明組成物が塗布される。
(S13)
次に、基板に塗布された本発明組成物を仮乾燥する処理が行われる(S13)。即ち、
ベルトコンベアAにより乾燥装置4まで搬送された基板、例えば、下基板52aが乾燥装
置4内に取り込まれ、例えば、60〜200℃で仮乾燥が行われる。
塗布された本発明組成物の仮乾燥が行われた下基板52aは、ベルトコンベアAへと移
され、ベルトコンベアAにより焼成装置5へと搬送される。
次に、基板に塗布された本発明組成物を仮乾燥する処理が行われる(S13)。即ち、
ベルトコンベアAにより乾燥装置4まで搬送された基板、例えば、下基板52aが乾燥装
置4内に取り込まれ、例えば、60〜200℃で仮乾燥が行われる。
塗布された本発明組成物の仮乾燥が行われた下基板52aは、ベルトコンベアAへと移
され、ベルトコンベアAにより焼成装置5へと搬送される。
(S14)
次に、仮乾燥が行われた本発明組成物を焼成する処理が行われる(S14)。即ち、ベ
ルトコンベアAにより焼成装置5まで搬送された基板、例えば、下基板52aが焼成装置
5内に取り込まれ、例えば、180〜250℃に焼成する処理がなされる。
次に、仮乾燥が行われた本発明組成物を焼成する処理が行われる(S14)。即ち、ベ
ルトコンベアAにより焼成装置5まで搬送された基板、例えば、下基板52aが焼成装置
5内に取り込まれ、例えば、180〜250℃に焼成する処理がなされる。
なお、ポリアミック酸を含有する液晶配向膜形成用組成物(本発明組成物)を使用する
場合には、この焼成する処理によって脱水閉環が進行し、よりイミド化された塗膜となる
場合がある。
形成される塗膜の膜厚は、通常0.001〜1μmであり、好ましくは0.005〜0
.5μmである。
以上のようにして、図5に示すように、本発明組成物の塗膜60aが形成された下基板
52aを得る。
この下基板52aは、ベルトコンベアAへと移され、ベルトコンベアAによりラビング
装置6へと搬送される。
場合には、この焼成する処理によって脱水閉環が進行し、よりイミド化された塗膜となる
場合がある。
形成される塗膜の膜厚は、通常0.001〜1μmであり、好ましくは0.005〜0
.5μmである。
以上のようにして、図5に示すように、本発明組成物の塗膜60aが形成された下基板
52aを得る。
この下基板52aは、ベルトコンベアAへと移され、ベルトコンベアAによりラビング
装置6へと搬送される。
(S15)
次に、基板上に形成された本発明組成物の塗膜60aのラビング処理が行われる(S1
5)。即ち、ベルトコンベアAによりラビング装置6まで搬送された基板、例えば、下基
板52aがラビング装置6内に取り込まれ、例えばナイロン、レーヨン、コットン等の繊
維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これにより、図
6に示すように、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜60が形成される。
次に、基板上に形成された本発明組成物の塗膜60aのラビング処理が行われる(S1
5)。即ち、ベルトコンベアAによりラビング装置6まで搬送された基板、例えば、下基
板52aがラビング装置6内に取り込まれ、例えばナイロン、レーヨン、コットン等の繊
維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これにより、図
6に示すように、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜60が形成される。
また、本発明組成物により形成された液晶配向膜に、例えば特開平6−222366号
公報や特開平6−281937号公報に示されているような、紫外線を部分的に照射する
ことによってプレチルト角を変化させるような処理、あるいは特開平5−107544号
公報に示されているような、ラビング処理を施した液晶配向膜表面にレジスト膜を部分的
に形成し、先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去
して、液晶配向膜の液晶配向能を変化させるような処理を行うことによって、液晶表示素
子の視界特性を改善することもできる。
公報や特開平6−281937号公報に示されているような、紫外線を部分的に照射する
ことによってプレチルト角を変化させるような処理、あるいは特開平5−107544号
公報に示されているような、ラビング処理を施した液晶配向膜表面にレジスト膜を部分的
に形成し、先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去
して、液晶配向膜の液晶配向能を変化させるような処理を行うことによって、液晶表示素
子の視界特性を改善することもできる。
(S16)
液晶配向膜60が形成された下基板52aは、ベルトコンベアAへと移され、ベルトコ
ンベアAにより液滴吐出装置3bまで搬送され、液滴吐出装置3b内に取り込まれる。液
滴吐出装置3bにおいては、図7(a)、(b)に示すように、ラビング処理された液晶
配向膜60上の液晶表示領域Bを取り囲むように、シール層形成用溶液が塗布される(S
16)。図7において、59aは、シール層形成用溶液の塗膜である。なお、図7(a)
は工程上面図であり、図7(b)は水平方向から見た工程断面図である。
液晶配向膜60が形成された下基板52aは、ベルトコンベアAへと移され、ベルトコ
ンベアAにより液滴吐出装置3bまで搬送され、液滴吐出装置3b内に取り込まれる。液
滴吐出装置3bにおいては、図7(a)、(b)に示すように、ラビング処理された液晶
配向膜60上の液晶表示領域Bを取り囲むように、シール層形成用溶液が塗布される(S
16)。図7において、59aは、シール層形成用溶液の塗膜である。なお、図7(a)
は工程上面図であり、図7(b)は水平方向から見た工程断面図である。
ここで、シール層形成用溶液としては、下基板と上基板とを接合するための接着剤とし
て従来公知のものを使用することができる。例えば、電離放射線硬化性樹脂等を含有する
液滴(電離放射線硬化性樹脂組成物)、熱硬化性樹脂等を含有する液滴(熱硬化性樹脂組
成物)が挙げられ、作業性に優れることから電離放射線硬化性樹脂組成物の使用が好まし
い。熱硬化性樹脂組成物や電離放射線硬化性樹脂組成物としては、特に制限されず、従来
公知のものを使用することができる。
て従来公知のものを使用することができる。例えば、電離放射線硬化性樹脂等を含有する
液滴(電離放射線硬化性樹脂組成物)、熱硬化性樹脂等を含有する液滴(熱硬化性樹脂組
成物)が挙げられ、作業性に優れることから電離放射線硬化性樹脂組成物の使用が好まし
い。熱硬化性樹脂組成物や電離放射線硬化性樹脂組成物としては、特に制限されず、従来
公知のものを使用することができる。
(S17)
次に、シール層形成用溶液が塗布された基板は、ベルトコンベアAへと移され、ベルト
コンベアAにより、液滴吐出装置3cまで搬送された基板が液滴吐出装置3c内に取り込
まれる。液滴吐出装置3cにおいては、図8に示すように、前記シール層形成用溶液の塗
膜59aで囲まれた液晶層形成領域Aに、液晶材料56が塗布される(S17)。
次に、シール層形成用溶液が塗布された基板は、ベルトコンベアAへと移され、ベルト
コンベアAにより、液滴吐出装置3cまで搬送された基板が液滴吐出装置3c内に取り込
まれる。液滴吐出装置3cにおいては、図8に示すように、前記シール層形成用溶液の塗
膜59aで囲まれた液晶層形成領域Aに、液晶材料56が塗布される(S17)。
ここで、液晶材料56としては、特に制限されず、従来公知のものが使用できる。
液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Supe
r Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment
Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(M
ultiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plan
e Switching)型、OCB(Optical Compensated Be
nd)型等が挙げられる。
液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Supe
r Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment
Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(M
ultiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plan
e Switching)型、OCB(Optical Compensated Be
nd)型等が挙げられる。
また、液晶材料はスペーサーを含有するものであってもよい。スペーサーは液晶層の厚
さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。スペーサーの材料としては特に
制限されず、従来公知のものを使用することができる。
また、液晶材料とは別個に、液晶材料を塗布する前、あるいは塗布した後にスペーサー
を含む機能液を塗布してもよい。
さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。スペーサーの材料としては特に
制限されず、従来公知のものを使用することができる。
また、液晶材料とは別個に、液晶材料を塗布する前、あるいは塗布した後にスペーサー
を含む機能液を塗布してもよい。
(S18)
次に、液晶材料56が塗布された基板は、図9(a)に示すように、貼り合せ装置の真
空チャンバー90a内に搬送され、チャンバー9a内を真空にした後、下定盤80a上に
吸引固定される。一方、カラーフィルタ62、ブラックマトリクス64、オーバーコート
膜66、コモン電極68及び液晶配向膜70(これらの図示は省略されている)が形成さ
れた基板(上基板)52bを上定盤80b上に吸引固定し、下基板52aと上基板52b
とを貼り合せる(S18)。
次に、液晶材料56が塗布された基板は、図9(a)に示すように、貼り合せ装置の真
空チャンバー90a内に搬送され、チャンバー9a内を真空にした後、下定盤80a上に
吸引固定される。一方、カラーフィルタ62、ブラックマトリクス64、オーバーコート
膜66、コモン電極68及び液晶配向膜70(これらの図示は省略されている)が形成さ
れた基板(上基板)52bを上定盤80b上に吸引固定し、下基板52aと上基板52b
とを貼り合せる(S18)。
下基板52aと上基板52bとを貼り合せる際の位置合せは、具体的には、下基板52
aと上基板52bに予め設けてあるアラインメントマークをカメラで認識させながら、行
うことができる。このとき位置合せ精度を上げるため、下基板52aと上基板52bの間
隔を0.2〜0.5mm程度にして位置合せを行うのが好ましい。
aと上基板52bに予め設けてあるアラインメントマークをカメラで認識させながら、行
うことができる。このとき位置合せ精度を上げるため、下基板52aと上基板52bの間
隔を0.2〜0.5mm程度にして位置合せを行うのが好ましい。
(S19)
次に、下基板52aと上基板52bとを貼り合せた積層物の硬化処理が行われる。硬化
処理は、硬化装置を使用して行われる(S19)。硬化装置としては、電離放射線の照射
装置や加熱装置等が挙げられるが、本実施形態では紫外線照射装置82を使用する。すな
わち、図9(b)に示すように、紫外線照射装置82により紫外線を照射して、シール層
59aを硬化させる。
次いで、チャンバー9a内の減圧を大気圧に開放し、下基板52a及び上基板52bの
吸着を開放する。
次に、下基板52aと上基板52bとを貼り合せた積層物の硬化処理が行われる。硬化
処理は、硬化装置を使用して行われる(S19)。硬化装置としては、電離放射線の照射
装置や加熱装置等が挙げられるが、本実施形態では紫外線照射装置82を使用する。すな
わち、図9(b)に示すように、紫外線照射装置82により紫外線を照射して、シール層
59aを硬化させる。
次いで、チャンバー9a内の減圧を大気圧に開放し、下基板52a及び上基板52bの
吸着を開放する。
その後は、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面側
に、偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と
一致又は直交するように貼り合せる。ここで、液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板
としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたH膜と称さ
れる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板を挙
げることができる。
に、偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング方向と
一致又は直交するように貼り合せる。ここで、液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板
としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたH膜と称さ
れる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板を挙
げることができる。
以上のようにして、図3に示す液晶表示装置を製造することができる。
得られる液晶表示装置は、液滴吐出装置3aにより、本発明組成物を塗布して形成され
た液晶配向膜を有するものであるので、高品質で低コストな液晶表示装置である。
得られる液晶表示装置は、液滴吐出装置3aにより、本発明組成物を塗布して形成され
た液晶配向膜を有するものであるので、高品質で低コストな液晶表示装置である。
本実施形態においては、S15において、ラビング処理を施す方法により液晶配向膜を
形成しているが、例えば、特開2004−163646号公報に開示されている、偏光さ
れた放射線を照射する方法等により液晶配向能を施すこともできる。
形成しているが、例えば、特開2004−163646号公報に開示されている、偏光さ
れた放射線を照射する方法等により液晶配向能を施すこともできる。
また、本実施形態においては、S17において、液晶材料を液滴吐出装置3cを使用し
て塗布することにより液晶層を形成しているが、液晶配向膜が形成された基板を2枚作製
し、それぞれの液晶配向膜におけるラビング方向が直交又は逆平行となるように、2枚の
基板を、間隙(セルギャップ)を介して対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用
いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充
填し、注入孔を封止して液晶層を形成するようにしてもよい。
て塗布することにより液晶層を形成しているが、液晶配向膜が形成された基板を2枚作製
し、それぞれの液晶配向膜におけるラビング方向が直交又は逆平行となるように、2枚の
基板を、間隙(セルギャップ)を介して対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用
いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充
填し、注入孔を封止して液晶層を形成するようにしてもよい。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により
何ら限定されるものではない。
何ら限定されるものではない。
(実施例1〜3、比較例1、2)
γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン及びブチルセロソルブを、下記第1
表に示す割合で混合して混合溶媒を得た。得られた混合溶媒のそれぞれにポリイミドを溶
解して、実施例1〜3及び比較例1、2の液晶配向膜形成用組成物をそれぞれ調製した(
固形分濃度8重量%)。
γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン及びブチルセロソルブを、下記第1
表に示す割合で混合して混合溶媒を得た。得られた混合溶媒のそれぞれにポリイミドを溶
解して、実施例1〜3及び比較例1、2の液晶配向膜形成用組成物をそれぞれ調製した(
固形分濃度8重量%)。
得られた液晶配向膜形成用組成物を、液滴吐出装置を用いて、表面粗さRaが2.3n
mのITO基板表面に乾燥膜厚が60nmとなるように塗布し、液晶配向膜を形成した。
mのITO基板表面に乾燥膜厚が60nmとなるように塗布し、液晶配向膜を形成した。
得られた液晶配向膜を目視観察して、スジムラが認められない場合を○、スジムラが認
められた場合を×で評価した。
また、表面粗さが2.3nmのITO基板表面に塗布する場合において、均一な塗布が
できる場合を○、できない場合を×として評価した。
これらの評価結果を第1表にまとめて示す。
められた場合を×で評価した。
また、表面粗さが2.3nmのITO基板表面に塗布する場合において、均一な塗布が
できる場合を○、できない場合を×として評価した。
これらの評価結果を第1表にまとめて示す。
第1表から、実施例1〜3の液晶配向膜形成用組成物を用いた場合には、均一な塗布が
でき、また、形成した液晶配向膜にはスジムラは認められず、均一な薄膜であった。
一方、良溶媒であるN−メチル−2−ピロリドンを含まず、貧溶媒であるブチルセロソ
ルブを含む比較例1の液晶配向膜形成用組成物を用いた場合には、均一な塗布ができず、
また、形成した液晶配向膜にはスジムラが認められた。
また、貧溶媒であるブチルセロソルブを含まないが、N−メチル−2−ピロリドンの含
有量が溶媒全体に対して5重量%である比較例2の液晶配向膜形成用組成物を用いて形成
した液晶配向膜にはスジムラは認められなかったが、均一な塗布ができず、得られる薄膜
も不均一であった。
でき、また、形成した液晶配向膜にはスジムラは認められず、均一な薄膜であった。
一方、良溶媒であるN−メチル−2−ピロリドンを含まず、貧溶媒であるブチルセロソ
ルブを含む比較例1の液晶配向膜形成用組成物を用いた場合には、均一な塗布ができず、
また、形成した液晶配向膜にはスジムラが認められた。
また、貧溶媒であるブチルセロソルブを含まないが、N−メチル−2−ピロリドンの含
有量が溶媒全体に対して5重量%である比較例2の液晶配向膜形成用組成物を用いて形成
した液晶配向膜にはスジムラは認められなかったが、均一な塗布ができず、得られる薄膜
も不均一であった。
I…液晶表示装置製造ライン、1…洗浄装置、2…親液化処理装置、3a、3b、3c
…吐出装置、4…乾燥装置、5…成装置、6…ラビング装置、8…駆動装置、9…制御装
置、22…インクジェットヘッド、24…ヘッド本体、26…ノズル形成面、28…テー
ブル、30…タンク、32…吐出物搬送管、32a…吐出物流路部アース継手、32b…
ヘッド部気泡排除弁、34…吐出物、34a…液面、36…液面制御センサ、40…吸引
キャップ、42…吸引バルブ、44…吸引圧検出センサ、46…吸引ポンプ、48…廃液
タンク、50…液晶表示装置、52a…下基板、52b…上基板、56…液晶層、58…
セグメント電極、59…シール層、59a…シール剤の塗膜、60,70…液晶配向膜、
62…カラーフィルター、62r,62g,62b…色素層、64…ブラックマトリクス
、66…オーバーコート膜、68…コモン電極、80a…下定盤、80b…上定盤、82
…紫外線照射装置、90a…真空チャンバー、A…液晶層形成領域
…吐出装置、4…乾燥装置、5…成装置、6…ラビング装置、8…駆動装置、9…制御装
置、22…インクジェットヘッド、24…ヘッド本体、26…ノズル形成面、28…テー
ブル、30…タンク、32…吐出物搬送管、32a…吐出物流路部アース継手、32b…
ヘッド部気泡排除弁、34…吐出物、34a…液面、36…液面制御センサ、40…吸引
キャップ、42…吸引バルブ、44…吸引圧検出センサ、46…吸引ポンプ、48…廃液
タンク、50…液晶表示装置、52a…下基板、52b…上基板、56…液晶層、58…
セグメント電極、59…シール層、59a…シール剤の塗膜、60,70…液晶配向膜、
62…カラーフィルター、62r,62g,62b…色素層、64…ブラックマトリクス
、66…オーバーコート膜、68…コモン電極、80a…下定盤、80b…上定盤、82
…紫外線照射装置、90a…真空チャンバー、A…液晶層形成領域
Claims (6)
- 液滴吐出装置により液晶配向膜を形成するための液晶配向膜形成用組成物であって、(
A)γ−ブチロラクトンと、全溶媒に対して10重量%以上の、γ−ブチロラクトン以外
の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ばれる少なくとも一種とを含み、か
つ、液晶配向膜形成用材料に対する貧溶媒を含有しない混合溶媒、並びに(B)液晶配向
膜形成用材料を含有することを特徴とする液晶配向膜形成用組成物。 - 前記、γ−ブチロラクトン以外の非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒から選ば
れる少なくとも一種が、N−メチル−2−ピロリドンであることを特徴とする請求項1に
記載の液晶配向膜形成用組成物。 - 表面張力が30〜45mN/mの溶液である請求項1または2に記載の液晶配向膜形成
用組成物。 - 粘度が3〜20mPa・sの溶液である請求項1〜3のいずれかに記載の液晶配向膜形
成用組成物。 - 請求項1〜5のいずれかに記載の液晶配向膜形成用組成物を、液滴吐出装置を用いて基
板表面に塗布して液晶配向膜を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006034781A JP2007212913A (ja) | 2006-02-13 | 2006-02-13 | 液晶配向膜形成用組成物及び液晶表示装置の製造方法 |
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2006
- 2006-02-13 JP JP2006034781A patent/JP2007212913A/ja not_active Withdrawn
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Effective date: 20100324 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |