JP2007204492A - 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 - Google Patents
2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007204492A JP2007204492A JP2007116473A JP2007116473A JP2007204492A JP 2007204492 A JP2007204492 A JP 2007204492A JP 2007116473 A JP2007116473 A JP 2007116473A JP 2007116473 A JP2007116473 A JP 2007116473A JP 2007204492 A JP2007204492 A JP 2007204492A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- alkyl
- acid
- sulfuric acid
- sulfonic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 0 CC(C)(*=C)C1=*c2cc(S(O)(=O)=O)ccc2*1 Chemical compound CC(C)(*=C)C1=*c2cc(S(O)(=O)=O)ccc2*1 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D235/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
- C07D235/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D235/04—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
- C07D235/18—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with aryl radicals directly attached in position 2
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
- A61P17/16—Emollients or protectives, e.g. against radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Pain & Pain Management (AREA)
- Rheumatology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
【課題】式Iの2−アリルべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの製造方法を提供する。
(この式においてはArは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、mは1、2あるいは3である。)
【解決手段】o−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応する。
Ar(−X)m II
ここで、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
【選択図】なし
(この式においてはArは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、mは1、2あるいは3である。)
【解決手段】o−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応する。
Ar(−X)m II
ここで、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
【選択図】なし
Description
本発明は式Iの2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法に関係し、
この式においてはArは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニル基であり、mは1、2あるいは3であり、
この方法では、o−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応するのである。
この方法では、o−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応するのである。
Ar(−X)m II
ただし、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
ただし、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド(ユーソレックス(Eusolex)232)は化粧品に広い利用範囲を持つ重要な水溶性のUV−B光線フィルターである。UV光線フィルターとしてのその使用は例えばドイツ帝国特許676 103番に記載されている。
例えば、V.G.サヤピン等著、KhGC[へテロ環化合物の化学]6,1970,630−632による2段階反応による合成ではまず2−フェニルベンズイミダゾールが1,2−フェニレンジアミンおよびベンズアルデヒドの亜硫酸水素塩付加物あるいはフェニレンジアミンおよび安息香酸からポリ燐酸の存在下で合成され、その後にクロールスルフォニックアシッドと反応して進行する。2−置換ベンズイミダゾールの合成の調査が例えばケミカルレビュー(Chemical Review)74巻3号1974年279頁以下に見いだすことができる。
この方法はしかしながら大きな欠点を持っている。
a)この反応は2段階方法であり、したがってもっと複雑であり、かつ、経費がかかる。
b)クロロスルフォニックアシッドの工業的な処理は問題を持っており、その理由は2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドが発生し、これの分離が極めて困難だからである。
c)フェニールベンズイミダゾールを合成するための第一の方法では、亜硫酸水素ナトリウムが大過剰に使用され、その結果二酸化硫黄が加工処理中に大量に放出される。1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾールが副生成物として生成され、これの分離は極めて困難である。安息香酸からフェニルベンズイミダゾールを合成するための第二の方法では、燐酸が廃水に入り、このことは水路および湖の冨栄養化のために好ましくない。
a)この反応は2段階方法であり、したがってもっと複雑であり、かつ、経費がかかる。
b)クロロスルフォニックアシッドの工業的な処理は問題を持っており、その理由は2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドが発生し、これの分離が極めて困難だからである。
c)フェニールベンズイミダゾールを合成するための第一の方法では、亜硫酸水素ナトリウムが大過剰に使用され、その結果二酸化硫黄が加工処理中に大量に放出される。1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾールが副生成物として生成され、これの分離は極めて困難である。安息香酸からフェニルベンズイミダゾールを合成するための第二の方法では、燐酸が廃水に入り、このことは水路および湖の冨栄養化のために好ましくない。
上記の方法の欠点は好都合なことには回避することができる。高温での硫酸中の1,2−フェニレンジアミンと安息香酸との縮合反応では、中間生成物が直接にスルフォン化され、その結果2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドが中間体を分離することなく直接に形成される。
DE 12 82 855は水溶性のUV光線フィルターとして1,3−ビス−(5−スルフォベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼンの使用を記載している。
その製造は2−フェニルベンズイミダゾールの製造に類似して2段階で進行する。
従って、本発明は式Iの2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドを製造するための改良された方法に関係し、
この式においては
Arは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、
mは1、2あるいは3であり、
この反応ではo−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応するのである。
Arは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、
mは1、2あるいは3であり、
この反応ではo−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応するのである。
Ar(−X)m II
ただし、式IIにおいてはArおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNであり、特にo−フェニレンジアミン1モル当たり1から10モルまで、好ましくは3から8モルまで、特に4から7モルまでの硫酸が使用される。
ただし、式IIにおいてはArおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNであり、特にo−フェニレンジアミン1モル当たり1から10モルまで、好ましくは3から8モルまで、特に4から7モルまでの硫酸が使用される。
本発明は更に安息香酸誘導体が硫酸中に導入され、式IIのo−フェニレンジアミンがその後に添加され、その混合物が150℃から220℃に加熱される方法に関係し、あるいはo−フェニレンジアミンおよび安息香酸誘導体が一緒になって硫酸中に導入される方法に関係している。
さらに好ましい実施態様は硫酸を溶媒に使用し、特に50−100%硫酸を使用する方法および/または溶媒が1から50%の水を含有する方怯である。
本発明の方法の特に好ましい実施態様では、反応物の混合物が80および140℃間の温度で約1から5時間攪拌され、その後に170および250℃間の温度で加熱されて、しかも更に0.5ないし5時間攪拌される。
上記の方法より本方法の優れた点は
a)単純な多段階の方法、pHコントロールの困難がないこと。
b)生成品に1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾール−6−スルフォニックアシッドおよび2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドの汚染がないこと。
c)元素状の硫黄が生成しないこと、その結果廃水が十分に低いCOD値を有すること。
d)中間体生成物が極めて簡単にしかも速やかに遠心分離および洗浄可能なこと。
e)その収率が先行技術による公知の方法と比較して匹敵出来るかあるいはより大きいこと。
f)亜硫酸水素ナトリナムの添加が不要なこと、その結果二酸化硫黄の処理も不要なこと。
a)単純な多段階の方法、pHコントロールの困難がないこと。
b)生成品に1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾール−6−スルフォニックアシッドおよび2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドの汚染がないこと。
c)元素状の硫黄が生成しないこと、その結果廃水が十分に低いCOD値を有すること。
d)中間体生成物が極めて簡単にしかも速やかに遠心分離および洗浄可能なこと。
e)その収率が先行技術による公知の方法と比較して匹敵出来るかあるいはより大きいこと。
f)亜硫酸水素ナトリナムの添加が不要なこと、その結果二酸化硫黄の処理も不要なこと。
本明細書は、以下の発明を開示している。
[1]式Iの2−アリルべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの製造方法、
[1]式Iの2−アリルべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの製造方法、
この式においてはArは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、
mは1、2あるいは3であり、
その特徴とするところはo−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応し、
Ar(−X)m II
ただし、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
[2]o−フェニレンジアミンおよび安息香酸誘導体が一緒に硫酸中に導入されることを特徴とする前記[1]による方法。
[3]硫酸が溶媒として使用されることを特徴とする前記[1]あるいは[2]による方法。
[4]その溶媒が1から50%迄の水を含んでいることを特徴とする前記[1]ないし[3]の1項による方法。
[5]反応物の混合物が80と140℃の間の温度で約1から5時間攪拌され、その後に170と250℃の間に加熱されさらに0.5ないし5時間攪拌されることを特徴とする前記[1]ないし[4]の1項による方法。
[9]mが1である前記[1]乃至[5]の1項による方法。
[10]mは2であり、Arは置換されてない1,3−もしくは1,4−フェニレングループあるいは1個から4個までのC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換された1,3−もしくは1,4−フェニレングループである前記[1]ないし[5]の1項による方法。
[11]mは3であり、Arが
mは1、2あるいは3であり、
その特徴とするところはo−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応し、
Ar(−X)m II
ただし、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。
[2]o−フェニレンジアミンおよび安息香酸誘導体が一緒に硫酸中に導入されることを特徴とする前記[1]による方法。
[3]硫酸が溶媒として使用されることを特徴とする前記[1]あるいは[2]による方法。
[4]その溶媒が1から50%迄の水を含んでいることを特徴とする前記[1]ないし[3]の1項による方法。
[5]反応物の混合物が80と140℃の間の温度で約1から5時間攪拌され、その後に170と250℃の間に加熱されさらに0.5ないし5時間攪拌されることを特徴とする前記[1]ないし[4]の1項による方法。
[9]mが1である前記[1]乃至[5]の1項による方法。
[10]mは2であり、Arは置換されてない1,3−もしくは1,4−フェニレングループあるいは1個から4個までのC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換された1,3−もしくは1,4−フェニレングループである前記[1]ないし[5]の1項による方法。
[11]mは3であり、Arが
である前記[1]ないし[5]の1項による方法。
[12]式Iaのアリールべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド
[12]式Iaのアリールべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド
この式において
RはC1−C6アルキルあるいはアルコキシであり、
nは0、1、2、3あるいは4である。
[13]化粧品が化粧品用の妥当な担体中に前記[12]による式Iaの化合物を少なくとも1種有効量含有していることを特徴とする化粧品。
[14]化粧品が式Iaの化合物を少なくとも1種0.1ないし10重量%、好ましくは0.4ないし1.0重量%、特に約0.5重量%含有していることを特徴とする化粧品。
[15]化粧品が追加としてUV−Bフィルターを含有していることを特徴とする前記[13]あるいは[14]による化粧品。
[16]前記[12]による式Iaの化合物の化粧品としての使用。
[17]薬物として使用するための前記[12]による式Iaの化合物。
[18]皮膚の炎症およびアレルギー予防処置に使用するための式Iaの化合物。
[19]ある種の癌の予防処置に使用するための式Iaの化合物。
[20]医薬品が生理学的に耐容できる担体或は賦形剤中に前記[12]による式Iaの少なくとも1種の化合物を有効量含有していることを特徴とする医薬品。
[21]医薬品が局所的に投与されることを特徴とする前記[20]による医薬品。
[22]薬物として前記[12]による式Iaの化合物の使用。
RはC1−C6アルキルあるいはアルコキシであり、
nは0、1、2、3あるいは4である。
[13]化粧品が化粧品用の妥当な担体中に前記[12]による式Iaの化合物を少なくとも1種有効量含有していることを特徴とする化粧品。
[14]化粧品が式Iaの化合物を少なくとも1種0.1ないし10重量%、好ましくは0.4ないし1.0重量%、特に約0.5重量%含有していることを特徴とする化粧品。
[15]化粧品が追加としてUV−Bフィルターを含有していることを特徴とする前記[13]あるいは[14]による化粧品。
[16]前記[12]による式Iaの化合物の化粧品としての使用。
[17]薬物として使用するための前記[12]による式Iaの化合物。
[18]皮膚の炎症およびアレルギー予防処置に使用するための式Iaの化合物。
[19]ある種の癌の予防処置に使用するための式Iaの化合物。
[20]医薬品が生理学的に耐容できる担体或は賦形剤中に前記[12]による式Iaの少なくとも1種の化合物を有効量含有していることを特徴とする医薬品。
[21]医薬品が局所的に投与されることを特徴とする前記[20]による医薬品。
[22]薬物として前記[12]による式Iaの化合物の使用。
本発明の方法を実行すること自体は簡単である。硫酸が、好ましくは50−100%の溶液の形で、特に約96%の濃厚溶液として最初の投入物になる。一般に1から10モル、好ましくは3から8モル、特に4から7モルの硫酸がフェニレンジアミン1モルあたりに使用される。
反応物である安息香酸およびフェニレンジアミンを添加する方法は決定的ではない。一般的には2種の反応物の1種を室温で添加し、このことは一般的には混合物が80および140℃に上昇することの原因になる。第二の反応物がゆっくりこの温度で添加され、その間に反応混合物の温度は更に上昇することもある。
反応混合物はその後に徐々に165および250℃間の温度に加熱され、好ましくは175および200℃間、特に混合物の沸点にまで加熱され、1時間から5時間この温度に維持され、場合によっては攪拌もする。反応混合物はその後に冷却され、好ましくは100と150℃間の温度に冷却され、水が添加される。
短時間の攪拌後に、好ましくは20分から2時間迄の間、50℃から80℃の温度まで、固体成分を分離し、好ましくは温水で洗浄し、さらに乾燥する。
式Iの化合物の一部は公知であり、また一部は新規である。本発明は式Iの新規な化合物にも関係し、特にmが2であって、Arが式:
である式Iaに関係し、ここでRはC1-6−アルキルあるいはアルコキシであり、しかもnが0、1、2、3あるいは4である。驚くべきことに式Iaの化合物は水溶性のUV−Aフィルターとして妥当であることが見いだされ、一方類似の公知の化合物はUV−Bフィルターである。
乾燥した未精製の生成物を精製するためには、この未精製品を好ましくは水中に懸濁し、希薄な塩基で中和する。このようにして得られた溶液の精製後に、好ましくは活性炭で精製後に、好ましくは50および100℃間の温度に加熱し鉱酸で、好ましくは濃厚塩化水素酸で酸性にする。沈殿したスルフォニックアシッドを分離し、好ましくは温水で洗浄し、乾燥する。
式Iでは、Arは置換されてないフェニルあるいは1もしくはそれ以上のC1-6アルキルグループもしくはアルコキシグループで置換されたフェニルであり、好ましくは置換されてないフェニルあるいは1個もしくは2個のC1-3アルキルもしくはアルコキシグループで置換されたフェニル、特に4−、3−、3,4−もしくは3,5−位置で置換されたフェニルであり、特に置換されてないフェニルである。m=2である場合には、Arは好ましくは1,3−もしくは1,4−フェニレンであり、特に1,4−フェニレンである。m=3である場合には、Arは好ましくはベンゼン−1,3,5−トリイルである。式IIではXはCOO−アルキル(この式においてはアルキルは1個から6個までの、好ましくは1個あるいは2個の炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COClあるいはCNであり、好ましくはCOOH、COOCH3、COClあるいはCNであり、特にCOOHあるいはCNである。
上記の方法より本方法の優れた点は
a)単純な多段階の方法、pHコントロールの困難がないこと。
b)生成品に1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾール−6−スルフォニックアシッドおよび2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドの汚染がないこと。
c)元素状の硫黄が生成しないこと、その結果廃水が十分に低いCOD値を有すること。
d)中間体生成物が極めて簡単にしかも速やかに遠心分離および洗浄可能なこと。
e)その収率が先行技術による公知の方法と比較して匹敵出来るかあるいはより大きいこと。
f)亜硫酸水素ナトリナムの添加が不要なこと、その結果二酸化硫黄の処理も不要なこと。
a)単純な多段階の方法、pHコントロールの困難がないこと。
b)生成品に1−ベンジル−2−フェニルベンズイミダゾール−6−スルフォニックアシッドおよび2−フェニルベンズイミダゾールジスルフォニックアシッドの汚染がないこと。
c)元素状の硫黄が生成しないこと、その結果廃水が十分に低いCOD値を有すること。
d)中間体生成物が極めて簡単にしかも速やかに遠心分離および洗浄可能なこと。
e)その収率が先行技術による公知の方法と比較して匹敵出来るかあるいはより大きいこと。
f)亜硫酸水素ナトリナムの添加が不要なこと、その結果二酸化硫黄の処理も不要なこと。
本発明はさらに化粧品に妥当な担体の中に式Iaの少なくとも1種の化合物を有効量含有する化粧品製品に関係する。
式Iaの少なくとも1種の化合物を0.1から10重量%、好ましくは0.4から1.0重量%、特に約0.5重量%含有する化粧品、特にUV−Bフィルターを更に追加して含有する製品に関係している。
本発明はさらに式Iaの化合物を化粧品あるいは薬物として使用することにも関係している。
本発明はさらに皮膚の炎症およびアレルギーの予防処置およびある種の癌の予防に式Iaの化合物を使用することに関係している。
本発明は同様に生理的に耐容可能な担体あるいは賦形剤中で、特に局所投与用に式Iaの少なくとも1種の化合物を有効量含有する医薬品にも関係する。
本発明は式Iaの化合物を薬物として使用することにも関係している。
これ以上の説明が無くても当業者は上記の記載を最も広い範囲で使用することが出来ると考えられる。好ましい実施態様は従って説明するだけであって、決して制限をする開示であると考えてはならない。
以上および以下に引用した全ての出願、特許、公告および1992年2月4日に出願し、1992年7月3日にドイツ特許DE−42 03 072Cとして特許付与された対応する出願P 42 03 072の完全な開示を引用文献としてこの出願に引用する。
以下の実施例は発明を説明するためである。
実施例1:
1lの三つ口フラスコにまず96%硫酸275g(2.70モル)を導入し、その後に1,2−フェニレンジアミン54.1g(0.50モル)を注意深く導入する。安息香酸85.5g(0.70モル)をこの懸濁液に添加し、懸濁液はこの時約120℃の温度を有している。この混合物を攪拌しながら(約130℃から透明な溶液)5時間200℃に加熱する。その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を150℃に冷却し、さらに冷水1l中に注ぎ出す。更にその水を約65℃に加熱する。混合物を65℃でさらに1時間攪拌し、沈殿物を吸引濃過し、80℃の水で硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(83g)は水830ml中に懸濁し、pHを32%の水酸化ナドリウム溶液で8に調節した。活性炭6.5gの添加後に、混合物を室温で更に30分間攪拌し、その後に濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚塩化水素酸で3に調節した。沈殿したユーソレックス232は加熱吸引濾過し、90℃の水2lで洗浄し、75℃および20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニレンベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド67.0g(245ミリモル、理論値の49%)が得られた。410℃で分解した。
1lの三つ口フラスコにまず96%硫酸275g(2.70モル)を導入し、その後に1,2−フェニレンジアミン54.1g(0.50モル)を注意深く導入する。安息香酸85.5g(0.70モル)をこの懸濁液に添加し、懸濁液はこの時約120℃の温度を有している。この混合物を攪拌しながら(約130℃から透明な溶液)5時間200℃に加熱する。その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を150℃に冷却し、さらに冷水1l中に注ぎ出す。更にその水を約65℃に加熱する。混合物を65℃でさらに1時間攪拌し、沈殿物を吸引濃過し、80℃の水で硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(83g)は水830ml中に懸濁し、pHを32%の水酸化ナドリウム溶液で8に調節した。活性炭6.5gの添加後に、混合物を室温で更に30分間攪拌し、その後に濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚塩化水素酸で3に調節した。沈殿したユーソレックス232は加熱吸引濾過し、90℃の水2lで洗浄し、75℃および20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニレンベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド67.0g(245ミリモル、理論値の49%)が得られた。410℃で分解した。
以下の化合物が同様に合成された:
2−(4’−メトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’−メトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(4’−エトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’−エトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,5’−ジメトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,4’−ジメトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,5’−ジエトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,4’−ジエトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド。
2−(4’−メトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’−メトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(4’−エトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’−エトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,5’−ジメトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,4’−ジメトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,5’−ジエトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド、
2−(3’,4’−ジエトキシフェニル)ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド。
実施例2:
方法は実施例1と同様であるが、しかしながら安息香酸のかわりにベンゾニトリル72.2g(0.70モル)を使用した。2−フェニル−ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド72.0g(263ミリモル、理論値の53%)が得られた。
方法は実施例1と同様であるが、しかしながら安息香酸のかわりにベンゾニトリル72.2g(0.70モル)を使用した。2−フェニル−ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド72.0g(263ミリモル、理論値の53%)が得られた。
実施例3:
方法は実施例1と同様であるが、しかしながら安息香酸のかわりにメチルベンゾエート95.3g(0.70モル)を使用した。2−フェニル−ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド64.0g(233ミリモル、理論値の47%)が得られた。
方法は実施例1と同様であるが、しかしながら安息香酸のかわりにメチルベンゾエート95.3g(0.70モル)を使用した。2−フェニル−ベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド64.0g(233ミリモル、理論値の47%)が得られた。
実施例4:
1lの三つ口フラスコにまず96%硫酸275g(2.70モル)を導入し、その後に安息香酸85.5g(0.70モル)を導入し、この懸濁液に1,2−フェニレンジアミン54.1g(0.50モル)を注意深く導入し、その間に混合物は約100℃になっている。この混合物を攪拌しながら(約130℃から透明な溶液)2時間180℃に加熱する。その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を冷水1l中に注ぎ出す。その際にその水は約65℃になっている。混合物を65℃でさらに1時間撹拌し、沈殿物を吸引濾過し、80℃の水で硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(83g)は水830ml中に懸濁し、pHを32%の水酸化ナトリウム溶液で8に調節した。活性炭6.5gの添加後に混合物を室温で更に30分間攪拌し、その後に濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚塩化水素酸で3に調節した。沈殿したユーソレックス232は加熱吸引濾過し、90℃の温水2lで洗浄し、75℃および20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド67.0g(245ミリモル、理論値の49%)が得られた。
1lの三つ口フラスコにまず96%硫酸275g(2.70モル)を導入し、その後に安息香酸85.5g(0.70モル)を導入し、この懸濁液に1,2−フェニレンジアミン54.1g(0.50モル)を注意深く導入し、その間に混合物は約100℃になっている。この混合物を攪拌しながら(約130℃から透明な溶液)2時間180℃に加熱する。その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を冷水1l中に注ぎ出す。その際にその水は約65℃になっている。混合物を65℃でさらに1時間撹拌し、沈殿物を吸引濾過し、80℃の水で硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(83g)は水830ml中に懸濁し、pHを32%の水酸化ナトリウム溶液で8に調節した。活性炭6.5gの添加後に混合物を室温で更に30分間攪拌し、その後に濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚塩化水素酸で3に調節した。沈殿したユーソレックス232は加熱吸引濾過し、90℃の温水2lで洗浄し、75℃および20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド67.0g(245ミリモル、理論値の49%)が得られた。
実施例5:
2lの4口フラスコに蒸留水182mlを導入し、ついで96%硫酸1533ml(15モル)を注意深く添加した。安息香酸367g(3.0モル)をこの時約100℃になっている硫酸溶液に激しく攪拌しながら約10分間以内に添加する。(この間に温度は約80℃に低下する。)引き続き内部の温度を100℃にまで加熱し、安息香酸がほぼ完全に溶解する。1,2−フェニレンジアミン325g(3.0モル)を添加するが、その添加速度は混合物の温度を125℃以上に上昇させないことである。添加終了後に混合物を
リフラックス温度(約178℃)に加熱し、この温度でさらに6時間攪拌し、その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を100℃の水6lに攪拌しながら注ぎ出し、100℃でさらに30分攪拌し、沈殿物を吸引濾過し80℃の水2lで硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(580g、理論値の70%)を水2.5l中に懸濁し、32%の水酸化ナトリウム溶液でpHを8に調節した。活性炭20gを添加した後に、混合物をさらに60分間室温で攪拌し、その後濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚硫酸溶液によって3に調節した。沈殿した製品は加熱吸引濾過し、90℃の水4lで洗浄し75℃20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド493g(1.8モル、理論値の60%)が得られた。
2lの4口フラスコに蒸留水182mlを導入し、ついで96%硫酸1533ml(15モル)を注意深く添加した。安息香酸367g(3.0モル)をこの時約100℃になっている硫酸溶液に激しく攪拌しながら約10分間以内に添加する。(この間に温度は約80℃に低下する。)引き続き内部の温度を100℃にまで加熱し、安息香酸がほぼ完全に溶解する。1,2−フェニレンジアミン325g(3.0モル)を添加するが、その添加速度は混合物の温度を125℃以上に上昇させないことである。添加終了後に混合物を
リフラックス温度(約178℃)に加熱し、この温度でさらに6時間攪拌し、その間に少量の安息香酸が昇華する。混合物を100℃の水6lに攪拌しながら注ぎ出し、100℃でさらに30分攪拌し、沈殿物を吸引濾過し80℃の水2lで硫酸塩が無くなるまで洗浄した。乾燥した未精製品(580g、理論値の70%)を水2.5l中に懸濁し、32%の水酸化ナトリウム溶液でpHを8に調節した。活性炭20gを添加した後に、混合物をさらに60分間室温で攪拌し、その後濾過によって透明になった。濾液を80℃に加熱し、pHを濃厚硫酸溶液によって3に調節した。沈殿した製品は加熱吸引濾過し、90℃の水4lで洗浄し75℃20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。2−フェニルベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッド493g(1.8モル、理論値の60%)が得られた。
実施例6:
2lの4口フラスコに96%の硫酸1022ml(10モル)を導入する。激しく攪拌しながらこの中にテレフタール酸166.1g(1モル)を約10分以内に導入した。1,2−フェニレンジアミン216.6g(2.0モル)を完全脱イオン水140mlに溶解した80℃の溶液を硫酸中に注ぎ、その時混合物の温度が130℃以上にならないようにする。添加完了後に、混合物を175から180℃に加熱し、この温度で約4時間加熱する。この間に水は減圧下で蒸発する。反応終了時に熱混合物を80℃の水4lの中に注ぐ。混合物を再び80℃に冷却し、沈殿物を吸引濾過し80℃の水2lで洗浄した。未精製品を水2.5l中に懸濁し、32%の水酸化ナトリウム溶液でpHを8に調節した。活性炭20gを添加した後に混合物をさらに60分間室温で攪拌し、その後濾過によって透明になった。濾液をpHを濃厚硫酸溶液によって6.0に調節し、その後に80℃に加熱した。濃厚硫酸溶液によってpHをその後に2.0に調節した(温度は約100℃に上昇した)。混合物を再び80℃に冷却させて、沈殿を吸引濾過し、80℃の水1lで洗浄した。最終製品を75℃、約20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。1,4−ビス−(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン306g(65%)がこのようにして得られた。新規化合物のスペクトルは予想通りであったλmax=349nm)。
2lの4口フラスコに96%の硫酸1022ml(10モル)を導入する。激しく攪拌しながらこの中にテレフタール酸166.1g(1モル)を約10分以内に導入した。1,2−フェニレンジアミン216.6g(2.0モル)を完全脱イオン水140mlに溶解した80℃の溶液を硫酸中に注ぎ、その時混合物の温度が130℃以上にならないようにする。添加完了後に、混合物を175から180℃に加熱し、この温度で約4時間加熱する。この間に水は減圧下で蒸発する。反応終了時に熱混合物を80℃の水4lの中に注ぐ。混合物を再び80℃に冷却し、沈殿物を吸引濾過し80℃の水2lで洗浄した。未精製品を水2.5l中に懸濁し、32%の水酸化ナトリウム溶液でpHを8に調節した。活性炭20gを添加した後に混合物をさらに60分間室温で攪拌し、その後濾過によって透明になった。濾液をpHを濃厚硫酸溶液によって6.0に調節し、その後に80℃に加熱した。濃厚硫酸溶液によってpHをその後に2.0に調節した(温度は約100℃に上昇した)。混合物を再び80℃に冷却させて、沈殿を吸引濾過し、80℃の水1lで洗浄した。最終製品を75℃、約20ミリバールの真空乾燥ボックス中で一定重量になるまで乾燥した。1,4−ビス−(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン306g(65%)がこのようにして得られた。新規化合物のスペクトルは予想通りであったλmax=349nm)。
以下の化合物が同様にして合成された:
イソフタル酸から:
1,3−ビス−1(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン(λmax=307nm)。
1,3,5−ベンゼントリカルボキシリックアシッドから:
1,3,5−トリス(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン。
イソフタル酸から:
1,3−ビス−1(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン(λmax=307nm)。
1,3,5−ベンゼントリカルボキシリックアシッドから:
1,3,5−トリス(5−スルフォベンズイミダゾール−2’−イル)ベンゼン。
Claims (8)
- 式Iの2−アリルべンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの製造方法において、
o−フェニレンジアミンが硫酸の存在下で室温および250℃間の温度で式IIの安息香酸誘導体と反応することを特徴とする製造方法。
Ar(−X)m II
ここで、式IIにおいては、Arおよびmは上記の通りであり、XはCOO−アルキル(さらにそのアルキルは1から6個までの炭素原子を有するn−アルキルである)、COOH、COCl、COBrあるいはCNである。 - o−フェニレンジアミンおよび安息香酸誘導体が一緒に硫酸中に導入される請求項1に記載の製造方法。
- 硫酸が溶媒として使用される請求項1または2に記載の製造方法。
- その溶媒が1から50%迄の水を含んでいる請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 反応物の混合物が80と140℃の間の温度で1から5時間攪拌され、その後に170と250℃の間に加熱されさらに0.5ないし5時間攪拌される請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- mが1である請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- mは2であり、Arは置換されてない1,3−もしくは1,4−フェニレングループ、あるいは1個から4個までのC1−C6アルキルもしくはアルコキシグループで置換された1,3−もしくは1,4−フェニレングループである請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4203072A DE4203072C1 (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51293293A Division JP4004061B2 (ja) | 1992-02-04 | 1993-01-27 | 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007204492A true JP2007204492A (ja) | 2007-08-16 |
Family
ID=6450890
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51293293A Expired - Fee Related JP4004061B2 (ja) | 1992-02-04 | 1993-01-27 | 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 |
JP2007116473A Withdrawn JP2007204492A (ja) | 1992-02-04 | 2007-04-26 | 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51293293A Expired - Fee Related JP4004061B2 (ja) | 1992-02-04 | 1993-01-27 | 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5473079A (ja) |
EP (1) | EP0579827B1 (ja) |
JP (2) | JP4004061B2 (ja) |
BR (1) | BR9303969A (ja) |
DE (2) | DE4203072C1 (ja) |
ES (1) | ES2157925T3 (ja) |
WO (1) | WO1993015061A2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE59509233D1 (de) † | 1994-02-24 | 2001-06-13 | Haarmann & Reimer Gmbh | Kosmetische und dermatologische zubereitungen, enthaltend phenylen-1,4-bisbenzimidiazolesulfonsäuren |
DE19539623A1 (de) * | 1995-10-16 | 1997-04-17 | Haarmann & Reimer Gmbh | Sulfonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als UV-Absorber |
DE10030663A1 (de) | 2000-06-23 | 2002-01-10 | Merck Patent Gmbh | UV-B-Filter |
DE10030664A1 (de) * | 2000-06-23 | 2002-01-10 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von UV-Filter-Substanzen |
DE10059254C2 (de) * | 2000-11-29 | 2003-10-02 | Haarmann & Reimer Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Phenylen-bis-benzimidazol-tetrasulfonsäure-di-natriumsalz |
DE10243027A1 (de) * | 2002-09-17 | 2004-03-25 | Bayer Ag | 2-Phenyl-benzimidazol-5-sulfonsäure aus isolierter 3,4-Diaminobenzol-sulfonsäure sowie deren Verwendung in kosmetischen Zubereitungen |
DE10243028A1 (de) * | 2002-09-17 | 2004-03-25 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung isolierter 3,4-Diaminobenzolsulfonsäure |
CN110540523B (zh) * | 2018-07-05 | 2021-02-19 | 安徽圣诺贝化学科技有限公司 | 一种制备磺基取代苯并咪唑及其衍生物的方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA470661A (en) * | 1951-01-09 | Philip Ham Garnet | Guanidine thiosulfate reaction products | |
US2463264A (en) * | 1942-12-23 | 1949-03-01 | Ciba Ltd | Derivatives of cyclic amidines and process of making same |
US3324050A (en) * | 1963-02-13 | 1967-06-06 | Union Oil Co | Method of curing a polyepoxide with bisheterocyclic aromatic compounds and resultingproducts |
FR1450505A (fr) * | 1965-04-24 | 1966-06-24 | Chimetron Sarl | Nouvelles cétones dérivées des benzimidazoles sulfonés et sulfamidés |
DE1282855B (de) * | 1966-08-27 | 1968-11-14 | Merck Ag E | Kosmetisches Lichtschutzmittel |
US3586673A (en) * | 1968-02-05 | 1971-06-22 | Eastman Kodak Co | Preparation of symmetrically and unsymmetrically substituted stilbenebisbenzoxazoles |
US3655632A (en) * | 1970-09-15 | 1972-04-11 | Kuraray Co | Process for the production of aromatic polybenzimidazoles |
DE2750947A1 (de) * | 1977-11-15 | 1979-05-17 | Hoechst Ag | Neue fluorhaltige benz-azol-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als optische aufheller |
DE2939916A1 (de) * | 1979-10-02 | 1981-04-23 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Quaternierte, verbrueckte benzimidazolyl-benzimidazole, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
DE3305578A1 (de) * | 1983-02-18 | 1984-08-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von 4,4'-bis-benz-ox(-thi,-imid) -azol-2-yl-stilbenen |
-
1992
- 1992-02-04 DE DE4203072A patent/DE4203072C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-01-27 EP EP93914529A patent/EP0579827B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-27 ES ES93914529T patent/ES2157925T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-27 JP JP51293293A patent/JP4004061B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-27 WO PCT/EP1993/000179 patent/WO1993015061A2/de active IP Right Grant
- 1993-01-27 US US08/122,566 patent/US5473079A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-27 DE DE59310162T patent/DE59310162D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-27 BR BR9303969A patent/BR9303969A/pt not_active Application Discontinuation
-
2007
- 2007-04-26 JP JP2007116473A patent/JP2007204492A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR9303969A (pt) | 1994-08-02 |
EP0579827B1 (de) | 2001-04-18 |
EP0579827A1 (de) | 1994-01-26 |
DE4203072C1 (ja) | 1992-11-12 |
JP4004061B2 (ja) | 2007-11-07 |
JPH06506703A (ja) | 1994-07-28 |
DE59310162D1 (de) | 2001-05-23 |
WO1993015061A3 (de) | 1993-10-14 |
US5473079A (en) | 1995-12-05 |
ES2157925T3 (es) | 2001-09-01 |
WO1993015061A2 (de) | 1993-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007204492A (ja) | 2−アリールベンズイミダゾール−5−スルフォニックアシッドの改良された製造方法 | |
EP0487408B1 (fr) | Dérivés d'oxazolopyridines leurs procédés de préparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent | |
JPH0931043A (ja) | クレアチン又はクレアチン−1水和物の製造法 | |
JP2001518904A (ja) | 4−ブロモメチルジフェニル化合物の調製方法 | |
JPH10503530A (ja) | ハロ置換芳香族酸の製造方法 | |
HU224688B1 (hu) | Eljárás 3,5-diamino-6-(2,3-diklór-fenil)-1,2,4-triazin (lamotrigin) előállítására | |
JPH0338540A (ja) | 化学的方法 | |
AU721627B2 (en) | Process for preparing 3-amino-1,2,4-benzotriazine dioxide | |
JPH04210660A (ja) | ジベンゾイルメタンの製造法 | |
US3892802A (en) | Processes for making benzamide compounds | |
CN111333664A (zh) | 生物素交联剂、应用及其制备方法 | |
CN112521298B (zh) | 一种利多卡因的合成方法 | |
PL209729B1 (pl) | Sposób wytwarzania chlorowodorku 2-[(2,3,4-trihydroksyfenylo)metylo]hydrazydu D,L-seryny | |
JPH01242560A (ja) | o−アミノフエノール類の製造方法 | |
CN106432095B (zh) | 匹莫苯丹关键中间体6-(3,4-二氨基苯基)-5-甲基-4,5-二氢哒嗪-3(2h)-酮的制备 | |
JPS6054948B2 (ja) | α,β↓−不飽和環状脂肪族ケトキシムから芳香族アミンを製造する方法 | |
CA2238092C (en) | Process for preparing 3-amino-1,2,4-benzotriazine dioxide | |
JP2004503544A (ja) | 置換された5−アミノ−n−フェニル−1,2,4−トリアゾール−3−スルホンアミド類を製造する方法 | |
KR800001550B1 (ko) | 5-(4-히드록시페닐) 히단토인의 제조법 | |
JPH11511439A (ja) | N−カルボキシメチレン−4−クロロ−アントラニル酸並びにそのジアルキルエステルの製造方法 | |
AU5358098A (en) | Process for the preparation of 2-imino-5-phenyl-4-oxazolidinone and its intermediates | |
JP3398340B2 (ja) | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 | |
HUT56832A (en) | Process for producing 2-hydroxyquinoxaline derivatives | |
JPS6317869A (ja) | 2−低級アルキル−4−アミノ−5−ホルミルピリミジンの製造法 | |
KR20200091980A (ko) | 폴마콕시브의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20071026 |