JP2007186758A - 赤外超短パルスレーザーによる膜形成法 - Google Patents
赤外超短パルスレーザーによる膜形成法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】レーザーアブレーションによる薄膜形成法において、超短パルスレーザー光源としてのフェムト秒レーザー装置30と、そのレーザー光を受けて赤外域で波長可変な超短パルスレーザー光を発生する光学的波長可変手段としてのオプティカルパラメトリック増幅器31を用い、所定の赤外域の超短パルスレーザー光をターゲット材料10に照射し、ターゲット材料10に対向した基板11上にターゲット材料10と実質的に同一組成の薄膜を形成する。
【選択図】図1
Description
electron laser;FEL)を用いた、ターゲット構成分子の振動励起を誘起したPLD法に注目が集まっている。この手法により、高分子材料やバイオ材料を高品質に薄膜化できる可能性が見出されている。しかしこの手法では、極めて大きな(例えば数10〜100m長)FEL装置を使用すること、設置場所がごく限られており使用に制限があることなどが実用化への大きな障害と考えられている。
2 入射窓
3 レンズ
10 ターゲット材料
11 基板
20 真空ポンプ
30 fsレーザー装置
31 OPA
40 ダイクロイックミラー
50 レーザー光源
Claims (4)
- レーザーアブレーションによる膜形成法において、超短パルスレーザー光源と、前記光源からのレーザー光を受けて赤外域で波長可変な超短パルスレーザー光を発生する光学的波長可変手段とを用い、所定の赤外域の超短パルスレーザー光をターゲット材料に照射し、前記ターゲット材料に対向した基体上に前記ターゲット材料と実質的に同一組成の膜を形成することを特徴とする赤外超短パルスレーザーによる膜形成法。
- 前記ターゲット材料の赤外域の光吸収帯に対応した超短パルスレーザー光を照射する請求項1記載の赤外超短パルスレーザーによる膜形成法。
- 前記ターゲット材料に対し、可視光、紫外光あるいはそれより短波長の光の照射を併用する請求項1記載の赤外超短パルスレーザーによる膜形成法。
- 前記光学的波長可変手段がオプティカルパラメトリック増幅器である請求項1,2又は3記載の赤外超短パルスレーザーによる膜形成法。
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---|---|---|---|---|
JP2010222403A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Technical Research & Development Institute Ministry Of Defence | レーザーアブレーションを利用した発光膜形成方法及び発光素子 |
CN103668085A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-03-26 | 武汉理工大学 | 脉冲激光沉积装置 |
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- 2006-01-13 JP JP2006006143A patent/JP4418929B2/ja active Active
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