JP2007165425A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】大電流を扱い、フレームのダイパッド裏面に配置された樹脂シートを有する半導体装置において、高い絶縁性を確保しながら、パワーチップで発生した熱を効率よく外部に放熱することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】パワーチップ5と、ICチップ7と、パワーチップ5を表面に搭載するダイパッド1a及びICチップ7の搭載部を備えた曲げフレーム1と、ダイパッド1aの裏面に一方の面が密着するように設けられた樹脂シート3と、パワーチップ5、ICチップ7、ダイパッド1a及び樹脂シート3を樹脂シート3の他方の面が露出するようにモールドしたモールド樹脂2とを備え、モールド樹脂2の樹脂シート3の露出面と反対側の面に、モールド樹脂2の樹脂注入口と垂直で、かつ、上記絶縁シートと平行な方向に延在する溝10を有するものとする。
【選択図】図7

Description

この発明は、ダイパッドを有するフレームと、ダイパッドを有するフレームに搭載されたICチップと、ダイパッドを有するフレームに搭載されたパワーチップと、ダイパッド裏面に配置された絶縁性を確保するための樹脂シートと、全体を封止するモールド樹脂とを有する半導体装置に関するものである。
半導体装置は、パワーチップ及びICチップをフレーム上にダイボンドして、パワーチップ及びICチップとフレームとをワイヤボンドした後、全体を樹脂モールドする工程等を経ることによって形成される。
ワイヤボンドは、以下のとおり行う。
パワーチップとフレームとはアルミワイヤを用いたワイヤボンディングで接続する。同様に、ICチップとフレームとは、金線ワイヤを用いたワイヤボンディングで接続する。半導体装置は大電流を扱うためパワーチップから熱が発生するため、高放熱性を必要とし同時に高絶縁性を満足しなければならない。
例えば、特許文献1に記載されているように、高絶縁性を確保するために、絶縁層の厚さを一定厚さ以上とし、かつ、その絶縁層を形成する樹脂の熱伝導性が、モールド樹脂の熱伝導率より高い樹脂からなる第1面と第2面を有する樹脂シートを、ダイパッド裏面に配置し、全体をモールド樹脂で封止している。
ダイパッドと、ダイパッド裏面に配置された樹脂シートの密着性が確保されない場合、高放熱性と高絶縁性は実現しない。そこで、従来技術では、トランスファーモールド成形の樹脂モールドの工程で、樹脂封止用金型に配置された固定ピンによる加圧により、ダイパッドを樹脂シートに向かって押さえるプロセスによって、ダイパッドと樹脂シートの密着性の確保を実現している。
特開2005−123495号公報(第5頁−第7頁、図3−図6)
大電流を扱う半導体装置においては、従来のような固定ピンを用いて、ダイパッドを樹脂シートに向かって押さえるプロセスでは、固定ピンを加圧する装置が大型化するという問題がある。
また、ダイパッドの厚さが厚くなり剛性が大きくなるため、固定ピンによってダイパッドを絶縁シート密着させるようにするためには固定ピンを加圧する大型の装置が必要になるという問題があった。
この発明は上記のような問題を解決するものであり、大電流を扱い、フレームのダイパッド裏面に配置された樹脂シートを有する半導体装置において、高い絶縁性を確保しながら、パワーチップで発生した熱を効率よく外部に放熱することができる半導体装置を提供することを目的としている。
本発明に係る半導体装置は、半導体チップと、上記半導体チップを表面に搭載するダイパッドと、上記ダイパッドの裏面に一方の面が密着するように設けられた絶縁性の樹脂シートと、上記半導体チップ、上記ダイパッド及び上記樹脂シートを上記樹脂シートの他方の面が露出するように樹脂を樹脂注入口から注入してモールドしたモールド樹脂とを備え、
上記モールド樹脂の上記樹脂シートの露出面と反対側の面に、上記樹脂注入口と垂直で、かつ、上記絶縁シートと平行な方向に延在する溝を有するものである。
本発明に係る半導体装置によれば、樹脂を注入する時に、樹脂が、ダイパッド全体を加圧するので、ダイパッドと樹脂シートの高密着性及び高絶縁性を確保することができ、また、半導体製造装置の低コスト化が可能となる。
実施の形態1.
図1及び図7は、本発明に係る半導体装置の実施の形態1を示す斜視図であり、図2は、図1のI−I断面図、図3は、図1の下面図、図4、図5及び図6は、本実施の形態1の半導体装置の製造工程を示す断面図である。
図1に示したように、半導体装置100は、樹脂モールド型パッケージ構造からなり、複数の金属製の曲げフレーム1が両側に設けられたモールド樹脂2を含む。モールド樹脂2は、好適にはエポキシ樹脂からなる。
図2に示したように、半導体装置100は、曲げフレーム1を含む。曲げフレーム1には、ロジックチップのようなICチップ7が載置されている。また、曲げフレーム1は、ダイパッド部1aと段差部1bとを含み、ダイパッド部1aの上に、IGBTやFWDiodeのようなパワーチップ5が搭載されている。
パワーチップ5及びICチップ7と曲げフレーム1との間は、例えば、金やアルミニウムからなるボンディングワイヤ6、8で接続され、ICチップ7により、パワーチップ5の動作が制御される。パワーチップ5やICチップ7は、半導体装置100の機能に応じて複数個設ける。
モールド樹脂2は、例えば、銅からなる金属箔4が裏面に取り付けられた絶縁性の樹脂シート3を含み、曲げフレーム1の複数の端子1cが並ぶ方向に延在する溝10を備え、図3に示したように、金属箔4がモールド樹脂2の裏面から露出している。溝10の延在する方向は、後述のように、トランスファーモールド成形時におけるモールド樹脂2の樹脂注入口と垂直な方向とする。
樹脂シート3には、好適にはフィラーを含むエポキシ樹脂を用いる。フィラーは、SiO、Al、AlN、Si、及びBNから選択される一つ又は複数からなるものとする。樹脂シート3の熱伝導率は、モールド樹脂2の熱伝導率より大きくなっている。なお、図7に示したように、金属箔4を用いず、樹脂シート3のみを用いても構わない。
曲げフレーム1は、ダイパッド1aの裏面が樹脂シート3の上面に直接接するように、モールド樹脂2で埋められて固定されている。このように、半導体装置100では、ダイパッド1aの裏面と樹脂シート3の上面との間に、モールド樹脂2等が挟まることなく、ダイパッド1aと樹脂シート3とが直接接しているため、ダイパッド1aから樹脂シート3への熱伝導性が良くなる。このため、ダイパッド1aの上面に取り付けられたパワーチップ5の放熱特性を向上させることができる。
次に、図4及び図5を参照しながら、以下に半導体装置100の製造方法について説明する。
工程1:図4(a)に示したように、例えば、銅からなる曲げフレーム1を準備する。続いて、曲げフレーム1上の一方にICチップ7を、曲げフレーム1のダイパッド1aの上にパワーチップ5を、それぞれ、はんだや銀ペースト等を用いて固定する。
工程2:図4(b)に示したように、アルミニウムのボンディングワイヤ6を用いて、パワーチップ5同士、パワーチップ5と曲げフレーム1、曲げフレーム1同士を接続する(アルミワイヤボンド工程)。なお、ボンディングワイヤ6には、アルミニウムを主成分とする合金や他の金属を用いても構わない。
工程3:図4(c)に示したように、金のボンディングワイヤ7を用いて、ICチップ7とフレーム1を接続する(金ワイヤボンド工程)。なお、ボンディングワイヤ7には、金を主成分とする合金や他の金属を用いても構わない。
図4の説明では、ICチップ7とパワーチップ5とは、フレーム1を介して接続したが、ICチップ7とパワーチップ5とを直接接続してもよい。更に、ボンディングワイヤ6、8に代えて金属板を用いて接続しても良い。
工程4:図4(d)に示したように、樹脂封止用金型20を準備する。樹脂封止用金型20は、上部金型21と下部金型22に分かれるようになっている。上部金型21には、溝10(図1及び図2参照)を成形するために用いる凸部23が樹脂注入口12(図5(f)参照)と垂直な方向(紙面と垂直な方向)に延在するように設けられている。
続いて、裏面に金属箔4を取り付けた絶縁性の樹脂シート3を準備し、樹脂封止用金型20の内部の所定の位置に配置する。この場合、樹脂シート3に含まれる金属箔4の裏面が下部金型22の内部底面に接するように、樹脂シート3が配置される。
工程5:図5(e)に示したように、パワーチップ5等を実装した曲げフレーム1を、樹脂封止用金型20中の所定の位置に配置する。この場合、曲げフレーム1のダイパッド1aの裏面が樹脂シート3の上面に接するように、曲げフレーム1を配置する。
なお、工程5では、下部金型22上にまず樹脂シート3を配置し、続いて樹脂シート3上にパワーチップ5等を実装した曲げフレーム1を配置する場合について説明したが、予め、樹脂シート3の上にパワーチップ5等を実装した曲げフレーム1を仮固着し、その後、樹脂シート3を下部金型22上に配置してもよい。
工程6:図5(f)に示したように、下部金型22に上部金型21を取り付けて固定する。この場合、溝10を成形する凸部23はワイヤやパワーチップ5ICチップ7を踏みつけないように配置される。
続いて、トランスファモールド成形法により、例えば、エポキシ樹脂からなるモールド樹脂2を、樹脂封止用金型20に設けられた樹脂注入口12から、樹脂封止用金型20内に充填する。
図6(a)に示したように、樹脂注入口12から注入されたモールド樹脂2は、図中矢印の向きに流れるため、金型内を樹脂注入口12に近い側から順次充填していく。
さらに、樹脂封止用金型20内への樹脂充填が進むと、図6(b)に示したように、モールド樹脂は金型内の樹脂注入口12と垂直な方向に延在する凸部23によって、その流れの向きが変わる。図中矢印で示すとおり、図中下向きの流れ、すなわち、ダイパッド1aを樹脂シート3に押し付けようとする向きの流れとなる。この結果、ダイパッド1aは樹脂シート3に選択的に加圧されるため、ダイパッド1aと樹脂シート3との良好な密着を確実に確保することができる。
一方、上部金型21に凸部23が無い場合、モールド樹脂の流れは、注入口から平行に流れるので、ダイパッド1aを樹脂シート3に選択的に、確実に押し付けるようなモールド樹脂の流れは得られず、その結果、ダイパッド1aと樹脂シート3との密着が不十分になる可能性がある。
それに対して、本実施の形態1によれば、前述の通り、ダイパッド1aを樹脂シート3に選択的に、確実に押し付けることができるので、仮に、金型内に樹脂シート3、曲げフレーム1を設置した時にダイパッド1aと樹脂シート3の間に、寸法公差の関係等により多少の隙間があった場合でも、確実にダイパッド1aと樹脂シート3との間は密着されるという効果がある。
工程7:図5(g)に示したように、全体を樹脂封止用金型20から取り出した後、モールド樹脂2を完全硬化させるためのポストキュア、タイバーなどのフレーム余分部の切断等を行なう。更に、曲げフレーム(外部端子)1の成形を行なうことにより、図1に示すような半導体装置100が完成する。
パワーチップ、ICチップは、単数でも複数でもよく、アルミワイヤや金線ワイヤは、材料を特定するものではなく、例えば、アルミニウムや金を主成分とする合金や、銅等のアルミニウムや金以外の金属からなるワイヤでも良い。
実施の形態2.
図8は、本発明に係る半導体装置の実施の形態2を示す平面図である。本実施の形態2の半導体装置においては、溝10の位置が、モールド樹脂2の上方において樹脂シート3の面投影領域と重なり溝10が配置されたモールド樹脂2面の中央よりも、樹脂注入口12に近い位置に配置されている。
本実施の形態2によれば、トランスファーモールド成形時において、モールド樹脂2がダイパッドを樹脂シート3に押し付ける加圧力が有効に働くので、より確実にダイパッドと樹脂シート3との間は密着されるという効果がある。
実施の形態3.
図9は、本発明に係る半導体装置の実施の形態3を示す断面図である。本実施の形態3における半導体装置では、溝10が、モールド樹脂2の開口部の幅が溝10の底部の幅より大きなテーパー形状であり、その角度は、曲げフレーム1と垂直な方向に対して15°〜45°傾いた角度であることが望ましい。
本実施の形態3によれば、トランスファーモールド成形時において、モールド樹脂2がダイパッドを樹脂シート3に押し付ける加圧力が広い範囲にわたって有効に働くので、より確実にダイパッドと樹脂シート3との間は密着されるという効果がある。
実施の形態4.
図10は、本発明に係る半導体装置の実施の形態4を示す断面図である。本実施の形態4における半導体装置では、溝10の底部がR形状になっている。
本実施の形態4によれば、トランスファーモールド成形時に使用する金型の溝形成のための凸部がモールド樹脂2の流動によって摩耗するのを低減し、金型部品の寿命が長くなり、製造装置を安価にすることができる。
実施の形態5.
図11は、本発明に係る半導体装置の実施の形態5を示す断面図である。本実施の形態5における半導体装置では、溝10の底部に、溝10の幅より小さい直径の固定ピンを挿入した固定ピン穴跡11を一箇所もしくは複数有する。
本実施の形態5によれば、トランスファーモールド成形時に固定ピンを用いることにより、より確実にダイパッドと樹脂シート3との間は密着されるという効果がある。
本発明に係る半導体装置の実施の形態1を示す斜視図である。 図1のI−I断面図である。 図1の下面図である。 本実施の形態1の半導体装置の製造工程を示す断面図である。 本実施の形態1の半導体装置の製造工程を示す断面図である。 本実施の形態1の半導体装置の製造工程を示す断面図である。 本発明に係る半導体装置の実施の形態1を示す断面図である。 本発明に係る半導体装置の実施の形態2を示す平面図である。 本発明に係る半導体装置の実施の形態3を示す断面図である。 本発明に係る半導体装置の実施の形態4を示す断面図である。 本発明に係る半導体装置の実施の形態5を示す断面図である。
符号の説明
1 曲げフレーム、1a ダイパッド、1b 段差部、1c 端子、
2 モールド樹脂、3 樹脂シート、4 金属箔、5 パワーチップ、
6 アルミワイヤ、7 ICチップ、8 金線ワイヤ、10 溝、11 固定ピン穴跡、12 樹脂注入口、20 金型、21 上金型、22 下金型、23 凸部、
24 固定ピン、100 半導体装置。

Claims (5)

  1. 半導体チップと、上記半導体チップを表面に搭載するダイパッドと、上記ダイパッドの裏面に一方の面が密着するように設けられた絶縁性の樹脂シートと、上記半導体チップ、上記ダイパッド及び上記樹脂シートを上記樹脂シートの他方の面が露出するように樹脂を樹脂注入口から注入してモールドしたモールド樹脂とを備え、
    上記モールド樹脂の上記樹脂シートの露出面と反対側の面に、上記樹脂注入口と垂直で、かつ、上記絶縁シートと平行な方向に延在する溝を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 上記溝の配置箇所は、上記樹脂シートの面投影領域と重なり上記溝が配置された上記モールド樹脂面の中央よりも、上記樹脂注入口に近い位置であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 上記溝は、上記溝の開口幅が上記溝の底部の幅より大きなテーパ形状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  4. 上記溝の底部がR形状であることを請求項1記載の特徴とする半導体装置。
  5. 上記溝の底部に、上記溝の幅より小さな径の固定ピンを挿入した跡である固定ピン穴跡を有することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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KR1020060119782A KR100850147B1 (ko) 2005-12-12 2006-11-30 반도체 장치 및 반도체 장치의 수지 밀봉용 금형
CN2010102844393A CN101980357B (zh) 2005-12-12 2006-12-07 半导体器件的制造方法以及半导体器件的树脂密封用模具
CNA2006101640903A CN1983574A (zh) 2005-12-12 2006-12-07 半导体器件以及半导体器件的树脂密封用模具

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011129584A (ja) * 2009-12-15 2011-06-30 Renesas Electronics Corp 半導体装置及び通信方法
KR20150072939A (ko) * 2013-12-20 2015-06-30 삼성전기주식회사 전력 반도체 패키지 및 그 제조 방법
CN104795337A (zh) * 2014-01-17 2015-07-22 三菱电机株式会社 电力用半导体装置及其制造方法
US9947613B2 (en) 2014-11-07 2018-04-17 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2020053611A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 三菱電機株式会社 半導体モジュール、および、半導体モジュールの製造方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7880317B2 (en) * 2005-11-22 2011-02-01 Sony Corporation Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
US7808088B2 (en) * 2006-06-07 2010-10-05 Texas Instruments Incorporated Semiconductor device with improved high current performance
DE112006004098B4 (de) * 2006-11-06 2013-01-31 Infineon Technologies Ag Halbleiter-Baugruppe mit einer Lead-Frame-Anordnung mit mindestens zwei Halbleiterchips und Verfahren zu deren Herstellung
KR101391924B1 (ko) * 2007-01-05 2014-05-07 페어차일드코리아반도체 주식회사 반도체 패키지
US7875962B2 (en) * 2007-10-15 2011-01-25 Power Integrations, Inc. Package for a power semiconductor device
JP5272768B2 (ja) * 2009-02-05 2013-08-28 三菱電機株式会社 電力用半導体装置とその製造方法
JP5672242B2 (ja) * 2009-12-24 2015-02-18 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法
US8178961B2 (en) * 2010-04-27 2012-05-15 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package structure and package process
JP5876669B2 (ja) * 2010-08-09 2016-03-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP2012119488A (ja) * 2010-11-30 2012-06-21 Sanken Electric Co Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP5796956B2 (ja) * 2010-12-24 2015-10-21 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 回路装置およびその製造方法
CN102683299B (zh) * 2011-01-07 2015-01-07 新电元工业株式会社 树脂密封型半导体装置及树脂密封用模具
JP2013093504A (ja) * 2011-10-27 2013-05-16 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法および冶具
US8598694B2 (en) * 2011-11-22 2013-12-03 Infineon Technologies Ag Chip-package having a cavity and a manufacturing method thereof
JP2013239659A (ja) * 2012-05-17 2013-11-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体デバイス
ITTO20120854A1 (it) * 2012-09-28 2014-03-29 Stmicroelectronics Malta Ltd Contenitore a montaggio superficiale perfezionato per un dispositivo integrato a semiconduttori, relativo assemblaggio e procedimento di fabbricazione
JP2015065339A (ja) * 2013-09-25 2015-04-09 三菱電機株式会社 半導体装置
US10170409B2 (en) * 2013-12-23 2019-01-01 Intel Corporation Package on package architecture and method for making
US9716072B2 (en) * 2014-05-12 2017-07-25 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device and method of manufacturing the same
KR20160138299A (ko) * 2014-05-14 2016-12-02 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 장치의 제조 방법
US9269647B2 (en) * 2014-05-29 2016-02-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor package having heat dissipating member
US10262912B2 (en) * 2015-04-15 2019-04-16 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device
US20200031661A1 (en) * 2018-07-24 2020-01-30 Invensense, Inc. Liquid proof pressure sensor
JP7340706B2 (ja) 2020-01-30 2023-09-07 ヒタチ・エナジー・スウィツァーランド・アクチェンゲゼルシャフト アクセス可能な金属クリップ付きパワー半導体モジュール
KR20210148743A (ko) * 2020-06-01 2021-12-08 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US20240145325A1 (en) * 2022-10-31 2024-05-02 Infineon Technologies Austria Ag Semiconductor Package with Molded Heat Dissipation Plate

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08204064A (ja) 1995-01-25 1996-08-09 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH09199645A (ja) * 1996-01-17 1997-07-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置および半導体モジュール
US6734571B2 (en) * 2001-01-23 2004-05-11 Micron Technology, Inc. Semiconductor assembly encapsulation mold
JP2002329815A (ja) 2001-05-01 2002-11-15 Sony Corp 半導体装置と、その製造方法、及びその製造装置
JP2004146706A (ja) 2002-10-28 2004-05-20 Sony Corp 半導体装置
JP2005109100A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置およびその製造方法
JP3854957B2 (ja) * 2003-10-20 2006-12-06 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP4146785B2 (ja) 2003-11-19 2008-09-10 三菱電機株式会社 電力用半導体装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011129584A (ja) * 2009-12-15 2011-06-30 Renesas Electronics Corp 半導体装置及び通信方法
KR20150072939A (ko) * 2013-12-20 2015-06-30 삼성전기주식회사 전력 반도체 패키지 및 그 제조 방법
KR101983164B1 (ko) * 2013-12-20 2019-08-28 삼성전기주식회사 전력 반도체 패키지 및 그 제조 방법
CN104795337A (zh) * 2014-01-17 2015-07-22 三菱电机株式会社 电力用半导体装置及其制造方法
JP2015135907A (ja) * 2014-01-17 2015-07-27 三菱電機株式会社 電力用半導体装置及びその製造方法
US9947613B2 (en) 2014-11-07 2018-04-17 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2020053611A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 三菱電機株式会社 半導体モジュール、および、半導体モジュールの製造方法

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