JP2007157969A - Semiconductor light-emitting element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor light-emitting element capable of improving reliability by preventing deterioration in luminance, even if a surge voltage is applied to the semiconductor light-emitting element in which light-emitting section units are connected in series and parallel. <P>SOLUTION: Semiconductor layers of n-type layer and p-type layer are stacked so as to form a light-emitting layer forming section and electrically insulated to form a plurality of light-emitting units 10, the light-emitting units 10 are connected in series and/or parallel by wiring, and a pair of electrode pads 17a, 17b are formed on both ends thereof. A light-emitting unit 10d to which an n-side electrode 14b is directly connected is formed for surge absorption so as to have luminance smaller than those of the other light-emitting units 10, on at least any one of the pair of electrode pads 17a, 17b. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は基板上に複数個の発光部ユニットが形成され、直並列に接続されることにより、たとえば100Vの商用交流電源などで照明用の電灯や蛍光管の代りに使用し得るような半導体発光素子に関する。さらに詳しくは、半導体により形成される複数個の発光部ユニットを直並列に接続してその接続端子を100Vなどの交流電源または直流電源などに接続する場合に、サージなどが印加されても輝度が低下しないで信頼性の高い構造の半導体発光素子に関する。   In the present invention, a plurality of light emitting unit units are formed on a substrate and connected in series and parallel so that, for example, a semiconductor light emitting device that can be used in place of a lighting lamp or a fluorescent tube with a commercial AC power supply of 100V, for example. It relates to an element. More specifically, when a plurality of light emitting unit units formed of semiconductors are connected in series and parallel and their connection terminals are connected to an AC power source such as 100 V or a DC power source, the brightness is increased even if a surge is applied. The present invention relates to a semiconductor light emitting element having a highly reliable structure without deteriorating.

近年、青色系発光ダイオード(LED)の出現により、ディスプレイの光源や信号機の光源などにLEDが用いられ、さらに電灯や蛍光管の代りにLEDが用いられるようになってきている。この電灯や蛍光管に代ってLEDを用いる場合、100Vの交流駆動でそのまま動作することが好ましく、たとえば図6に示されるように、LEDを直並列に接続し、交流電源71に接続する構成のものが知られている。なお、Sはスイッチを示す(たとえば特許文献1参照)。
特開平10−083701号公報(図3)
In recent years, with the advent of blue light emitting diodes (LEDs), LEDs have been used as light sources for displays and traffic lights, and LEDs have been used in place of electric lamps and fluorescent tubes. When an LED is used instead of the lamp or the fluorescent tube, it is preferable to operate as it is with an AC drive of 100 V. For example, as shown in FIG. Things are known. S represents a switch (see, for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 10-083701 (FIG. 3)

前述のように、複数個のLEDを直並列に接続して電灯などの代りにすることにより、省電力化を行うことができる。しかしながら、LEDは元々半導体層の積層により形成されており、サージなどの高電圧が印加されると半導体層のpn接合が破壊されて、輝度が低下するという問題がある。とくに信号機など屋外で使用する場合にはサージも入りやすく、また、精密機器の照明などに用いられる照明装置などでは僅かな輝度の低下も問題になり、このようなサージが入力し場合、非常に信頼性が低下するという問題がある。   As described above, it is possible to save power by connecting a plurality of LEDs in series and parallel instead of using a lamp or the like. However, the LED is originally formed by stacking semiconductor layers, and when a high voltage such as a surge is applied, the pn junction of the semiconductor layer is destroyed, resulting in a problem that the luminance is lowered. Especially when used outdoors such as traffic lights, surges are also likely to occur, and lighting devices used for illumination of precision equipment also cause a slight decrease in brightness. When such surges are input, There is a problem that reliability decreases.

本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、発光部ユニットが直並列に接続されて照明用などに用い得る半導体発光素子にサージなどが入力しても、輝度の低下などを防止し、信頼性を向上させることができる構造の半導体発光素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem. Even if a surge or the like is input to a semiconductor light emitting element that can be used for lighting with light emitting unit units connected in series and parallel, a decrease in luminance or the like is caused. An object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device having a structure capable of preventing and improving reliability.

本発明者は、照明用などの目的のために、半導体層で形成した発光部ユニットを何個も直並列に接続して、たとえば100Vの交流で駆動するような場合に、サージなどが印加しても発光特性が低下したり、破損したりしないで、信頼性を向上させることができる半導体発光素子にするため鋭意検討を重ねた結果、サージが半導体発光素子に印加した場合、殆どの場合、pn接合が完全にショートやオープンになることはなく、pn接合は維持されるもののV-I特性が劣化して発光特性を低下させ、輝度が大幅に低下するという現象になることを見出した。さらに、発光部ユニットが複数個直列に接続されている場合、サージが入力する電極パッドに一番近い発光部ユニットはダメージを受けてV-I特性が劣化するが、2個目以降の発光部ユニットは、サージの波形が1個目の発光部ユニットで鈍って(減衰して)、殆どpn接合はダメージを受けないことを見出した。   The present inventor applies a surge or the like when a plurality of light emitting unit units formed of semiconductor layers are connected in series and parallel and driven by, for example, 100V AC for illumination purposes. As a result of intensive studies to make the semiconductor light emitting device capable of improving reliability without deteriorating or damaging the light emission characteristics, when a surge is applied to the semiconductor light emitting device, in most cases, It has been found that the pn junction is not completely short-circuited or opened, but the pn junction is maintained, but the VI characteristic is deteriorated, the light emission characteristic is lowered, and the luminance is greatly lowered. Further, when a plurality of light emitting unit are connected in series, the light emitting unit closest to the electrode pad to which surge is input is damaged and the VI characteristic is deteriorated. The unit found that the surge waveform was dulled (attenuated) at the first light emitting unit, and the pn junction was hardly damaged.

そして、逆並列(pn接合の向きが逆方向の並列)で2個の発光部ユニットが接続される場合、ダメージを受ける発光部ユニットは、電極パッドに直接n側電極が接続される発光部ユニットであり、逆並列に接続されるp側電極が電極パッドに接続される発光部ユニットは殆どダメージを受けないことを見出した。すなわち、プラスのサージが入力した場合でも、電子が半導体層に流れ込みやすいため、一対の電極パッドの反対側の電極パッドに接続されるn側電極を介して半導体層に電子が流れ込み、その発光部ユニットのpn接合がダメージを受ける。そして、マイナスのサージが入る場合は、その電極パッドに電子が流れ込むことになるので、その電極パッドに接続されるn側電極に接続される発光部ユニットが最初にダメージを受けることになる。   When two light emitting unit units are connected in reverse parallel (parallel in the direction of the pn junction), the light emitting unit that is damaged is a light emitting unit in which the n-side electrode is directly connected to the electrode pad. It was found that the light emitting unit in which the p-side electrode connected in antiparallel is connected to the electrode pad is hardly damaged. That is, even when a positive surge is input, electrons easily flow into the semiconductor layer. Therefore, electrons flow into the semiconductor layer via the n-side electrode connected to the electrode pad opposite to the pair of electrode pads, and the light emitting portion The pn junction of the unit is damaged. When a negative surge occurs, electrons flow into the electrode pad, so that the light emitting unit connected to the n-side electrode connected to the electrode pad is first damaged.

そのため、その破壊しやすい電極パッド側の発光部ユニットの輝度を小さくしておくことにより、サージが入力してダメージを受け、殆ど発光しなくなっても、元々輝度が小さくされているため、輝度の変化は殆ど生じず、さらに前述のように、pn接合そのものは破壊せず、そのダメージによるV-I特性の変化による発光特性が低下するだけであるため、他の発光部ユニットの電流には影響がなく、発光もそのまま維持することができる。さらに、つぎのサージが入力する場合でも、ダメージを受けた発光部ユニットのpn接合は維持されているため、サージを吸収して減衰させることができ、同様にサージを吸収することができる。その結果、輝度の変化も生じず、何度でもサージを吸収することができる。   Therefore, by reducing the brightness of the light emitting unit on the electrode pad side, which is easily destroyed, even if surges are input and damaged and almost no light is emitted, the brightness is originally reduced. Almost no change occurs, and as described above, the pn junction itself is not destroyed, and only the light emission characteristic due to the change of the VI characteristic due to the damage is deteriorated, so that the current of other light emitting unit is affected. The light emission can be maintained as it is. Further, even when the next surge is input, the pn junction of the damaged light emitting unit is maintained, so that the surge can be absorbed and attenuated, and the surge can be similarly absorbed. As a result, no change in luminance occurs, and the surge can be absorbed any number of times.

本発明による半導体発光素子は、n形層およびp形層の半導体層が発光層形成部を形成するように積層され、電気的に分離して複数個の発光部ユニットが形成されると共に、該複数個の発光部ユニットが配線により直列および/または並列に接続されてその両端部に一対の電極パッドが形成される半導体発光素子であって、前記一対の電極パッドの少なくとも一方に直接n側電極が接続される発光部ユニットが、他の発光部ユニットより輝度を小さくしたサージ吸収用として形成されている。   In the semiconductor light emitting device according to the present invention, an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer are stacked so as to form a light emitting layer forming part, and are electrically separated to form a plurality of light emitting part units. A semiconductor light emitting device in which a plurality of light emitting unit units are connected in series and / or in parallel by wiring and a pair of electrode pads are formed at both ends thereof, and an n-side electrode is directly applied to at least one of the pair of electrode pads The light emitting unit connected to is formed for surge absorption with lower brightness than other light emitting unit.

なお、並列接続には、pn方向が同じ方向で並列に接続される場合と、pn方向を逆方向にして並列に接続される、いわゆる逆並列の場合の両方を含む意味である。また、発光部ユニットは、たとえば100Vなどの商用交流電源で駆動できるように、直列に100V近くの駆動電圧になるように直列に接続したものを逆並列(pn接合が逆方向になるように並列に接続されること、以下同じ)に接続されてもよいし、2個逆並列接続された組を直列に接続して100Vなどの商用交流電源で駆動できるように直列に接続されてもよいし、これらの組がさらに並列に接続されて100Vなどの商用交流電源に接続されてもよいし、順方向に直列に接続されて直流電源で駆動できるように接続されてもよい。   Note that the parallel connection includes both the case where the pn directions are connected in parallel in the same direction and the so-called reverse parallel connection where the pn directions are reversed and connected in parallel. In addition, the light emitting unit is connected in series so that the drive voltage is close to 100 V in series so that it can be driven by a commercial AC power supply such as 100 V, for example, and the light emitting unit is connected in parallel so that the pn junction is in the reverse direction. May be connected in series, so that two sets connected in reverse parallel may be connected in series and driven by a commercial AC power source such as 100V. These sets may be further connected in parallel to be connected to a commercial AC power source such as 100V, or may be connected in series in the forward direction so that they can be driven by a DC power source.

前記サージ吸収用として形成される発光部ユニットのn形層に接続される電極が前記一対の電極パッドの一方として形成されることにより、殆ど発光に寄与しない発光部ユニットを設けることによるスペースの無駄を殆どなくすることができるため好ましい。   Since the electrode connected to the n-type layer of the light emitting unit formed for absorbing the surge is formed as one of the pair of electrode pads, a waste of space is provided by providing the light emitting unit that hardly contributes to light emission. Can be almost eliminated.

前記複数個の発光部ユニットが、直列に接続されると共に逆並列に前記一対の電極間に接続されることにより、交流で駆動し得るように接続され、前記一対の電極パッドのそれぞれにn側電極が直接接続される全ての発光部ユニットの輝度が小さくなるように形成されることにより、どちらの電極パッドにプラスのサージが入力しても、輝度変化が殆ど生じることがないため好ましい。なお、逆並列に接続される組が複数組並列に接続される場合には、それぞれの組のn側電極が直接電極パッドに接続される発光部ユニットの輝度が低くなるように形成されることが好ましい。また、逆並列に接続する構造としては、直列に接続された組を逆並列に接続されてもよいし、2個が逆並列に接続された組が直列に接続されてもよい。この2個1組が直列に接続された組が、さらに一対の電極パッド間に並列に接続されてもよい。   The plurality of light emitting unit units are connected in series and connected in parallel between the pair of electrodes so as to be driven by alternating current, and each of the pair of electrode pads is connected to the n side. It is preferable that all the light-emitting unit units to which the electrodes are directly connected are formed so as to reduce the luminance, so that a change in luminance hardly occurs regardless of which electrode pad receives a positive surge. In addition, when a plurality of sets connected in anti-parallel are connected in parallel, the n-side electrode of each set is formed so that the luminance of the light emitting unit connected directly to the electrode pad is lowered. Is preferred. Moreover, as a structure connected in antiparallel, a set connected in series may be connected in antiparallel, or a set in which two pieces are connected in antiparallel may be connected in series. A set in which these two sets are connected in series may be connected in parallel between a pair of electrode pads.

前記複数個の発光部ユニットが、直列に接続され、またはpn接合が同一方向に直列および並列に接続されて前記一対の電極パッド間に接続されることにより直流で駆動し得るように形成され、前記発光部ユニットのn側電極が前記一対の電極パッドの一方に直接接続される発光部ユニットの1つのn側電極が前記一対の電極パッドの一方として形成される構造にすることもできる。この場合は、p側電極が電極パッドの他方に接続される発光部ユニットでは、従来と同様にn形層の露出する面積を小さくしておいて、大きな面積のp形層上に電極パッドを形成することもできるし、電極パッドは別に形成しながら、その電極パッドにp側電極が接続される発光部ユニットの表面から光が出難くなるように、前述の露出するn形層の面積を大きくする構造にしたり、表面に遮光層を設けたりしてもよい。この場合も、直列に接続される発光部ユニット群が並列に接続される場合その電極パッドに直接接続される発光部ユニット全ての輝度を低下させることが好ましい。   The plurality of light emitting unit units are connected in series, or pn junctions are connected in series and in parallel in the same direction and are connected between the pair of electrode pads so that they can be driven by direct current, A structure in which one n-side electrode of the light-emitting unit where the n-side electrode of the light-emitting unit is directly connected to one of the pair of electrode pads may be formed as one of the pair of electrode pads. In this case, in the light emitting unit in which the p-side electrode is connected to the other of the electrode pads, the exposed area of the n-type layer is reduced as in the conventional case, and the electrode pad is placed on the p-type layer having a large area. The area of the exposed n-type layer can be reduced so that it is difficult to emit light from the surface of the light emitting unit where the p-side electrode is connected to the electrode pad while forming the electrode pad separately. The structure may be enlarged or a light shielding layer may be provided on the surface. Also in this case, when the light emitting unit units connected in series are connected in parallel, it is preferable to reduce the luminance of all the light emitting units connected directly to the electrode pads.

前記発光層形成部が窒化物半導体により青色光または紫外光を発光するように形成され、前記複数個の発光部ユニットからなる発光素子チップの発光面側に該発光素子チップが発光する光を白色光に変換する発光色変換部材が塗布されることにより、白色光を放射することができ、電灯などの代りに使用することができる。   The light emitting layer forming part is formed by a nitride semiconductor so as to emit blue light or ultraviolet light, and the light emitted from the light emitting element chip on the light emitting surface side of the light emitting element chip composed of the plurality of light emitting part units is white. By applying a luminescent color conversion member that converts light, white light can be emitted and used instead of an electric lamp or the like.

前記半導体層が絶縁性基板または半絶縁層上に積層され、各発光部ユニットの前記n形層およびp形層に接続される電極が前記積層される半導体層の表面側に設けられ、前記輝度を小さくする発光部ユニットが、該発光部ユニットの表面積でn形層の露出する面積が全体の60〜90%になるように形成されることにより、n形層の露出面を電極パッド形成場所として使用することができながら、始めから輝度を充分に落すことになり、サージによる輝度の低下を防止することができるため好ましい。   The semiconductor layer is laminated on an insulating substrate or a semi-insulating layer, and electrodes connected to the n-type layer and the p-type layer of each light emitting unit are provided on the surface side of the laminated semiconductor layer, and the luminance Is formed so that the exposed area of the n-type layer is 60 to 90% of the entire surface area of the light-emitting unit, so that the exposed surface of the n-type layer can be used as an electrode pad forming place. However, it is preferable because the luminance is sufficiently reduced from the beginning and the luminance can be prevented from being lowered by a surge.

本発明によれば、複数個の発光部ユニットが直並列に接続された発光素子にサージが入力した場合に、ダメージを受けるのは電極パッドに直接n側電極が接続される発光部ユニットであって、しかもpn接合が完全に破壊するのではなく、V-I特性が劣化して発光出力が低下するだけで、しかもその発光部ユニットによりサージは鈍って(減衰して)2個目以降の発光部ユニットには何ら異常をもたらさないという知見に基づいて、その発光部ユニットの輝度を最初から低下させているため、サージが入力して輝度が低下しても当初の輝度と殆ど変化がなく、何ら問題が生じない。しかも、その輝度の低下する発光部ユニットは、輝度が低下してもpn接合はそのまま維持しており、つぎのサージが入力する場合でもそのサージを鈍らせる(減衰させる)機能を有しており、2個目以降の発光部ユニットには何ら異常をもたらすことがない。その結果、サージが入力しても、非常に信頼性の高い半導体発光素子が得られる。   According to the present invention, when a surge is input to a light emitting element in which a plurality of light emitting unit units are connected in series and parallel, the light emitting unit in which the n-side electrode is directly connected to the electrode pad is damaged. In addition, the pn junction is not completely destroyed, but the V-I characteristic is deteriorated and the light emission output is reduced, and the surge is dulled (attenuated) by the light emitting unit. Based on the knowledge that nothing happens to the light emitting unit, the luminance of the light emitting unit is reduced from the beginning, so there is almost no change from the original luminance even when the surge decreases and the luminance decreases. , No problem arises. In addition, the light emitting unit whose luminance is reduced maintains the pn junction even when the luminance is reduced, and has a function of blunting (attenuating) the surge even when the next surge is input. No abnormality is caused in the second and subsequent light emitting units. As a result, even if a surge is input, a highly reliable semiconductor light emitting device can be obtained.

さらに、輝度を小さくした発光部ユニットの表面に電極パッドを形成することにより、輝度を小さくして発光には殆ど寄与しない発光部ユニットを形成することによるスペースの無駄を有効に利用して必要な電極パッドを形成しながら、輝度の小さい発光部ユニット、すなわちサージを吸収するpn接合を形成することができ、殆どスペースの無駄なくサージを吸収することができる。   Furthermore, by forming an electrode pad on the surface of the light emitting unit with reduced brightness, it is necessary to effectively use the waste of space by forming the light emitting unit that reduces brightness and hardly contributes to light emission. While forming the electrode pad, a light emitting unit having a low luminance, that is, a pn junction that absorbs the surge can be formed, and the surge can be absorbed with almost no waste of space.

つぎに、図面を参照しながら本発明の半導体発光素子について説明をする。本発明による半導体発光素子は、図1(a)にその一実施形態である発光部ユニットの接続例の平面説明図が示されるように、n形層およびp形層の半導体層が発光層形成部を形成するように積層され、電気的に分離して複数個の発光部ユニット10が形成されると共に、その複数個の発光部ユニット10が配線16により直列および/または並列に接続されてその両端部に一対の電極パッド17a、17bが形成されている。そして、一対の電極パッド17a、17bの少なくとも一方に直接n側電極14bが接続される発光部ユニット10dが、他の発光部ユニット10より輝度を小さくしたサージ吸収用として形成されている。   Next, the semiconductor light emitting device of the present invention will be described with reference to the drawings. In the semiconductor light emitting device according to the present invention, an n-type semiconductor layer and a p-type semiconductor layer are formed as a light emitting layer as shown in FIG. A plurality of light emitting unit 10 is formed by being electrically separated to form a plurality of light emitting units, and the plurality of light emitting unit 10 are connected in series and / or in parallel by wiring 16 A pair of electrode pads 17a and 17b are formed at both ends. The light emitting unit 10d in which the n-side electrode 14b is directly connected to at least one of the pair of electrode pads 17a and 17b is formed for surge absorption with a lower luminance than the other light emitting unit 10.

図1(a)に示される例では、輝度を小さくして形成されたサージ吸収用の発光ユニット10dは発光には寄与しない、すなわちp形層がエッチング除去されて活性層を介したpn接合を有しないn形層の露出する領域の面積を全体の60〜90%と、活性層を介したpn接合を有しp形層(厳密には透光性導電層)が表面に露出している部分の面積よりも大きくなるように形成されている(通常の発光部ユニット10とその面積比がほぼ逆の構造になっている)。その結果、n形層が露出する部分は発光に寄与しないので、全体が同じ平面積に形成される発光部ユニット10であっても、サージ吸収用の発光部ユニット10dは、p形層が残存する面積が非常に小さいので、殆ど発光には寄与しない。すなわち、輝度が小さくなるように形成されている。この輝度を小さくしたサージ吸収用の発光部ユニット10dは、電極パッド17a、17b間に直列に接続される発光部ユニット群の中で、電極パッド17a、17bと直接接続される(他の発光部ユニットを介さないで配線により直接電極パッド17a、17bに接続される発光部ユニットを意味する)発光部ユニット10d、発光部ユニット10が逆並列で電極パッドに接続される場合には、n側電極14b側が接続される発光部ユニット10dに輝度低下の方策が施されている。   In the example shown in FIG. 1A, the surge-absorbing light emitting unit 10d formed with reduced luminance does not contribute to light emission, that is, the p-type layer is etched away to form a pn junction via the active layer. The area of the exposed region of the n-type layer that does not have is 60 to 90% of the whole, and the p-type layer (strictly light-transmitting conductive layer) has a pn junction through the active layer and is exposed on the surface. It is formed so as to be larger than the area of the portion (the light emitting unit 10 and the area ratio are substantially opposite to each other). As a result, the portion where the n-type layer is exposed does not contribute to light emission. Therefore, even if the light-emitting unit 10 is entirely formed in the same plane area, the p-type layer remains in the light-emitting unit 10d for surge absorption. Since the area to be emitted is very small, it hardly contributes to light emission. That is, it is formed so as to reduce the luminance. The light emitting unit 10d for surge absorption with reduced luminance is directly connected to the electrode pads 17a and 17b in the group of light emitting unit units connected in series between the electrode pads 17a and 17b (other light emitting units). (This means a light emitting unit connected directly to the electrode pads 17a and 17b by wiring without a unit.) When the light emitting unit 10d and the light emitting unit 10 are connected to the electrode pads in reverse parallel, the n-side electrode A measure for lowering the luminance is applied to the light emitting unit 10d to which the 14b side is connected.

このようなn側電極14b側が直接接続される側の発光部ユニット10dの輝度を低下させる理由について説明をする。たとえば一方の電極パッド17aにプラスのサージ電圧が入力する場合、電子の移動が正孔の移動より勝っているため、サージにより他方の電極パッド17bの下の電子が発光部ユニット10dに流れ込もうとする。そのため、他方の電極パッド17bに電子が流れ込んでくると、その電子は、他方の電極パッド17b側のn側電極14bに流れ込みやすく、一方の電極パッド17a側にp側電極が接続された発光部ユニット10よりも早くサージの電子が流れ込み、その大量の電子の流れ込みにより発光部ユニット10dのpn接合がダメージを受け、逆にサージはその勢いが減衰される。そのため、一対の電極パッド17a、17bに接続される発光部ユニット10のうち、n側電極14bが直接接続される発光部ユニット10dがサージ吸収用として輝度が小さくなるように形成されている。なお、後述する直流駆動用にp側電極側しか存在しない場合(n側電極が直接電極パッドに接続される発光部ユニットが存在しない場合)には、p側電極側でも直接電極パッドに接続される発光部ユニットの輝度が低下するように形成される。   The reason why the luminance of the light emitting unit 10d on the side to which the n-side electrode 14b side is directly connected is lowered will be described. For example, when a positive surge voltage is input to one electrode pad 17a, the movement of electrons is superior to the movement of holes, so the electrons below the other electrode pad 17b will flow into the light emitting unit 10d by the surge. And For this reason, when electrons flow into the other electrode pad 17b, the electrons easily flow into the n-side electrode 14b on the other electrode pad 17b side, and the light-emitting portion having the p-side electrode connected to the one electrode pad 17a side The surge electrons flow faster than the unit 10, and the pn junction of the light emitting unit 10d is damaged by the flow of a large amount of electrons, and the surge is attenuated. For this reason, of the light emitting unit 10 connected to the pair of electrode pads 17a and 17b, the light emitting unit 10d to which the n-side electrode 14b is directly connected is formed so as to reduce the luminance for surge absorption. In addition, when only the p-side electrode side exists for direct current driving described later (when there is no light emitting unit where the n-side electrode is directly connected to the electrode pad), the p-side electrode side is also directly connected to the electrode pad. It is formed so that the luminance of the light emitting unit is reduced.

図1(a)に示される例では、このサージ吸収用発光部ユニット10dは、前述のように、n形層の露出面積をp形層の残存面積よりも大きくなるようにすることにより、活性層を挟んだpn接合の面積が小さくなり、輝度を小さくすることができる。このn形層の露出面積は、発光部ユニット10全体の面積に対して、60〜90%程度、さらに好ましくは65〜80%程度にすることが好ましい。余り小さいと発光面積が増えて輝度を低下させる効果が少なくなり、余り大きすぎるとpn接合部の面積が小さくなって、サージを充分に吸収することができなくなるからである。しかし、輝度を小さくする構造としては、このような構造にする必要はなく、p形層の表面に光の透過を遮断する材料からなる膜を設けてもよく、たとえば後述する直流駆動用のように、この表面に電極パッドを形成してもよいし、p側にショットキー電極を設けて空乏層を活性層まで延ばして輝度を低下させる構造にすることもできる。このような場合には、n形層の露出面積を大きくする必要はない。   In the example shown in FIG. 1A, the surge absorbing light emitting unit 10d is activated by making the exposed area of the n-type layer larger than the remaining area of the p-type layer as described above. The area of the pn junction across the layer is reduced, and the luminance can be reduced. The exposed area of the n-type layer is preferably about 60 to 90%, more preferably about 65 to 80% with respect to the entire area of the light emitting unit 10. If it is too small, the light emitting area is increased and the effect of lowering the luminance is reduced. If it is too large, the area of the pn junction is reduced and the surge cannot be sufficiently absorbed. However, the structure for reducing the luminance need not be such a structure, and a film made of a material that blocks the transmission of light may be provided on the surface of the p-type layer. In addition, an electrode pad may be formed on this surface, or a Schottky electrode may be provided on the p side to extend the depletion layer to the active layer, thereby reducing the luminance. In such a case, it is not necessary to increase the exposed area of the n-type layer.

また、前述の例では、発光部ユニット10が逆並列に接続された組を直列に接続して一対の電極パッド17a、17b間に接続されているが、接続方法はこの例に限定されることはなく、たとえば図3(a)に示されるように、直列に接続した組が逆並列に接続されてもよく、これらがさらに並列に接続(図3(a)に示される構造)されてもよく、また、図3(b)に示されるように、図1に示される接続構造がさらに並列に接続されてもよい。なお、図3では、後述する電極パッド17a、17bが独立して設けられるのではなく、n側電極14bと共用でn形層上に設けられている趣旨で書かれている。また、輝度を小さくした発光部ユニット10dのダイオード記号に斜線を付してある。   Moreover, in the above-mentioned example, the group in which the light emitting unit 10 is connected in antiparallel is connected in series and connected between the pair of electrode pads 17a and 17b, but the connection method is limited to this example. For example, as shown in FIG. 3 (a), a series-connected set may be connected in anti-parallel, and these may be further connected in parallel (structure shown in FIG. 3 (a)). Alternatively, as shown in FIG. 3B, the connection structure shown in FIG. 1 may be further connected in parallel. In FIG. 3, electrode pads 17a and 17b, which will be described later, are not provided independently, but are written to the effect that they are provided on the n-type layer in common with the n-side electrode 14b. Further, the diode symbol of the light emitting unit 10d with reduced luminance is hatched.

さらに、図1(a)に示される例では、一対の電極パッド17a、17bの間に発光部ユニット10の群が接続されているが、輝度を低くしたサージ吸収用の発光部ユニット10dを、前述のようにn形層の露出面積を大きくして輝度を低下させる構造にすることにより、n側電極14bの面積を大きくすることができ、図1(b)に示されるように、このn側電極14bをそのまま電極パッド17aとしてワイヤボンディング用に用いることもできる。このような構造にすることにより、サージ吸収用の発光部ユニット10dは、発光素子全体の輝度には殆ど寄与しないが、図1(a)に示される電極パッド17a、17bのスペースが不要となるため、その分発光部ユニット10を作製することができ、サージ吸収用の発光部ユニット10dを形成することにより生じるスペースの浪費も殆ど生じない。   Further, in the example shown in FIG. 1A, a group of light emitting unit 10 is connected between a pair of electrode pads 17a and 17b. As described above, by increasing the exposed area of the n-type layer to reduce the luminance, the area of the n-side electrode 14b can be increased. As shown in FIG. The side electrode 14b can be used as an electrode pad 17a as it is for wire bonding. By adopting such a structure, the light-emitting unit 10d for surge absorption hardly contributes to the luminance of the entire light-emitting element, but the space for the electrode pads 17a and 17b shown in FIG. Therefore, the light emitting unit 10 can be manufactured correspondingly, and the waste of space caused by forming the light emitting unit 10d for surge absorption hardly occurs.

発光部ユニット10の構造は、たとえば図2に一部の断面説明図が示されるように、たとえば窒化物半導体を用いた青色光または紫外光の発光をするように形成される。そして、図示されていないが、たとえばYAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)蛍光体やSr-Zn-La蛍光体などからなる発光色変換部材が設けられることにより、白色光を発光する発光素子にすることができ、しかも発光部ユニットを前述の図1(a)に示されるように、直並列に接続されるように配線することにより、交流の100V電源で動作し得るように形成されてもよい。たとえば2個1組で24組、合計48個の発光部ユニット10が形成され、発光素子チップの1個の大きさは、たとえば1.5mm×1.5mm程度の大きさに形成される。なお、直列に接続される複数個の発光部ユニット10の動作電圧の合計が丁度100Vなどの商用交流電源電圧にならない場合には、抵抗またはキャパシタが直列に接続されて調整される。しかし、このような構成には限定されず、たとえば赤、緑、青の3原色の発光部を形成して白色光になるようにすることもできるし、必ずしも白色光にする必要はなく、所望の発光色の発光部に形成することができるし、また、100Vで動作するようにする必要もない。   The structure of the light emitting unit 10 is formed so as to emit blue light or ultraviolet light using a nitride semiconductor, for example, as shown in FIG. Although not shown, a light emitting element that emits white light is provided by providing a light emitting color conversion member made of, for example, a YAG (yttrium, aluminum, garnet) phosphor or Sr—Zn—La phosphor. Further, as shown in FIG. 1A, the light emitting unit may be formed so that it can be operated with an AC 100V power source by wiring the light emitting unit so as to be connected in series and parallel. For example, a total of 48 light emitting unit units 10 are formed, for example, two sets of two, and the size of one light emitting element chip is formed to a size of about 1.5 mm × 1.5 mm, for example. When the total operating voltage of the plurality of light emitting unit units 10 connected in series does not reach a commercial AC power supply voltage such as 100V, a resistor or a capacitor is connected in series and adjusted. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, a light emitting portion of three primary colors of red, green, and blue can be formed so as to be white light. In addition, it is not necessary to operate at 100V.

ここに窒化物半導体とは、III 族元素のGaとV族元素のNとの化合物またはIII 族元素のGaの一部または全部がAl、Inなどの他のIII 族元素と置換したものおよび/またはV族元素のNの一部がP、Asなどの他のV族元素と置換した化合物(窒化物)からなる半導体をいう。   Here, the nitride semiconductor means a compound in which a group III element Ga and a group V element N or a part or all of a group III element Ga is substituted with other group III elements such as Al and In, and / or Alternatively, it refers to a semiconductor made of a compound (nitride) in which a part of N of the group V element is substituted with another group V element such as P or As.

基板11としては、窒化物半導体を積層するには、サファイア(Al23単結晶)またはSiCが一般的には用いられるが、これらに限定されるものではなく、SiやGaAsなどの半導体基板が、積層される半導体層に応じて格子定数や熱膨張係数などの観点から選ばれることもある。図2に示される例では、サファイア(Al23単結晶)が用いられている。 As the substrate 11, sapphire (Al 2 O 3 single crystal) or SiC is generally used for stacking nitride semiconductors, but the substrate 11 is not limited to these, and a semiconductor substrate such as Si or GaAs. However, it may be selected from the viewpoints of the lattice constant and the thermal expansion coefficient depending on the semiconductor layer to be laminated. In the example shown in FIG. 2, sapphire (Al 2 O 3 single crystal) is used.

サファイア基板11上に積層される半導体積層部12は、たとえばGaNからなる低温バッファ層12aが0.005〜0.1μm程度、ついでアンドープのGaNからなる高温バッファ層12bが1〜3μm程度、その上にSiをドープしたn形GaNからなるコンタクト層およびn形AlGaN系化合物半導体層からなる障壁層(バンドギャップエネルギーの大きい層)などにより形成されるn形層12cが1〜5μm程度、バンドギャップエネルギーが障壁層のそれよりも小さくなる材料、たとえば1〜3nmのIn0.13Ga0.87Nからなるウェル層と10〜20nmのGaNからなるバリア層とが3〜8ペア積層される多重量子井戸 (MQW)構造の活性層12dが0.05〜0.3μm程度、p形のAlGaN系化合物半導体層からなるp形障壁層(バンドギャップエネルギーの大きい層)とp形GaNからなるコンタクト層とによるp形層12eが合せて0.2〜1μm程度、それぞれ順次積層されることにより形成されている。 The semiconductor laminated portion 12 laminated on the sapphire substrate 11 has, for example, a low temperature buffer layer 12a made of GaN of about 0.005 to 0.1 μm, and a high temperature buffer layer 12b of undoped GaN of about 1 to 3 μm, N-type layer 12c formed by a contact layer made of n-type GaN doped with Si and a barrier layer made of an n-type AlGaN-based compound semiconductor layer (a layer having a large band gap energy) has a band gap energy of about 1 to 5 μm. Multi-quantum well (MQW) in which 3 to 8 pairs of a material having a thickness smaller than that of the barrier layer, for example, a well layer made of 1 to 3 nm In 0.13 Ga 0.87 N and a barrier layer made of 10 to 20 nm GaN are stacked P having an active layer 12d having a structure of about 0.05 to 0.3 μm and comprising a p-type AlGaN compound semiconductor layer. The p-type layer 12e formed of a p-type barrier layer (a layer having a large band gap energy) and a contact layer made of p-type GaN is sequentially laminated to a thickness of about 0.2 to 1 μm.

図2に示される例では、アンドープで、半絶縁性のGaNからなる高温バッファ層12bが形成されている。基板がサファイアのような絶縁性基板からなる場合には、必ずしも半絶縁になっていなくても基板まで後述する分離溝を形成すれば支障はないが、アンドープにした方が積層する半導体層の結晶性が良くなるため、さらには、半絶縁性半導体層が設けられていることにより、各発光部に電気的分離する際に、基板表面までを完全にエッチングしなくても、電気的に分離することができるため好ましい。基板11がSiCのような半導体基板からなる場合には、隣接する発光部間を電気的に分離させるため、アンドープで半絶縁性の高温バッファ層12bが形成されることが各発光部を独立させるために必要となる。   In the example shown in FIG. 2, a high temperature buffer layer 12b made of undoped and semi-insulating GaN is formed. When the substrate is made of an insulating substrate such as sapphire, there is no problem if a separation groove described later is formed up to the substrate even if it is not semi-insulating. In addition, since a semi-insulating semiconductor layer is provided, when the light emitting portions are electrically separated, they are electrically separated without completely etching up to the substrate surface. This is preferable. When the substrate 11 is made of a semiconductor substrate such as SiC, an undoped, semi-insulating high-temperature buffer layer 12b is formed in order to electrically isolate adjacent light emitting portions, thereby making each light emitting portion independent. It is necessary for.

また、n形層12cおよびp形層12eは、障壁層とコンタクト層の2種類で構成する例であったが、キャリアの閉じ込め効果の点から活性層12d側にAlを含む層が設けられることが好ましいものの、GaN層だけでもよい。また、これらを他の窒化物半導体層で形成することもできるし、他の半導体層がさらに介在されてもよい。さらに、この例では、n形層12cとp形層12eとで活性層12dが挟持されたダブルヘテロ接合構造であるが、n形層とp形層とが直接接合するpn接合構造のものでもよい。また、活性層12d上に直接p形AlGaN系化合物層を成長したが、数nm程度のアンドープAlGaN系化合物層を成長することにより、活性層12dの下側にピット発生層を形成して活性層12dにできたピットを埋め込みながら、p形層とn形層との接触によるリークを防止することもできる。   In addition, the n-type layer 12c and the p-type layer 12e are two examples of the barrier layer and the contact layer. However, a layer containing Al is provided on the active layer 12d side in terms of the carrier confinement effect. However, only the GaN layer may be used. Moreover, these can also be formed with another nitride semiconductor layer, and another semiconductor layer may further intervene. Furthermore, in this example, the active layer 12d is sandwiched between the n-type layer 12c and the p-type layer 12e, but a pn junction structure in which the n-type layer and the p-type layer are directly joined is also possible. Good. In addition, a p-type AlGaN compound layer is grown directly on the active layer 12d, but a pit generation layer is formed below the active layer 12d by growing an undoped AlGaN compound layer of about several nanometers. Leakage due to contact between the p-type layer and the n-type layer can also be prevented while embedding the pits formed in 12d.

半導体積層部12上には、たとえばZnOなどからなり、p形半導体層12eとオーミックコンタクトをとることができる透光性導電層13が0.01〜0.5μm程度設けられている。この透光性導電層13は、ZnOに限定されるものではなく、ITOやNiとAuとの2〜100nm程度の薄い合金層でも、光を透過させながら、電流をチップ全体に拡散することができる。この半導体積層部12の一部がエッチングにより除去されてn形層12cが露出され、さらにそのn形層12cの露出部の近傍で間隔dだけ離間してエッチングにより分離溝12fが形成されている。この離間する部分は発光領域(長さL1の部分)としては寄与せずダミー領域12gとなり、熱放散部、配線などの形成スペースなどとすることができ、目的に応じて間隔dは1〜50μm程度の範囲内で設定される。この分離溝12fは、ドライエッチングなどにより形成されるが、電気的に分離できる範囲で、できるだけ狭い幅wで形成され、0.6〜5μm程度、たとえば1μm程度(深さは5μm程度)に形成される。   On the semiconductor laminated portion 12, a translucent conductive layer 13 made of, for example, ZnO and capable of making ohmic contact with the p-type semiconductor layer 12e is provided in a thickness of about 0.01 to 0.5 μm. The translucent conductive layer 13 is not limited to ZnO, and even a thin alloy layer of about 2 to 100 nm of ITO or Ni and Au can diffuse current throughout the chip while transmitting light. it can. A part of the semiconductor laminated portion 12 is removed by etching to expose the n-type layer 12c, and a separation groove 12f is formed by etching at a distance d in the vicinity of the exposed portion of the n-type layer 12c. . This separated portion does not contribute to the light emitting region (length L1 portion) and becomes a dummy region 12g, which can be used as a space for forming a heat dissipating part, wiring, etc., and the interval d is 1 to 50 μm depending on the purpose. It is set within a range. The separation groove 12f is formed by dry etching or the like, but is formed with a width w that is as narrow as possible within a range that can be electrically separated, and about 0.6 to 5 μm, for example, about 1 μm (depth is about 5 μm). Is done.

そして、透光性導電層13上の一部に、TiとAuとの積層構造により、p側電極14aが形成され、半導体積層部12の一部がエッチングにより除去されて露出するn形層12cにオーミックコンタクト用のn側電極14bが、Ti-Al合金などにより形成されている。図2に示される例では、このn側電極14bが、0.4〜0.6μm程度の厚さに形成され、p側電極14aとほぼ同程度の高さになるように形成されている。そして、このp側電極14aおよびn側電極14bの表面が露出するように半導体積層部12の露出する表面および分離溝12f内に、たとえばSiO2などからなる絶縁膜15が設けられている。その結果、分離溝12fで区切られた発光部ユニット10が基板11上に複数個形成されている。その絶縁膜15の表面で、1個の発光部ユニット10aのn側電極14bとその発光部ユニット10aと隣接する発光部ユニット10bのp側電極14aとが配線膜16により接続されている。この配線膜16は、AuまたはAlなどの金属膜を真空蒸着またはスパッタリングなどにより0.3〜1μm程度の厚さに形成されている。この配線膜16は、たとえば図1または図3の等価回路図に示されるように、一対の電極パッド17a、17b間に各発光部ユニット10が直列または並列の所望の接続になるように形成される。 Then, a p-side electrode 14a is formed on a part of the translucent conductive layer 13 by a laminated structure of Ti and Au, and an n-type layer 12c exposed by removing a part of the semiconductor laminated part 12 by etching. The n-side electrode 14b for ohmic contact is formed of a Ti—Al alloy or the like. In the example shown in FIG. 2, the n-side electrode 14b is formed to a thickness of about 0.4 to 0.6 [mu] m, and is formed to have a height substantially the same as that of the p-side electrode 14a. An insulating film 15 made of, for example, SiO 2 is provided in the exposed surface of the semiconductor laminated portion 12 and the isolation groove 12f so that the surfaces of the p-side electrode 14a and the n-side electrode 14b are exposed. As a result, a plurality of light emitting unit 10 separated by the separation grooves 12f are formed on the substrate 11. On the surface of the insulating film 15, the n-side electrode 14 b of one light emitting unit 10 a and the p side electrode 14 a of the light emitting unit 10 b adjacent to the light emitting unit 10 a are connected by the wiring film 16. The wiring film 16 is formed to a thickness of about 0.3 to 1 μm by vacuum deposition or sputtering of a metal film such as Au or Al. For example, as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 1 or FIG. 3, the wiring film 16 is formed between the pair of electrode pads 17a and 17b such that each light emitting unit 10 has a desired connection in series or in parallel. The

前述の各例では、2個を逆並列に接続した1組を直列に接続し、または直列に接続された組を逆並列に接続して、交流駆動が可能な接続構造になっていたが、pn接合は同一方向で直列および必要に応じてさらに並列に接続して直流駆動が可能な構造にすることもできる。その一例が図4に示されている。図4(a)に示される例は、一対の電極パッド17a、17b間にpn接合が一定方向になるように複数個の発光部ユニット10が直列に接続され、第1の(一方の)電極パッド17a側には、発光部ユニット10eのp側電極14aが接続される構造になっている。このように、p側電極14aが第1の電極パッド17aと接続される発光部ユニット10eも、その輝度を他の発光部ユニット10より低下させる構造に形成されている。これは、第1の電極パッド17aには、プラスかマイナスのいずれのサージが入力するかは分らず、この構造でマイナスのサージが入力した場合、n側電極が接続された発光部ユニットがないため、接続されている発光部ユニット10eに電子が流れ込むことになり、前述と同様にpn接合にダメージを与えることになるため、予め輝度を小さくしておいて、その影響を少なくするためである。   In each of the above-described examples, one set of two connected in antiparallel was connected in series, or the set connected in series was connected in antiparallel, so that the AC drive was possible. The pn junctions can be connected in series in the same direction and further in parallel as necessary so as to be capable of direct current drive. An example is shown in FIG. In the example shown in FIG. 4A, a plurality of light emitting unit 10 are connected in series so that the pn junction is in a certain direction between the pair of electrode pads 17a and 17b, and the first (one) electrode is provided. The p-side electrode 14a of the light emitting unit 10e is connected to the pad 17a side. As described above, the light emitting unit 10e in which the p-side electrode 14a is connected to the first electrode pad 17a is also configured to have a lower luminance than the other light emitting unit 10. This is because it is not known whether a positive or negative surge is input to the first electrode pad 17a. When a negative surge is input in this structure, there is no light emitting unit to which the n-side electrode is connected. For this reason, electrons flow into the connected light emitting unit 10e and damage the pn junction in the same manner as described above, so that the brightness is reduced in advance and the influence is reduced. .

この第1の電極パッド17a側に接続される輝度を低下させた発光部ユニット10eも、前述の各例と同様に、n形層の露出面積を大きくすることにより、その輝度を低下させることができる。しかし、第1の電極パッド17aと接続するのは、p側電極であるため、狭い面積のp側電極14aを第1の電極パッド17aと共用することはできず、発光部ユニット10eとは別に第1の電極パッド17aが独立して形成されている。一方、第2の(他方の)電極パッド17b側は、前述の各例と同様に、発光部ユニット10dのn側電極14bが接続される構造であるため、図1(b)に示される例と同様に、輝度を低下させた発光部ユニット10dのn側電極14bと共用して第2の電極パッド17bが設けられている。なお、この場合でも、発光部ユニット10dのn側電極14bとは別に第2の電極パッド17bを形成して配線により接続する構造にすることもできる。   The light emitting unit 10e with reduced brightness connected to the first electrode pad 17a side can also be reduced in brightness by increasing the exposed area of the n-type layer, as in the previous examples. it can. However, since the p-side electrode is connected to the first electrode pad 17a, the p-side electrode 14a having a small area cannot be shared with the first electrode pad 17a, and separately from the light emitting unit 10e. The first electrode pad 17a is formed independently. On the other hand, since the second (the other) electrode pad 17b side has a structure to which the n-side electrode 14b of the light emitting unit 10d is connected in the same manner as the above-described examples, the example shown in FIG. Similarly to the above, a second electrode pad 17b is provided in common with the n-side electrode 14b of the light emitting unit 10d with reduced luminance. Even in this case, the second electrode pad 17b may be formed separately from the n-side electrode 14b of the light emitting unit 10d and connected by wiring.

また、p側電極14aや電極パッド17aは金属膜により形成されるため、発光部で発光した光を殆ど透過させることができず、表面がこれらの金属膜で覆われると、内部で反射して側面から放射される光が出てくるだけで、前述の発光そのものを減らす構造ほどではないが大幅に減衰させることができる。そのため、図4(b)に示されるように、p側電極が電極パッドと接続される発光部ユニット10fを、通常の発光部ユニットと同様の構造で半導体積層部の形成およびエッチングをし、p形層の露出部(実際には透光性導電層18の露出部)の大部分にp側電極14aを形成することにより、電極パッド17aと兼用することもできる。   Further, since the p-side electrode 14a and the electrode pad 17a are formed of a metal film, the light emitted from the light-emitting portion can hardly be transmitted. If the surface is covered with these metal films, the p-side electrode 14a and the electrode pad 17a are reflected internally. Only the light emitted from the side surface can be attenuated, although not as much as the structure that reduces the light emission itself. Therefore, as shown in FIG. 4B, the light emitting unit 10f in which the p-side electrode is connected to the electrode pad is formed and etched with the same structure as that of the normal light emitting unit, and the semiconductor stacked portion is formed. By forming the p-side electrode 14a on most of the exposed portion of the shape layer (actually, the exposed portion of the translucent conductive layer 18), it can also be used as the electrode pad 17a.

このような一方向のみに発光部ユニット10が接続された直流駆動用の接続の場合でも、図5に等価回路図で示されるように、さらに並列に接続して全体の輝度を大きくする構造にすることができる。この場合には、一対の電極パッド17a、17bに直接接続される発光部ユニット10d(図ではダイオード記号に斜線を付してある)の全てに輝度を低下させる手段が施される構造にする必要がある。電極パッド17a、17bに直接接続される発光部ユニット10dのどれにサージが流れ込むか分らないからである(全部に流れ込む場合が多い)。   Even in the case of connection for direct current driving in which the light emitting unit 10 is connected only in one direction, as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 5, the structure is further connected in parallel to increase the overall luminance. can do. In this case, it is necessary to have a structure in which means for reducing the luminance is applied to all of the light emitting unit 10d (the diode symbol is hatched in the figure) directly connected to the pair of electrode pads 17a and 17b. There is. This is because it does not know which of the light emitting unit 10d directly connected to the electrode pads 17a and 17b flows into the surge (it often flows into all of them).

以上のように、発光部ユニットを直並列に接続した発光素子でサージが入力した場合に、pn接合がダメージを受けて輝度は低下するが、pn接合そのものは維持してサージを吸収する性質があるという知見に基づいて、サージが入力する最初の発光部ユニットの輝度を予め小さくしておいて、サージが入力してpn接合がダメージを受けてもそれ以上輝度が低下しないようにすることにより、サージの影響を殆ど受けることがなくなり、さらにサージによりダメージを受けたpn接合もさらにつぎに入力するダメージに対してその波形を鈍らせる、すなわちサージを吸収する作用をする性質を利用しているため、サージに対して非常に信頼性の高い半導体発光素子となり、電灯や蛍光管などに代って用いられる室内の照明灯はもとより、屋外の信号機など種々の照明装置などに信頼性よく利用することができる。   As described above, when a surge is input from a light emitting element in which the light emitting unit is connected in series and parallel, the pn junction is damaged and the luminance is reduced, but the pn junction itself is maintained and absorbs the surge. Based on the knowledge that there is, by reducing the brightness of the first light emitting unit that the surge is input in advance so that the pn junction is damaged due to the surge being input, the brightness is not further reduced The pn junction damaged by the surge is almost unaffected by the surge, and the waveform is blunted against the next input damage, that is, the surge absorbing function is used. Therefore, it becomes a highly reliable semiconductor light-emitting device against surges, and it can be used not only for indoor lighting used instead of electric lamps and fluorescent tubes, but also for indoor lighting. It can be utilized such as various such as traffic lighting device reliably.

本発明による半導体発光素子の一実施形態の模式的平面説明図である。It is typical plane explanatory drawing of one Embodiment of the semiconductor light-emitting device by this invention. 図1の発光部ユニット部分の半導体構造を示す断面説明図である。FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view showing a semiconductor structure of a light emitting unit unit portion of FIG. 1. 交流駆動用の発光部ユニットの他の接続例を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the other example of a connection of the light emission part unit for alternating current drive. 直流駆動用の発光部ユニットの接続例を示す平面説明図である。It is plane explanatory drawing which shows the example of a connection of the light emission part unit for a DC drive. 直流駆動用の他の接続例を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram showing another example of connection for direct current drive. 従来のLEDを用いて交流電源に接続する例の説明図である。It is explanatory drawing of the example connected to alternating current power supply using conventional LED.

符号の説明Explanation of symbols

10 発光部ユニット
10d サージ吸収用発光部ユニット
14a p側電極
14b n側電極
16 配線
17a、17b 電極パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light emission part unit 10d Light emission part unit for surge absorption 14a P side electrode 14b N side electrode 16 Wiring 17a, 17b Electrode pad

Claims (6)

n形層およびp形層の半導体層が発光層形成部を形成するように積層され、電気的に分離して複数個の発光部ユニットが形成されると共に、該複数個の発光部ユニットが配線により直列および/または並列に接続されてその両端部に一対の電極パッドが形成される半導体発光素子であって、前記一対の電極パッドの少なくとも一方に直接n側電極が接続される発光部ユニットが、他の発光部ユニットより輝度を小さくしたサージ吸収用として形成されてなる半導体発光素子。   The n-type layer and the p-type semiconductor layer are stacked so as to form a light emitting layer forming part, and are electrically separated to form a plurality of light emitting part units, and the plurality of light emitting part units are wired. A semiconductor light emitting device that is connected in series and / or in parallel and has a pair of electrode pads formed at both ends thereof, and a light emitting unit in which an n-side electrode is directly connected to at least one of the pair of electrode pads. A semiconductor light-emitting element formed for surge absorption with a lower luminance than other light-emitting unit. 前記サージ吸収用として形成される発光部ユニットのn形層に接続される電極が前記一対の電極パッドの一方として形成されてなる請求項1記載の半導体発光素子。   2. The semiconductor light emitting element according to claim 1, wherein an electrode connected to the n-type layer of the light emitting unit formed for absorbing the surge is formed as one of the pair of electrode pads. 前記複数個の発光部ユニットが、直列に接続されると共に逆並列に前記一対の電極間に接続されることにより、交流で駆動し得るように接続され、前記一対の電極パッドのそれぞれにn側電極が直接接続される全ての発光部ユニットの輝度が小さくなるように形成されてなる請求項1または2記載の半導体発光素子。   The plurality of light emitting unit units are connected in series and connected in parallel between the pair of electrodes so as to be driven by alternating current, and each of the pair of electrode pads is connected to the n side. 3. The semiconductor light emitting device according to claim 1 or 2, wherein all the light emitting unit units to which the electrodes are directly connected are formed so as to reduce the luminance. 前記複数個の発光部ユニットが、直列に接続され、またはpn接合が同一方向に直列および並列に接続されて前記一対の電極パッド間に接続されることにより直流で駆動し得るように形成され、前記発光部ユニットのn側電極が前記一対の電極パッドの一方に直接接続される発光部ユニットの1つのn側電極が前記一対の電極パッドの一方として形成されてなる請求項1または2記載の半導体発光素子。   The plurality of light emitting unit units are connected in series, or pn junctions are connected in series and in parallel in the same direction and are connected between the pair of electrode pads so that they can be driven by direct current, 3. The n-side electrode of the light-emitting unit, in which the n-side electrode of the light-emitting unit is directly connected to one of the pair of electrode pads, is formed as one of the pair of electrode pads. Semiconductor light emitting device. 前記発光層形成部が窒化物半導体により青色光または紫外光を発光するように形成され、前記複数個の発光部ユニットからなる発光素子チップの発光面側に該発光素子チップが発光する光を白色光に変換する発光色変換部材が塗布されてなる請求項1ないし4のいずれか1項記載の半導体発光素子。   The light emitting layer forming part is formed by a nitride semiconductor so as to emit blue light or ultraviolet light, and the light emitted from the light emitting element chip on the light emitting surface side of the light emitting element chip composed of the plurality of light emitting part units is white. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein a light-emitting color conversion member that converts light is applied. 前記半導体層が絶縁性基板または半絶縁層上に積層され、各発光部ユニットの前記n形層およびp形層に接続される電極が前記積層される半導体層の表面側に設けられ、前記輝度を小さくする発光部ユニットが、該発光部ユニットの表面積でn形層の露出する面積が全体の60〜90%になるように形成されてなる請求項1ないし5のいずれか1項記載の半導体発光素子。   The semiconductor layer is laminated on an insulating substrate or a semi-insulating layer, and electrodes connected to the n-type layer and the p-type layer of each light emitting unit are provided on the surface side of the laminated semiconductor layer, and the luminance 6. The semiconductor according to claim 1, wherein the light emitting unit that reduces the size of the light emitting unit is formed such that an exposed area of the n-type layer is 60 to 90% of a surface area of the light emitting unit. Light emitting element.
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