JP2007157802A - 半導体レーザ装置及び半導体レーザ装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Znを拡散して端面窓領域113を形成し、エッチング停止層106にGaInP層を用いる半導体レーザ装置において、GaとInの組成比を特定の範囲内の組成比とすることにより、エッチング停止層106のクラッド層105に対するエッチングレート比を向上させ、かつ、活性層104にZnが拡散することを抑制することができるため、リッジストライプ構造の形成精度を維持し、動作電流の増加を抑制しながら、高出力化を図ることが可能となる。
【選択図】図1
Description
これらは、DVD(Degital Versatile Disk)のピックアップ光源となる波長650nm帯の赤色半導体レーザとCD(Compact Disk)のピックアップ光源となる波長780nm帯の赤外半導体レーザが同一基板上に集積されている。
図4は従来の高出力2波長半導体レーザを示す断面図である。
まず、n型GaAs基板1a上に発振波長780nm帯の赤外半導体レーザAとして、n型GaAsバッファ層2a、n型AlGaInPクラッド層3a、発振波長780nmのGaAsウェル層とAlGaAsバリア層からなる多重量子井戸の活性層4a、p型AlGaInP第1クラッド層5a、p型GaInPエッチング停止層6a、p型AlGaInP第2クラッド層7a、p型GaInP中間層8a、p型GaAsコンタクト層9aを形成する。
次に、発振波長650nm帯の赤色半導体レーザBとして、n型AlGaInPクラッド層1b、発振波長650nmのGaInPウェル層とAlGaInPバリア層からなる多重量子井戸の活性層2b、p型AlGaInP第3クラッド層3b、p型GaInPエッチング停止層4b、p型AlGaInP第4クラッド層5b、p型GaInP中間層6b、p型GaAsコンタクト層7bを形成する。
次に、両端面以外の領域に選択的にSiO2膜をマスクとしてデポし、両端面にZnO膜をデポした後、更にSiO2膜をデポする。
次に、電流狭窄のためのリッジストライプ構造を形成するため、マスクを用いてリッジ領域以外の赤外半導体レーザのp型GaAsコンタクト層9a、p型GaInP中間層8a、p型AlGaInP第2クラッド層7a、赤色半導体レーザのp型GaAsコンタクト層7b、p型GaInP中間層6b、p型AlGaInP第4クラッド層5bまで選択的にエッチングを行う。エッチングは赤外半導体レーザのp型AlGaInP第2クラッド層7a、赤色半導体レーザのp型AlGaInP第4クラッド層5bまでエッチングした後、p型AlGaInPクラッド層に対してエッチングレートの遅い赤外半導体レーザのp型GaInPエッチング停止層6a、赤色半導体レーザのp型GaInPエッチング停止層4bで停止させ、図4に示すようなモノリシック2波長レーザを作製する(例えば、特許文献1参照)。
請求項3記載の半導体レーザ装置は、Znを拡散した端面窓を備えて発振波長の異なる第1の半導体レーザと第2の半導体レーザとをモノリシックに集積して成る2波長半導体レーザ装置であって、第1の第1導電型半導体基板上に、第1の半導体レーザが、第1の第1導電型クラッド層、第1の活性層、第1の第2導電型クラッド層、第1のエッチング停止層、第2の第2導電型クラッド層を積層して成り、第2の半導体レーザが、第2の第1導電型クラッド層、第2の活性層、第3の第2導電型クラッド層、第2のエッチング停止層、第4の第2導電型クラッド層を積層して成り、前記第4の第2導電型クラッド層の組成が(AlZGa1−Z)0.5In0.5P(0.6<Z<0.75)であり、前記第2のエッチング停止層が1または複数の(AlXGa1−X)1−YInYP層(0≦X<0.3、0.35<Y<0.45)から形成されることを特徴とする。
(実施の形態1)
実施の形態1として、発振波長650nmのDVD用の赤色半導体レーザ装置について、図1,図2を用いて説明する。
以下、実施の形態1における赤色半導体レーザ装置についてその製造方法に沿って説明する。
次に、図1(e)に示すように、電流を狭窄するためのストライプ構造を形成するためp型GaAsコンタクト層109、p型Ga0.5In0.5P中間層108、p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第2クラッド層107を選択的エッチング除去する。
(実施の形態2)
実施の形態2として、発振波長650nmの赤色半導体レーザと発振波長780nmの赤外半導体レーザをモノリシックに集積した2波長半導体レーザ装置について、図3を用いて説明する。
以下、実施の形態2における2波長半導体レーザ装置についてその製造方法に沿って説明する。
次に、図3(d)に示すように、電流を狭窄するためのストライプ構造を形成するため第1の半導体レーザ12のp型GaAsコンタクト層122、p型Ga0.5In0.5P中間層121、p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第2クラッド層120と、第2の半導体レーザ13のp型GaAsコンタクト層129、p型Ga0.5In0.5P中間層128、p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第2クラッド層127を順次エッチングにより除去する。
以上の実施の形態における、基板,バッファ層,活性層,中間層およびコンタクト層の組成やキャリア濃度は任意であり、エッチング停止層とクラッド層の組成の関係は、エッチング停止層のクラッド層に対するエッチングレート比が大きくなる様に設定する。
B 赤色半導体レーザ
12 第1の半導体レーザ素子
13 第2の半導体レーザ素子
1a n型GaAs基板
2a n型GaAsバッファ層
3a n型AlGaInPクラッド層
4a 活性層
5a p型AlGaInP第1クラッド層
6a p型GaInPエッチング停止層
7a p型AlGaInP第2クラッド層
8a p型GaInP中間層
9a p型GaAsコンタクト層
1b n型AlGaInPクラッド層
2b 活性層
3b p型AlGaInP第3クラッド層
4b p型GaInPエッチング停止層
5b p型AlGaInP第4クラッド層
6b p型GaInP中間層
7b p型GaAsコンタクト層
101 n型GaAs基板
102 n型GaAsバッファ層
103 n型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層
104 活性層
105 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第1クラッド層
106 p型Ga0.65In0.35Pエッチング停止層
107 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第2クラッド層
108 p型Ga0.5In0.5P中間層
109 p型GaAsコンタクト層
110 SiO2膜
111 ZnO膜
112 SiO2膜
113 端面窓領域
114 n型GaAs基板
115 n型GaAsバッファ層
116 n型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層
117 第1活性層
118 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第1クラッド層
119 p型Ga0.5In0.5P第1エッチング停止層
120 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第2クラッド層
121 p型Ga0.5In0.5P中間層
122 p型GaAsコンタクト層
123 n型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層
124 第2活性層
125 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第3クラッド層
126 p型Ga0.6In0.4P第2エッチング停止層
127 p型(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P第4クラッド層
128 p型Ga0.5In0.5P中間層
129 p型GaAsコンタクト層
Claims (8)
- Znを拡散して端面窓を形成する半導体レーザ装置であって、
第1導電型半導体基板上に、第1導電型クラッド層、活性層、第1の第2導電型クラッド層、エッチング停止層および第2の第2導電型クラッド層を積層して成り、
前記第2の第2導電型クラッド層の組成が(AlZGa1−Z)0.5In0.5P(0.6<Z<0.75)であり、
前記エッチング停止層が1または複数の(AlXGa1−X)1−YInYP層(0≦X<0.3、0.35<Y<0.45)から形成されることを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記エッチング停止層の1層の膜厚が5nm以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
- Znを拡散した端面窓を備えて発振波長の異なる第1の半導体レーザと第2の半導体レーザとをモノリシックに集積して成る2波長半導体レーザ装置であって、
第1の第1導電型半導体基板上に、
第1の半導体レーザが、第1の第1導電型クラッド層、第1の活性層、第1の第2導電型クラッド層、第1のエッチング停止層、第2の第2導電型クラッド層を積層して成り、
第2の半導体レーザが、第2の第1導電型クラッド層、第2の活性層、第3の第2導電型クラッド層、第2のエッチング停止層、第4の第2導電型クラッド層を積層して成り、
前記第4の第2導電型クラッド層の組成が(AlZGa1−Z)0.5In0.5P(0.6<Z<0.75)であり、
前記第2のエッチング停止層が1または複数の(AlXGa1−X)1−YInYP層(0≦X<0.3、0.35<Y<0.45)から形成されることを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記第1の活性層がAlGaAs系材料からなり、前記第2の活性層がAlGaInP系材料から成ることを特徴とする請求項3記載の半導体レーザ装置。
- 前記第2のエッチング停止層の1層の膜厚が5nm以下であることを特徴とする請求項3または請求項4のいずれかに記載の半導体レーザ装置。
- 第1導電型半導体基板上に第1導電型クラッド層を形成する工程と、
前記第1導電型クラッド層上に活性層を形成する工程と、
前記活性層上に第2導電型第1クラッド層を形成する工程と、
前記第1の第2導電型クラッド層上に膜厚が5nm以下であり、0≦X<0.3、0.35<Y<0.45を満たす複数の(AlXGa1−X)1−YInYP層から成るエッチング停止層を形成する工程と、
前記エッチング停止層上に組成が(AlZGa1−Z)0.5In0.5P(0.6<Z<0.75)である第2の第2導電型クラッド層を形成する工程と、
端面窓領域にZnを拡散する工程と、
ストライプ構造を形成するため前記第2の第2導電型クラッド層をエッチングする工程と
を有することを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。 - Znを拡散した端面窓を備えて発振波長の異なる第1の半導体レーザと第2の半導体レーザとをモノリシックに集積して成る2波長半導体レーザ装置の製造方法であって、
第1導電型半導体基板上に前記第1の半導体レーザを形成する積層体として、第1の第1導電型クラッド層、第1の活性層、第1の第2導電型クラッド層、第1のエッチング停止層および第2の第2導電型クラッド層を積層する工程と、
前記第2の半導体レーザを形成する領域上の前記第1の半導体レーザを形成する積層体を選択的にエッチング除去する工程と、
前記第2の半導体レーザを形成する積層体として、第2の第1導電型クラッド層、第2の活性層、第3の第2導電型クラッド層、第2のエッチング停止層および第4の第2導電型クラッド層を積層する工程と、
前記第1の半導体レーザを形成する積層体上の前記第2の半導体レーザを形成する積層体を選択的にエッチング除去する工程と、
前記第1の半導体レーザおよび前記第2半導体レーザの端面窓領域にZnを拡散する工程と、
前記第2の第2導電型クラッド層と前記第4の第2導電型クラッド層とをエッチングしてストライプ構造を形成する工程と
を有し、前記第1のエッチング停止層および前記第2の第2導電型クラッド層、または、前記第2のエッチング停止層および前記第4の第2導電型クラッド層のうち少なくともいずれか一方のエッチング停止層および第2導電型クラッド層の組成が、1または複数層の(AlXGa1−X)1−YInYP(0≦X<0.3、0.35<Y<0.45)および(AlZGa1−Z)0.5In0.5P(0.6<Z<0.75)であることを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。 - 前記第1の活性層がAlGaAs系材料からなり、前記第2の活性層がAlGaInP系材料から成ることを特徴とする請求項7記載の半導体レーザ装置の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105406359A (zh) * | 2015-12-29 | 2016-03-16 | 山东华光光电子有限公司 | 一种含有高选择性腐蚀阻挡层的AlGaInP半导体激光器 |
CN106300012A (zh) * | 2016-09-19 | 2017-01-04 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种含有高选择性腐蚀阻挡层的808nm半导体激光器 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001210907A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体素子の製造方法および半導体素子 |
JP2002026447A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2003078204A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-03-14 | Sharp Corp | 半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2004235382A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2005159229A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザ装置の製造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001210907A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体素子の製造方法および半導体素子 |
JP2002026447A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2003078204A (ja) * | 2001-09-05 | 2003-03-14 | Sharp Corp | 半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2004235382A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2005159229A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザ装置の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105406359A (zh) * | 2015-12-29 | 2016-03-16 | 山东华光光电子有限公司 | 一种含有高选择性腐蚀阻挡层的AlGaInP半导体激光器 |
CN105406359B (zh) * | 2015-12-29 | 2019-06-18 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种含有高选择性腐蚀阻挡层的AlGaInP半导体激光器 |
CN106300012A (zh) * | 2016-09-19 | 2017-01-04 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种含有高选择性腐蚀阻挡层的808nm半导体激光器 |
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