JP2007149722A - 加圧加工装置、加圧加工方法および加圧加工用モールド - Google Patents
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Abstract
【課題】モールドとワーク間の距離を光の波長に依存することなく、高精度に計測して加圧加工することが可能となる加圧加工装置、加圧加工方法および加圧加工用モールドを提供する。
【解決手段】モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置をつぎのように構成する。
すなわち、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測機構を有し、前記距離計測機構は、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測する。
そして、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測可能に構成する。
【選択図】 図1
【解決手段】モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置をつぎのように構成する。
すなわち、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測機構を有し、前記距離計測機構は、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測する。
そして、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測可能に構成する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、モールド(鋳型)またはワーク(被加工部材)のいずれか一方の側を加圧し、モールドの形状をワークに転写する加圧加工装置、加圧加工方法および加圧加工用モールドに関する。
近年において、例えば非特許文献1に紹介されているように、モールド上の凹凸パターンによる微細構造を半導体、ガラス、樹脂や金属等のワークに加圧転写する微細加工技術が開発され、注目を集めている。
この技術は、数ナノメートルオーダーの分解能を持つためナノインプリントあるいはナノエンボッシングなどと呼ばれている。
この技術は、半導体製造に加え、立体構造をウェハレベルで一括加工することが可能となる。
そのため、フォトニッククリスタル等の光学素子、μ−TAS(Micro Total
Analysis System)、バイオチップの製造技術等として幅広い分野への応用が期待されている。
このようなナノインプリントによる加圧加工技術では、例えば、半導体製造技術等に用いるに際し、つぎのようにしてモールド上の微細構造をワークに転写する。
まず、ワークを構成する被加工部材である基板(例えば半導体ウエハ)上に光硬化型の樹脂層を形成する。
つぎに、樹脂層に所望の凹凸パターンによる微細構造が形成されたモールドを押し当てて加圧し、紫外線を照射することで樹脂を硬化させる。これにより樹脂層に上記モールド上の微細構造が転写される。
この樹脂層をマスクとしてエッチング等を行うことにより、上記基板へ上記モールドの微細構造が形成される。
この技術は、数ナノメートルオーダーの分解能を持つためナノインプリントあるいはナノエンボッシングなどと呼ばれている。
この技術は、半導体製造に加え、立体構造をウェハレベルで一括加工することが可能となる。
そのため、フォトニッククリスタル等の光学素子、μ−TAS(Micro Total
Analysis System)、バイオチップの製造技術等として幅広い分野への応用が期待されている。
このようなナノインプリントによる加圧加工技術では、例えば、半導体製造技術等に用いるに際し、つぎのようにしてモールド上の微細構造をワークに転写する。
まず、ワークを構成する被加工部材である基板(例えば半導体ウエハ)上に光硬化型の樹脂層を形成する。
つぎに、樹脂層に所望の凹凸パターンによる微細構造が形成されたモールドを押し当てて加圧し、紫外線を照射することで樹脂を硬化させる。これにより樹脂層に上記モールド上の微細構造が転写される。
この樹脂層をマスクとしてエッチング等を行うことにより、上記基板へ上記モールドの微細構造が形成される。
以上のインプリント技術において、モールド上の凹凸パターンによる微細構造を転写するに際し、転写精度を高めて高精細な微細加工を行うため、モールドと上記被加工部材である基板間の距離(ギャップ)の計測が必要となる。
そのため、例えば、特許文献1では、モールド上の微細構造を転写するに当たり、光の干渉を用いてモールドとワーク間の距離を計測し、モールドとワーク間の距離を制御する提案がなされている。
米国特許第6696220号明細書
Stephan Y.Chou et.al., Appl.Phys.Lett,Vol.67,Issue 21,pp. 3114−3116(1995)
そのため、例えば、特許文献1では、モールド上の微細構造を転写するに当たり、光の干渉を用いてモールドとワーク間の距離を計測し、モールドとワーク間の距離を制御する提案がなされている。
ところで、昨今の高精細な微細加工に対する要求がより一層高まる中、上記インプリントによる加圧加工においても転写精度の更なる向上が求められている。しかしながら、上記した従来例の特許文献1のものでは、モールドとワーク間の距離の計測に光の干渉が用いられているため、波長以下の計測を精度よく行うことが難しく、転写精度の向上を図る上で、必ずしも満足の得られるものではなかった。
本発明は、上記課題に鑑み、モールドとワーク間の距離を光の波長に依存することなく、高精度に計測して加圧加工することが可能となる加圧加工装置、加圧加工方法および加
圧加工用モールドを提供することを目的とするものである。
圧加工用モールドを提供することを目的とするものである。
本発明は上記課題を解決するため、つぎのように構成した加圧加工装置、加圧加工方法および加圧加工用モールドを提供するものである。
本発明は、モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置を、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測機構を有し、前記距離計測機構は、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測する。
そして、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測可能に構成したことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、前記距離計測機構が前記モールドの加工面の法線に対して傾いた光軸を持つ光学系を備えていることを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、前記距離計測機構が前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測可能に構成したことを特徴としている。
また、本発明は、モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工方法を、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測し、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測工程を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工方法は、前記距離計測工程が、前記モールドの加工面の法線に対し、傾いた光軸方向からの光学観測によって前記距離計測構造を計測する工程を含むことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工方法は、前記距離計測工程が、前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測する工程を含むことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、上記したいずれかに記載の加圧加工装置、または上記したいずれかに記載の加圧加工方法に用いられる加圧加工用モールドを、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドの加工面側に、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造と対応して設けられた距離計測構造を有することを特徴としている。また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、短冊形の構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と、異なる周期の周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と重なることによって、モアレ縞を発生する周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、凹凸パターンを有するモールドの該パターンを、基板上の部材に転写するための加圧加工装置を、つぎの(1)乃至(2)の保持部と、(3)の光学観測部を備えた構成を有している。
(1)前記モールドを保持するための第1の保持部。
(2)前記モールドの該凹凸パターンが形成されている第1の表面と平行になるように、前記基板の第2の表面を保持するための第2の保持部。
(3)前記第1の表面の法線方向に対して傾斜した光軸を有し、且つ前記モールドと前記
基板とにそれぞれ形成されているアライメントマークを観測するための、光学観測部。
そして、前記光学観測部からの情報を用いて、前記モールドと前記基板との間の距離を、前記モールドの前記第1の表面に平行な平面情報に置き替えることを特徴としている。
本発明は、モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置を、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測機構を有し、前記距離計測機構は、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測する。
そして、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測可能に構成したことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、前記距離計測機構が前記モールドの加工面の法線に対して傾いた光軸を持つ光学系を備えていることを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、前記距離計測機構が前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測可能に構成したことを特徴としている。
また、本発明は、モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工方法を、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測し、前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測工程を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工方法は、前記距離計測工程が、前記モールドの加工面の法線に対し、傾いた光軸方向からの光学観測によって前記距離計測構造を計測する工程を含むことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工方法は、前記距離計測工程が、前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測する工程を含むことを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、上記したいずれかに記載の加圧加工装置、または上記したいずれかに記載の加圧加工方法に用いられる加圧加工用モールドを、つぎのように構成したことを特徴としている。
すなわち、前記モールドの加工面側に、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造と対応して設けられた距離計測構造を有することを特徴としている。また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、短冊形の構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と、異なる周期の周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工用モールドは、前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と重なることによって、モアレ縞を発生する周期構造を有することを特徴としている。
また、本発明の加圧加工装置は、凹凸パターンを有するモールドの該パターンを、基板上の部材に転写するための加圧加工装置を、つぎの(1)乃至(2)の保持部と、(3)の光学観測部を備えた構成を有している。
(1)前記モールドを保持するための第1の保持部。
(2)前記モールドの該凹凸パターンが形成されている第1の表面と平行になるように、前記基板の第2の表面を保持するための第2の保持部。
(3)前記第1の表面の法線方向に対して傾斜した光軸を有し、且つ前記モールドと前記
基板とにそれぞれ形成されているアライメントマークを観測するための、光学観測部。
そして、前記光学観測部からの情報を用いて、前記モールドと前記基板との間の距離を、前記モールドの前記第1の表面に平行な平面情報に置き替えることを特徴としている。
本発明によれば、モールドとワーク間の距離を光の波長に依存することなく、高精度に計測して加圧加工することが可能となる加圧加工装置、加圧加工方法および加圧加工用モールドを実現することができる。
上記構成により、モールドとワーク間の距離を光の波長に依存することなく、高精度に計測することが可能となるが、それは本発明者らのつぎのような知見に基づくものである。
本発明者らは、鋭意研究した結果、モールドとワークの間の距離を、モールドの加工面と平行な平面の情報に置き換えて計測することが可能となる計測手法を見出した。
以下に、これらの計測手法を明らかにするため、モールドとワークの距離計測原理について説明する。
図1に、本実施の形態におけるモールドとワーク間の距離計測の原理を説明する概念図を示す。
座標はモールドとワークが所望の位置で接触している時のワーク側を系全体の原点とし、この位置においてモールドの原点と系全体の原点は一致している。
xy平面はワーク表面に平行で、z軸はワークの法線方向である。
ここで、面内位置合わせとはxy平面上での位置合わせとし、距離計測とはモールドとワークのz軸における距離とする。
モールドには、モールドの距離計測構造101、ワークにはワークの距離計測構造102が、それぞれ設けられている。
このモールドの距離計測構造には、短冊形の構造がx軸を境にy軸の正方向にあり、x方向に周期的に並んでいる。
また、ワークには、短冊形の構造がx軸を境にy軸の負方向にあり、それが単独で存在している。そのためモールドとワークの距離計測構造をzx平面上の軸から観察した時に、それぞれの構造が重ならないようになっている。
本発明者らは、鋭意研究した結果、モールドとワークの間の距離を、モールドの加工面と平行な平面の情報に置き換えて計測することが可能となる計測手法を見出した。
以下に、これらの計測手法を明らかにするため、モールドとワークの距離計測原理について説明する。
図1に、本実施の形態におけるモールドとワーク間の距離計測の原理を説明する概念図を示す。
座標はモールドとワークが所望の位置で接触している時のワーク側を系全体の原点とし、この位置においてモールドの原点と系全体の原点は一致している。
xy平面はワーク表面に平行で、z軸はワークの法線方向である。
ここで、面内位置合わせとはxy平面上での位置合わせとし、距離計測とはモールドとワークのz軸における距離とする。
モールドには、モールドの距離計測構造101、ワークにはワークの距離計測構造102が、それぞれ設けられている。
このモールドの距離計測構造には、短冊形の構造がx軸を境にy軸の正方向にあり、x方向に周期的に並んでいる。
また、ワークには、短冊形の構造がx軸を境にy軸の負方向にあり、それが単独で存在している。そのためモールドとワークの距離計測構造をzx平面上の軸から観察した時に、それぞれの構造が重ならないようになっている。
図1(a)、(c)、(e)は、モールドおよびワークをzx平面で切った状態を示す図である。
顕微鏡103はzx平面上にあり、顕微鏡の光軸は原点で交わりz軸とθの角度である。図1(b)、(d)、(f)は、それらの構造を顕微鏡の光軸から観察した時に、x軸を境にy軸の正の領域にモールドの構造、負の領域にワークの構造が観察された状態を示す図である。
ここで、モールドの短冊形構造A,B,Cとワークの短冊形構造Wを使って説明する。
まず、モールドの原点と系全体の原点が一致する位置にこれらを設定する。
この位置おいて、これらを顕微鏡で観察すると、モールドのAとワークのWが一致している。
つぎに、上記したAとワークのWが一致している位置から、モールドをz方向へ移動して、図1(a)に示す位置になったとする。その際、光軸がz軸とθの角度を有する顕微鏡103では、図1(b)に示されるようにモールドのBとワークのWが一致して観察される。
ここで、図1(a)からモールドの位置がzの正方向に移動して、図1(c)になったとする。この場合には、顕微鏡では図1(d)に示されるようにモールドのCとワークのWが一致して観察される。
ただし、図1(c)と同じ高さであっても、モールドとワークの位置関係がx方向にずれ
た図1(e)のような場合、顕微鏡では図1(f)に示されるようにモールドのBとワークのWが一致して観察される。
顕微鏡103はzx平面上にあり、顕微鏡の光軸は原点で交わりz軸とθの角度である。図1(b)、(d)、(f)は、それらの構造を顕微鏡の光軸から観察した時に、x軸を境にy軸の正の領域にモールドの構造、負の領域にワークの構造が観察された状態を示す図である。
ここで、モールドの短冊形構造A,B,Cとワークの短冊形構造Wを使って説明する。
まず、モールドの原点と系全体の原点が一致する位置にこれらを設定する。
この位置おいて、これらを顕微鏡で観察すると、モールドのAとワークのWが一致している。
つぎに、上記したAとワークのWが一致している位置から、モールドをz方向へ移動して、図1(a)に示す位置になったとする。その際、光軸がz軸とθの角度を有する顕微鏡103では、図1(b)に示されるようにモールドのBとワークのWが一致して観察される。
ここで、図1(a)からモールドの位置がzの正方向に移動して、図1(c)になったとする。この場合には、顕微鏡では図1(d)に示されるようにモールドのCとワークのWが一致して観察される。
ただし、図1(c)と同じ高さであっても、モールドとワークの位置関係がx方向にずれ
た図1(e)のような場合、顕微鏡では図1(f)に示されるようにモールドのBとワークのWが一致して観察される。
以上のことから明らかなように、顕微鏡で観察した場合にモールドのAからワークのWの長さLは、モールドの高さとx方向の移動距離の二つの情報を含むことになる。
つまり、モールドのAが(x,y,z)の位置にある時、顕微鏡で観察されるLは、次の式で表すことができる。
つまり、モールドのAが(x,y,z)の位置にある時、顕微鏡で観察されるLは、次の式で表すことができる。
ただし、z方向から観察する光軸を追加することにより、xの位置情報を分離することができ、モールドとワークの間の距離を計測することが可能となる。
このような原理を適用することで、モールドとワークの間の距離を、モールドと平行な平面の情報に置き換えて計測することができる。
これにより、光の波長に依存せず、全ての領域をリニアに検出することが可能になる。
なお、距離計測構造は、周期的構造と単独構造がモールドとワークで、上記した本実施の形態の構造と逆になってもよい。
さらに、両方が周期的構造であっても良いし、単独の構造であっても良い。
両方が周期的に並ぶ場合、その周期は同じであっても良いし、違っても良い。
また、それらの位置関係は重ならない位置であっても良いし、重なっても良い。このように距離計測構造に周期構造を用いることによって、より高精度なモールドとワークの間の距離計測が可能となる。
特に、異なるピッチのものが重なり合う場合にはモアレ縞を発生し、この現象を利用することにより高精度のモールドとワークの間の距離計測をすることができる。
また、距離計測構造は上記したように短冊形構造である必要はなく、円、十字、ボックスなどであっても良い。
さらに、上記した原理を適用し、モールドとワークの3次元6軸の姿勢を計算する手法を用いることにより、モールドの構造を転写する精度を向上することができる。
また、このような距離計測構造をモールドとワークによる加圧加工に利用することで、特に微細な構造を転写する時の精度を向上することが可能となる。
また、以上の技術は、半導体製造技術、フォトニッククリスタル等の光学素子やμ−TAS等のバイオチップの製造技術等として利用することができる。
このような原理を適用することで、モールドとワークの間の距離を、モールドと平行な平面の情報に置き換えて計測することができる。
これにより、光の波長に依存せず、全ての領域をリニアに検出することが可能になる。
なお、距離計測構造は、周期的構造と単独構造がモールドとワークで、上記した本実施の形態の構造と逆になってもよい。
さらに、両方が周期的構造であっても良いし、単独の構造であっても良い。
両方が周期的に並ぶ場合、その周期は同じであっても良いし、違っても良い。
また、それらの位置関係は重ならない位置であっても良いし、重なっても良い。このように距離計測構造に周期構造を用いることによって、より高精度なモールドとワークの間の距離計測が可能となる。
特に、異なるピッチのものが重なり合う場合にはモアレ縞を発生し、この現象を利用することにより高精度のモールドとワークの間の距離計測をすることができる。
また、距離計測構造は上記したように短冊形構造である必要はなく、円、十字、ボックスなどであっても良い。
さらに、上記した原理を適用し、モールドとワークの3次元6軸の姿勢を計算する手法を用いることにより、モールドの構造を転写する精度を向上することができる。
また、このような距離計測構造をモールドとワークによる加圧加工に利用することで、特に微細な構造を転写する時の精度を向上することが可能となる。
また、以上の技術は、半導体製造技術、フォトニッククリスタル等の光学素子やμ−TAS等のバイオチップの製造技術等として利用することができる。
以下に、本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
実施例1においては、本発明を適用したモールドとワーク間の距離計測方法について説明する。
図2に、それらを説明する図を示す。
図2(a)〜(d)は、モールドとワークが接触し、系全体の原点が一致している時の距離計測光学系による観察例である。
201の点線はその撮像範囲であり、xy軸は撮像範囲の中心にあり、z軸は紙面に対して裏から表向きである。
x軸を境にy軸の正方向がモールドの構造、負の方向がワークの構造である。
図2(a)は、距離計測構造を短冊形の構造とした構成例である。
すなわち、モールド側に短冊形の構造202、ワーク側に短冊形の構造203がそれぞれ単独で、顕微鏡で観察した時に重ならない位置関係となるように設けられている。
この、図2(a)の構成例について説明すると、まず、モールドとワークが接触している原点でのモールドおよびワークの距離計測構造を計測し、予め記憶させておく。
つぎに、モールドをz方向に移動させた所定位置で、光軸がz軸とθの角度を有する距離計測光学系によって、モールドの短冊形の構造202とワークの短冊形の構造203の、それぞれの長辺を計測する。
この計測結果の構造と、予め記憶させた構造とを比較することによってそれぞれの位置を検出する。
これらに基づいて上記したモールドの距離計測構造における位置(前述したモールドのA)と、ワークの距離計測構造の位置(前述したワークW)との間の長さLを求めることができる。
この長さLに基づいて、前述のモールドとワークの距離計測原理を適用することで、モールドとワークの間の距離を計測することが可能となる。
[実施例1]
実施例1においては、本発明を適用したモールドとワーク間の距離計測方法について説明する。
図2に、それらを説明する図を示す。
図2(a)〜(d)は、モールドとワークが接触し、系全体の原点が一致している時の距離計測光学系による観察例である。
201の点線はその撮像範囲であり、xy軸は撮像範囲の中心にあり、z軸は紙面に対して裏から表向きである。
x軸を境にy軸の正方向がモールドの構造、負の方向がワークの構造である。
図2(a)は、距離計測構造を短冊形の構造とした構成例である。
すなわち、モールド側に短冊形の構造202、ワーク側に短冊形の構造203がそれぞれ単独で、顕微鏡で観察した時に重ならない位置関係となるように設けられている。
この、図2(a)の構成例について説明すると、まず、モールドとワークが接触している原点でのモールドおよびワークの距離計測構造を計測し、予め記憶させておく。
つぎに、モールドをz方向に移動させた所定位置で、光軸がz軸とθの角度を有する距離計測光学系によって、モールドの短冊形の構造202とワークの短冊形の構造203の、それぞれの長辺を計測する。
この計測結果の構造と、予め記憶させた構造とを比較することによってそれぞれの位置を検出する。
これらに基づいて上記したモールドの距離計測構造における位置(前述したモールドのA)と、ワークの距離計測構造の位置(前述したワークW)との間の長さLを求めることができる。
この長さLに基づいて、前述のモールドとワークの距離計測原理を適用することで、モールドとワークの間の距離を計測することが可能となる。
図2(b)は、距離計測構造を短冊形の構造が周期で並ぶようにした構成例である。
すなわち、モールド側の距離計測構造204は短冊形の構造がP1の周期で並び、ワーク側の距離計測構造205は短冊形の構造がP2の周期で並ぶようにされている。ただし、x=0となる位置の短冊構造はそれと認識できるように、他の構造より長く形成されている。
この構成例においても、上記図2(a)の構成例と同様に上記長さLを求めることができる。
すなわち、モールドおよびワークの距離計測構造をあらかじめ記憶させておき、観察した構造と比較(パターン認識)することで、それぞれの位置を検出し、それらを差し引くことでLを計測する。
この方法によれば、図2(a)に比べ周期構造を用いることから計測対象が多くなり、精度を向上させることができる。
すなわち、モールド側の距離計測構造204は短冊形の構造がP1の周期で並び、ワーク側の距離計測構造205は短冊形の構造がP2の周期で並ぶようにされている。ただし、x=0となる位置の短冊構造はそれと認識できるように、他の構造より長く形成されている。
この構成例においても、上記図2(a)の構成例と同様に上記長さLを求めることができる。
すなわち、モールドおよびワークの距離計測構造をあらかじめ記憶させておき、観察した構造と比較(パターン認識)することで、それぞれの位置を検出し、それらを差し引くことでLを計測する。
この方法によれば、図2(a)に比べ周期構造を用いることから計測対象が多くなり、精度を向上させることができる。
図2(c)は、距離計測構造をモールド側及びワーク側に短冊形の構造による周期が複数で並ぶようにした構成例である。
すなわち、モールド側の距離計測構造に短冊構造がP3の周期206とP4の周期207で並ぶ物が用いられる。
一方、ワーク側の距離計測構造に短冊構造がP5の周期208とP6の周期209で並ぶ物が用いられる。
これらをパターン認識によってP3,P4の位置を計測し、モールドの位置を計算する。
また、P5,P6をそれぞれ計測し、ワークの位置を計算する。
この方法では、距離計測光学系の撮像範囲内に基準点が入っていなくても上記したLを計測することができる。
すなわち、モールド側の距離計測構造に短冊構造がP3の周期206とP4の周期207で並ぶ物が用いられる。
一方、ワーク側の距離計測構造に短冊構造がP5の周期208とP6の周期209で並ぶ物が用いられる。
これらをパターン認識によってP3,P4の位置を計測し、モールドの位置を計算する。
また、P5,P6をそれぞれ計測し、ワークの位置を計算する。
この方法では、距離計測光学系の撮像範囲内に基準点が入っていなくても上記したLを計測することができる。
図2(d)は、モアレ縞を発生するようにした構成例である。
この構成例では、P9の周期のモアレ縞210とモアレ縞211が並んでおり、モアレ縞210はモールドの短冊形構造がP7の周期で並び、ワークの短冊形構造がP8の周期で並んでいて、それらが重なることによって発生する。
一方、モアレ縞211はモールドの短冊形構造がP8の周期で並び、ワークの短冊形構造がP7の周期で並んでいて、それらが重なることによって発生する。
画像は図2(a)〜図2(c)は矩形の強度変化をするのに対し、図2(d)はなだらかに変化するため画素数より小さい分解能の計測をすることが可能になる。
まず、画像からP9の周期成分のみをフィルターによって抽出し、その信号を規格化した信号
とP9の周期を持つ基準信号
を掛けることにより次式を得る。
右辺の周期に関係ない成分
をフィルターによって抽出することにより位相を検出することができる。
なお、以上の計測方法はお互いに組み合わせて使うことにより、互いの利点を利用することができる。
この構成例では、P9の周期のモアレ縞210とモアレ縞211が並んでおり、モアレ縞210はモールドの短冊形構造がP7の周期で並び、ワークの短冊形構造がP8の周期で並んでいて、それらが重なることによって発生する。
一方、モアレ縞211はモールドの短冊形構造がP8の周期で並び、ワークの短冊形構造がP7の周期で並んでいて、それらが重なることによって発生する。
画像は図2(a)〜図2(c)は矩形の強度変化をするのに対し、図2(d)はなだらかに変化するため画素数より小さい分解能の計測をすることが可能になる。
まず、画像からP9の周期成分のみをフィルターによって抽出し、その信号を規格化した信号
とP9の周期を持つ基準信号
を掛けることにより次式を得る。
右辺の周期に関係ない成分
をフィルターによって抽出することにより位相を検出することができる。
なお、以上の計測方法はお互いに組み合わせて使うことにより、互いの利点を利用することができる。
[実施例2]
(装置構成)
実施例1においては、本発明を適用したモールドとワーク間の距離計測手段を有する加圧加工装置について説明する。
図3に、本実施例における加圧加工装置の構成を示す。
図3において、301は光源、302は距離計測光学系である。
303はモールド、304はモールドの距離計測構造、305はワークの距離計測構造、306はワークである。
307は加圧機構、308は面内移動機構、309は撮像素子、310は撮像素子、311は面内位置合わせ光学系である。
312はモールド側の面内位置合わせ構造、313はワーク側の面内位置合わせ構造である。
314は露光制御システム、315はプロセス制御システム、316は姿勢制御システム、317は距離計測システムである。ワーク306の表面をxy平面とし、ワークの法線をz軸とする。
モールド303とワークが対向する位置に配置される。モールド側には距離計測構造304および面内位置合わせ構造312があり、ワーク側には距離計測構造305および面内位置合わせ構造313がある。
ワークは部材を介して加圧機構307、面内移動機構308に接続している。
これらの機構は姿勢制御システム316によって制御される。加圧機構は調整されており、高さ方向に移動する間に、モールドとワークがずれない。
モールドの裏側には光源301があり、露光制御システム314によって制御される。
また、モールドとワークの距離を計測するために距離計測光学系302、撮像素子309、面内位置合わせ光学系311、撮像素子310がある。
(装置構成)
実施例1においては、本発明を適用したモールドとワーク間の距離計測手段を有する加圧加工装置について説明する。
図3に、本実施例における加圧加工装置の構成を示す。
図3において、301は光源、302は距離計測光学系である。
303はモールド、304はモールドの距離計測構造、305はワークの距離計測構造、306はワークである。
307は加圧機構、308は面内移動機構、309は撮像素子、310は撮像素子、311は面内位置合わせ光学系である。
312はモールド側の面内位置合わせ構造、313はワーク側の面内位置合わせ構造である。
314は露光制御システム、315はプロセス制御システム、316は姿勢制御システム、317は距離計測システムである。ワーク306の表面をxy平面とし、ワークの法線をz軸とする。
モールド303とワークが対向する位置に配置される。モールド側には距離計測構造304および面内位置合わせ構造312があり、ワーク側には距離計測構造305および面内位置合わせ構造313がある。
ワークは部材を介して加圧機構307、面内移動機構308に接続している。
これらの機構は姿勢制御システム316によって制御される。加圧機構は調整されており、高さ方向に移動する間に、モールドとワークがずれない。
モールドの裏側には光源301があり、露光制御システム314によって制御される。
また、モールドとワークの距離を計測するために距離計測光学系302、撮像素子309、面内位置合わせ光学系311、撮像素子310がある。
これらは距離計測システム317によって制御される。面内位置合わせ光学系はxy平面内の位置を検出し、距離計測光学系はz方向のモールドとワークの間の距離を計測する。
面内位置合わせ光学系はzの法線に平行な光軸であるのに対し、距離計測光学系はθの角度をなしている。
露光制御システム、位置制御システムおよび距離計測システムはプロセス制御システム315に接続し、プロセス制御システムが全体の制御をする。
加圧加工のプロセスは、光硬化樹脂を塗布されかつ距離計測構造を有するワークがモールドに対向する位置に面内位置合わせ光学系および面内移動機構によって配置される。
前記距離計測方法によってモールドとワークの距離を計測しながら加圧し、光硬化樹脂の膜厚を制御する。
所望の膜厚になったところで光を照射し、光硬化樹脂を硬化させる。
その後、モールドとワークを剥離する。
面内位置合わせ光学系はzの法線に平行な光軸であるのに対し、距離計測光学系はθの角度をなしている。
露光制御システム、位置制御システムおよび距離計測システムはプロセス制御システム315に接続し、プロセス制御システムが全体の制御をする。
加圧加工のプロセスは、光硬化樹脂を塗布されかつ距離計測構造を有するワークがモールドに対向する位置に面内位置合わせ光学系および面内移動機構によって配置される。
前記距離計測方法によってモールドとワークの距離を計測しながら加圧し、光硬化樹脂の膜厚を制御する。
所望の膜厚になったところで光を照射し、光硬化樹脂を硬化させる。
その後、モールドとワークを剥離する。
[実施例3]
実施例3においては、本発明を適用したモールド側及びワーク側への距離計測構造の作製方法について説明する。
図4(a)に、本実施例のモールド側への距離計測構造の作製方法の手順を説明する工程図を示す。
モールド側への作成に際しては、転写するための加工構造404を作り、次に距離計測構造406を、つぎのような手順により作成する。
(1)石英基板402にEBレジスト401をコーティングする。
(2)EB描画装置によって加工構造を描画し、現像する。
(3)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離する。
(4)加工構造のついた石英基板にレジスト405をスピンコートにより塗布する。
(5)位置合わせ構造403を参照しながらマスクとの位置を合わせ、露光、現像をすることによって、距離計測構造406を転写する。
(6)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離することによって所望のモールドを得ることができる。
図4(b)に、本実施例のワーク側への距離計測構造の作製方法の手順を説明する工程図を示す。
ワーク側への作成に際しては、つぎのように手順で作製する。
(1)シリコンウエハにレジストをコーティングする。
(2)光露光機によって露光し、距離計測構造409を転写し、現像する。
(3)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離するとによって所望の距離計測構造409を得ることができる。
なお、モールドには、パイレックス(登録商標)、サファイヤ等の光を透過する物質であればよく、また加工方法は光露光機、EB露光機、FIB、X線リソグラフィー装置を使っても良い。またNi電鋳等でそのレプリカを取ることも可能である。
さらに、加工構造と距離計測構造の幅と深さが同程度であれば加工構造と距離計測構造の順番は同時に作っても良い。また、距離計測構造の方が加工構造より小さければ逆に距離計測構造を先に作り、加工構造を後に行っても良い。
また、ワークの基板としては、樹脂板、ガラス基板であってもよい。
また、距離計測構造は凹凸だけでなく、光学的に特性の違う膜によって作製しても良い。
実施例3においては、本発明を適用したモールド側及びワーク側への距離計測構造の作製方法について説明する。
図4(a)に、本実施例のモールド側への距離計測構造の作製方法の手順を説明する工程図を示す。
モールド側への作成に際しては、転写するための加工構造404を作り、次に距離計測構造406を、つぎのような手順により作成する。
(1)石英基板402にEBレジスト401をコーティングする。
(2)EB描画装置によって加工構造を描画し、現像する。
(3)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離する。
(4)加工構造のついた石英基板にレジスト405をスピンコートにより塗布する。
(5)位置合わせ構造403を参照しながらマスクとの位置を合わせ、露光、現像をすることによって、距離計測構造406を転写する。
(6)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離することによって所望のモールドを得ることができる。
図4(b)に、本実施例のワーク側への距離計測構造の作製方法の手順を説明する工程図を示す。
ワーク側への作成に際しては、つぎのように手順で作製する。
(1)シリコンウエハにレジストをコーティングする。
(2)光露光機によって露光し、距離計測構造409を転写し、現像する。
(3)エッチング装置を用いてエッチングを行い、更にレジストを剥離するとによって所望の距離計測構造409を得ることができる。
なお、モールドには、パイレックス(登録商標)、サファイヤ等の光を透過する物質であればよく、また加工方法は光露光機、EB露光機、FIB、X線リソグラフィー装置を使っても良い。またNi電鋳等でそのレプリカを取ることも可能である。
さらに、加工構造と距離計測構造の幅と深さが同程度であれば加工構造と距離計測構造の順番は同時に作っても良い。また、距離計測構造の方が加工構造より小さければ逆に距離計測構造を先に作り、加工構造を後に行っても良い。
また、ワークの基板としては、樹脂板、ガラス基板であってもよい。
また、距離計測構造は凹凸だけでなく、光学的に特性の違う膜によって作製しても良い。
[実施例4]
実施例4においては、本発明を適用した3次元6軸の距離計測方法について説明する。図5に、モールドとワークが接触し、モールドと系の原点が一致している状態の2次元の距離計測構造を示す。
モールド上にはx軸に対しy軸の正方向の領域で短冊形の構造が周期的に並んでいる501と、y軸に対しx軸の正方向の領域で短冊形の構造が周期的に並んでいる503が存在する。
ワーク上にはx軸からy軸の負方向の領域で短冊形の構造502、x軸に平行な短冊形構造504それぞれ単独で存在する。
モールドがワークの原点から(x0,y0,z0)の位置にある場合、zx平面上の計測用光軸505から観察すると、つぎの距離を計測することができる。
すなわち、周期構造501と短冊形構造502により、f(x0,z0)で表される距離と、周期構造503と短冊形構造504からy0を計測することができる。
実施例4においては、本発明を適用した3次元6軸の距離計測方法について説明する。図5に、モールドとワークが接触し、モールドと系の原点が一致している状態の2次元の距離計測構造を示す。
モールド上にはx軸に対しy軸の正方向の領域で短冊形の構造が周期的に並んでいる501と、y軸に対しx軸の正方向の領域で短冊形の構造が周期的に並んでいる503が存在する。
ワーク上にはx軸からy軸の負方向の領域で短冊形の構造502、x軸に平行な短冊形構造504それぞれ単独で存在する。
モールドがワークの原点から(x0,y0,z0)の位置にある場合、zx平面上の計測用光軸505から観察すると、つぎの距離を計測することができる。
すなわち、周期構造501と短冊形構造502により、f(x0,z0)で表される距離と、周期構造503と短冊形構造504からy0を計測することができる。
つぎに、図6を用いて、本実施例のモールドとワークの3次元6軸の姿勢制御方法について説明する。計測領域が601,603,605の3箇所あり、それぞれの位置におけるワークの距離計測構造の原点を系全体の座標でA(x1,y1,z1),B(x2,y2,z2),C(x3,y3,z3)とする。
モールドが移動し、距離計測構造の原点がA’,B’,C’になっている時に、それぞれ距離計測構造の座標系で表したものを、つぎのように表記する。
すなわち、A’(x1d,y1d,z1d),B’(x2d,y2d,z2d),C’(x3d,y3d,z3d)と表記する。
ただし、それぞれを系全体の座標系で表すとA’(x1+x1d,y1+y1d,z1+z1d),B’(x2+x2d,y2+y2d,z2+z2d),C’(x3+x3d,y3+y3d,z3+z3d)となる。
それぞれの計測領域は、zx平面に平行な計測系602、xy平面に平行な計測系604、yz平面に平行な計測系606によって観察する。
その際、距離計測システム607で以下の6つの物理量を計測する。
モールドが移動し、距離計測構造の原点がA’,B’,C’になっている時に、それぞれ距離計測構造の座標系で表したものを、つぎのように表記する。
すなわち、A’(x1d,y1d,z1d),B’(x2d,y2d,z2d),C’(x3d,y3d,z3d)と表記する。
ただし、それぞれを系全体の座標系で表すとA’(x1+x1d,y1+y1d,z1+z1d),B’(x2+x2d,y2+y2d,z2+z2d),C’(x3+x3d,y3+y3d,z3+z3d)となる。
それぞれの計測領域は、zx平面に平行な計測系602、xy平面に平行な計測系604、yz平面に平行な計測系606によって観察する。
その際、距離計測システム607で以下の6つの物理量を計測する。
未知数は9つで、計測した物理量6つ、さらに等式3つである。
姿勢計算システム608では、計測した物理量を等式に代入することで、モールドのワークに対する姿勢が3次元6軸で計算する。
これによりモールドの原点位置および法線ベクトルが計算できることから、これが所望の姿勢になるように姿勢制御システム609で姿勢の制御をする。
ただし、ここでは姿勢を制御するための機構は省かれている。
なお、モールドはワークに対してほぼ平行であることを利用し、まずy1d,y2d,x3dを計測し、それらを小さくするようにステージを制御する。
次に、L1≒z1dtan(θ),L2≒z2dtan(θ),L3≒z3dtan(θ)を計測し、それぞれを所望の値になるようにステージを制御する。
この操作を繰り返すことによってモールドとワークを所望の姿勢にしてもよい。
姿勢計算システム608では、計測した物理量を等式に代入することで、モールドのワークに対する姿勢が3次元6軸で計算する。
これによりモールドの原点位置および法線ベクトルが計算できることから、これが所望の姿勢になるように姿勢制御システム609で姿勢の制御をする。
ただし、ここでは姿勢を制御するための機構は省かれている。
なお、モールドはワークに対してほぼ平行であることを利用し、まずy1d,y2d,x3dを計測し、それらを小さくするようにステージを制御する。
次に、L1≒z1dtan(θ),L2≒z2dtan(θ),L3≒z3dtan(θ)を計測し、それぞれを所望の値になるようにステージを制御する。
この操作を繰り返すことによってモールドとワークを所望の姿勢にしてもよい。
101:モールドの距離計測構造(断面)
102:ワークの距離計測構造(断面)
103:顕微鏡
104:モールド側の距離計測構造(上面)
105:ワーク側の距離計測構造(上面)
201:撮像範囲
202:モールドの短冊構造
203:ワークの短冊構造
204:モールドのP1の周期構造
205:ワークのP2の周期構造
206:モールドのP3の周期構造
207:モールドのP4の周期構造
208:ワークのP5の周期構造
209:ワークのP6の周期構造
210:モールドのP7の周期構造と,ワークのP8の周期構造によるモアレ縞
211:モールドのP8の周期構造と,ワークのP7の周期構造によるモアレ縞
301:光源
302:距離計測光学系
303:モールド
304:モールド側の距離計測構造
305:ワーク側の距離計測構造
306:ワーク
307:加圧機構
308:面内移動機構
309:撮像素子
310:撮像素子
311:面内位置合わせ光学系
312:モールドの面内位置合わせ構造
313:ワークの面内位置合わせ構造
314:露光制御システム
315:プロセス制御システム
316:姿勢制御システム
317:距離計測システム
401:EB用レジスト
402:石英基板
403:面内位置合わせ構造
404:加工構造
405:レジスト
406:モールドの距離計測構造
407:シリコン基板
408:レジスト
409:ワークの距離計測構造
501:モールド上のy軸に平行な周期構造
502:ワーク上のy軸に平行な短冊形構造
503:モールド上のx軸に平行な周期構造
504:ワーク上のx軸に平行な短冊形構造
505:zx平面上の計測用光軸
601:領域1
602:zx平面と平行な計測系
603:領域2
604:zx平面と平行な計測系
605:領域3
606:yz平面と平行な計測系
607:距離計測システム
608:姿勢計算システム
609:姿勢制御システム
102:ワークの距離計測構造(断面)
103:顕微鏡
104:モールド側の距離計測構造(上面)
105:ワーク側の距離計測構造(上面)
201:撮像範囲
202:モールドの短冊構造
203:ワークの短冊構造
204:モールドのP1の周期構造
205:ワークのP2の周期構造
206:モールドのP3の周期構造
207:モールドのP4の周期構造
208:ワークのP5の周期構造
209:ワークのP6の周期構造
210:モールドのP7の周期構造と,ワークのP8の周期構造によるモアレ縞
211:モールドのP8の周期構造と,ワークのP7の周期構造によるモアレ縞
301:光源
302:距離計測光学系
303:モールド
304:モールド側の距離計測構造
305:ワーク側の距離計測構造
306:ワーク
307:加圧機構
308:面内移動機構
309:撮像素子
310:撮像素子
311:面内位置合わせ光学系
312:モールドの面内位置合わせ構造
313:ワークの面内位置合わせ構造
314:露光制御システム
315:プロセス制御システム
316:姿勢制御システム
317:距離計測システム
401:EB用レジスト
402:石英基板
403:面内位置合わせ構造
404:加工構造
405:レジスト
406:モールドの距離計測構造
407:シリコン基板
408:レジスト
409:ワークの距離計測構造
501:モールド上のy軸に平行な周期構造
502:ワーク上のy軸に平行な短冊形構造
503:モールド上のx軸に平行な周期構造
504:ワーク上のx軸に平行な短冊形構造
505:zx平面上の計測用光軸
601:領域1
602:zx平面と平行な計測系
603:領域2
604:zx平面と平行な計測系
605:領域3
606:yz平面と平行な計測系
607:距離計測システム
608:姿勢計算システム
609:姿勢制御システム
Claims (12)
- モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工装置であって、
前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測機構を有し、
前記距離計測機構は、前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測し、
前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測可能に構成されていることを特徴とする加圧加工装置。 - 前記距離計測機構は、前記モールドの加工面の法線に対して傾いた光軸を持つ光学系を備えていることを特徴とする請求項1に記載の加圧加工装置。
- 前記距離計測機構は、前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測可能に構成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の加圧加工装置。
- モールドまたは被加工部材の少なくともいずれか一方の側を加圧し、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材の表面に転写する加圧加工方法であって、
前記モールドの加工面側と前記被加工部材の表面側とにそれぞれ設けられた距離計測構造を観測し、
前記観測結果に基づいて、前記モールドと前記被加工部材との間の距離を計測する距離計測工程を有することを特徴とする加圧加工方法。 - 前記距離計測工程は、前記モールドの加工面の法線に対し、傾いた光軸方向からの光学観測によって前記距離計測構造を計測する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の加圧加工方法。
- 前記距離計測工程は、前記モールドおよび前記被加工部材に対する3次元6軸の位置関係を計測する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の加圧加工方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の加圧加工装置、または請求項4〜6のいずれか1項に記載の加圧加工方法に用いられる加圧加工用モールドであって、
前記モールドの加工面側に、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造と対応して設けられた距離計測構造を有することを特徴とする加圧加工用モールド。 - 前記距離計測構造が、短冊形の構造を有することを特徴とする請求項7に記載の加圧加工用モールド。
- 前記距離計測構造が、周期構造を有することを特徴とする請求項7に記載の加圧加工用モールド。
- 前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と、異なる周期の周期構造を有することを特徴とする請求項7に記載の加圧加工用モールド。
- 前記距離計測構造が、前記被加工部材の表面側に設けられた距離計測構造を構成する周期構造と重なることによって、モアレ縞を発生する周期構造を有することを特徴とする請求項7に記載の加圧加工用モールド。
- 凹凸パターンを有するモールドの該パターンを、基板上の部材に転写するための加圧加工装置であって、
前記モールドを保持するための第1の保持部と、
前記モールドの該凹凸パターンが形成されている第1の表面と平行になるように、前記基板の第2の表面を保持するための第2の保持部と、
前記第1の表面の法線方向に対して傾斜した光軸を有し、且つ前記モールドと前記基板とにそれぞれ形成されているアライメントマークを観測するための、光学観測部とを備え、
前記光学観測部からの情報を用いて、前記モールドと前記基板との間の距離を、前記モールドの前記第1の表面に平行な平面情報に置き替えることを特徴とする加圧加工装置。
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2005
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