JP2007145806A - オキサゾール誘導体、それらの製造方法及びそれらを用いたオキサゾリル基導入方法 - Google Patents

Abstract

【課題】オキサゾール誘導体に関する。
【解決手段】一般式（１）（式中、Ｒ^１はアルキル基、アラルキル基、芳香族基等を表し、Ｒ^２は水素原子、アルキル基、アラルキル基、芳香族基等を表し、Ｒ^３及びＲ^４は同一又は相異ってアルキル基等を表し、Ｒ^３とＲ^４が一体となって環を形成してもよい。）

で示されるオキサゾール誘導体、それらの製造方法、およびそれらを用いたオキサゾリル基導入方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、オキサゾール誘導体、それらの製造方法及びそれらを用いたオキサゾリル基導入方法に関する。

多置換オキサゾール誘導体は、医薬品や有機材料に広く用いられている共通構造であり、その需要は非常に高い化合物類である。多置換オキサゾール誘導体の合成方法として、オキサゾリル基導入試薬と有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルなどとの金属触媒を利用したクロスカップリング反応が挙げられる。従来、そのオキサゾリル基導入試薬としては、例えば、オキサゾールの亜鉛試薬（非特許文献１）やスズ試薬（非特許文献２）等が知られている。しかしながら、その製造方法が煩雑である、試薬自体の毒性が高い、反応の収率が悪いという問題点があった。一方、アリールホウ素試薬は金属触媒を用いて、有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステルなどとクロスカップリング反応が進行することが報告されており（非特許文献３）、安全かつ容易に扱えるアリール基導入試薬として医薬品合成や材料分野で幅広く利用されている。しかしながら、オキサゾールのホウ素試薬はオキサゾール−２−イルボロン酸誘導体が一例開示されているのみであり（特許文献１）、本発明に関するオキサゾール−４−イルボロン酸誘導体に関しては一切記載されていない。特許文献１において、オキサゾール−２−イルボロン酸を対応するオキサゾールの２位の水素原子の塩基によるメタル化、続くホウ酸トリイソプロピルエステルとの反応で調製する例が、一例記載されている。しかしながら、その合成方法は基質特異性が高く他のオキサゾール−２−イルボロン酸誘導体が調製できない場合があり（比較実施例参照）、一般的な方法とは言い難い。またオキサゾール−２−イルボロン酸誘導体は安定性が低く、容易に加水素分解されてしまうことが報告されている（非特許文献４）。本発明に関するオキサゾール−４−イルボロン酸誘導体、その製造方法およびそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物あるいはスルホン酸エステル等とのクロスカップリング反応は全く報告されていない。

特開２００４−３１７４３号公報 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、 １９９９年、６４巻、１０１１ページ Ｓｙｎｌｅｔｔ、 １９９５年、 ４１５ページ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ、 １９９５年、９５巻、 ２４５７ページ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ、２００６年、８巻、２４９５ページ

本発明の目的は、医薬、有機材料として幅広く利用されている多置換オキサゾールの種々の類縁化合物の合成が可能であり、簡便に調製でき、かつ安定に取り扱うことができるオキサゾリル基導入試薬を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、本発明のオキサゾール誘導体（１）が、オキサゾリル基導入試薬として有用であることを見い出し、本発明を完成した。

すなわち本発明は、一般式（１）

（式中、Ｒ^１は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ^２は水素原子、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ^３及びＲ^４は同一または相異なって水素原子、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。Ｒ^３とＲ^４が一体となって環を形成してもよい。）で示されるオキサゾール誘導体に関する。

さらに、本発明は、一般式（２）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記と同じ意味を表す。Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）

（式中、Ｒ^５は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関する。

さらに、本発明は、一般式（１a）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、水、あるいは一般式（４）

（式中、Ｒ^６は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）

（Ｑは置換していてもよいエチレン基、置換していてもよいトリメチレン基または置換していてもよいｏ−フェニレン基を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関する。

さらに、本発明は、一般式（２）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＸ^１は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）

（式中、Ｒ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることにより、一般式（１a）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体を得、次いで、水、あるいは一般式（４）

（式中、Ｒ^６は前記と同じ意味を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）

（Ｑは前記と同じ意味を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関する。

さらに、本発明は、一般式(６)

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記と同じ意味を表す。Ｘ^２は脱離基を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（７）

（式中、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ素試薬とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関する。

さらに、本発明は、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体を成分とするオキサゾリル基導入試薬に関する。

さらに、本発明は、一般式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（８）

（式中、Ｒ^７は置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基を表す。Ｘ^３は脱離基を表す。）で示される化合物とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（９）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関するものである。

本発明の一般式（１）で示されるオキサゾール誘導体は、オキサゾール−２−イルボロン酸誘導体や他のオキサゾールの金属試薬に比べて、簡単かつ安全な操作で調製かつ利用できるオキサゾリル基導入試薬である。また、オキサゾール誘導体（１）を有機ハロゲン化物または有機スルホン酸エステルと金属触媒存在下反応させて、オキサゾール誘導体（９）が合成でき、これはテロメラーゼ阻害活性を有するテロメスタチン（非特許文献５）や抗癌剤ウラプアリド類（非特許文献６）などの有用生理活性物質や機能性材料の製造に利用する点で極めて有用である。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、２００１年、１２３巻、１２６２ページ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、１９８６年、１０８巻、８４６ページ

本発明において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、オクチル基等を例示することができる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子、シクロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、シロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等で一個以上置換されていてもよく、さらに具体的には２−クロロエチル基、３−クロロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、ニトロメチル基、２−メチルチオエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、１−アセチルエチル基、３−アセチルプロピル基等を例示することができる。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でメチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基を用いることが好ましい。Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、収率が良い点で、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６で表される炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等を例示することができる。また、これらのシクロアルキル基は炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよく、さらに具体的に１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、３−メチルシクロペンチル基等を例示することができる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数７〜１１のアラルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基等を例示することができる。これらのアラルキル基の芳香族環上は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でベンジル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７で表される炭素数２〜８のアルケニル基としては、直鎖状もしくは分岐状あるいは環状のいずれであってもよく、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、２−メチルー２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、１−シクロヘキセニル基、２−ヘプテニル基、１−シクロオクテニル基を例示することができる。これらのアルケニル基は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でビニル基、アリル基、２−メチルー２−プロペニル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７で表される炭素数２〜８のアルキニル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、エチニル基、プロパルギル基、１−ブチン−３−イル基、３−メチル−１−ブテン−３−イル基、２−ブチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基等を例示することができる。これらのアルキニル基は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でエチニル基、プロパルギル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７で表される芳香族基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、５−インドリル基、２−フリル基及び３−フリル基等を例示することができる。これらの芳香族環上は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１２の芳香族基、炭素数３〜１４のシリル基、炭素数１〜８のアルキルスルホナート基等で一個以上置換されていてもよく、４−メトキシフェニル基、４−エトキシカルボニルオキサゾール−２−イル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキサゾール−２−イル基、４−（４−トリフルオロメタンスルホニルオキシオキサゾール−２−イル）オキサゾール−２−イル基等を例示することができる。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基を用いることが好ましい。

Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５で表される置換していてもよいフェニル基のベンゼン環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。

Ｒ^１及びＲ^２で表される水酸基の保護基としては、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のエステル系保護基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリル系保護基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のカーボネート系保護基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２で表される炭素数１〜８のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ、ベンジルオキシ基等を例示することができる。これらのアルコキシ基は１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基等で一個以上置換されていてもよくメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、p-メトキシベンジルオキシ基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシ基を用いることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７で表される炭素数２〜８のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等を例示することができる。Ｒ^１及びＲ^２は、収率が良い点でアセチル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２で表される置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基を用いることが好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２で表される置換していてもよいカルバモイル基としては、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基またはＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基等が例示できる。

Ｒ^１及びＲ^２で表される置換していてもよいアミノ基の置換基としては、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数２〜８のアルキニル基、炭素数２〜８のアシル基、炭素数２〜１５のアルコキシカルボニル基等を例示することができ、それらの置換基がアミノ基に一置換あるいは、同一又は相異なって二置換していてもよい。さらに具体的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、アリルアミノ基、プロパルギルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、９−フルオレニルメトキシカルボニルアミノ基またはトリクロロエトキシカルボニルアミノ基等が例示できる。

Ｒ^１及びＲ^２で表される置換していてもよい複素環基としては、アジリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、ピペリジノ基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基、２−ジオキサニル基、２−オキサゾリジニル基、４−オキサゾリジニル基等が例示できる。複素環基の複素環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。

Ｒ^１及びＲ^２で表される置換していてもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。

Ｒ^３及びＲ^４が結合して形成する環としては下記式ａ，ｂ，ｃ又はｄ

等を例示することができる。収率が良い点で、ａ，ｂを用いることが好ましい。

Ｘ^１で表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を例示することができる。収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子を用いることが好ましい。

Ｘ^２及びＸ^３で表される脱離基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、またはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアルキルあるいはアリールスルホニルオキシ基等を例示することができる。Ｘ^２は、収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。Ｘ^３は、収率が良い点で、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。

Ｑで表される置換していてもよいエチレン基としては、エチレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基、プロピレン基、１，２−ジメチルエチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、エチレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基を用いることが好ましい。

Ｑで表される置換していてもよいトリメチレン基としては、トリメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、１，１，３，３−テトラメチルトリメチレン基、１，１，３−トリメチルトリメチレン基等を例示することができる。

Ｑで表される置換していてもよいｏ−フェニレン基としては、ｏ−フェニレン基、３，６−ジメチル−ｏ−フェニレン基、２，３−ナフチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、ｏ−フェニレン基を用いることが好ましい。

以下、本発明に属するオキサゾール誘導体の製造方法及びそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物あるいは有機スルホン酸エステル等との反応について詳細に説明する。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３及びＱは前記と同じ意味を表す。）

工程―１は、オキサゾール誘導体（２）の４位のハロゲン原子を塩基で処理することでハロゲン−金属交換反応を行い、ホウ酸エステル（３）と反応させることにより、本発明のオキサゾール誘導体（１a）を製造する工程である。

本工程の原料であるオキサゾール誘導体（２）は、対応するオキサゾールの４位ハロゲン化あるいはオキサゾール−４（５Ｈ）−オン誘導体のハロゲン化などの常法に従い製造することができる。これらハロゲン化前駆体となるオキサゾール誘導体及びオキサゾール−４（５Ｈ）−オン誘導体は、文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる。（非特許文献―７）。ホウ酸エステル（３）は一部市販されているが、ボロンオキシドと対応するアルコールとの反応、市販されているトリイソプロピルボレートと対応するアルコールとのエステル交換反応により容易に調製することができる。

ＯＸＡＺＯＬＥＳ：ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ、ＲＥＡＣＴＩＯＮＳ，ＡＮＤ ＳＰＥＣＴＲＯＳＣＯＰＹ Ｐａｒｔ Ａ，Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ｄ．Ｃ．Ｐａｌｍｅｒ， ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ ＆ ＳＯＮＳ， ＩＮＣ．２００３年

反応は塩基存在下に行うことが必須であり、用いることのできる塩基としては、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド、フェニルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムクロリド等のアルカリ金属有機塩基を例示することができる。収率が良い点で、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムを用いることが好ましい。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましい。

反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、上記の溶媒のうち２種類以上を混合しても差し支えない。

反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、―７８゜Ｃ〜室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。後処理の方法として、反応液に水を加えることで反応を停止することができるが、酢酸等の酸性水溶液で後処理することが収率が良い点で好ましい。反応後の混合溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。また、オキサゾール誘導体（１a）は単離することなく、そのまま工程―２に供することもできる。

工程―２は、工程―１の方法で製造することのできるオキサゾール誘導体（１a）と水、アルコール類（４）、またはジオール類（５）と酸触媒存在下に加水分解またはアセタール交換を行い本発明のオキサゾール誘導体（１）を製造する工程である。

本工程の原料であるアルコール類（４）、またはジオール類は（５）は一部市販されているが、常法により調製することができる。

反応は酸触媒存在下にて速やかに進行する。用いることのできる酸としては、塩酸、臭酸、硫酸、硝酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等のスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート等のスルホン酸塩などを例示することができる。酸の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して触媒量から等量用いて実施することが収率が良い点で好ましい。

反応に用いる水、アルコール類（４）、またはジオール類（５）の量は特に制限なく、いずれも溶媒としても用いることができる。反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましい。

さらに本工程においては、反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を挙げることができ、これらの溶媒のうち２種類以上を混合しても差し支えない。

反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。

工程―３は、オキサゾール誘導体（６）を金属触媒存在下、ジボロン誘導体（７）とクロスカップリング反応させることにより、本発明のオキサゾール誘導体（１）を製造する工程である。

本工程の原料であるＸ^２がハロゲン原子であるオキサゾール誘導体（６）は工程―１で記載した方法で製造することができ、Ｘ^２がスルホニルオキシ基であるオキシオキサゾール誘導体（６）は、対応するオキサゾール−４（５Ｈ）−オン誘導体より文献記載の方法（非特許文献―２）またはそれに準じた方法により製造することができる。前駆体となるオキサゾール−４（５Ｈ）−オン誘導体は前記の方法で製造することができる。ジボロン（７）は一部市販されているが、テトラキス（ジメチルアミド）ジボロンと対応するアルコールより文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる（非特許文献―８）。

Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｓｉｓｔｒｙ、１９６８年、７巻、２２５ページ

反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、白金触媒等を挙げることができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」や「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、担持金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点でパラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム／アルミナ、パラジウム／炭素、パラジウム／シリカ、パラジウム／Ｙ型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウムおよびジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムを用いることが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリｏ−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（Ｓ）−（−）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルおよび（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリｏ−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―３では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して１〜５０等量用いることが収率が良い点で好ましい。

反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。

反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。

本発明のオキサゾール誘導体（１）は、有用なオキサゾリル基導入試薬として利用することができ、化合物（８）と金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体を製造することができる。

工程―４は、本発明のオキサゾール誘導体（１）と化合物（８）とを金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体（９）を製造する工程である。

反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄触媒、ルテニウム触媒、白金触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒等を列挙することができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」、「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点で、パラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム／アルミナ、パラジウム／炭素、パラジウム／シリカ、パラジウム／Ｙ型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウムおよびジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムを用いるのが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（Ｓ）−（−）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルおよび（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリｏ−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―４では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して１〜５０等量用いることが収率が良い点で好ましい。

反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。たとえば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。

反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。

以下、実施例及び参考例によりにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでない。

図中で使用されている略語は以下の意味である。ＴＢＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル基、ＴＭＳ：トリメチルシリル基。

実施例−１

４−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（５２ｍｇ， ０．２３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．３ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下、ホウ酸トリイソプロピル（６９μｌ， ０．３０ｍｍｏｌ）を加えて−７８゜Ｃに冷却した。混合溶液に、ブチルリチウム（１．５６Ｍ， ヘキサン溶液， ０．１７ｍｌ， ０．２８ｍｍｏｌ）を加えて３０分撹拌後、室温まで昇温して２時間撹拌した。得られたジイソプロポキシ（２−フェニルオキサゾール−４−イル）ボランを含む黄色反応混合液に、ピナコール（４０ｍｇ， ０．３５ｍｍｏｌ）と酢酸（１７μｌ， ０．３０ｍｍｏｌ）を加えて更に１時間攪拌した。反応溶液をろ過し不溶物を除去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→１：１）で精製して２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（４１ｍｇ， ６５％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．３７（１２Ｈ， ｓ）， ７．４０−７．４７（３Ｈ， ｍ）、８．０５（１Ｈ， ｓ）， ８．１０−８．１７（２Ｈ， ｍ）．

実施例−２

アルゴン雰囲気下、４−ブロモ−５−メチル−２−フェニルオキサゾール（２０ｍｇ， ８４μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶液を−７８゜Ｃに冷却し、ブチルリチウム（１．５６Ｍ ヘキサン溶液, ５８μｌ， ９２μｍｏｌ）を加えて３０分撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリイソプロピル（２３μｌ， １００μｍｏｌ）を加えて更に１．５時間、室温で１．５時間撹拌した。得られたジイソプロポキシ（５−メチル−２−フェニルオキサゾール−４−イル）ボランを含む黄色反応混合液に、ピナコール（４０ｍｇ， ０．３５ｍｍｏｌ）、酢酸（１７μｌ， ０．３０ｍｍｏｌ）を加えて更に３時間室温で攪拌した。反応溶液をジエチルエーテル（１０ｍｌ）で希釈した後、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→１：１）精製して、５−メチル−２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（１６ｍｇ， ６５％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．３６（１２Ｈ， ｓ）， ２．５６（３Ｈ， ｓ）， ７．３８−７．５０（３Ｈ， ｍ）， ８．０６−８．１７（２Ｈ， ｍ）．

実施例−３

４−ブロモ−２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチルオキサゾール（５５ｍｇ， ０．１５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．５ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下−７８゜Ｃに冷却し、トリイソプロピルボレート（６７μｌ， ０．３ｍｍｏｌ）及びブチルリチウム（１．５８Ｍヘキサン溶液, ０．１８ｍｌ， ０．３ｍｍｏｌ）を加えて、−７８゜Ｃで３０分、室温で３０分反応させた。得られた［２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチルオキサゾール−４−イル］ジイソプロポキシボランの黄色反応混合液にピナコール（５５ｍｇ， ０．３ｍｍｏｌ）、酢酸（１７μｌ， ０．３ｍｍｏｌ）を加え、更に室温で１時間反応させた。反応液をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で希釈した後水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝４：１→酢酸エチル）で精製して、２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（３６ｍｇ， ５８％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．１５−１．４０（２４Ｈ， ｍ）， １．６７（６Ｈ， ｂｒｓ）， ２．４９（３Ｈ，ｂｒｓ）， ４．２０−４．３０（１Ｈ， ｍ）， ４．４６−４．５６（１Ｈ， ｍ）．

実施例−４

トリフルオロメタンスルホン酸２−フェニルオキサゾール−４−イル（２ｇ， ６．８ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２５ｍｌ）溶液に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２３６ｍｇ， ０．１９ｍｍｏｌ）、ビスピナコラートジボロン（１．９ｇ， ７．５ｍｍｏｌ）及び酢酸カリウム（１ｇ， １０ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１２時間加熱還流した。反応溶液をジエチルエーテル（１５０ｍｌ）で希釈した後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→１：１）で精製し、ヘキサン／エーテルで再結晶して２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（９２４ｍｇ， ５０％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．３７（１２Ｈ， ｓ）， ７．４０−７．４７（３Ｈ， ｍ）， ８．０５（１Ｈ， ｓ）， ８．１０−８．１７（２Ｈ， ｍ）．

実施例−５

トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（１２ｍｇ， １２μｍｏｌ）、トリシクロへキシルホスフィン（１７ｍｇ， ６１μｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１ｍｌ）溶液を、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌した。トリフルオロメタンスルホン酸２’−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（９７ｍｇ， ０．２４ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン溶液（１．５ｍｌ）、ビスピナコラートジボロン（１２３ｍｇ， ０．４８ｍｍｏｌ）及び酢酸カリウム（７１ｍｇ， ０．７２ｍｍｏｌ）を加えて３０分加熱還流した。反応液を酢酸エチル（５０ｍｌ）で希釈した後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１→１：１）で精製して、２’−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２，４’−ビオキサゾール（５７ｍｇ， ６２％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ０．３９（６Ｈ， ｓ）， ０．９９ （９Ｈ， ｓ）， １．３６（１２Ｈ， ｓ）， ８．０６（１Ｈ， ｓ）， ８．５０（１Ｈ， ｓ）．

実施例−６

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（４６ｍｇ， ０．１７ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２ｍｌ）溶液に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１０ｍｇ， ０．００８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３５ｍｇ， ０．２５ｍｍｏｌ）及びブロモベンゼン（０．０３２ｍｌ， ０．３ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下５時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して２，４−ジフェニルオキサゾール（１８ｍｇ， ４８％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．３０−７．５５（６Ｈ， ｍ）， ７．７９−７．８８（２Ｈ， ｍ）， ７．９７（１Ｈ， ｓ）， ８．１０−８．１９（２Ｈ， ｍ）．

実施例−７

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０．０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（４ｍｌ）溶液に、２−クロロオキサゾール−４−カルボン酸エチル（８６ｍｇ， ０．４９ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２４ｍｇ， ０．０１７ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（８５ｍｇ， ０．５１ｍｍｏｌ）を加えて、６時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、２’−フェニル−２，４’−ビオキサゾール−４−カルボン酸エチル（５０ｍｇ， ８０％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．４１（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝５．０Ｈｚ）， ４，４３（２Ｈ， ｑ， Ｊ＝５．０Ｈｚ）， ７．４８−７．５３（３Ｈ， ｍ）， ８．０９−８．１７（２Ｈ， ｍ）， ８．３２（１Ｈ， ｓ）， ８．４３（１Ｈ， ｓ）．

実施例−８

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、ｐ−ブロモ安息香酸エチル（３６μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５０：１→２０：１）で精製して４−（４−エトキシカルボニルフェニル）−２−フェニルオキサゾール（５４ｍｇ，８３％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．４２（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ４．４１（２Ｈ， ｑ， Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ７．４６−７．５２（３Ｈ， ｍ）， ７．８９−７．９２（２Ｈ， ｍ）， ８．０６（１Ｈ， ｓ）， ８．０９−８．１５（４Ｈ， ｍ）．

実施例−９

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、ｐ−ブロモアニソール（２８μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で１時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製して４−（４−メトキシフェニル）−２−フェニルオキサゾール（３１ｍｇ， ５６％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ３．８６（３Ｈ， ｓ）， ６．９５−６．９９（２Ｈ， ｍ）， ７．４５−７．５０（３Ｈ， ｍ）， ７．７４−７．７７（２Ｈ， ｍ）， ８．０９−８．１３（２Ｈ， ｍ）， ８．１１（１Ｈ， ｓ）．

実施例−１０

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、ｏ−ブロモトルエン（２７μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製して４−（２−メチルフェニル）−２−フェニルオキサゾール（２８ｍｇ， ５４％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．５１（３Ｈ， ｓ）， ７．２５−７．３３（５Ｈ， ｍ）， ７．４５−７．５１（３Ｈ， ｍ）， ７．８２（１Ｈ， ｓ）， ７．９１−７．９４（１Ｈ， ｍ）， ８．１１−８．１５（２Ｈ， ｍ）．

実施例−１１

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、１−ブロモ−２−メチル−１−プロペン（２３μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で１．５時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して４−（２−メチル−１−プロペニル）−２−フェニルオキサゾール（２８ｍｇ， ６５％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．９４（３Ｈ， ｓ）， ２．０１（３Ｈ， ｓ）， ６．１３（１Ｈ， ｓ）， ７．４２−７．４８（３Ｈ， ｍ）， ７．５６（１Ｈ， ｓ）， ８．０２−８．０７（２Ｈ， ｍ）．

実施例−１２

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、２−ブロモピリジン（２１μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→４：１）で精製して２−フェニル−４−（ピリジン−２−イル）オキサゾール（３６ｍｇ， ７３％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．２１−７．２６（１Ｈ， ｄｄｄ， Ｊ＝１．０， ４．９， ７．５Ｈｚ）， ７．４６−７．５２（３Ｈ， ｍ）， ７．７９（１Ｈ， ｄｔ， Ｊ＝１．７， ７．７Ｈｚ）， ８．０２（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．９Ｈｚ）， ８．１２−８．１６（２Ｈ， ｍ）， ８．３２（１Ｈ， ｓ）， ８．６１（１Ｈ， ｂｒｄ， Ｊ＝４．３Ｈｚ）．

実施例−１３

２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（６０ｍｇ， ０．２２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（１３ｍｇ， １１μｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ， ０．６６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、２−ブロモチアゾール（２０μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→４：１）で精製して２−フェニル−４―（チアゾール−２−イル）オキサゾール（４０ｍｇ， ８０％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．４０（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．２Ｈｚ）， ７．４８−７．５２（３Ｈ， ｍ）， ７．８８（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．２Ｈｚ）， ８．１１−８．１５（２Ｈ， ｍ）， ８．２８（１Ｈ， ｓ）．

実施例−１４

５−メチル−２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（２０ｍｇ， ７０μｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（４ｍｇ， ３．５μｍｏｌ）、炭酸カリウム（２９ｍｇ， ２１０μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）懸濁液に、ブロモベンゼン（７．４μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で１時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して２，４−ジフェニル−５−メチルオキサゾール（１６ｍｇ， ９８％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．６２（３Ｈ， ｓ）， ７．３１−７．３５（１Ｈ， ｍ）， ７．４２−７．４８（５Ｈ， ｍ）， ７．７２−７．７５（２Ｈ， ｍ）， ８．０７−８．１０（２Ｈ， ｍ）．

実施例−１５

５−メチル−２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（２０ｍｇ， ７０μｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）（４ｍｇ， ３．５μｍｏｌ）、炭酸カリウム（２９ｍｇ， ２１０μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）懸濁液に、２−ブロモチアゾール（６．３μｌ， ０．２２ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で２時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して５−メチル−２−フェニル−４−（チアゾール−２−イル）オキサゾール（１５ｍｇ， ８３％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．８１（３Ｈ， ｓ）， ７．３４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．３Ｈｚ）， ７．４５−７．４９（３Ｈ， ｍ）， ７．８８（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．３Ｈｚ）， ８．０６−８．１０（２Ｈ， ｍ）．

実施例−１６

５−メチル−２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（１５．６ｍｇ， ０．０５５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）溶液に、２−クロロオキサゾール−４−カルボン酸エチル（１７．６ｍｇ， ０．１ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（５ｍｇ， ４．３μｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１７ｍｇ， ０．１３ｍｍｏｌ）を加えて、５時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、５’−メチル−２’−フェニル−２，４’−ビオキサゾール−４−カルボン酸エチル（１４ｍｇ， ８６％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．４１（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ２．８２（３Ｈ， ｓ）， ４．４２（２Ｈ， ｑ， Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ７．４２−７．５０（３Ｈ， ｍ）， ８．０２−８．１３（２Ｈ， ｍ）， ８．３０（１Ｈ， ｓ）．

実施例−１７

２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（５０ｍｇ， ０．１２ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）溶液に、２−クロロオキサゾール−４−カルボン酸エチル（３５ｍｇ， ０．２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７．７ｍｇ， ６．５μｍｏｌ）及び炭酸カリウム（５５ｍｇ， ０．４ｍｍｏｌ）を加えて、２時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５：１→４：１→２：１）で精製して、２’−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５’−メチル−２，４’−ビオキサゾール−４−カルボン酸エチル（４３ｍｇ， ８３％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．１５−１．５０（９Ｈ， ｍ）， １．３９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．０Ｈｚ）， １．４０（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝７．５Ｈｚ）， １．７０（６Ｈ， ｓ）， ２．７４（３Ｈ， ｓ）， ４．４１（２Ｈ， ｑ， Ｊ＝７．５Ｈｚ）， ４．３１−４．６０（２Ｈ， ｍ）， ８．２６（１Ｈ， ｓ）．

実施例−１８

２’−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−２，４’−ビオキサゾール（５７．０ｍｇ， ０．１５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（３ｍｌ）溶液に、２−ブロモオキサゾール−４−カルボン酸エチル（６３ｍｇ， ０．２９ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２８ｍｇ， ２４μｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１００ｍｇ， ０．７２ｍｍｏｌ）を加えて、２時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝４：１→２：１）で精製して、２”−ｔｅｒｔ− ブチルジメチルシリル−２，４’：２’，４”−ターオキサゾール−４−カルボン酸エチル（５０ｍｇ， ８５％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ０．４１（６Ｈ， ｓ）， １．０１（９Ｈ， ｓ）， １．４１（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝８．３Ｈｚ）， ４．４３（２Ｈ， ｑ， Ｊ＝８．３Ｈｚ）， ８．３１（１Ｈ， ｓ）， ８．４３（１Ｈ， ｓ）， ８．５３（１Ｈ， ｓ）．

実施例−１９

トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．６ｍｇ，５．４μｍｏｌ）、トリｏ−トリルホスフィン（１３ｍｇ， ４３μｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（０．５ｍｌ）に溶解し、室温で３０分撹拌した。反応混合液にトリフルオロメタンスルホン酸２’−ブロモ−５−トリメチルシリル−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（９０ｍｇ， ０．２１ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン溶液（１．６ｍｌ）、２−フェニル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（８８ｍｇ， ０．３２ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（６９ｍｇ， ０．６５ｍｍｏｌ）を加えて２０時間加熱還流した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、トリフルオロメタンスルホン酸２”−フェニル−５−トリメチルシリル−２，４’：２’，４”−ターオキサゾール−４−イル（５９ｍｇ， ５７％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ０．４３（９Ｈ， ｓ）， ７．４７−７．５２（３Ｈ， ｍ）， ８．１１−８．１８（２Ｈ， ｍ）， ８．３２（１Ｈ， ｓ）， ８．４２（１Ｈ， ｓ）．

実施例−２０

トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（４．３ｍｇ，４．２μｍｏｌ）、トリｏ−トリルホスフィン（１０ｍｇ， ３３μｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（０．５ｍｌ）に溶解し、室温で３０分撹拌した。反応混合液に、２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（４０ｍｇ， ０．０９５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸２’−ヨード−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（６８ｍｇ， ０．１７ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン溶液（１．５ｍｌ）及び炭酸カリウム（６９ｍｇ， １．０ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、トリフルオロメタンスルホン酸２”−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５”−メチル−２，４’：２’，４”−ターオキサゾール−４−イル（３８ｍｇ， ６９％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．３９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６Ｈｚ）， １．２１−１．７１（１５Ｈ， ｍ）， ２．７６（３Ｈ， ｂｒｓ）， ４．２０−４．３５（１Ｈ， ｍ）， ４．４５−４．５５（１Ｈ， ｍ）， ７．７７（１Ｈ， ｓ）， ８．３０（１Ｈ， ｂｒｓ）．

参考例−１

２−フェニルオキサゾール−４（５Ｈ）−オン（５０ｍｇ， ０．３１ｍｍｏｌ）のトルエン（３ｍｌ）溶液に、三臭化リン（０．６ｍｌ）を加えて５時間加熱還流した。反応溶液を０゜Ｃに冷却した後、氷を加えて水層をジエチルエーテル（１００ｍｌ）で抽出し、抽出溶媒を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し、４−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（３８ｍｇ， ５０％）)を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．４０−７．５０（３Ｈ， ｍ）， ７．６９（１Ｈ， ｓ）， ７．９６−８．０５（２Ｈ， ｍ）．

参考例−２

プロパルギルアミン（０．５９ｍｌ， ８．５７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍｌ）溶液を０゜Ｃに冷却した後、トリエチルアミン（１．４ｍｌ， １０ｍｍｏｌ）とベンゾイルクロリド（１ｍｌ， ８．５７ｍｍｏｌ）を加えて３０分撹拌した。反応溶液をジエチルエーテル（１５０ｍｌ）で希釈した後、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、Ｎ−プロパルギルベンズアミド（８６８ｍｇ， ６３％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．２７−２．２９（１Ｈ， ｍ）， ４．２０−４．３０（２Ｈ， ｍ）， ６．２０−６．６０（１Ｈ， ｂｒｓ）， ７．３２−７．５６（３Ｈ， ｍ）， ７．３０−７．８０（２Ｈ， ｍ）．

参考例−３

水素化ナトリウム（１２２ｍｇ， ３．３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（２５ｍｌ）に懸濁させ、Ｎ−プロパルギルベンズアミド（５９２ｍｇ， ３．３ｍｍｏｌ）を加えて３０分室温で撹拌し、さらに４時間加熱還流した。反応溶液を室温まで戻した後に飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍｌ）を加えて反応を停止させた。反応混合液をジエチルエーテル（１０ｍｌ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して、５−メチル−２−フェニルオキサゾール（４０５ｍｇ、７７％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．４０（３Ｈ， ｍ）， ６．８３（１Ｈ， ｍ）， ７．４０−７．４５（３Ｈ， ｍ）， ７．９６−８．０５（２Ｈ， ｍ）．

参考例−４

５−メチル−２−フェニルオキサゾール（１９５ｍｇ， １．２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２ｍｌ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２６１ｍｇ， １．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間撹拌した。反応溶液をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で希釈した後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して、４−ブロモ−５−メチル−２−フェニルオキサゾール（９４ｍｇ， ３２％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ２．３９（３Ｈ， ｓ）， ７．４０−７．４７（３Ｈ， ｍ）， ７．９１−８．００（２Ｈ， ｍ）．

参考例−５

１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１．０３ｇ， ５．４ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１．６５ｇ， １１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍｌ）溶液に、プロパルギルアミン（０．６２ｍｌ， ９．０ｍｍｏｌ）を加えて３０分撹拌した後、３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−カルボン酸（９３２ｍｇ， ３．６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（２０ｍｌ）を加えて室温で１２時間撹拌した。反応溶液を酢酸エチル（３００ｍｌ）で希釈し、３％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−プロパルギル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−カルボキサミド（８９２ｍｇ， ８４％）を得た。得られた３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−プロパルギル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−カルボキサミド（４００ｍｇ， １．３５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン溶液（１２ｍｌ）を、アルゴン雰囲気下室温で、水素化ナトリウム（５０ｍｇ， １．３５ｍｍｏｌ）の１，３−ジオキサン（１４ｍｌ）懸濁液に加えて室温で３０分撹拌し、さらに１時間加熱還流した。反応溶液を室温に戻した後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル（１５０ｍｌ）で抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチルオキサゾール（１６８ｍｇ、４２％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．２１−１．５０（９Ｈ， ｍ）， １．３５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．０Ｈｚ）， １．６９（６Ｈ， ｓ）， ２．３１（３Ｈ， ｓ）， ４．２０−４．３０（１Ｈ， ｍ）， ４．３５−４．５０（１Ｈ， ｍ）， ６．６９（１Ｈ， ｍ）．

参考例−８

２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５―メチルオキサゾール（３００ｍｇ， １．０１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（２１６ｍｇ， １．２１ｍｍｏｌ）を加えて、遮光下４８時間室温で攪拌した。反応混合液をジエチルエーテル（１００ｍｌ）で希釈した後、水、３％塩酸で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して４−ブロモ−２−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン−４−イル）−５−メチルオキサゾール（２５８ｍｇ， ６８％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ １．２３−１．５０（９Ｈ， ｍ）， １．３５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．５Ｈｚ）， １．６７（６Ｈ， ｓ）， ２．３０（３Ｈ， ｓ）， ４．１９−４．３１（１Ｈ， ｍ）， ４．３２−４．５０（１Ｈ， ｍ）．

参考例−９

２−ブロモオキサゾール−４−カルボキサミド（１．０ｇ， ５．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０ｍｌ）懸濁液に塩化オキサリル（０．４６ｍｌ， ５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌し、さらに１２時間加熱還流した。反応液の溶媒を減圧下留去後、残渣をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解した。その溶液にトリメチルシリルジアゾメタン（２．０Ｍジエチルエーテル溶液、２．６２ｍｌ， ５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間反応させた後、−７８゜Ｃに冷却しトリエチルアミン（１．４５ｍｌ， １０．４ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．９７ｍｌ， ５．７ｍｍｏｌ）を加えて、−７８゜Ｃで２時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた後、ジエチルエーテル（２００ｍｌ）で抽出し無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５０：１）で精製してトリフルオロメタンスルホン酸２’−ブロモ−５−トリメチルシリル−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（４２７ｍｇ、２０％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ０．４０（９Ｈ， ｓ）， ８．２９（１Ｈ， ｓ）．

参考例−１０

トリフルオロメタンスルホン酸２’−ブロモ−５−トリメチルシリル−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（４２５ｍｇ， ０．９８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液に、フッ化水素−ピリジン錯体（６５〜７０％， ０．２８ｍｌ）を加えて室温で３時間撹拌した。反応混合液に酢酸エチル（５０ｍｌ）を加えて希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製してトリフルオロメタンスルホン酸２’−ブロモ−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（２８８ｍｇ， ８１％）を得た。そのトリフルオロメタンスルホン酸２’−ブロモ−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（５９６ｍｇ， １．６ｍｍｏｌ）の酢酸（１０ｍｌ）溶液に、亜鉛粉末（５６０ｍｇ， ８．５ｍｍｏｌ）を加えて、６０゜Ｃで５時間、８０゜Ｃで４間加熱した。反応液を冷却後、不溶物をセライトろ過して除き、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１→４：１）で精製してトリフルオロメタンスルホン酸２，４’−ビオキサゾール−４−イル（３３０ｍｇ， ７１％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．７８（１Ｈ， ｓ）， ８．０２（１Ｈ， ｍ）， ８．３２（１Ｈ， ｍ）．

参考例−１１

トリフルオロメタンスルホン酸２，４’−ビオキサゾール−４−イル（８９ｍｇ， ０．３１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下−７８゜Ｃでリチウムビストリメチルシリルアミド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液, ０．３４ｍｌ， ０．３４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した。反応混合液に、トリフルオロメタンスルホン酸ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（７８μｌ， ０．３４ｍｍｏｌ）を加えて、更に２時間攪拌した。反応混合液に飽和塩化アンモニウム水溶液（２ｍｌ）を加えて、混合液をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５０：１→４：１）で精製してトリフルオロメタンスルホン酸２’−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（９７ｍｇ， ７８％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ０．４０（６Ｈ， ｓ）， ０．９９（９Ｈ， ｓ）， ７．７３（１Ｈ， ｓ）， ８．４１（１Ｈ， ｓ）．

参考例−１２

トリフルオロメタンスルホン酸２，４’−ビオキサゾール−４−イル（１００ｍｇ， ０．３５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下−７８゜Ｃでリチウムビストリメチルシリルアミド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液、 ０．３９ｍｌ， ０．３９ｍｍｏｌ）を加え３０分間撹拌した。反応溶液に、ヨウ素（１００ｍｇ， ０．３９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍｌ）を加えて、更に１０分間撹拌した。反応混合液に飽和塩化アンモニウム水溶液（２ｍｌ）を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル（５０ｍｌ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製してトリフルオロメタンスルホン酸２’−ヨード−２，４’−ビオキサゾール−４−イル（１２８ｍｇ， ８９％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３， ｐｐｍ）： δ ７．７６（１Ｈ， ｓ）， ８．３４（１Ｈ， ｓ）．

比較実施例−１
オキサゾール（１００ｍｇ， １．４５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下−７８゜Ｃでリチウムジイソプロピルアミド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液、１．６ｍｌ， １．６０ｍｍｏｌ）を加え２時間間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリメチル（３１２ｍｇ， ３．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍｌ）を加えて、更に２時間撹拌し、室温で２時間撹拌した。反応混合液に農塩酸（２ｍｌ）を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル（１０ｍｌ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮したが目的のオキサゾール−２−イルボロン酸は生成していなかった。

比較実施例−２
オキサゾール−４−イルカルボン酸エチル（１００ｍｇ， ０．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下−７８゜Ｃでリチウムジイソプロピルアミド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液、０．７８ｍｌ， ０．７８ｍｍｏｌ）を加え２時間間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリメチル（１５６ｍｇ， １．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２ｍｌ）を加えて、更に２時間撹拌し、室温で２時間撹拌した。反応混合液に農塩酸（１ｍｌ）を加えて反応を停止させ、ジエチルエーテル（１０ｍｌ）で抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し得たが目的の４−エトキシカルボニルオキサゾール−２−イルボロン酸は生成していなかった。

Claims (13)

1. 一般式(1)
   

   

   （式中、Ｒ^１は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ^２は水素原子、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ^３及びＲ^４は同一または相異なって水素原子、置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。Ｒ^３とＲ^４が一体となって環を形成してもよい。）で示されるオキサゾール誘導体。
2. 一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記と同じ意味を表す。Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^５は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
3. 塩基がブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムである請求項２に記載の製造方法。
4. 一般式（１a）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、水、あるいは一般式（４）
   

   

   （式中、Ｒ^６は置換していてもよいＣ_１〜Ｃ_８アルキル基、置換していてもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
   

   

   （Ｑは置換していてもよいエチレン基、置換していてもよいトリメチレン基または置換していてもよいｏ−フェニレン基を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
5. 一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＸ^１は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることにより、一般式（１a）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体を得、次いで、水、あるいは一般式（４）
   

   

   （式中、Ｒ^６は前記と同じ意味を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
   

   

   （Ｑは前記と同じ意味を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
6. 塩基がブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムである請求項５に記載の製造方法。
7. 一般式(６)
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２は前記と同じ意味を表す。Ｘ^２は脱離基を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（７）
   

   

   （式中、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ素試薬とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
8. 金属触媒がパラジウム触媒である請求項７に記載の製造方法。
9. 一般式(７)で示される化合物がビス（カテコラート）ジボロン、ビス（ピナコラート）ジボロン、ビス（エチレングリコラート）ジボロンまたはビス（ネオペンチルグリコラート）ジボロンである請求項７または８に記載の製造方法。
10. 一般式（１）
    

    

    （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体を成分とするオキサゾリル基導入試薬。
11. 一般式（１）
    

    

    （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（８）
    

    

    （式中、Ｒ^７は置換していてもよいＣ_７〜Ｃ_１１アラルキル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルケニル基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、置換していてもよいＣ_２〜Ｃ_８アシル基を表す。Ｘ^３は脱離基を表す。）で示される化合物とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（９）
    

    

    （式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^７は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
12. 金属触媒がパラジウム触媒である請求項１１に記載の製造方法。
13. Ｒ^７が置換していてもよい芳香族基である、請求項１１または１２に記載の製造方法。