JP2007119630A - Composite sheet, substrate, and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複合シート、基板および電子デバイスに関する。 The present invention relates to a composite sheet, a substrate, and an electronic device.
回路基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表示デバイス用基板のようにガラス繊維基材とマトリックス樹脂とで構成されている樹脂基板が多く用いられている。これらの樹脂基板の中でも表示デバイス用基板は、透明性、寸法安定性、耐熱性に加えて、優れた平坦性（撓みが少ない）および光学特性を有していることが要求されている。 A resin substrate composed of a glass fiber base material and a matrix resin, such as a substrate for a display device such as a circuit board, a liquid crystal display, a plasma display, and an EL display, is often used. Among these resin substrates, display device substrates are required to have excellent flatness (low deflection) and optical characteristics in addition to transparency, dimensional stability, and heat resistance.
優れた透明性を有する樹脂基板として、ガラスクロスと樹脂からなる透明基板であって、波長４００ｎｍから７００ｎｍの全領域に亘って光透過率が８０％以上である樹脂基板が開示されている（例えば、特許文献１参照） As a resin substrate having excellent transparency, a resin substrate that is a transparent substrate made of glass cloth and resin and has a light transmittance of 80% or more over the entire wavelength range of 400 nm to 700 nm is disclosed (for example, , See Patent Document 1)
一方、例えば液晶ディスプレイに用いる表示デバイス用基板では、液晶内を通る光路差が表示ムラを発生することが原理的に明白であり、透明基板の平坦性に対する要求は回路基板と比較して非常に高度なレベルが望まれている。 On the other hand, for example, in a substrate for a display device used for a liquid crystal display, it is clear in principle that an optical path difference passing through the liquid crystal causes display unevenness. A high level is desired.
しかし、従来の樹脂基板では、このような高度な平坦性の要求を満足することは困難であった。 However, it has been difficult for conventional resin substrates to satisfy such high flatness requirements.
本発明の目的は、高度な平坦性の要求を満足することができる複合シート、基板およびそれを用いた電子デバイスを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a composite sheet, a substrate, and an electronic device using the same, which can satisfy a requirement for high flatness.
このような目的は、下記（１）〜（１０）に記載の本発明により達成される。
（１）緯糸と経糸とで構成されるガラス織布に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持してなる複合シートであって、前記ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布がほぼ均一であることを特徴とする複合シート。
（２）緯糸と経糸とで構成されるガラス織布に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持してなる複合シートであって、前記ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率を測定し、その最大透過率をＡ％とし、最小透過率をＢ％としたとき、Ａ−Ｂが１．５％以下であることを特徴とする複合シート。
（３）前記ガラス織布の平均厚さは、４０〜２００μｍである上記（１）または（２）に記載の複合シート。
（４）前記ガラス織布は、加圧加工により開繊処理されたものである上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の複合シート。
（５）前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂を含むものである上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の複合シート。
（６）前記エポキシ樹脂は、下記式（１）で表されるものを含むである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の複合シート。
（９）上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の複合シートを備えることを特徴とする基板。
（１０）上記（９）に記載の基板を備えることを特徴とする電子デバイス。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (10).
(1) A composite sheet obtained by supporting a resin material containing a thermosetting resin on a glass woven fabric composed of wefts and warps, and a light transmittance distribution in a 40 mm × 40 mm region of the glass woven fabric A composite sheet characterized by substantially uniform.
(2) A composite sheet obtained by supporting a resin material containing a thermosetting resin on a glass woven fabric composed of wefts and warps, and measuring light transmittance in a 40 mm × 40 mm region of the glass woven fabric. The composite sheet is characterized in that AB is 1.5% or less when the maximum transmittance is A% and the minimum transmittance is B%.
(3) The composite sheet according to (1) or (2), wherein the glass woven fabric has an average thickness of 40 to 200 μm.
(4) The composite sheet according to any one of (1) to (3), wherein the glass woven fabric has been subjected to fiber opening processing by pressure processing.
(5) The composite sheet according to any one of (1) to (4), wherein the thermosetting resin includes an epoxy resin.
(6) The composite sheet according to any one of (1) to (5), wherein the epoxy resin includes one represented by the following formula (1).
(9) A substrate comprising the composite sheet according to any one of (1) to (8).
(10) An electronic device comprising the substrate according to (9).
本発明によれば、高度な平坦性の要求を満足することができる複合シート、基板およびそれを用いた電子デバイスを提供することができる。
また、最大透過率と、最小透過率との差を特定の値とした場合、特に複合シートの平坦性を向上することができる。これにより、複合シートを液晶セル等の表示素子用基板に用いた場合、光漏れを改善することができる。
また、熱硬化性樹脂として特定のエポキシ樹脂を用いた場合、低温で硬化することが可能となり複合シートのうねりを低減することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composite sheet which can satisfy the request | requirement of high flatness, a board | substrate, and an electronic device using the same can be provided.
In addition, when the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance is a specific value, the flatness of the composite sheet can be improved. Thereby, when the composite sheet is used for a substrate for a display element such as a liquid crystal cell, light leakage can be improved.
Further, when a specific epoxy resin is used as the thermosetting resin, it can be cured at a low temperature, and the undulation of the composite sheet can be reduced.
以下、本発明の複合シート、基板およびそれを用いた電子デバイスについて詳細に説明する。
本発明の複合シートは、緯糸１１と経糸１２とで構成されるガラス織布１に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持してなる複合シートであって、ガラス織布１の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布がほぼ均一であることを特徴とする。
また、本発明の基板は、上記に記載の複合シートを備えることを特徴とする。
また、本発明の電子デバイスは、上記に記載の基板を備えることを特徴とする。
Hereinafter, the composite sheet, substrate and electronic device using the same according to the present invention will be described in detail.
The composite sheet of the present invention is a composite sheet formed by supporting a resin material containing a thermosetting resin on a
Moreover, the board | substrate of this invention is equipped with the composite sheet as described above, It is characterized by the above-mentioned.
In addition, an electronic device according to the present invention includes the above-described substrate.
まず、複合シートについて説明する。
図１は、ガラス織布を模式的に示した上面図である。図２は、複合シートを模式的に示した断面図である。図３は、複合シートの製造方法を説明するための概略図である。図４は、電子デバイスを模式的に示した断面図である。
図１に示すようにガラス織布１は、偉糸１１と、経糸１２とで構成されている。このガラス織布１に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持して複合シート２を得る（図２）。
このような複合シートの特性は、一般にコア材となる繊維基材等の影響を大きく受ける。特に複合シートの引っ張り弾性率、熱膨張係数等の寸法変化への影響が特に大きいことが知られている。これに対して平坦性（表面平滑性）への影響は、あまり知られていない。
本発明者らは、緯糸と経糸とで構成されるガラス織布について種々検討した結果、緯糸・経糸が重なり合う部分、緯糸・経糸単独部分、緯糸・経糸に囲まれている空隙部分等によって生じる不均一性が基板（透明基板）の表面への影響（特に液晶表示用ディスプレイのような表示ディスプレイ用基板に対して）が大きいことを見出した。特に、ガラス織布の空隙部で形成される短周期の局所的な凹凸、緯糸と経糸との分布ムラ（織ムラ）により形成される長周期の凹凸等は、表面平滑性に影響が大きい。
First, the composite sheet will be described.
FIG. 1 is a top view schematically showing a glass woven fabric. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the composite sheet. FIG. 3 is a schematic view for explaining a method for producing a composite sheet. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the electronic device.
As shown in FIG. 1, the
The characteristics of such a composite sheet are greatly affected by a fiber base material that is generally a core material. In particular, it is known that the influence on dimensional changes such as the tensile elastic modulus and thermal expansion coefficient of the composite sheet is particularly large. On the other hand, the influence on flatness (surface smoothness) is not well known.
As a result of various studies on glass woven fabrics composed of wefts and warps, the present inventors have found that the weft / warp overlapped part, the weft / warp single part, the void surrounded by the weft / warp, etc. It has been found that the uniformity has a great influence on the surface of the substrate (transparent substrate) (particularly for a display display substrate such as a liquid crystal display). In particular, short-period local irregularities formed in the voids of the glass woven fabric, long-period irregularities formed by uneven distribution of wefts and warps (weaving unevenness), etc. have a great influence on the surface smoothness.
本発明では、ガラス織布１の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布がほぼ均一であることを特徴とする。照射する光線としては、例えば４００〜５６０ｎｍの単色光が挙げられる。
従来のガラス織布では、ガラス織布を構成するガラス繊維の開繊処理の程度により、光線透過率の分布にバラツキが大きく、上記光線透過率の分布が不均一なものであった。
これに対して、本発明は上述したように所定の領域における光線透過率の分布がほぼ均一であるガラス織布１を用いることにより、複合シート２の平坦性を向上（複合シート２のたわみ、うねりを低下する）ことができるものである。
The present invention is characterized in that the distribution of light transmittance in a 40 mm × 40 mm region of the
In the conventional glass woven fabric, the distribution of the light transmittance varies greatly depending on the degree of the opening process of the glass fibers constituting the glass woven fabric, and the distribution of the light transmittance is not uniform.
On the other hand, as described above, the present invention improves the flatness of the
このように所定の領域における光線透過率の分布がほぼ均一であるガラス織布１を用いることにより、複合シート２の平坦性を向上できる理由は、次のように考えられる。
複合シート２の平坦性は、単位面積辺りのガラス織布１の量と、樹脂量とに影響を受ける。すなわち、複合シート２のマトリックスとして用いる樹脂は、硬化過程およびその後の冷却過程において、それぞれ硬化収縮および熱収縮を生ずる。このような樹脂の収縮によって複合シート２には応力分布が発生することになる。したがって、複合シート２の単位面積辺りの樹脂量が異なると応力分布が大きくなり、結果として複合シート２の平坦性を低下させる。ゆえに、単位面積辺りのガラス織布１の量が一定となることが必要である。
この単位面積辺りのガラス織布１の量を、光線透過率の分布で評価することができる。すなわち、ガラス織布１に照射した光は、ガラス織布１を構成するフィラメント面において散乱や屈折を伴う。そのため光線透過率は、光路に存在する繊維本数に応じて変化する。ゆえに、光線透過率の分布を分析することでガラス織布１を構成するフィラメントの粗密状態を把握することが可能となる。そして、光線透過率の分布がほぼ均一であれば、複合シート２の単位面積辺りのガラス織布１の量を一定にすることができ、それによって複合シート２の平坦性を向上することができる。
The reason why the flatness of the
The flatness of the
The amount of the
ここで、前記光線透過率の分布は、次のようにして評価することができる。
まず、光線透過率は、法線方向にガラス織布を透過した光の輝度値と高い相関を持っている。よって、透過画像から得られる輝度値と、分光光度計から得られる透過率の校正曲線とを得ることにより、透過画像を用いて簡便に光線透過率の分布を評価することができる。具体的には、光源として波長が４００〜５６０ｎｍの単色光を用い、ガラス織布の照度が５００〜１０００ｌｘとなるよう調整し、ガラス織布の任意の４０×４０ｍｍの領域における輝度値を測定する。得られた結果に、隣り合う緯糸・経糸幅に設定したローパスフィルター処理（正常な織布が持つ波形成分と比較）を実施して得ることができる。
Here, the distribution of the light transmittance can be evaluated as follows.
First, the light transmittance has a high correlation with the luminance value of the light transmitted through the glass woven fabric in the normal direction. Therefore, by obtaining the luminance value obtained from the transmission image and the transmittance calibration curve obtained from the spectrophotometer, the light transmittance distribution can be easily evaluated using the transmission image. Specifically, monochromatic light having a wavelength of 400 to 560 nm is used as a light source, the illuminance of the glass woven fabric is adjusted to 500 to 1000 lx, and the luminance value in an arbitrary 40 × 40 mm region of the glass woven fabric is measured. . The obtained result can be obtained by performing low-pass filter processing (comparison with the waveform component of a normal woven fabric) set to adjacent weft and warp widths.
このようなガラス織布１を得る方法としては、例えば噴射した流体の圧力で開繊処理する方法、ロール面で加圧して開繊処理する方法等の加圧加工により開繊処理する方法、超音波を利用により開繊処理する方法等が挙げられ、これらが単独もしくは組合せにより用いることができる。これらの中でも加圧加工により開繊処理する方法が好ましい。これにより、ガラス織布１の光線透過率の分布をより均一にでき、それによって平坦性をより向上することができる。
As a method for obtaining such a
このようなガラス織布１を構成ガラスとしては、Ｅガラス、Ｔガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、ＮＥガラス等が挙げられる。これらの中でもＴガラス、Ｓガラス、ＮＥガラスが好ましい。これにより、複合シートの透明性を向上することができる。
Examples of the glass constituting the glass woven
ガラス織布１の（平均）厚さは、特に限定されないが、４０〜２００μｍが好ましく、特に５０〜１８０μｍが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に複合シート２の柔軟性（湾曲性）を向上することができる。
Although the (average) thickness of the glass woven
また、本発明の複合シート２は、緯糸１１と経糸１２とで構成されるガラス織布１に熱硬化性樹脂を含む樹脂材料を担持してなる複合シート２であって、ガラス織布１の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率を測定し、その最大透過率をＡ％とし、最小透過率をＢ％としたとき、透過率の差（Ａ−Ｂ）が１．５％以下であることを特徴とする。これにより、複合シート２の平坦性を向上することができる。照射する光線としては、例えば４００〜５６０ｎｍの単色光が挙げられる。
前記透過率の差は、具体的には１．０％以下であることが好ましく、特に０．５％以下であることが好ましい。差が前記範囲内であると、特に複合シート２の平坦性を向上することができる。
The
Specifically, the difference in transmittance is preferably 1.0% or less, and particularly preferably 0.5% or less. If the difference is within the above range, the flatness of the
前記樹脂材料は、熱硬化性樹脂を含んでいる。前記熱硬化性樹脂としては、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、未変性のレゾールフェノール樹脂、桐油、アマニ油、クルミ油等で変性した油変性レゾールフェノール樹脂等のレゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、ビスフェノールＦエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ユリア（尿素）樹脂、メラミン樹脂等のトリアジン環を有する樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ベンゾオキサジン環を有する樹脂、シアネートエステル樹脂等が挙げられる。これらの中でもエポキシ樹脂が好ましい。これにより、透明性を向上することができる。 The resin material includes a thermosetting resin. Examples of the thermosetting resin include novolac type phenol resins such as phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, unmodified resol phenol resin, oil-modified resole phenol modified with tung oil, linseed oil, walnut oil, and the like. Resins and other phenolic resins such as phenolic resins, bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins and other bisphenol epoxy resins, novolac epoxy resins, cresol novolac epoxy resins and other novolac epoxy resins, biphenyl epoxy resins and other epoxies Resin, urea (urea) resin, resin having triazine ring such as melamine resin, unsaturated polyester resin, bismaleimide resin, polyurethane resin, diallyl phthalate resin, silicon Resins, resins having a benzoxazine ring, cyanate ester resins. Among these, an epoxy resin is preferable. Thereby, transparency can be improved.
前記エポキシ樹脂の中でも式（１）または（２）で示されるエポキシ樹脂が特に好ましい。これにより、透明性を向上することできることに加えて、耐熱性を向上することができる。 Among the epoxy resins, an epoxy resin represented by the formula (1) or (2) is particularly preferable. Thereby, in addition to being able to improve transparency, heat resistance can be improved.
前記式（１）で表されるエポキシ樹脂のＸとしては、特に−Ｃ(ＣＨ3)2−である２，２−ビス（３‘、４’−エポキシシクロヘキシル）プロパンが好ましい。これにより、耐熱性を特に向上することができる。 X of the epoxy resin represented by the formula (1) is particularly preferably 2,2-bis (3 ', 4'-epoxycyclohexyl) propane which is -C (CH3) 2-. Thereby, heat resistance can be improved especially.
前記式（１）または（２）で表されるエポキシ樹脂を含む樹脂材料が透明性に優れる理由は、前記樹脂材料と、これが担持されるシート状基材２１を構成する材料（例えばガラス繊維）との屈折率の差が比較的小さいからである。 The reason why the resin material containing the epoxy resin represented by the formula (1) or (2) is excellent in transparency is that the resin material and the material constituting the sheet-like substrate 21 on which the resin material is carried (for example, glass fiber) This is because the difference in refractive index between and is relatively small.
このように前記熱硬化性樹脂を必須成分として含むが、その含有量は、特に限定されず、前記樹脂材料全体の５０〜９８重量％が好ましく、特に８０〜９５重量％が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に透明性に優れる。 Thus, although the said thermosetting resin is included as an essential component, the content is not specifically limited, 50 to 98 weight% of the whole said resin material is preferable, and 80 to 95 weight% is especially preferable. When the content is within the above range, the transparency is particularly excellent.
前記樹脂材料が前記エポキシ樹脂（特に前記式で表されるエポキシ樹脂）を含む場合は、硬化触媒を含んでいることが好ましい。硬化触媒としては、アミン系硬化触媒、酸無水物系硬化触媒、カチオン系硬化触媒等が挙げられる。これらの中でも、カチオン系硬化触媒が好ましい。これにより、複合シート２の透明性を特に向上することができる。
前記カチオン系硬化触媒が前記エポキシ樹脂の触媒として優れる理由は、以下の通りである。前記カチオン系硬化触媒を用いて前記エポキシ樹脂を硬化した硬化物の耐熱性（例えばガラス転移温度）が、他の硬化剤（例えば酸無水物）を用いて硬化した硬化物のそれよりも高くなるからである。このように、カチオン系硬化触媒を用いた硬化物の耐熱性が、他の触媒を用いたものよりも高くなり理由は、前記カチオン系硬化触媒を用いて前記エポキシ樹脂を硬化した硬化物の架橋密度が、他の硬化剤（例えば酸無水物）を用いて硬化した硬化物の架橋密度と比較して高くなるためと予想される。
When the resin material contains the epoxy resin (especially the epoxy resin represented by the above formula), it is preferable to contain a curing catalyst. Examples of the curing catalyst include amine-based curing catalysts, acid anhydride-based curing catalysts, and cationic curing catalysts. Among these, a cationic curing catalyst is preferable. Thereby, the transparency of the
The reason why the cationic curing catalyst is excellent as a catalyst for the epoxy resin is as follows. The heat resistance (for example, glass transition temperature) of the cured product obtained by curing the epoxy resin using the cationic curing catalyst is higher than that of the cured product cured using another curing agent (for example, acid anhydride). Because. As described above, the reason why the heat resistance of the cured product using the cationic curing catalyst is higher than that using the other catalyst is that the cured product obtained by curing the epoxy resin using the cationic curing catalyst is crosslinked. The density is expected to be higher than the crosslink density of a cured product cured with another curing agent (for example, an acid anhydride).
さらに、前記エポキシ樹脂と前記カチオン系硬化触媒とを用いると、得られる樹脂材料を低温、かつ短時間で硬化させることができるようになる。このように、低温で硬化させることができると、光漏れが生じるのを低減することができる。その理由は、以下のように考えられる。
前記光漏れは、ガラス繊維基材と樹脂との界面での歪により界面近傍の樹脂が延伸され、樹脂に複屈折が生じる事により発生する。この歪は、樹脂の硬化温度での熱膨張量と、硬化後（硬化後の室温）の樹脂の熱膨張量との差によって生じる（硬化温度→室温の冷却過程では樹脂の収縮量）。すなわち、高温で樹脂を硬化すると、樹脂は熱膨張量が大きい状態で固定（硬化）されることになり、硬化後の樹脂に大きな歪が残る。これに対して、低温で樹脂を硬化できると熱膨張量が比較的小さい状態で固定（硬化）できるため、硬化後の樹脂に残る歪を小さくすることができ、それによって光漏れを改善することができる。
ここで、「光漏れの抑制」とは、透明基板を液晶セル等の表示素子用基板に用いた際に要求される。光漏れとは、例えば液晶セル等で偏光板の間に透明基板が設けられるが、黒表示状態（直交クロスニコル下）にした際に、光の透過が生じ、画像表示装置の表示品位を低下させるという問題が生じることをいう。
Furthermore, when the epoxy resin and the cationic curing catalyst are used, the resulting resin material can be cured at a low temperature in a short time. Thus, when it can be hardened at low temperature, it can reduce that light leak arises. The reason is considered as follows.
The light leakage occurs when the resin near the interface is stretched due to strain at the interface between the glass fiber base material and the resin, and birefringence occurs in the resin. This distortion is caused by the difference between the amount of thermal expansion at the curing temperature of the resin and the amount of thermal expansion of the resin after curing (room temperature after curing) (the amount of shrinkage of the resin during the curing temperature → room temperature cooling process). That is, when the resin is cured at a high temperature, the resin is fixed (cured) with a large amount of thermal expansion, and a large strain remains in the cured resin. On the other hand, if the resin can be cured at a low temperature, it can be fixed (cured) with a relatively small amount of thermal expansion, so the strain remaining in the cured resin can be reduced, thereby improving light leakage. Can do.
Here, “suppression of light leakage” is required when a transparent substrate is used as a substrate for a display element such as a liquid crystal cell. Light leakage means that, for example, a transparent substrate is provided between polarizing plates in a liquid crystal cell or the like, but light transmission occurs when the display is in a black display state (under crossed crossed Nicols), thereby reducing the display quality of the image display device. A problem occurs.
このようなカチオン系硬化触媒としては、例えば加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出するもの（例えばオニウム塩系熱カチオン硬化触媒またはアルミニウムキレート系熱カチオン硬化触媒）等の熱カチオン系硬化触媒や、活性エネルギー線によってカチオン重合を開始させる物質を放出させるもの（例えばオニウム塩系カチオン硬化触媒）等が挙げられる。これらの中でも、熱カチオン系硬化触媒が好ましい。これにより、より耐熱性に優れる硬化物を得ることができる。 As such a cationic curing catalyst, for example, a thermal cationic curing catalyst such as a substance that releases cationic polymerization by heating (for example, an onium salt thermal cationic curing catalyst or an aluminum chelate thermal cationic curing catalyst), Examples include those that release a substance that initiates cationic polymerization with active energy rays (for example, an onium salt-based cationic curing catalyst). Among these, a thermal cationic curing catalyst is preferable. Thereby, the hardened | cured material which is more excellent in heat resistance can be obtained.
前記熱カチオン系硬化触媒としては、例えば芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。具体的には、芳香族スルホニウム塩として三新化学社のＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、旭電化工業製のＳＰ−６６やＳＰ−７７等のヘキサフルオロアンチモネート塩挙げられ、アルミニウムキレートとしてはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられ、三フッ化ホウ素アミン錯体としては、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素イミダゾール錯体、三フッ化ホウ素ピペリジン錯体等が挙げられる。 Examples of the thermal cationic curing catalyst include aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes. Specific examples of aromatic sulfonium salts include Sanshin Chemical's SI-60L, SI-80L, SI-100L, and Asahi Denka Kogyo's hexafluoroantimonate salts such as SP-66 and SP-77. Aluminum Examples of chelates include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate and aluminum tris (ethyl acetoacetate). Examples of boron trifluoride amine complexes include boron trifluoride monoethylamine complex, boron trifluoride imidazole complex, and trifluoride. Examples include boron piperidine complexes.
前記硬化触媒（特にカチオン系触媒）の含有量は、特に限定されないが、前記熱硬化性樹脂１００重量部に対して０．１〜３重量部が好ましく、特に０．５〜１．５重量部が好ましい。含有量が前記下限値未満であると硬化性が低下する場合があり、前記上限値を超えると複合シート２が脆くなる場合がある。
The content of the curing catalyst (particularly cationic catalyst) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 3 parts by weight, particularly 0.5 to 1.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin. Is preferred. If the content is less than the lower limit, the curability may be lowered, and if the content exceeds the upper limit, the
前記樹脂材料は、特に限定されないが、さらに前記熱硬化性樹脂の屈折率を調整することが可能な第２成分を含むことが好ましい。これにより、前記熱硬化性樹脂とシート状基材を構成する材料との屈折率の調整を容易とすることができる。
第２成分としては、例えば前記熱硬化性樹脂と相溶するもの、または相溶しなくとも平均分散粒子径が１００ｎｍ以下となる充填材等が挙げられる。
前記熱硬化性樹脂（特に前記式（１）または（２）で表されるエポキシ樹脂）と相溶するものとしては、例えばポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂、ウレタン型エラストマー、ポリエーテル型エラストマー等の熱可塑性エラストマー、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂およびビスフェノールＦ型エポキシ樹脂ならびにその水素添化エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂等の公知のエポキシ樹脂、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、１，３−ビス［（１−エチル−３−オキセタニル）］メトキシベンゼン、オキセタニルシルセスキオキサン、オキセタニルシリケート等の分子構造中にシリケート構造を含むもの、ビニルエーテル樹脂等を挙げることができる。これらの中でも分子構造中にシリケート構造を含むものが好ましい。これにより、特に透明性を向上することができる。
Although the said resin material is not specifically limited, It is preferable that the 2nd component which can adjust the refractive index of the said thermosetting resin is further included. Thereby, the adjustment of the refractive index between the thermosetting resin and the material constituting the sheet-like substrate can be facilitated.
Examples of the second component include those that are compatible with the thermosetting resin, or fillers that have an average dispersed particle size of 100 nm or less without being compatible.
Examples of those that are compatible with the thermosetting resin (particularly the epoxy resin represented by the formula (1) or (2)) include thermoplastic resins such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, thermoplastic polyimide, and polyetherimide. , Thermoplastic elastomers such as urethane type elastomers and polyether type elastomers, bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins and their hydrogenated epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, epoxy resins having a fluorene skeleton and alicyclic type Known epoxy resins such as epoxy resins, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether, 1,3-bis [(1-ethyl-3-oxetanyl)] methoxybenzene, oxetanylsilsesquioxane, oxetanyl silicate Etc. Those containing silicate structure in molecular structure can include vinyl ether resin. Among these, those containing a silicate structure in the molecular structure are preferable. Thereby, especially transparency can be improved.
また、前記第２成分（特に、前記熱硬化性樹脂と相溶するもの）は、特に限定されないが、前記熱硬化性樹脂の官能基と反応可能な官能基を有していることが好ましい。これにより、耐熱性を低下すること無く、屈折率の調整ができる。
前記官能基としては、例えばオキセタニル基、エポキシ基、ビニル基等が挙げられる。これらの中でもオキセタニル基が好ましい。これにより、高架橋密度の複合シート２を得ることができ、耐熱性を向上することができる。
このような前記第２成分は、具体的にオキセタニル基を持つシルセスキオキサンまたはオキセタニル基を持つシリケート等を好適に挙げることがえきる。これにより、透明性を維持し、かつ耐熱性に優れる複合シート２を得ることができる。
The second component (particularly, compatible with the thermosetting resin) is not particularly limited, but preferably has a functional group capable of reacting with the functional group of the thermosetting resin. Thereby, the refractive index can be adjusted without reducing the heat resistance.
Examples of the functional group include an oxetanyl group, an epoxy group, and a vinyl group. Among these, an oxetanyl group is preferable. Thereby, the
Specific examples of the second component include silsesquioxane having an oxetanyl group or a silicate having an oxetanyl group. Thereby, the
このような前記第２成分の屈折率は、特に限定されないが、シート状基材２１がガラス繊維であり、前記熱硬化性樹脂の屈折率が該ガラス繊維の屈折率よりも高い場合は前記熱硬化性樹脂よりも低いことが好ましい。これにより、複合シート２の透明性を向上することができる。
The refractive index of the second component is not particularly limited, but when the sheet-like base material 21 is glass fiber and the refractive index of the thermosetting resin is higher than the refractive index of the glass fiber, the heat It is preferably lower than the curable resin. Thereby, the transparency of the
また、前記平均分散粒子径が１００ｎｍ以下となるような充填材としては、例えばシリカ微粒子、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニア微粒子、アルミナ微粒子等が挙げられる。
これらの中でもシリカ微粒子が好ましい。これにより耐熱性、線膨張係数等の硬化物の物性を低下させずに高い透明性をえることができる。
さらに、前記充填材の屈折率は、特に限定されないが、前記熱硬化性樹脂よりも低いことが好ましい。これにより、屈折率の調整がより容易にできる。
前記平均分散粒子径は、例えば電子顕微鏡を用いて評価することができる。
Examples of the filler having an average dispersed particle diameter of 100 nm or less include silica fine particles, titanium oxide fine particles, zirconia oxide fine particles, and alumina fine particles.
Among these, silica fine particles are preferable. Thereby, high transparency can be obtained without deteriorating the physical properties of the cured product such as heat resistance and linear expansion coefficient.
Furthermore, the refractive index of the filler is not particularly limited, but is preferably lower than that of the thermosetting resin. Thereby, the refractive index can be adjusted more easily.
The average dispersed particle size can be evaluated using, for example, an electron microscope.
このような前記第２成分の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂材料全体の１〜４０重量％が好ましく、特に５〜２０重量％が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に前記熱硬化性樹脂の特性を損なうこと無く、透明性を向上することができる。 Although content of the said 2nd component is not specifically limited, 1 to 40 weight% of the whole said resin material is preferable, and 5 to 20 weight% is especially preferable. If the content is within the above range, the transparency can be improved without impairing the properties of the thermosetting resin.
前記樹脂材料は、上述のような熱硬化性樹脂等に加えて、本発明の目的を損なわない範囲で熱可塑性オリゴマー、熱硬化性オリゴマー、無機充填材、有機充填材等の充填材等を用いても良い。 In addition to the thermosetting resin as described above, the resin material uses a filler such as a thermoplastic oligomer, a thermosetting oligomer, an inorganic filler, an organic filler, or the like as long as the object of the present invention is not impaired. May be.
このような樹脂材料を硬化して得られる硬化物の屈折率は、特に限定されないが、１．４〜１．６が好ましく、特に１．５〜１．５５が好ましい。屈折率が前記範囲内であると、シート状基材の屈折率と樹脂材料の屈折率とを調整するのが容易となる。 The refractive index of a cured product obtained by curing such a resin material is not particularly limited, but is preferably 1.4 to 1.6, and particularly preferably 1.5 to 1.55. When the refractive index is within the above range, it becomes easy to adjust the refractive index of the sheet-like substrate and the refractive index of the resin material.
前記樹脂材料を硬化して得られる硬化物の屈折率と、前記ガラス繊維の屈折率との差は、特に限定されないが、０．０１以下であることが好ましく、特に０．００５以下であることが好ましい。屈折率差が前記範囲内であると。得られる複合シート２の透明性に特に優れる。
The difference between the refractive index of the cured product obtained by curing the resin material and the refractive index of the glass fiber is not particularly limited, but is preferably 0.01 or less, particularly 0.005 or less. Is preferred. The difference in refractive index is within the above range. The
次に、このような樹脂材料をガラス織布１に担持して複合シート２を得る方法は、特に限定されるものでは無く、例えば前記樹脂組成物をガラス織布１に含浸、塗布等により担持して得ることができる。具体的には、ガラス織布１と樹脂材料とをプレス成形により複合シート２を得る方法、ロール−ロールにより連続的に複合シート２を得る方法等が挙げられる。
以下に、連続的に複合シート２を得る方法について好適な実施形態に基づいて説明する。
Next, the method of obtaining such a resin sheet on the glass woven
Below, the method to obtain the
図３に示すように、複合シート２を連続的に製造する場合、ガラス織布供給部３から供給されたガラス織布１を送りロール３１で第１含浸部４１に移送して、樹脂材料を第１次含浸（担持）し、さらに第２含浸部４２に移送して樹脂材料を第２含浸（担持）する（担持工程４）。次に、未硬化の樹脂材料が含浸（担持）されたガラス織布１の両側から支持部材５１をラミロール５２で積層する（積層工程５）。次に、乾燥機６１中にガラス織布１を通過させることにより樹脂材料を硬化（硬化工程６）して複合シート２を連続的に製造する。
As shown in FIG. 3, when the
このようにして得られた複合シート２は、高度な平坦性を有している。例えば複合シート２の平均表面粗さは、１００μｍ以下であることが好ましく、特に５０μｍ以下であることが好ましく、最も１０μｍ以下であることが好ましい。
前記平均表面粗さは、例えば干渉式平面粗さ計（Ｚｙｇｏ社のＮｅｗ Ｖｉｅｗ ５０３２）で評価することができる。
The
The average surface roughness can be evaluated by, for example, an interference type surface roughness meter (New View 5032 from Zygo).
また、複合シート２の５５０ｎｍにおける光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上であることが好ましく、特に８５％以上であることが好ましい。光線透過率が前記範囲内であると、特に透明性に優れる。
The light transmittance at 550 nm of the
また、このようにして得られた複合シート２をそのまま（透明）基板として用いても良いが、後述する平滑化工程により、さらに表面の平滑性を向上させることが好ましい。
Further, the
得られた複合シート２に対して、さらに表面の平滑性が要求される場合には、複合シート２の少なくとも一方の面に樹脂層を設ける平滑化工程を行い、基板を最終的に得ることが好ましい。
平滑化工程では、供給された複合シート２を洗浄し、樹脂ワニス（後に樹脂層を形成する）を複合シート２の表面に塗布すると共に、転写部材を積層して積層体を得る。
When further smoothness of the surface is required for the obtained
In the smoothing step, the supplied
得られた積層体に紫外線を照射するために、紫外線照射部を通過させる。次に、転写部材をで剥離し、さらに加熱することにより、最終的に（透明）基板を得る。 In order to irradiate the obtained laminate with ultraviolet rays, an ultraviolet irradiation unit is passed. Next, the transfer member is peeled off and further heated to finally obtain a (transparent) substrate.
このようにして、得られた基板の表面の平滑性（平均表面粗さ）は、特に限定されないが、２μｍ以下が好ましく、特に０．５μｍ以下が好ましい。これにより、基板を表示素子用の樹脂基板として好適に用いることができる。
前記平均表面粗さは、例えば干渉式平面粗さ計（Ｚｙｇｏ社のＮｅｗ Ｖｉｅｗ ５０３２）で評価することができる。
Thus, although the smoothness (average surface roughness) of the surface of the obtained board | substrate is not specifically limited, 2 micrometers or less are preferable and 0.5 micrometer or less is especially preferable. Thereby, a board | substrate can be used suitably as a resin substrate for display elements.
The average surface roughness can be evaluated by, for example, an interference type surface roughness meter (New View 5032 from Zygo).
樹脂ワニスとしては、シート状基材２１に担持した樹脂材料と同じ種類のものであっても異なる種類であっても良く、例えば活性エネルギー線（または必要に応じて活性エネルギー線と熱を併用し）で架橋することが可能なアクリレート、エポキシ、オキセタン、ビニルエーテル等の反応性モノマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。 The resin varnish may be of the same type as the resin material carried on the sheet-like base material 21 or may be of a different type. For example, active energy rays (or active energy rays and heat are used in combination as required). ), Reactive monomers or oligomers such as acrylate, epoxy, oxetane, and vinyl ether.
より具体的にアクリレートとしては、２官能以上のアクリレートを含んでいることが好ましい。これにより、透明性に優れていることに加え、耐熱性および耐溶剤性を特に向上することができる。前記２官能以上のアクリレートとしては、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソシアヌレート構造を有するアクリレート、環状構造を有するアクリレート、脂環式構造を有するアクリレート等挙げることができる。 More specifically, the acrylate preferably contains a bifunctional or higher acrylate. Thereby, in addition to being excellent in transparency, heat resistance and solvent resistance can be particularly improved. Examples of the bifunctional or higher acrylate include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, acrylate having an isocyanurate structure, acrylate having a cyclic structure, and acrylate having an alicyclic structure.
次に、本発明の電子デバイスについて、液晶用表示素子基板を具体例に挙げて説明する。図４に示すように液晶用表示素子基板９は、液晶セル９１の両面に上述したような透明基板８ａ、８ｂを介して偏光板９２ａ、９２ｂが設けられている。８ａ、８ｂの少なくとも一方（好ましくは両方）に上述の透明基板（例えば、複合シート２に上述の平滑化工程を行なったもの）を用いる。
液晶セル９１の上側（図４中上側）にはフィルタ９３が透明基板８ａとの間に設けられている。一方、液晶セル９１の下側（図４中下側）には、ＴＦＴ９４が透明基板８ｂとの間に設けられている。これらの透明基板８ａ、８ｂは、従来用いられていたガラス基板と比較して、軽量であり、かつ強度にも優れているものである。
そして、液晶用表示素子基板９の下側から照射される光源９５によって、画像が形成される。
このように、上述の透明基板を液晶用表示素子基板に用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、アクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子用基板等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池基板などの光学シート、透明板等の電子デバイスに好適に用いることができる。
Next, the electronic device of the present invention will be described using a liquid crystal display element substrate as a specific example. As shown in FIG. 4, the liquid crystal display element substrate 9 is provided with
A
An image is formed by the
Thus, although the case where the above-mentioned transparent substrate was used for the display element substrate for liquid crystals was demonstrated, this invention is not limited to this, The substrate for liquid crystal display elements containing an active matrix type, a substrate for organic EL display elements, etc. The display device substrate, color filter substrate, touch panel substrate, electronic paper substrate, solar cell substrate and other optical sheets, and a transparent plate can be used suitably.
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
・ガラス織布
ガラス織布として緯糸と経糸とで構成され、厚さ８０μｍのＥガラス系ガラスクロス（日東紡績社製 ＷＥＡ２３１９）をロール面で加圧して開繊処理を施したものを用いた。
このように開繊処理したガラス織布の４０×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布は、ほぼ均一であった。
なお、光線透過率は、ガラス織布からの透過画像で得られる輝度値と、分光光度計から得られる透過率の校正曲線とにより、透過画像を用いて簡便に光線透過率の分布を評価した。具体的には、光源として波長が４００〜５６０ｎｍの単色光を用い、ガラス織布の照度が５００〜１０００ｌｘとなるよう調整し、ガラス織布の任意の４０×４０ｍｍの領域における輝度値を測定した。得られた結果に、隣り合う緯糸・経糸幅に設定したローパスフィルター処理（正常な織布が持つ波形成分と比較）を実施して得た。
なお、光線透過率の分布の測定について、さらに詳細に説明すると次のようになる。
測定対象となるガラス織布と、このガラス織布の一方の面側に光を照射する光源装置とが設置した。一方、他方の面側にガラス織布を透過した光を撮像するＣＣＤカメラと、撮像した画像信号を記憶する記憶回路と、フィルタ処理を行う補正回路と、統計的処理を行う演算回路等とを備える画像処理装置を設置した。そして、ガラス織布の法線軸とＣＣＤカメラの光軸とが一致し、その延長線上に光源装置を配置した。光源装置は、高いコントラストが得られることからバータイプのものを選択し、ガラス織布の表面における照度が７００ｌｘとなるようにガラス織布と光源装置との距離を２５０ｍｍに調整した。ＣＣＤカメラは１／２インチで１３０万画素のカラー画像のタイプを使用し、焦点をガラス織布の表面から３〜５ｃｍ前方もしくは後方にずらした状態に設定し、絞り度をF−１６に絞った状態で撮像を行った。緯糸・経糸のフィラメント構成および織密度の異なるガラスクロスに対して分光光度計を用いて光線透過率を計測し、同計測箇所を上述のシステムにより撮像した。撮像した画像を８ビットグレイスケールに変換し、計測箇所におけるグレイ値を求めた。計測したグレイ値と透過率の間には相関関係があることが確認でき、この結果に基づき透過率−グレイ値の変換曲線を得ることが可能であった。上述のＣＣＤカメラにより撮像された透過画像を透過率−グレイ値の変換曲線に当てはめることにより透過率を算出した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to this.
Example 1
Glass woven fabric A glass woven fabric composed of wefts and warps and an E glass-based glass cloth (WEA 2319 manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm pressed on the roll surface and subjected to fiber opening treatment was used.
The distribution of light transmittance in a 40 × 40 mm region of the glass woven fabric thus subjected to fiber opening treatment was almost uniform.
The light transmittance was simply evaluated by using the transmission image based on the luminance value obtained from the transmission image from the glass woven fabric and the transmittance calibration curve obtained from the spectrophotometer. . Specifically, monochromatic light having a wavelength of 400 to 560 nm was used as a light source, the illuminance of the glass woven fabric was adjusted to 500 to 1000 lx, and the luminance value in an arbitrary 40 × 40 mm region of the glass woven fabric was measured. . The obtained results were obtained by performing low-pass filter processing (compared to the waveform component of a normal woven fabric) set to adjacent weft and warp widths.
The measurement of the light transmittance distribution will be described in detail as follows.
A glass woven fabric to be measured and a light source device for irradiating light on one surface side of the glass woven fabric were installed. On the other hand, a CCD camera that images light transmitted through the glass woven fabric on the other surface side, a storage circuit that stores the captured image signal, a correction circuit that performs filter processing, an arithmetic circuit that performs statistical processing, and the like An image processing apparatus is provided. Then, the normal axis of the glass woven fabric and the optical axis of the CCD camera coincided, and the light source device was arranged on the extended line. As the light source device, a bar type device was selected because high contrast was obtained, and the distance between the glass fabric and the light source device was adjusted to 250 mm so that the illuminance on the surface of the glass fabric was 700 lx. The CCD camera uses a type of color image with 1/2 inch and 1.3 million pixels, and the focus is set 3-5 cm forward or backward from the surface of the glass woven fabric, and the aperture is reduced to F-16. The image was taken in the state. The light transmittance was measured using a spectrophotometer for glass cloths having different weft and warp filament configurations and weave densities, and the measurement location was imaged by the above-described system. The captured image was converted to an 8-bit gray scale, and the gray value at the measurement location was obtained. It was confirmed that there was a correlation between the measured gray value and the transmittance, and based on this result, it was possible to obtain a transmittance-gray value conversion curve. The transmittance was calculated by fitting a transmission image captured by the above-described CCD camera to a transmittance-gray value conversion curve.
・樹脂材料
熱硬化性樹脂として前記式（２）で表されるエポキシ樹脂（ダイセル化学工業社製、Ｅ−ＢＰ）１００重量に対して、硬化触媒として熱カチオン系硬化触媒（芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒、三新化学社製、ＳＩ−１００Ｌ）１重量部とを混合して樹脂材料を調製した。
-Resin material The thermo-cationic curing catalyst (aromatic sulfonium-based heat) as a curing catalyst with respect to 100 weight of the epoxy resin represented by the formula (2) as a thermosetting resin (E-BP, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) A resin material was prepared by mixing 1 part by weight of a cationic catalyst (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd., SI-100L).
複合シートの製造
開繊処理したガラス織布に上述の樹脂材料を図３に示すように、第１含浸および第２含浸することにより樹脂材料を担持した。そして、樹脂材料が固化に至る前に、支持部材として銅箔（厚さ１２μｍ、平均線膨張係数１７ｐｐｍ、表面粗さ１．５μｍ）をガラス織布の両面から積層した。次に、４０℃−５３℃−６７℃−８０℃−１００℃−１２０℃の６ゾーンに設定しているＩＲヒーター中にシート状基材を０．１５ｍ／分で通過させ、樹脂材料を硬化した（昇温速度が計算上は１０℃／分となった）。そして、支持部材を巻き取り機で剥離して、複合シートを得た。なお、得られた複合シートの表面の平均表面粗さは、１．５μｍであった。
Production of Composite Sheet As shown in FIG. 3, the resin material was supported by carrying out the first impregnation and the second impregnation on the glass woven fabric subjected to the fiber opening treatment. Before the resin material solidified, copper foil (
そして上述の複合シートをさらに平滑化するために、複合シートの両面からアクリル樹脂（東亞合成社製 Ｍ−３１５）１００重量部と、アクリル樹脂（日本化薬社製 Ｒ−６０４）１００重量部と、紫外線硬化剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）３重量部と、を含む樹脂ワニスを塗布した後、転写部材としてＰＥＴフィルム（東洋紡社製、厚さ１２５μｍ）を積層し、紫外線照射部で５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、硬化した樹脂層を形成した。
続いて、転写部材を剥離して、上述の複合シートの両面に樹脂層が形成され、さらに表面が平滑処理された透明基板を得た。この透明基板の平均表面粗さは、０．１５μｍであった。また、この透明基板の波長５５０ｎｍでの光線透過率は９１％であり、３０〜１５０℃の平均線膨張係数は１３ｐｐｍであった。
And in order to further smooth the above-mentioned composite sheet, 100 parts by weight of acrylic resin (M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 100 parts by weight of acrylic resin (R-604 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) from both sides of the composite sheet After applying a resin varnish containing 3 parts by weight of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as an ultraviolet curing agent, a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 125 μm) is laminated as a transfer member, A cured resin layer was formed by irradiation with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet rays.
Subsequently, the transfer member was peeled off to obtain a transparent substrate in which a resin layer was formed on both surfaces of the composite sheet and the surface was further smoothed. The average surface roughness of this transparent substrate was 0.15 μm. Moreover, the light transmittance in wavelength 550nm of this transparent substrate was 91%, and the average linear expansion coefficient of 30-150 degreeC was 13 ppm.
（実施例２）
ガラス織布の開繊処理を以下のようにした以外は、実施例１と同様にした。
ガラス織布として緯糸と経糸とで構成され、厚さ８０μｍのＥガラス系ガラスクロスにロール面で加圧して開繊処理を施し、さらに超音波を利用して開繊処理を施したものを用いた。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the glass woven fabric was opened as follows.
A glass woven fabric composed of wefts and warps, applied to an E glass-type glass cloth with a thickness of 80 μm by pressing on the roll surface to perform fiber opening treatment, and using ultrasonic waves for fiber opening treatment It was.
（実施例３）
ガラス織布の開繊処理を以下のようにした以外は、実施例１と同様にした。
ガラス織布として緯糸と経糸とで構成され、厚さ８０μｍのＥガラス系ガラスクロスにロール面で加圧して開繊処理を施し、さらに流体の圧力を利用して開繊処理を施したものを用いた。
(Example 3)
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the glass woven fabric was opened as follows.
A glass woven fabric composed of wefts and warps, which is subjected to fiber opening by applying pressure on the roll surface to an E glass-based glass cloth having a thickness of 80 μm, and further using fluid pressure. Using.
（実施例４）
熱硬化性樹脂として以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
熱硬化性樹脂として前記式（１）で表されるエポキシ樹脂（２，２−ビス（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロパン、ダイセル化学工業社製、Ｅ−ＤＯＡ）を用いた。
Example 4
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the following thermosetting resin was used.
An epoxy resin (2,2-bis (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) propane, manufactured by Daicel Chemical Industries, E-DOA) represented by the above formula (1) was used as the thermosetting resin.
（比較例１）
ガラス織布として以下のものを用いた以外は、実施例１と同様にした。
ガラス織布として緯糸と経糸とで構成され、厚さ８０μｍのＥガラス系ガラスクロスを噴射した流体の圧力で開繊処理を施したものを用いた。
(Comparative Example 1)
Example 1 was repeated except that the following glass woven fabric was used.
A glass woven fabric composed of wefts and warps and subjected to fiber opening treatment with the pressure of a fluid sprayed with an E glass-based glass cloth having a thickness of 80 μm was used.
各実施例および比較例で得られた複合シートについて、以下の評価を行った。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表１に示す。
１．光線透過率の分布および差
波長４３０〜４６０ｎｍの青色ＬＥＤを照射して、ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布、最大透過率および最小透過率の差を評価した。
The following evaluation was performed about the composite sheet obtained by each Example and the comparative example. The evaluation items are shown together with the contents. The obtained results are shown in Table 1.
1. Distribution and Difference of Light Transmittance A blue LED having a wavelength of 430 to 460 nm was irradiated to evaluate the distribution of light transmittance, the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance in a 40 mm × 40 mm region of the glass woven fabric.
２．平均表面粗さ
得られた複合シートおよび透明基板の平均表面粗さを干渉式平面粗さ計（Ｚｙｇｏ社のＮｅｗ Ｖｉｅｗ ５０３２、２．５倍のレンズ）で評価した。
2. Average surface roughness The average surface roughness of the obtained composite sheet and transparent substrate was evaluated with an interference-type plane roughness meter (Zygo New View 5032, 2.5 times lens).
３．透明性
得られた透明基板の５５０ｎｍにおける透過率を、分光光度計Ｕ３２００（島津製作所社製）で測定した。
3. Transparency The transmittance at 550 nm of the obtained transparent substrate was measured with a spectrophotometer U3200 (manufactured by Shimadzu Corporation).
４．耐熱性
得られた透明基板の耐熱性は、粘弾性測定装置ＤＭＳ−２１０（セイコーインスツルメンツ社製）で測定したｔａｎδ（ピークトップ値）で評価した。
4). Heat Resistance The heat resistance of the obtained transparent substrate was evaluated by tan δ (peak top value) measured with a viscoelasticity measuring device DMS-210 (manufactured by Seiko Instruments Inc.).
５．光漏れ
得られた透明基板の光漏れの有無を評価した。評価方法は、偏光顕微鏡を用いクロスニコル状態にした後、透明基板をステージ上で回転させながら、最も光漏れが強くなる位置で評価を行った。各符号は、以下の通りである。
○：光漏れは検知できたが、実用的に問題の無いレベルであった。
△：光漏れがあり、実用不可能のレベルであった。
×：光漏れが多量にある。
5. Light leakage The obtained transparent substrate was evaluated for light leakage. The evaluation method was carried out in a crossed Nicol state using a polarizing microscope, and then evaluated at a position where light leakage was strongest while rotating the transparent substrate on the stage. Each code is as follows.
○: Although light leakage could be detected, the level was practically satisfactory.
(Triangle | delta): There was light leakage and it was the level which cannot be used practically.
X: There is a large amount of light leakage.
６．うねり
得られた透明基板のうねりの有無を蛍光灯反射法で評価した。各符号は、以下の通りである。
○：蛍光灯反射像が歪んで見えたが、実用的に問題の無いレベル。
△：蛍光灯反射像が歪んで見え、実用的に問題の有るレベル。
×：蛍光灯反射像が歪んで、認識できなかった。
6). Swelling The presence or absence of swell of the obtained transparent substrate was evaluated by a fluorescent lamp reflection method. Each code is as follows.
○: Fluorescent lamp reflection image appeared distorted, but practically no problem.
Δ: Level at which a fluorescent lamp reflection image looks distorted and has a problem in practical use.
X: The fluorescent lamp reflection image was distorted and could not be recognized.
表１から明らかなように、実施例１〜４で得られた複合シートの光線透過率の分布は、均一であり、光線透過率の最大透過率と最小透過率との差も１．５％以下であった。
また、実施例１〜４で得られた複合シートは、光漏れの検知もできず、かつうねりも小さかった。これにより、平坦性に優れていることが示された。
また、実施例１〜４で得られた透明基板を用いた電子デバイスは良好に作動した。
As is clear from Table 1, the distribution of the light transmittance of the composite sheets obtained in Examples 1 to 4 is uniform, and the difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance of the light transmittance is also 1.5%. It was the following.
In addition, the composite sheets obtained in Examples 1 to 4 could not detect light leakage, and the swell was small. Thereby, it was shown that it is excellent in flatness.
Moreover, the electronic device using the transparent substrate obtained in Examples 1 to 4 worked well.
本発明で得られる複合シートは、例えばアクティブマトリックスタイプを含む液晶表示素子用基板、有機ＥＬ表示素子用基板等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池基板などの光学シート、透明板等の電子デバイスに好適に用いることができる。 The composite sheet obtained by the present invention is, for example, a liquid crystal display element substrate including an active matrix type, a display element substrate such as an organic EL display element substrate, a color filter substrate, a touch panel substrate, an electronic paper substrate, and a solar cell. It can use suitably for electronic devices, such as optical sheets, such as a board | substrate, and a transparent plate.
１ ガラス織布
１１ 緯糸
１２ 経糸
２ 複合シート
３ ガラス織布供給部
３１ 送りロール
４ 担持工程
４１ 第１含浸部
４２ 第２含浸部
５ 積層工程
５１ 支持部材
５２ ラミロール
６ 硬化工程
６１ 乾燥機
８ａ 透明基板
８ｂ 透明基板
９ 液晶用表示素子基板
９１ 液晶セル
９２ａ 偏光板
９２ｂ 偏光板
９３ フィルタ
９４ ＴＦＴ
９５ 光源
DESCRIPTION OF
95 Light source
Claims (10)
前記ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率の分布がほぼ均一であることを特徴とする複合シート。 A composite sheet comprising a glass woven fabric composed of wefts and warps carrying a resin material containing a thermosetting resin,
A composite sheet characterized in that a distribution of light transmittance in a 40 mm × 40 mm region of the glass woven fabric is substantially uniform.
前記ガラス織布の４０ｍｍ×４０ｍｍの領域における光線透過率を測定し、その最大透過率をＡ％とし、最小透過率をＢ％としたとき、
Ａ−Ｂが１．５％以下であることを特徴とする複合シート。 A composite sheet comprising a glass woven fabric composed of wefts and warps carrying a resin material containing a thermosetting resin,
When the light transmittance in a 40 mm × 40 mm region of the glass woven fabric is measured, the maximum transmittance is A%, and the minimum transmittance is B%,
A composite sheet having AB of 1.5% or less.
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