JP2007108641A - セルロースアシレートフィルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】生産性が高く、良好な面状を有しており、かつ光学補償シートとして用いることが可能なセルロースアシレートフィルムを提供すること。
【解決手段】セルロースアシレートのグルコース単位２位、３位、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、ＤＳ３、ＤＳ６としたときに、下記数式（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）を満たし、かつセルロースアシレートの質量平均分子量／数平均分子量が２．０〜３．４であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（Ｉ−ａ）：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
数式（Ｉ−ｂ）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５
【選択図】なし

Description

本発明は、特に光学用として有用なセルロースアシレートフィルム、それを光学補償シートとして用いた偏光板、およびこの偏光板を備えた液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶分子の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。
一般に液晶表示装置は液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シートは画像着色を解消したり、視野角を拡大するために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。例えば、特許文献１ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。

しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）モード、ＶＡ（Vertically Aligned）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。

液晶表示装置において、視野角の拡大、画像着色の改良、およびコントラストの向上のため光学補償シートを使用することは上述の通り広く知られた技術である。なかでも、セルロースエステル中に平面性の高い低分子化合物を添加したフィルムは広い範囲でのレターデーション調節が可能で特に有用であり、特許文献１に開示されている。

これらのフィルムは今後さらに市場が拡大することが予想されており、製造コスト削減の観点からこれまで以上の生産性向上が求められている。特にセルロースアシレートフィルムにおいてはドープを支持体上に流延してから、支持体上の成形フィルムを剥離するまでに要する時間を短縮することが重要であり、高速流延適性付与のために特に剥離力を低減させることが重要となっている。
さらに剥離力低減はフィルムの光学品質上も重要である。剥離力が大きいとスジ、ムラ等の故障を生じることがあるためであり、特に今後、高いレベルの高速流延適性を求められるようになると、光学性能との両立が重要な課題になっていくものと考えられる。

特許文献２にセルロースアシレートの分子量分布を調整することで安定な剥離性を有するセルロースアシレートフィルムが実現可能であることが提示されている。しかし昨今の製膜速度、光学性能の要求レベルからするとさらに高いレベルの剥離性向上が求められていた。
特開２０００−１１１９１４号公報 特開２００４−３３９３４８号公報

本発明の目的は、生産性が高く、良好な面状を有しており、かつ光学補償シートとして用いることが可能なセルロースアシレートフィルムを提供することであり、特に垂直配向型（ＶＡ）液晶表示装置の補償フィルムとして要求されるような高い光学的異方性を有し、かつ生産性も高い光学用セルロースアシレートフィルムを提供することにある。

本発明の他の目的は、光学補償機能を兼ね備えた偏光板、および表示性能に優れた液晶表示装置を提供することにある。

本発明者らは鋭意検討の結果、以下の構成によって目的を達成しうることを見いだした。
［１］ セルロースアシレートをポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、前記セルロースアシレートのグルコース単位２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、前記セルロースアシレートが下記数式（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）を満たし、かつ前記セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗを数平均分子量Ｍｎで除した分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが２．０〜３．４であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
数式（Ｉ−ａ）：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
数式（Ｉ−ｂ）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５
［２］ 前記セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗが７００００≦Ｍｗ≦３０００００であることを特徴とする［１］に記載のセルロースアシレートフィルム。
［３］ 前記セルロースアシレートの水酸基のアセチル基による置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基による置換度Ｂとが下記数式（Ｉ）を満たし、かつ流延方向または流延幅方向において、実質的に１０％以上延伸されていることを特徴とする［１］または［２］に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（Ｉ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
［４］ 前記アシル基がブタノイル基であることを特徴とする［３］に記載のセルロースアシレートフィルム。
［５］ 前記アシル基がプロピオニル基であり、前記置換度Ｂが０．６以上であることを特徴とする［３］に記載のセルロースアシレートフィルム。
［６］ 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎および膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎が、下記数式（IX）および(XI)を満たすことを特徴とする［１］〜［５］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（IX）：３０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦２００ｎｍ
数式（XI）：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦４００ｎｍ
［７］ 前記Ｒｅ₍₅₉₀₎および前記Ｒｔｈ₍₅₉₀₎が、下記数式（XIII）および（XIV）を満たすことを特徴とする［６］に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（XIII）：４０≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１００
数式（XIV） ：１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦３００ｎｍ
［８］ 棒状または円盤状化合物からなるレターデーション発現剤を少なくとも１種含有していることを特徴とする［１］〜［７］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［９］ 可塑剤、紫外線吸収剤および剥離促進剤のうち少なくとも１種を含有していることを特徴とする［１］〜［８］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［１０］ 前記フィルムの膜厚が４０〜１８０μｍであることを特徴とする［１］〜［９］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［１１］ ２５℃・相対湿度１０％における前記フィルムの正面レターデーションＲｅと２５℃・相対湿度８０％における前記フィルムの正面レターデーションＲｅとの差ΔＲｅ（Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ））が０〜１０ｎｍであり、２５℃・相対湿度１０％における前記フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈと２５℃・相対湿度８０％における前記フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈとの差ΔＲｔｈ（Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））が、０〜３０ｎｍであることを特徴とする［１］〜［１０］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［１２］ １軸延伸法、同時２軸延伸法または逐次２軸延伸法で延伸されていることを特徴とする［１］〜［１１］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［１３］ ２５℃・相対湿度６０％における前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎、２５℃・相対湿度６０％における前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎、および前記フィルムの光学特性の調整係数ａが、下記数式（Ａ）〜（Ｃ）を満たすことを特徴とする［１］〜［１２］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（Ａ）：４０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１４５ｎｍ
数式（Ｂ）：Ｒｔｈ₍₅₉₀₎＝ａ−５．９Ｒｅ₍₅₉₀₎
数式（Ｃ）：５８０ｎｍ≦ａ≦６７０ｎｍ
［１４］ 前記フィルムの幅手方向での膜厚の最大値、最小値、平均値をそれぞれＲｍａｘ、Ｒｍｉｎ、Ｒａｖｅとしたときに、Ｒ（％）＝（Ｒmax−Rmin）/Rave×１００で算出される膜厚分布Ｒが０〜８％に調整されていることを特徴とする［１］〜［１３］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
［１５］ 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎の分布が５％以下に調整されていることを特徴とする［１］〜［１４］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
［１６］ 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎の分布が１０％以下に調整されていることを特徴とする［１］〜［１５］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
（上記［１］〜［１６］のセルロースアシレートフィルムは、光学用セルロースアシレートフィルムとして特に有用である）
［１７］ 偏光子の両面に保護膜を有する偏光板であって、前記保護膜の少なくとも一方が［１］〜［１６］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
［１８］ 前記偏光板の２５℃・相対湿度６０％における単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴ、偏光度Ｐが下記数式（ａ）〜（ｄ）の少なくとも１つ以上を満たすことを特徴とする［１７］に記載の偏光板。
数式（ａ）４０．０≦ＴＴ≦４５．０
数式（ｂ）３０．０≦ＰＴ≦４０．０
数式（ｃ）ＣＴ≦２．０
数式（ｄ）９５．０≦Ｐ
［１９］ 前記偏光板の波長λにおける直交透過率をＴ₍λ₎としたときに、Ｔ₍₃₈₀₎、Ｔ₍₄₁₀₎、Ｔ₍₇₀₀₎が下記数式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことを特徴とする［１７］または［１８］に記載の偏光板。
数式（ｅ）Ｔ₍₃₈₀₎≦２．０
数式（ｆ）Ｔ₍₄₁₀₎≦１．０
数式（ｇ）Ｔ₍₇₀₀₎≦０．５
［２０］ 前記偏光板を６０℃・相対湿度９５％の条件下に５００時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記数式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つを満たすことを特徴とする［１７］〜［１９］のいずれか一項に記載の偏光板。
数式（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
数式（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
［ただし、変化量とは５００時間静置後の測定値から５００時間静置前の測定値を差し引いた値を示す。]
［２１］ 偏光子の一方の保護膜の表面に、ハードコート層、防眩層、および反射防止層のうち少なくとも一層が設けられていることを特徴とする［１７］〜［２０］のいずれか一項に記載の偏光板。
［２２］ ［１］〜［１６］のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムおよび［１７〜２１のいずれか一項に記載の偏光板のいずれかを具備したことを特徴とする液晶表示装置。
［２３］ ［１７］〜［２１］のいずれか一項に記載の偏光板のいずれかをセルの上下に用いたことを特徴とするＯＣＢまたはＶＡモード液晶表示装置。
［２４］ ［１７］〜［２１］のいずれか一項に記載の偏光板のいずれか１枚をバックライト側に用いたＶＡモード液晶表示装置。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、生産性が高く、良好な面状を有しており、かつ光学補償シートとして用いることが可能である。また、本発明の偏光板は光学補償機能を兼ね備えており、本発明の液晶表示装置は表示性能に優れている。

以下、本発明についてさらに詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイルおよびメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。また、水素原子が水素原子以外の原子で置換されている場合、該水素原子以外の原子を便宜上置換基として取り扱う。

まず、本発明のセルロースアシレートフィルムについて説明する。
［セルロースアシレート］
本発明において用いられるセルロースアシレート（以下、単に「本発明のセルロースアシレート」と称する）について詳細に記載する。本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いても良い。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
アシル置換度が全てアセチル置換度の場合、ASTM：Ｄ−８１７−９１を用いて測定できる。また、各置換位置の置換度はＮＭＲ法により測定できる。
本発明においてはセルロースアシレートフィルムのグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、下記数式（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）を満たす。
数式（Ｉ−ａ）：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
数式（Ｉ−ｂ）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５

上記のうちＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００であり、好ましくは２．２０〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８２である。またＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３１５以上であり、０．３１６以上が好ましく、０．３１７以上がより好ましい。上限は好ましくは０．３６であり、より好ましくは０．３０である。

本発明のセルロースアシレートフィルムはさらに質量平均分子量Ｍｗを数平均分子量Ｍｎで除した分子量分布Ｍｗ/Ｍｎが２．０〜３．４であるセルロースアシレートを用いて製造されたことを特徴とする。

ここで質量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは以下に示す高速液体クロマトグラフィーを用いて算出できる。測定条件は以下の通りである。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
溶媒（溶離液）：ジクロロメタン
カラム名：昭和電工製 GPCk806- GPCk805- GPCk803G（３本接続して使用）
試料濃度：０．１（質量％）
流量：１．０（ｍｌ／分）
試料注入量：１００（μｌ）
標準試料：ポリスチレン（Mw：500〜6,700,000）
温度：２５℃
検出：ＲＩ（示唆屈折率計）

分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが２．０未満の場合は、フィルムの機械的物性が低下し、延伸ムラが発生しやすくなりフィルムの平面性が低下する。また分子量分布が３．４を超えた場合はドープ粘度が高くなり、流延スジなどが発生しやすくなり面状を悪化させたり、剥離性の悪化が認められる。分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．２〜３．４が好ましく、２．４〜３．４がさらに好ましい。

また、質量平均分子量Ｍｗの範囲は７万〜３０万が好ましく、８万〜２８万がより好ましく、１０万〜２６万がさらに好ましい。

また本発明のセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基および／または炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの脂肪酸エステルであって、好ましくはセルロースの水酸基への置換度が下記数式（Ｉ）を満たすことが好ましい。
数式（Ｉ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
ここで、式中、ＡおよびＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。

Ａ＋Ｂが２．０以上であると、親水性が弱く環境湿度の影響を受けにくい。
Ｂが０であり、セルロースアセテートになると、環境湿度の影響を受けやすくなるものの、環境温度の影響については後述する線熱膨張率がＢが０でない場合に比べて、小さくなり液晶表示装置で表示させたときのムラなどの発生が抑えられる。

さらにＢはその２８％以上が６位水酸基の置換度であるのが好ましいが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換度であり、３１％以上がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換度であることが好ましい。
またさらに、セルロースアシレートの６位水酸基のＡとＢの置換度の総和が０．７５以上であるのが好ましく、さらには０．８０以上が、特には０．８５以上が好ましい。これらのセルロースアシレートフィルムにより溶解性、濾過性の好ましいフィルム調製用の溶液が作製でき、非塩素系有機溶媒においても、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低くろ過性のよい溶液の作成が可能となる。

上記炭素原子数３以上のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族炭化水素基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。好ましくは、プロピオニル基、ブタノイル基、ケプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、好ましくはプロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などである。特に好ましくはプロピオニル基、ブタノイル基である。また、プロピオニル基の場合には置換度Ｂは０．６以上であるのが好ましい。

セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが挙げられる。

［セルロースアシレートの合成方法］
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。

セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。
セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上は、０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、さらに好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。さらに特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が一般的である。この含水率にするためには乾燥することが好ましく、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。
セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）７〜１２頁に詳細に記載されている原料綿や合成方法を採用できる。

本発明のセルロースアシレートフィルムに用いるセルロースアシレートは前記のように質量平均分子量Ｍｗを数平均分子量Ｍｎで除した分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが２．０〜３．４であるセルロースアシレートを用いて製造されたことを特徴とするが質量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは前記原料セルロースの酢化工程において例えば触媒硫酸量を変化させたり、加熱時間、加熱温度、攪拌速度を変化させることで制御できる。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロースアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化することにより得ることができる。

［添加剤］
本発明において、上記セルロースアシレート溶液に用いることができる添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、レターデーション（光学異方性）発現剤、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤などを挙げることができる。本発明においては、レターデーション発現剤を少なくとも１種用いるのが好ましい。また、可塑剤、紫外線吸収剤および剥離促進剤のうち少なくとも１種を用いるのが好ましい。
それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば融点が２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いることができ、例えば特開平２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールが特に好ましい。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。

紫外線吸収剤の添加量は、添加効果およびフィルム表面へ紫外線吸収剤がブリードアウトするのを抑制する観点から、セルロースアシレート固形分に対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。

また、紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後のドープに添加しても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができ、好ましい。

前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止する。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。

可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。可塑剤として具体的には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどが好ましく挙げられる。さらに、好ましい可塑剤として、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類が挙げられる。

前記剥離促進剤としてはクエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。さらにまた、赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。

これらの添加剤を添加する時期は、ドープ作製工程において何れの段階で添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程として添加剤を添加する工程を加えて行ってもよい。さらにまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。

本発明のセルロースアシレートフィルムのガラス転移点Ｔｇは、７０〜１８０℃が好ましく、１００〜１７０℃がより好ましく、１２０℃〜１６０℃がより好ましい。ガラス転移点Ｔｇは動的粘弾性測定機(バイブロン：DVA-225（アイティー計測制御株式会社）)で測定することができる。ガラス転移点も可塑剤の種類、添加量を適宜選択することにより、上記範囲に調整することができる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Ｔｇを上記の範囲とすることが好ましい。

さらに添加剤については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）１６頁以降に詳細に記載されているものを適宜用いることができる。

なお分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．０未満の場合は、フィルムの機械的物性が低下し、延伸ムラが発生しやすくなりフィルムの平面性が低下する。分子量分布が３．４を超えた場合はドープ粘度が高くなり、流延スジなどが発生しやすくなり面状を悪化させたり、剥離性の悪化が認められる。分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは２．０〜３．４が好ましく、２．２〜３．４がより好ましく、２．４〜３．４がさらに好ましい。
また、質量平均分子量も全置換度中の６位のアシル基の置換度の割合を高めることで、通常のセルロースアシレートフィルムの分子量よりも比較的小さくても、分子量が低下することに起因する機械的強度（弾性率、破断伸度、破断強度など）の低下は認められない。Ｍｗの範囲は７万〜３０万が好ましく、８万〜２８万がより好ましく、１０万〜２６万がさらに好ましい。

すなわち、本発明によれば、下記構成のセルロースアシレートフィルム、偏光板、および液晶表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成された。

［レターデーション発現剤］
本発明では好ましいレターデーション値を発現させるため、レターデーション発現剤を少なくとも一種用いるのが好ましい。
本発明において用いることができるレターデーション発現剤としては、棒状または円盤状化合物からなるものを挙げることができる。
上記棒状または円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。
円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。
円盤状化合物はＲｔｈレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。
本発明では二種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
棒状または円盤状化合物からなる前記レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく用いられる。

前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。

（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基および２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および１−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基および１−ヘキシニル基が含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。
円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。

本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト（例えば、WinMOPAC2000、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０度以上であることを意味する。

棒状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：Ａｒ¹−Ｌ¹−Ａｒ²
上記一般式（１）において、Ａｒ¹およびＡｒ²は、それぞれ独立に芳香族基である。
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）および非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。

一般式（１）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。

アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレンまたはエチニレン）である。
アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。

一般式（１）の分子構造において、Ｌ¹を挟んで、Ａｒ¹とＡｒ²とが形成する角度は、１４０度以上であることが好ましい。
棒状化合物としては、下記式一般式（２）で表される化合物がさらに好ましい。
一般式（２）：Ａｒ¹−Ｌ²−Ｘ−Ｌ³−Ａｒ²
上記一般式（２）において、Ａｒ¹およびＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、一般式（１）のＡｒ¹およびＡｒ²と同様である。

一般式（２）において、Ｌ²およびＬ³は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１または２（メチレンまたはエチレン）であることが最も好ましい。
Ｌ²およびＬ³は、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。

一般式（２）において、Ｘは、１，４-シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。
以下に、一般式（１）または（２）で表される化合物の具体例を示す。

具体例（１）〜（３４）、（４１）、（４２）は、シクロヘキサン環の１位と４位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例（１）、（４）〜（３４）、（４１）、（４２）は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体（光学活性）はなく、幾何異性体（トランス型とシス型）のみ存在する。具体例（１）のトランス型（１-trans）とシス型（１-cis）とを、以下に示す。

前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
具体例（２）および（３）は、幾何異性体に加えて光学異性体（合計４種の異性体）を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、Ｄ、Ｌあるいはラセミ体のいずれでもよい。
具体例（４３）〜（４５）では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。

棒状化合物として、下記一般式（３）で表される化合物もまた好ましい。
一般式（３）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ⁸は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
以下、一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げる。

溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λmax）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。
棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。文献としては、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 53巻、229ページ（１９７９年）、同89巻、93ページ（１９８２年）、同145巻、111ページ（１９８７年）、同170巻、43ページ（１９８９年）、J. Am. Chem. Soc.,113巻、1349ページ（１９９１年）、同118巻、5346ページ（１９９６年）、同92巻、1582ページ（１９７０年）、J. Org. Chem.,40巻、420ページ（１９７５年）、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ（１９９２年）を挙げることができる。

［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフイルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
上記二酸化珪素微粒子を用いる場合の使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１〜０．３質量部とするのが好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は、０．２μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．４μｍ〜１．２μｍがさらに好ましく、０．６μｍ〜１．１μｍが最も好ましい。２次平均粒子径が上記範囲であれば、きしみ防止効果が十分発現すると共にヘイズが小さい。
１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子径とする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフイルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子がさらに再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇがさらに好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

次に、本発明のセルロースアシレートが溶解される前記有機溶媒について記述する。
本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。

［塩素系溶媒］
本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。主溶媒とは、セルロースアシレート溶液を構成する溶媒が少なくとも１つ以上あった場合、その構成比率がもっとも高い溶媒を指す。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは有機溶媒全体量中少なくとも５０質量％使用することが必要である。本発明で塩素系有機溶剤と併用される他の有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、アルコール、炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等が挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノール等が挙げられる。

また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。
塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては以下の組成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

・ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール （８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール （８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン （８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール （８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール （７５／１０／１０／５／７、質量部）
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール （８０／１０／５／８、質量部）
・ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール （８０／１０／１０、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン （７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （７０／１０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）

［非塩素系溶媒］
次に、本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。

以上のセルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。すなわち、非塩素系溶媒としては、前記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる３種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種あるいは或いはそれらの混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数が４〜７のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒として炭素数が１〜１０のアルコールまたは炭化水素、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールから選ばれる、混合溶媒である。なお第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶媒は、さらに好ましくは酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチルあるいはこれらの混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。

第３の溶媒であるアルコールは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。これらの第３の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし２種類以上の混合物でもよく特に限定されない。第３の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとしてはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、およびシクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができ、特にはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。

以上の３種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％さらに第３の溶媒が２〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、さらに第３のアルコールが３〜２５質量％含まれることが好ましい。また特に第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３の溶媒がアルコールであり３〜１５質量％含まれることが好ましい。以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）１２〜１６頁に記載されている。本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８２／１０／４／４、質量部）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８０／１０／４／６、質量部）
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール（７５／１０／１０／５／７、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール（８０／１０／５／８、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／ブタノール（８５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール（６０／１５／１５／５／６、質量部）、
・酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／１，３−ジオキソラン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・１、３−ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール （５５／２０／１０／５／５／５、質量部）
などを挙げることができる。

さらに下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製しろ過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加する方法
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８４／１０／４／２、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製しろ過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加する方法
・酢酸メチル／アセトン／エタノール（８４／１０／６、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製しろ過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加する方法
本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。

［セルロースアシレート溶液特性］
セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレート固形分を１０〜３０質量％の濃度で溶解させた溶液であるのが製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％である。これらの濃度にセルロースアシレートを実施する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるように実施してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明のセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。

次に、本発明ではセルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で０．１〜５質量％にした希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が１５万〜１５００万であることが好ましい。さらに好ましくは、会合分子量が１８万〜９００万である。この会合分子量は静的光散乱法で求めることができる。その際に同時に求められる慣性自乗半径は１０〜２００ｎｍになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性自乗半径は２０〜２００ｎｍである。さらにまた、第２ビリアル係数が−２×１０^-4〜＋４×１０^-4となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第２ビリアル係数が−２×１０^-4〜＋２×１０^-4である。

ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性自乗半径および第２ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。
まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶剤に溶かし、０．１質量％、０．２質量％、０．３質量％、０．４質量％の溶液を調製する。なお、秤量は吸湿を防ぐためセルロースアシレートは１２０℃で２時間乾燥したものを用い、２５℃・相対湿度１０％で行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法(常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法)に従って実施する。続いてこれらの溶液、および溶剤を０．２μｍのテフロン製フィルター（テフロン：登録商標）で濾過する。そして、ろ過した溶液を静的光散乱を、光散乱測定装置（大塚電子（株）製ＤＬＳ−７００）を用い、２５℃において３０度から１４０度まで１０度間隔で測定する。得られたデータをＢＥＲＲＹプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率はアッベ屈折系で求めた溶剤の値を用い、屈折率の濃度勾配（ｄｎ／ｄｃ）は、示差屈折計（大塚電子（株）製ＤＲＭ−１０２１）を用い、光散乱測定に用いた溶剤、溶液を用いて測定する。

［ドープ調製］
次にセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製について述べる。セルロースアシレートの溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、さらに特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号の各公報などにセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。
以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても適宜本発明の範囲であればこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細は、特に非塩素系溶媒系については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）２２〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。さらに本発明のセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮，ろ過が通常実施され、同様に発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。

セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲であることが、流延しやすく好ましい。試料溶液１ｍＬをレオメーター(ＣＬＳ ５００)に直径 ４ｃｍ／２°のSteel Cone(共にTA Instruments社製)を用いて測定する。測定条件はOscillation Step/Temperature Rampで ４０℃〜−１０℃の範囲を２℃/分で可変して測定し、４０℃の静的非ニュートン粘度 ｎ*(Pa・s)および−５℃の貯蔵弾性率 G’(Pa)を求める。なお、試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。本発明では、４０℃での粘度が１〜４００Ｐａ・ｓであり、１５℃での動的貯蔵弾性率が５００Ｐａ以上であるのが好ましく、より好ましくは４０℃での粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓで、１５℃での動的貯蔵弾性率が１００〜１００万Ｐａである。さらには低温での動的貯蔵弾性率が大きいほど好ましく、例えば流延支持体が−５℃の場合は動的貯蔵弾性率が−５℃で１万〜１００万Ｐａであることが好ましく、支持体が−５０℃の場合は−５０℃での動的貯蔵弾性率が１万〜５００万Ｐａが好ましい。

本発明においては、前述の特定のセルロースアシレートを用いているので、高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度でしかも安定性の優れたセルロースアシレート溶液が得られる。さらに溶解し易くするために低い濃度で溶解してから、濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法（例えば、特開平４−２５９５１１号公報等）、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法（例えば、米国特許第２，５４１，０１２号、米国特許第２，８５８，２２９号、米国特許第４，４１４，３４１号、米国特許第４，５０４，３５５号各明細書等などに記載の方法）等で実施できる。

溶液は流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましい。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、さらには０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１．６ＭＰａ 以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下、さらには１．０ＭＰａ以下、特に０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常１０Ｐａ・ｓ〜２０００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３０Ｐａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓがより好ましく、４０Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓがさらに好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５〜＋７０℃であり、より好ましくは−５〜＋５５℃である。

［製膜］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート溶液を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法および設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を、ウェブ中の固形分に対する揮発分率が７０質量％〜３０質量％、好ましくは６８質量％〜３５質量％、さらに好ましくは６５質量％〜４０質量％の状態で金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。該フィルム（ウェブ）がフィルム中の揮発成分率が７０質量％〜３０質量％の状態で搬送される工程において行われる乾燥、延伸等の各工程における雰囲気温度差は５０℃以内、好ましくは０〜４０℃、より好ましくは０〜３５℃とする。フィルム中の揮発分率が７０質量％〜３０質量％の状態で搬送される工程において行われる各工程の雰囲気温度差を５０℃以内とすることで、ウェブの乾燥履歴を含めて、乾燥ムラが低減し、延伸ムラ、光学特性のムラが低減するという効果を奏する。
ここで指す揮発成分とは、フィルム中に存在する溶剤質量／フィルム中に存在する固形分質量で定義される。
電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。

まず、調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）は、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製される際に、ドープをドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が５〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には−１０〜２０℃の金属支持体温度であることが好ましい。さらに特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平０２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平０２−１１１５１１号、および特開平０２−２０８６５０号の各公報に記載の方法を本発明では用いることができる。

［重層流延］
セルロースアシレート溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。さらに、特開昭６１−９４７２４号および特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光膜など）を同時に流延することも実施しうる。

従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができた。共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤および紫外線吸収剤のうち少なくともいずれかを含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。また、流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度もスキン層とコア層で異なっていても良く、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。

［流延］
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は、−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。

［乾燥］
セルロースアシレートフィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体（ドラム或いはベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはベルトを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。

［延伸処理］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。さらには、積極的に幅方向に延伸する方法もあり、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、および特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている。これは、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とするために、製造したフィルムを延伸する。
フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度を挟む±２０℃であることが好ましい。これは、ガラス転移温度より極端に低い温度で延伸すると、破断しやすくなり所望の光学特性を発現させることができない。また、ガラス転移温度より極端に高い温度で延伸すると、延伸により分子配向したものが熱固定される前に、延伸時の熱で緩和し配向を固定化することができず、光学特性の発現性が悪くなる。
フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸（固定幅、自由幅）でもよく同時あるいは逐次２軸延伸でもよい。延伸は１０〜２００％の延伸が行われる。好ましくは１２〜１００％の延伸が、特に好ましくは１５から８０％延伸を行う。光学フィルムの複屈折は幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また、延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、残留溶剤量（残留溶剤量／（残留溶剤量＋固形分量））が２〜５０％で好ましく延伸することができる。

乾燥後得られる本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常５から５００μｍの範囲であることが好ましく、さらに２０〜３００μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは３０〜１８０μｍであり、特に好ましくは４０〜１８０μｍ、とりわけ好ましくは４０〜１５０μｍの範囲である。また、特にＶＡ液晶表示装置用に用いる場合は４０〜１１０μｍであることが好ましい。
フィルムの膜厚は１１０〜１８０μｍにすることで、流延製膜時の乾燥負荷が大きくなるものの、光学特性の大きさは膜厚に比例するため、膜厚を大きくすることで所望の光学特性を達成することができる。また、透湿度も膜厚に反比例して減少するため膜厚を大きくすることで透湿度は小さくなり、より水を通しにくくなる。６０℃・相対湿度９０％における５００時間の偏光板耐久性試験などで有利である。
フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られたセルロースアシレートフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。

［セルロースアシレートフィルムの光学特性］
本発明のセルロースアシレートフィルムの光学特性は、
Ｒｅレターデション値、Ｒｔｈレターデーション値がそれぞれ、下記数式（IX）、（XI）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広くするため好ましい。
数式（XI） ：３０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦２００ｎｍ
数式（XII）：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
さらに好ましくは、Ｒｅレターデション値が下記数式（XIII）を満たすことである。
数式（XIII）：４０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１００ｎｍ
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学的２軸性フィルムであり下記数式（XIV）を満たすことが、ＶＡモード液晶表示装置の視野角を特に広くできるので好ましい。
数式（XIV）：１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦３００ｎｍ
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、２５℃・相対湿度６０％におけるＲｅ₍₅₉₀₎、Ｒｔｈ₍₅₉₀₎が下記数式（Ａ）〜（Ｃ）を満たすことが好ましい。
数式（Ａ）４０≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１４５
数式（Ｂ）Ｒｔｈ₍₅₉₀₎＝ａ−５．９Ｒｅ₍₅₉₀₎
数式（Ｃ）５８０≦ａ≦６７０
［式中、Ｒｅ₍₅₉₀₎は波長５９０ｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍₅₉₀₎は波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またａは光学特性の調整係数（単位：ｎｍ）である。］
ａはＲｅ、Ｒｔｈの調整係数であり、より好ましくは５９０≦ａ≦６６０であり、さらに好ましくは６００≦ａ≦６５０である。上記範囲にａがあることで、垂直配向型液晶表示装置の視野角特性を広げる点で好ましい。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、波長５９０ｎｍで測定した２５℃・相対湿度１０％におけるＲｅと２５℃・相対湿度８０％におけるＲｅとの差ΔＲｅ（＝Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ））が、０〜１０ｎｍであり、０〜９ｎｍが好ましく、０〜８ｎｍがより好ましい。また波長５９０ｎｍで測定した２５℃・相対湿度１０％におけるＲｔｈと２５℃・相対湿度８０％におけるＲｔｈとの差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））が、０〜３０ｎｍであるのが好ましく、０〜２９ｎｍであるのがより好ましく、０〜２７ｎｍであるのがさらに好ましく、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。

Ｒｅの幅手方向での膜厚分布は、フィルムを幅手方向に２ｃｍ（幅手方向）×３ｃｍ（幅手直交方向）のサンプルを１０個、フィルム端部５ｃｍの位置から、順次サンプリングし、等間隔で１０点採取した。各試験片（２ｃｍ×３ｃｍ）の膜厚はフィルムの面内において縦、横方向それぞれ３個所ずつ合計９点測定し、そのサンプルの膜厚とした。
幅手方向の膜厚の最大値、最小値、平均値をそれぞれＲｍａｘ、Ｒｍｉｎ、Ｒａｖｅとしたときの膜厚分布ＲをＲ（％）＝（Rmax−Rmin）／Rave×１００と定義したときにこれらが、０〜８％に調整されていることが好ましく、０〜７．８％に調整されていることがより好ましく、０〜７．６％に調整されていることがさらに好ましい。Ｒｅ、Ｒｔｈは膜厚に比例した値となるため、膜厚の幅手方向で膜厚の分布は小さいほどＲｅ₍₅₉₀₎、Ｒｔｈ₍₅₉₀₎のばらつきが小さくなるため好ましい。
Ｒｅ₍₅₉₀₎、Ｒｔｈ₍₅₉₀₎の分布は上記膜厚バラツキに起因して、或いは、延伸ムラ、乾燥ムラなどに起因して発生するが、このＲｅの分布（バラツキ）は５％以下に、Ｒｔｈの分布は１０％以下に調整されていることが好ましい。より好ましくはＲｅの分布は４．８％以下に、Ｒｔｈの分布は９．８％以下であり、さらに好ましくはＲｅの分布が４．６％以下、Ｒｔｈの分布は９．６％以下であることが好ましい。
以上の膜厚分布Ｒ、Ｒｅ分布、Ｒｔｈ分布は、フィルムの幅手方向に１ｃｍ間隔で測定した変動係数（ＣＶ）であり、液晶表示装置（特にＶＡ液晶表示装置）で当該フィルムを用いて表示させたときに表示ムラが低減されるため好ましい。

本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は、KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は、前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値としては、ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値は、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHはnx,ny,nzを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx-nz）/(nx-ny)が更に算出される。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、９０℃、５００時間経時させる前後での色差ΔＥ^*ａｂは、０．８以下であることが好ましく、０．７以下であることが好ましく、０．５以下であることがより好ましい。また、１４０℃、２４時間経時させる前後での色差は、１．５以下であることが好ましく、１．０以下であることがより好ましく、０．５以下であることがさらに好ましい。９０℃５００時間や１４０℃２４時間経時などの環境強制条件下で、フィルムが着色すると位相差膜としての光学補償能の低下が起こり好ましくなく、また外観上でも好ましくない。色差の測定は、UV3100（島津製作所製）を用いた。測定の仕方は、フィルムを２５℃・相対湿度６０％に２時間以上調湿した後にサーモ経時前のフィルムのカラー測定を行ない初期値（Ｌ０^*、ａ０^*、ｂ０^*）を求めた。その後、フィルム単体で空気恒温槽に所定時間放置した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃・相対湿度６０％に２時間調湿した後に、カラー測定を行い、サーモ経時後の値（Ｌ１^*、ａ１^*、ｂ１^*）を求めた。これらから、色差ΔＥ^*ａｂ＝（（Ｌ０^*−Ｌ１^*）²＋（ａ０^*−ａ１^*）²＋（ｂ０^*−ｂ１^*）²）^1/2を求めた。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、２５℃・相対湿度８０％における平衡含水率が５．０％以下であるのが好ましく、４．０％以下であるのがさらに好ましく、３．２％以下であるのがより好ましく、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定する。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、６０℃・相対湿度９５％、２４ｈｒの透湿度（膜厚８０μｍ換算）が、４００ｇ／ｍ²・２４ｈｒ〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈｒであるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。測定された透湿度は、基準膜厚を８０μｍとして換算される。透湿度の換算値は、「８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ」により計算される。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。

ガラス転移温度の測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃・相対湿度６０％で２時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置（バイブロン：DVA-225（アイティー計測制御株式会社製））で、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２００℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とする。

弾性率の測定は、本発明の乾膜のセルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１５０ｍｍを、２５℃・相対湿度６０％で２時間以上調湿した後、引張り試験機（ストログラフ−Ｒ２（東洋精機製））で、チャック間距離１００ｍｍ、温度２５℃、延伸速度１０ｍｍ／分で行なった。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、ヘイズが０．０１〜２％であるのが好ましい。ここで、ヘイズは、以下のようにして測定される。
本発明のセルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃・相対湿度６０％でヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定する。
本発明の乾燥したセルロースアシレートフィルム（揮発分率が固形分量に対して１質量％以下のフィルム）を、フィルムの良溶媒（ＧＳ）と貧溶媒（ＰＳ）とを混合比率０．５≦ＧＳ／ＰＳ≦４．０で混合してなる混合溶媒（ＭＳ）の蒸気雰囲気下に室温で45分間曝露させたとき、曝露前後でのフィルムのヘイズの差が０.５％以下、好ましくは０％〜０．４％、より好ましくは０％〜０．３％となる。
曝露前後でのフィルムのヘイズ差が０．５％以下であれば、フィルムの泣きだしを防ぐことができ、研究室レベルでフィルム中の低分子添加剤の泣き出し性を事前に評価することが可能となり、製造工程を汚染することがなく、安定してフィルムを生産することが可能である。また、フィルムの面内での光学的均一性に優れたフィルムを得ることができる。

セルロースアシレートフィルムの良溶媒（ＧＳ）としては、ジクロロメタン、酢酸メチル、アセトンなどが挙げられ、好ましくはジクロロメタンである。
一方、セルロースアシレートフィルムの貧溶媒（ＰＳ）としては、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、などの低級アルコール類などが挙げられ、好ましくはメタノールである。

さらに、本発明のセルロースアシレートフィルムにおいて、ＧＳ／ＰＳ比率が２である混合溶媒（ＭＳ）の蒸気雰囲気下、室温で４時間該フィルムを曝露させた時に白化しないことが好ましい。白化の程度は、前述のヘイズメーターにより測定できる。曝露前後でのフィルムのヘイズの差が０.８％以下、好ましくは０％〜０．６％、より好ましくは０％〜０．５％となる。
すなわち、セルロースアシレートとの相溶性が良く、低分子添加剤の拡散速度が遅い（即ち、泣き出し性が少ない（製造適性が良い））フィルムは白化の程度が殆どないが、セルロースアシレートの相溶性が中間、低分子添加剤の拡散速度が中間のものは白化の程度が中間になり、高分子との相溶性が悪く、低分子添加剤の拡散速度が速い（即ち、泣き出し性が悪い（製造適性が悪い））ものは最も白化の程度が大きくなる。

また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、８０℃・相対湿度９０％の条件下に４８時間静置した場合の質量変化が、０〜５％であるのが、好ましい。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、６０℃・相対湿度９５％の条件下に２４時間静置した場合の寸度変化および９０℃・相対湿度５％の条件下に２４時間静置した場合の寸度変化が、いずれも−５％〜５％であるのが、好ましい。

本発明のセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²/ｄｙｎｅ（５×１０^-10 Ｐａ^-1）以下であるのが液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１００ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出する。

［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
偏光板は、通常、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。そして、本発明では、少なくとも一方の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いる。他方の保護膜は、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いても、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号各公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、図２に示すように、偏光子の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルム（図中のＴＡＣ１）の遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じ、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られない為、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。
本発明においては、偏光板の単板透過率（ＴＴ）、平行透過率（ＰＴ）、直交透過率（ＣＴ）はＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用いて測定した。測定では、２５℃・相対湿度６０％条件下、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、単板、平行、直交透過率ともに、１０回測定の平均値を用いた。偏光板耐久性試験は（１）偏光板のみと（２）偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、２種類の形態で次のように行った。偏光板のみの測定は、２つの偏光子の間に光学補償膜が挟まれるように組み合わせて直交、同じものを２つ用意し測定した。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を光学補償膜がガラス側にくるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とした。偏光性能の好ましい範囲としては単板透過率（ＴＴ）、平行透過率（ＰＴ）、直交透過率（ＣＴ）の順でそれぞれ、４０．０≦ＴＴ≦４５．０、３０．０≦ＰＴ≦４０．０、ＣＴ≦２．０であり、より好ましい範囲としては４０．２≦ＴＴ≦４４．８、３２．２≦ＰＴ≦３９．５、ＣＴ≦１．６であり、さらに好ましい範囲としては４１．０≦ＴＴ≦４４．６、３４≦ＰＴ≦３９．１、ＣＴ≦１．３である。
これらの透過率から偏光度Ｐは計算され偏光度Ｐが大きいほど、クロス配置したときの漏れ光がすくなくなり偏光板の性能が高いことを示している。偏光度Ｐは９５．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９６．０％以上、さらに好ましくは９７．０％以上である。

本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をＴ₍λ₎としたときに、Ｔ₍₃₈₀₎、Ｔ₍₄₁₀₎、Ｔ₍₇₀₀₎が下記数式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
数式（ｅ）Ｔ₍₃₈₀₎≦２．０
数式（ｆ）Ｔ₍₄₁₀₎≦１．０
数式（ｇ）Ｔ₍₇₀₀₎≦０．５
より好ましくはＴ₍₃₈₀₎≦１．９５、Ｔ₍₄₁₀₎≦０．９、Ｔ₍₇₀₀₎≦０．４９であり、さらに好ましくはＴ₍₃₈₀₎≦１．９０、Ｔ₍₄₁₀₎≦０．８、Ｔ₍₇₀₀₎≦０．４８である。

本発明の偏光板は、６０℃・相対湿度９５％の条件下に５００時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記数式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
数式（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
数式（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
（ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示す）
より好ましくは−５．８≦ΔＣＴ≦５．８、−９．５≦ΔＰ≦０．０、さらに好ましくは、−５．６≦ΔＣＴ≦５．６、−９．０≦ΔＰ≦０．０である。
本発明の偏光板は、６０℃・相対湿度９０％の条件下に５００時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記数式（ｈ）、（ｉ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
数式（ｈ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
数式（ｉ）−５．０≦ΔＰ≦０．０
本発明の偏光板は、８０℃の条件下に５００時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記数式（ｌ）、（ｍ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
数式（ｌ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
数式（ｍ）−２．０≦ΔＰ≦０．０
また偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。

［表面処理］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会（公開技報公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリケン化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリケン化処理は、セルロースアシレートフィルムをケン化液の槽に直接浸漬する方法またはケン化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリケン化処理塗布液の溶媒は、ケン化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性が良く、またケン化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリケン化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。ケン化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリケン化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリケン化反応後、ケン化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

また、本発明の偏光板は、偏光板の液晶セルとは他方の側の保護膜の表面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けたものであるのが好ましい。すなわち、図３に示すように偏光板の液晶表示装置への使用時において液晶セルと反対側に配置される保護膜（ＴＡＣ２）には反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としてハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば反射防止層に防眩層としての機能を持たせることにより反射防止層を反射防止層および防眩層として機能する層としても良い。

［反射防止層］
本発明では、保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層、または保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。

保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^*値−２〜２、ｂ^*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比が０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ^*値を０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。

本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることが好ましい。このようにすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上する。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。

［低屈折率層］
保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層における低屈折率層について以下に説明する。
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０〜１．４９であり、さらに好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（XV）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（XV）：（ｍλ／４）×０．７＜ｎ１ｄ１＜（ｍλ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張り試験機で測定した場合に５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素共重合体の構成成分である含フッ素モノマー単位を形成するモノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

［光散乱層］
光散乱層は、表面散乱および内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層としても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。

光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、および窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例えば、、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を保護膜上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒子径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒子径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒子径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理またはチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒子径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．５０〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５１〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダーおよび無機フィラーの種類および量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光散乱層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

次に保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層について述べる。
保護膜上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞保護膜の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、保護膜と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の反射防止層が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

［高屈折率層および中屈折率層］
反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒子径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物の微粒子が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等の微粒子が挙げられる。
平均粒子径１００ｎｍ以下の微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（例えば、特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８Ｂ１号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
さらに、ラジカル重合性およびカチオン重合性の少なくともいずれかの重合性基を２個以上含有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体含有組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の組成物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

［低屈折率層］
次に、保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層してなる反射防止層における低屈折率層について説明する。
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素ポリマーおよびシロキサンポリマーの少なくともいずれかのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

［ハードコート層]
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、保護膜の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光および熱の少なくともいずれかの手段で、硬化性化合物の架橋反応または重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。また加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒子径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

［反射防止層の他の層］
さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

［帯電防止層］
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^-8（Ωｃｍ^-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、このような金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｍｇ，Ｂａ，Ｍｏ，Ｗ，またはＶを挙げることができ、これを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，ＳｎＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｇＯ，ＢａＯ，ＭｏＯ₃，Ｖ₂Ｏ₅等あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ，ＴｉＯ₂，およびＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ，Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ，Ｎｂ，ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ₂に対してはＮｂ，ＴＡ等の添加が効果的である。さらにまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。なお、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^-8（Ωｃｍ^-3）以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね１０^-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく、さらに好ましくは１０^-8（Ω／□）以下である。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値であり、帯電防止層を形成する途中の段階で測定することができる。

［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、前述の本発明のセルロースアシレートフィルム、または本発明の偏光板のいずれかを用いた液晶表示装置（第１形態）、前述の本発明の偏光板をセル上下に２枚用いたＯＣＢまたはＶＡモード液晶表示装置（第２形態）、および前述の本発明の偏光板１枚をバックライト側に用いたＶＡモード液晶表示装置（第３形態）である。
すなわち、本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償シートとして有利に用いられる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＶＡモードまたはＯＣＢモードに好ましく用いることができる。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＶＡモードの液晶表示装置としては、図４に示すように、液晶セル（ＶＡモードセル）およびその両側に配置された二枚の偏光板（ＴＡＣ１、偏光子およびＴＡＣ２からなる偏光板）からなるものが挙げられる。液晶セルは、特に図示しないが二枚の電極基板の間に液晶を担持している。

本発明の透過型液晶表示装置の一つの態様では、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償シートとして用い、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
本発明の透過型液晶表示装置の別の態様では、液晶セルと偏光子との間に配置される偏光板の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムが用いられる。一方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）保護膜のみに上記のセルロースアシレートフィルムを用いてもよいし、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）二枚の保護膜に、上記のセルロースアシレートフィルムを用いてもよい。液晶セルへの張り合わせは、本発明のセルロースアシレートフィルム（ＴＡＣ１）をＶＡセル側にすることが好ましい。一方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）保護膜のみに上記のセルロースアシレートフィルムを用いた場合、これが、上側偏光板（観察側）、下側偏光板（バックライト側）のどちら側でもよく、機能的には何ら問題がない。ただし、上側偏光板として使用すると機能性膜を観察側（上側）に設ける必要性があり生産得率が下がる可能性があるため、下側偏光板として使用する場合が高いと考えられ、より好ましい実施形態であると考えられる。

そして、図４の光源側および観察者側の両方を本発明の偏光板で形成したものが第２形態の液晶表示装置であり、光源側のみを本発明の偏光板で形成したものが第３形態の液晶表示装置である。
図４の保護膜（ＴＡＣ２）は通常のセルレートアシレートフィルムでも良く、本発明のセルロースアシレートフィルムより薄いことが好ましい。たとえば、４０〜８０μｍが好ましく、市販のＫＣ４ＵＸ２Ｍ（コニカオプト株式会社製４０μｍ）、ＫＣ５ＵＸ（コニカオプト株式会社製６０μｍ）、ＴＤ８０（富士写真フイルム製８０μｍ）等が挙げられるが、これらに限定されない。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［測定法］
最初に実施例で用いた測定法について説明する。

（遊離酢酸の測定）
粉砕乾燥試料約２ｇを精秤して耐熱試験管に移し、蒸留水８ｍｌを加え、ゴム栓をして押え金具で締め付けた。これを沸騰浴中に７時間浸漬した後、放冷した。一旦煮沸した蒸留水１００ｍｌで試験管内容物を洗い出し、濾紙（５Ａ）で濾過洗浄して濾液を三角フラスコに集めた。フェノールフタレイン溶液を指示薬として、０．０１ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ溶液で滴定した（Ａ ｍｌ）。同時にブランク試験を行った（Ｂ ｍｌ）。次式により遊離酢酸を算出した。ここでＦは、０．０１ｍｏｌ／ｌのＮａＯＨ溶液のファクターである。

（灰分の測定）
磁性るつぼを７５０〜８５０℃の電気炉で恒量になるまで焼いたのち、デシケーター中で約４０分放冷した。るつぼを精秤後、試料１０．０ｇを精秤した。電熱器上で炭化後、７５０〜８５０℃の電気炉で３時間灰化した。約４０分放冷したのち、るつぼ重量を精秤した。次式により灰分を算出した。

（鉄分の測定）
試料１０．０ｇを磁性るつぼに採り、電熱器上で炭化した後、電気炉中で５５０〜６５０℃で約２時間灰化した。放冷後、濃硝酸０．５ｍｌ、濃塩酸２ｍｌを添加し、溶解後加熱乾固させた。さらに、６ｍｏｌ／ｌ塩酸水溶液５ｍｌを添加し加熱して溶解した。放冷後、５０ｍｌメスフラスコに移し、洗浄液も集め、さらに蒸留水で標線まで希釈した。これを検液として、原子吸光光度計を用いて吸光度を測定し、試料中の鉄分を求めた。

（ジメチルシリコーンの測定）
試料３００ｇを１ｌビーカーに採取し、ｎ−ヘキサン約３００ｍｌを添加して超音波洗浄機で１０分間抽出した。グラスフィルター（２６Ｇ２）でろ過して清浄なナスフラスコに集めた。これを３回繰り返し、集めた抽出液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、５０ｍｌナスフラスコに移して、蒸発乾固した。これをキシレン１ｍｌに溶解し、フレームレス原子吸光分析によりＳｉを分析した。同様にブランク試験を行い、次式により試料中のジメチルシリコーン（ＤＭＳ）を算出した。次式において、Ａは検液中のＤＭＳ濃度（ｐｐｂ）、Ｂはブランク試験のＤＭＳ濃度（ｐｐｂ）、ＤＭＳ濃度はＳｉ濃度×７４．１／２８．１｛ＳｉＯ（ＣＨ₃）₂／Ｓｉ｝である。

（Ｃａ量、Ｍｇ量の測定）
試料３．０ｇを磁性るつぼに採り、電熱器上で炭化した後、電気炉に入れて７５０〜８５０℃で約２時間灰化した。放冷後、０.０７％塩酸２５ｍｌを添加し、ホットプレート上で静かに加熱溶解した。放冷後、２００ｍｌメスフラスコに移し、洗浄液も集め、さらに蒸留水で標線まで希釈した。これを検液として、原子吸光光度計を用いて吸光度を測定し、次式により試料中のＣａ分、Ｍｇ分を求めた。

［実施例１：セルロースアシレートフィルムの製膜］
（１）セルロースアシレート
表１に記載のアシル置換度の異なるセルロースアシレートを調製した。触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、カルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。その後、硫酸触媒量、水分量および熟成時間を調整することで全置換度と６位置換度を調整した。熟成温度は４０℃で行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。なお、表中、ＣＡＰとは、セルロースアセテートプロピオネート（アシル基がアセテート基とプロピオニル基からなるセルロースエステル誘導体）の略称であり、ＣＴＡとは、セルローストリアセテート（アシル基がアセテート基のみからなるセルロースエステル誘導体）を意味する。

またこれらの質量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ、分子量分布Ｍｗ/Ｍｎは前記アシル化反応における触媒硫酸量、加熱時間、加熱温度、攪拌速度を変化させることで制御した。

（２）ドープ調製
＜１−１＞ セルロースアシレート溶液
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、さらに９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
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セルロースアシレート溶液
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表１記載のセルロースアシレート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ４．０質量部
メチレンクロライド ４０３．０質量部
メタノール ６０．２質量部
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＜１−２＞ マット剤分散液
次に上記方法で作成したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
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マット剤分散液
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平均粒子径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ Ｒ９７２ 日本アエロジル（株）製 ２．０質量部
メチレンクロライド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
セルロースアシレート溶液 １０．３質量部
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＜１−３＞ レターデーション発現剤溶液
次に上記方法で作成したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して溶解し、レターデーション発現剤溶液を調製した。
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レターデーション発現剤溶液Ａ
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レターデーション発現剤Ａ ２０．０質量部
メチレンクロライド ５８．３質量部
メタノール ８．７質量部
セルロースアシレート溶液 １２．８質量部
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上記セルロースアシレート溶液を１００質量部、マット剤分散液を１．３５質量部さらにレターデーション発現剤溶液Ａを表１の試料１０１〜１０９、００１、００２は５．９％、試料００３〜００５、１１０、１１１は５．１％、試料１１２、１１３、００６は４．２％になるように混合し、製膜用ドープを調製した。前記レターデーション発現剤の添加割合はセルロースアシレート量を１００質量部とした時の質量部である。

レターデーション発現剤Ａ

レターデーション発現剤Ｂ

（流延）
上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。バンド上の給気温度８０℃〜１３０℃（排気温度は７５℃〜１２０℃）で乾燥させた後、残留溶剤量が２５〜３５質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムを、給気温度１４０℃（排気温度は９０℃〜１２５℃の範囲）のテンターゾーンで、１０％〜５０％の延伸倍率で幅方向に延伸して、セルロースアシレートフィルムを製造した。このとき、延伸後の膜厚が９２μｍになるように、流延膜厚を調整した。表１に示した組成のフィルムを作製し、その製造適性を判断する目的で、ロール幅１２８０ｍｍ、ロール長２６００ｍｍのロールを上記条件で最低２４ロール作製した。連続で製造した２４ロールの中の１ロールについて１００ｍ間隔で長手１ｍのサンプル（幅１２８０ｍｍ）を切り出して、直交させた２枚の偏光板の間にサンプルの長手方向を一つの偏光板の吸収軸と平行になるように設置したり、４５度に配置して、反射光・透過光に照らしてフィルムの面状検査を行った。

表１より、試料１０１〜１０９まではフィルムの面状が良いことが分かる。しかし比較試料００１、００２、００３、００４については、横段ムラ、あるいは縦スジのいずれかの面状が悪いことが分かる。また、ＣＡＰ、ＣＡＢについても本発明の試料１１０〜１１３は良好な面状を有することが分かる。一方、比較試料００５、００６については、面状が悪く、これらの分子量、分子量分布は本発明の範囲外であることがわかる。このように、６位の置換度を上げてなおかつ分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを２．０〜３．４の間にすることで、劇的にフィルムの剥離の際に発生する横段ムラが低減することが分かる。
なお、表１に用いた試料のｚ平均分子量Ｍｚと重量平均分子量Ｍｗの比率（Ｍｚ／Ｍｗ）は、いずれの試料においても１．７〜２．０の範囲であった。

表１、２に用いたＣＴＡ粉末試料に含まれる遊離酢酸量は０．０２３％〜０．０３４％、Ｃａ量は６０〜６３ｐｐｍ、Ｍｇ量は０．７ｐｐｍ、鉄分は０．８ｐｐｍ、灰分は０．０２％、ジメチルシリコーン量は３．１ｐｐｂであった。

作製したセルロースアシレートフィルム（光学補償シート）について、自動複屈折計（KOBRA 21ADH：王子計測機器）を用いて、２５℃・相対湿度６０％で波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定したところ、Ｒｅ、Ｒｔｈともに本発明の試料は表２のとおりであった。このとき光学特性の調整係数ａは５８０〜６４５であった。
また、フィルムを２５℃・相対湿度１０％、２５℃・相対湿度８０％に２時間以上調湿した後に、その環境下でＲｅとＲｔｈを測定した。このときの相対湿度８０％から相対湿度１０％へのセルロースアシレートフィルムのレターデーションの変化量ΔＲｅ、ΔＲｔｈ（ΔＲｅ＝Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ(８０％ＲＨ)、ΔＲｔｈ＝Ｒｔｈ(１０％ＲＨ)−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））として、表２に示した。
表１における６位置換率（＝６位置換度／全置換度）が０．３１５以上のＣＴＡ試料（１０１〜１０９、００１、００２）はΔＲｅが６〜７ｎｍ、ΔＲｔｈが２２〜２９ｎｍであるが、６位置換率が０．３１５より小さいＣＴＡ試料（００３、００４）はΔＲｅが約５ｎｍ、ΔＲｔｈが約３７〜３８ｎｍであり、特にΔＲｔｈが大きな値を示した。１０１〜１０９の試料に比べて全置換度が大きく本来疎水性が増すにも関わらず、６位置換率が小さくなると光学特性の環境湿度変化が大きくなることが分かる。また、ＣＡＰはΔＲｅが約６ｎｍ、ΔＲｔｈは１７〜１９ｎｍであった。ＣＡＢはΔＲｅが約３ｎｍ、ΔＲｔｈは８〜９ｎｍであった。レターデーション発現剤の添加量が少なくなく、全置換度もＣＴＡよりも小さいにも関わらず、特にΔＲｔｈの値が小さくなり、光学特性の環境湿度変動が小さいことが分かる。

本実施例で得られたフィルムのＲｅ分布、Ｒｔｈ分布はそれぞれ１．２％〜５％、３％〜１０％であった。幅手方向の膜厚の分布Ｒは、１〜７％であった。また、表１のＣＴＡフィルムのヘイズは０．５〜０．８、ＣＡＰフィルムのヘイズは１．２〜１．６、ＣＡＢフィルムのヘイズは１．２〜１．４であり、ＣＴＡフィルムに比べて、ＣＡＰ、ＣＡＢフィルムはややヘイズが高いものであった。

表１、表２のフィルム作成、評価条件と同様に表３、表４のＣＡＰフィルム（本発明試料２０１〜２１０、比較試料０２１〜０２４）を作成した。フィルム膜厚は９２μｍ、レターデーション発現剤Ａを用いて、添加量は４．５％とした。

表１、２の結果と同様にＣＡＰフィルムにおいても、６位の置換度を上げて（０．３１５以上）、Ｍｗを１０万〜２５万、かつ分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを２．０〜３．３にした場合でも、良好な面状が得られることが分かる。ところが、比較試料０２１〜０２４のようにＭｗ／Ｍｎが２．０より小さいか、或いは３．４より大きくなると横段ムラ或いは縦スジの少なくとも一方の状態が悪くなることが分かる。なお、表３に用いた試料のｚ平均分子量Mzと重量平均分子量Mwの比率（Mz／Mw）は、いずれの試料においても１．７〜２．０の範囲であった。

表３、４のＣＡＰフィルムのヘイズは１．２〜１．５であり、試料１１０、１１１、００５のヘイズとほぼ同じであった。

また、前記試料２０４と同じドープを用いて、乾燥条件を変化させ、フィルムの膜厚を４０μｍ、６０μｍ、８０μｍに対して、レターデ−ション発現剤の添加量を９％、６．８％、４．５％にしたところ、Ｒｅ、Ｒｔｈはほぼ試料２０４と同じ値になり、ヘイズのみ順に０．７％、０．８％、０．９％となった。横段ムラ、縦スジは試料２０２と同様に良好であった。

［実施例１−２］
前記試料１０１と同じドープを用いて、バンド上の乾燥条件を変化させて、それ以外の条件は前記実施例１と同じ条件でセルロースアシレートフィルムＡ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４を作成した。
バンド上の乾燥条件は以下の通り変化させた。ドープを流延してから、バンド上前半（流延点、すなわちドープを無端金属支持体上に垂らしたところからバンド全長の約５０％のところまでを指す）の温度を１８０℃に固定して、乾燥風量をＡ３＜Ａ１＜Ａ４＜Ａ２の順序で８０〜２００ｍ³／ｈｒまで順次風量を増加させた。
得られたそれぞれのフィルムについて、可塑剤として用いたトリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）のフィルム中の膜厚方向における分布を、下記に示す顕微赤外分光法によって求めた。

（顕微赤外分光）
日本分光製（ＵＶ−ＩＲ−３２００）を用いて、試料を斜め方向に切削し（約４５°）、アパーチャーを絞りＩＲを正面からあて、深さ方向のトリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）の分布をスポット１５点で繰り返し回数５０回で測定した。トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のピークとして１３８０ｃｍ^-1、ＴＰＰのピークとして１４８８ｃｍ^-1に着目し、膜厚方向におけるＴＰＰの分布をトリアセチルセルロースのピークと比較して相対的に見積もった。結果を図１に示す。

図１からＡ３＜Ａ１＜Ａ４＜Ａ２の順で、すなわち乾燥風量が大きいほど、フィルムのバンド面側のトリフェニルフォスフェートの分布量が大きくなっていることが分かる。
また得られたフィルムＡ１〜Ａ４についてそれぞれの剥離の際に発生する横段ムラを測定したところフィルムＡ４において観測される横段ムラに比べて、フィルムＡ２において観測される横段ムラが低減されていることが分かった。
すなわちフィルムの乾燥風量を大きくし、バンド面側のトリフェニルフォスフェートの分布量を大きくするほど、フィルム剥離の際生成する横段ムラを低減できることが分かった。

［実施例２：偏光板］
＜２−１−１＞
（偏光板の作製−１）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム（試料１０６、００６）をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。なお、ケン化処理は以下のような条件で行った。
１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．００５ｍｏｌ／Ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアシレートフィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。 最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
市販のセルローストリアシレートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製：図３の機能性膜ＴＡＣ２、図４のＴＡＣ２−１あるいは２−２に相当）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した。
偏光子の透過軸と実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した（図２）。偏光子の透過軸と市販のセルローストリアシレートフィルムの遅相軸とは直交するように配置した。
このようにして作製した偏光板Ａ１０６、Ａ００６（図３で機能性膜が無い形の光学補償膜一体型偏光板）を、その一部はそのまま防湿袋に入れて保管し、もう一部は２５℃・相対湿度６０％で２時間調湿後に防湿袋に入れて保管した。防湿袋はポリエチレンテレフタレート／アルミ／ポリエチレンの積層構造からなる包装材であり、透湿度は０．０１ｍｇ／ｍ²（２４時間）以下であった。

＜２−２−１＞
（光散乱層用塗布液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴＡ、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。さらに、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。 この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒子径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒子径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。

＜２−２−２＞
（低屈折率層用塗布液の調製）
まず初めに、次のようにしてゾル液ａを調製した。攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒子径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、上記ゾル液ａ ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノ０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

＜２−２−３＞
（光散乱層付き透明保護膜０１の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出してその光散乱層側に、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、さらに１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った（図３の機能性膜ＴＡＣ２あるいは図４のＴＡＣ２−１に相当）。

＜２−３−１＞
（偏光板の作製−２）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
作製した光散乱層付き透明保護膜０１に＜２−１−１＞記載と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、機能性膜の無い側と偏光子の片側を貼り付けた。
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム（試料１０６、００６：図２のＴＡＣ１に相当）に同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥した（図３の構成が完成）。
偏光子の透過軸と実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した（図２）。偏光子の透過軸と光散乱層付き透明保護膜０１の遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（Ｂ１０６、Ｂ００６：機能性膜、光学補償膜一体型偏光板（図３））を作製した。偏光板の作製＜２−１−１＞と同様に、２５℃・相対湿度６０％で２時間調湿後防湿袋に入れたものと、調湿せずに防湿袋に入れたものを作成した。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。＜２−２−３＞で作成した光散乱層付き透明保護膜０１および機能性層を塗布していない８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）を前述と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前述と同様に偏光子に貼りあわせた。このようにして偏光板（Ｂ０：機能性膜、光学補償膜一体型偏光板（図３））を作成した。偏光板の作製＜２−１−１＞と同様に、調湿後防湿袋に入れたものと、調湿せずに防湿袋に入れたものを作成した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を機能性膜側から測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、２．３％であった。
分光光度計（ＵＶ３１００ＰＣ）を用いて、偏光子の内側に光学補償膜がくるように組み合わせて３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの調湿した偏光板の単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴを測定し、４００〜７００ｎｍの平均値を本発明試料に対して求めたところ、ＴＴは４２．７、ＰＴは３８、ＣＴは０．８であった。また６０℃・相対湿度９５％における５００時間の偏光板耐久性試験では−０．１≦ΔＣＴ≦０．２、−２．０≦ΔＰ≦０の範囲にいずれも入り、６０℃・相対湿度９０％では−０．０５≦ΔＣＴ≦０．１５、−１．５≦ΔＰ≦０であった。また、波長４１０ｎｍにおける直交透過率T(４１０)はいずれも０．０７〜０．１８であった。

＜２−４−１＞
（ハードコート層用塗布液の調製）
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０質量部に、質量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０質量部、メチルエチルケトン７３０．０ｇ、シクロヘキサノン５００．０ｇおよび光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５０．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。

＜２−４−２＞
（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を使用した。
この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、およびシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

分散剤

＜２−４−３＞
（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇおよびシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。

＜２−４−４＞
（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４７．９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）４．０ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、およびシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。

＜２−４−５＞
（低屈折率層用塗布液の調製）
下記共重合体をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。

共重合体

＜２−４−６＞
（反射防止層付透明保護膜０２の作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製）上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。

中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。

高屈折率層および低屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層付き透明保護膜０２を作製した（図３の機能性膜ＴＡＣ２あるいは図４のＴＡＣ２−１に相当）。

＜２−５−１＞
（偏光板の作製−３）
光散乱層付き透明保護膜０１の代わりに反射防止層付き透明保護膜０２を用いた以外は＜２−３−１＞と同様にして偏光板（Ｃ１０６、Ｃ００６：機能性膜、光学補償膜一体型偏光板（図３））を作製した。また同様の方法で、反射防止層付き透明保護膜０２、偏光子および機能性層を塗布していない８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）よりなる偏光板（Ｃ０）を作製した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を機能性膜側から測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、０．４％であった。

［実施例３］
（パネルへの実装）
［実施例３−１］
（ＶＡパネルへの実装）（１枚型）
図４の液晶表示装置を作製した。即ち、観察方向（上）から上側偏光板（ＴＡＣ２−１（機能性膜有り／なし）、偏光子、ＴＡＣ１−１）、ＶＡモード液晶セル、下側偏光板（ＴＡＣ１−２、偏光子、ＴＡＣ２−２）を積層し、さらにバックライト光源を配置した。以下の例では、上側偏光板に市販品の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８）を用いて、下側偏光板に光学補償フィルムと一体型になった偏光板を使用しているが、これが逆であっても機能的には何ら問題がない。ただし、一体型偏光板としては、下側偏光板として使用する場合が高い（上側偏光板として使用すると機能性膜を観察側（上側）に設ける必要性があり生産得率が下がる可能性があるため）と考えられ、より好ましい実施形態であると考えられる。

＜液晶セルの作製＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のリターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図４）の上側偏光板（観察者側）には、市販品のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８）を用いた。下側偏光板（バックライト側）には実施例１で作製した光学補償シートを使用（試料１０６）した実施例２の＜２−１−１＞で作製した偏光板（Ａ１０６）を、実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム（図４のＴＡＣ１−２に相当）が液晶セル側となるように設置した。上側偏光板および下側偏光板は粘着剤を介して液晶セルに貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。使用する偏光板はあらかじめ２５℃・相対湿度６０％の温湿度条件で２時間調湿防湿袋に封入して保管してあったものと、調湿しないで袋に封入し保管したものの両方を用いて液晶表示装置を作成した。
なお、ここでは、上側偏光板に市販品を、下側偏光板に本発明の一体型偏光板を用いているが、作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
次に液晶表示画面の横方向を基準に方位角４５°、画面表面の法線方向を基準に極角６０°の方位の黒表示時の色味を測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定し、これを初期値とした。次にこのパネルを、常温常湿（２５℃・相対湿度６０％程度で湿度制御無し）の部屋で１週間放置し、再度、黒表示時の色味を測定した。
下記表５に視野角と色味変化の測定を示す。本実施例はいずれも広い視野角を有し、色味変化も少なかった。液晶表示装置組み立て前に偏光板を調湿したものは、特に色味変化が少なかった。

［実施例３−２］
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図４）の下側偏光板に、実施例１で作製した光学補償シートを使用（試料１０６）した実施例２の＜２−１−１＞で作製した偏光板（Ａ１０６）を、上側偏光板に実施例２の＜２−３−１＞で作製した偏光板（Ｂ０）を、粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このとき、作業場の温度は２０から２５℃に、相対湿度は５０〜７０％になるように空調されていた。使用する偏光板はあらかじめ２５℃・相対湿度６０％の温湿度条件で２時間調湿防湿袋に封入して保管してあったものと、調湿しないで袋に封入し保管したものの両方を用いて液晶表示装置を作成した。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また実施例３−１と同じように、視野角と色味変化の測定を行い、その結果を表５に示した。

［実施例３−３］
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図４）の下側偏光板に、実施例１で作製した光学補償シートを使用（試料１０６）した実施例２の＜２−１−１＞で作製した偏光板（Ａ１０６）を、上側偏光板に実施例２の＜２−５−１＞で作製した偏光板（Ｃ０）を粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このとき、作業場の温度は２０から２５℃、相対湿度は５０〜７０％になるように空調されていた。使用する偏光板はあらかじめ２５℃・相対湿度６０％の温湿度条件で２時間調湿防湿袋に封入して保管してあったものと、調湿しないで袋に封入し保管したものの両方を用いて液晶表示装置を作成した。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また実施例３−１と同じように、視野角と色味変化の測定を行い、その結果を表５に示した。

［比較例３−１］
実施例３−１の下側偏光板をＡ００６、Ｂ００６およびＣ００６とすること以外は実施例３−１とまったく同様に行なった。なおここで使用した偏光板は調湿をしなかった。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また実施例３−１と同じように、視野角と色味変化の測定を行い、その結果を表５に示した。

比較試料００６を用いた試料はいずれの工程においても工程を汚したりするなどの工程汚染が発生した。本発明試料については、生産性、面状の品質を落とすことなく、良好な表示性能が得られていることが分かる。

フィルム深さ方向のトリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）の分布を示すグラフである。 本発明の偏光板の製造時におけるセルロースアシレートフィルムの貼り合わせ方法を示す模式図である。 本発明の偏光板の断面構造を模式的に示す断面図である。 本発明の偏光板をＶＡモード液晶セルに配置した際の断面構造を模式的に示す断面図である。

Claims (24)

1. セルロースアシレートをポリマー成分とするセルロースアシレートフィルムであって、前記セルロースアシレートのグルコース単位２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、前記セルロースアシレートが下記数式（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）を満たし、かつ前記セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗを数平均分子量Ｍｎで除した分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが２．０〜３．４であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
   数式（Ｉ−ａ）：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
   数式（Ｉ−ｂ）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５
2. 前記セルロースアシレートの質量平均分子量Ｍｗが７００００≦Ｍｗ≦３０００００であることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
3. 前記セルロースアシレートの水酸基のアセチル基による置換度Ａと、炭素原子数が３以上のアシル基による置換度Ｂとが下記数式（Ｉ）を満たし、かつ流延方向または流延幅方向において、実質的に１０％以上延伸されていることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（Ｉ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
4. 前記アシル基がブタノイル基であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
5. 前記アシル基がプロピオニル基であり、前記置換度Ｂが０．６以上であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
6. 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎および膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎が、下記数式（IX）および(XI)を満たす光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（IX）：３０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦２００ｎｍ
   数式（XI）：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦４００ｎｍ
7. 前記Ｒｅ₍₅₉₀₎および前記Ｒｔｈ₍₅₉₀₎が、下記数式（XIII）および（XIV）を満たすことを特徴とする請求項６に記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（XIII）：４０≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１００
   数式（XIV） ：１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ₍₅₉₀₎≦３００ｎｍ
8. 棒状または円盤状化合物からなるレターデーション発現剤を少なくとも１種含有している光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
9. 可塑剤、紫外線吸収剤および剥離促進剤のうち少なくとも１種を含有している光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
10. 前記フィルムの膜厚が４０〜１８０μｍである光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
11. ２５℃・相対湿度１０％における前記フィルムの正面レターデーションＲｅと２５℃・相対湿度８０％における前記フィルムの正面レターデーションＲｅとの差ΔＲｅ（Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ））が０〜１０ｎｍであり、２５℃・相対湿度１０％における前記フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈと２５℃・相対湿度８０％における前記フィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈとの差ΔＲｔｈ（Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））が、０〜３０ｎｍである光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
12. １軸延伸法、同時２軸延伸法または逐次２軸延伸法で延伸されている光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
13. ２５℃・相対湿度６０％における前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎、２５℃・相対湿度６０％における前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎、および前記フィルムの光学特性の調整係数ａが、下記数式（Ａ）〜（Ｃ）を満たす光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（Ａ）：４０ｎｍ≦Ｒｅ₍₅₉₀₎≦１４５ｎｍ
    数式（Ｂ）：Ｒｔｈ₍₅₉₀₎＝ａ−５．９Ｒｅ₍₅₉₀₎
    数式（Ｃ）：５８０ｎｍ≦ａ≦６７０ｎｍ
14. 前記フィルムの幅手方向での膜厚の最大値、最小値、平均値をそれぞれＲｍａｘ、Ｒｍｉｎ、Ｒａｖｅとしたときに、Ｒ（％）＝（Ｒmax−Rmin）/Rave×１００で算出される膜厚分布Ｒが０〜８％に調整されている光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
15. 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションＲｅ₍₅₉₀₎の分布が５％以下に調整されている光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
16. 前記フィルムの波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₍₅₉₀₎の分布が１０％以下に調整されている光学用フィルムであることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルム。
17. 偏光子の両面に保護膜を有する偏光板であって、前記保護膜の少なくとも一方が請求項１〜１６のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
18. 前記偏光板の２５℃・相対湿度６０％における単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴ、偏光度Ｐが下記数式（ａ）〜（ｄ）の少なくとも１つ以上を満たすことを特徴とする請求項１７に記載の偏光板。
    数式（ａ）４０．０≦ＴＴ≦４５．０
    数式（ｂ）３０．０≦ＰＴ≦４０．０
    数式（ｃ）ＣＴ≦２．０
    数式（ｄ）９５．０≦Ｐ
19. 前記偏光板の波長λにおける直交透過率をＴ₍λ₎としたときに、Ｔ₍₃₈₀₎、Ｔ₍₄₁₀₎、Ｔ₍₇₀₀₎が下記数式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことを特徴とする請求項１７または１８に記載の偏光板。
    数式（ｅ）Ｔ₍₃₈₀₎≦２．０
    数式（ｆ）Ｔ₍₄₁₀₎≦１．０
    数式（ｇ）Ｔ₍₇₀₀₎≦０．５
20. 前記偏光板を６０℃・相対湿度９５％の条件下に５００時間静置した場合の直交単板透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記数式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つを満たすことを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の偏光板。
    数式（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
    数式（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
    ［ただし、変化量とは５００時間静置後の測定値から５００時間静置前の測定値を差し引いた値を示す。]
21. 偏光子の一方の保護膜の表面に、ハードコート層、防眩層、および反射防止層のうち少なくとも一層が設けられていることを特徴とする請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の偏光板。
22. 請求項１〜１６のいずれか一項に記載のセルロースアシレートフィルムおよび請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の偏光板のいずれかを具備したことを特徴とする液晶表示装置。
23. 請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の偏光板のいずれかをセルの上下に用いたことを特徴とするＯＣＢまたはＶＡモード液晶表示装置。
24. 請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の偏光板のいずれか１枚をバックライト側に用いたＶＡモード液晶表示装置。

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