JP2007095780A - 半導体装置製造用治具と半導体装置製造方法 - Google Patents

半導体装置製造用治具と半導体装置製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 安定したダイシングと容易なピクアップを可能とする半導体装置製造用治具を提供する。
【解決手段】 この治具は、半導体ウエハを半導体チップに分割するための切断領域を支持する格子部11と底部13により、上部に搭載する半導体ウエハとの間に密閉したキャビティCを形成できる。複数のキャビティCは、格子部11に設けられた連結孔11aで接続され、外枠部12に設けられた吸排気口12aによって内部の空気を出し入れすることができる。従って、半導体ウエハの裏面にバンプ等の凹凸があっても、これらの凹凸はキャビティC内に収まるので、半導体ウエハを治具に確実に固定することができる。また、切断後の半導体チップは、吸排気口12aを開けてキャビティ内部を常圧に戻すことにより、容易に取り出すことができる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体装置製造用治具、特にダイシングの際に使用する治具と、これを用いた半導体装置製造方法に関するものである。
従来、集積回路が形成された半導体ウエハをダイシングによって個々の半導体チップに切断する工程は、次のような手順で行われていた。
まず、半導体ウエハの裏面全体にダイシングテープを張り付ける。なお、ダイシングテープは、表面に半導体ウエハを張り付けるための接着剤が予め塗布され、所定の厚さを有する樹脂製のテープである。
次に、裏面にダイシングテープが張り付けられた半導体ウエハの表面を上にして、ダイシング装置のウエハ載置台にセットし、この半導体ウエハを真空吸着して固定する。
更に、回転ブレードを用い、半導体ウエハの表面から所定の切断線(グリッドライン)に沿って個々の半導体チップに切断する。この時、切断する深さは、ダイシングテープの表面に達し、しかも、このダイシングテープを完全に切断しない程度に調整される。
その後、ピックアップヘッドを用い、ダイシングテープから個々の半導体チップを引き剥がして取り出す。
特開平5−335405号公報
上記特許文献1には、ウエハ載置台に複数の突起を設けることによって、ダイシングされた個々の半導体チップのピックアップを効率良く行うことを目的とした半導体装置製造装置が記載されている。
しかしながら、前記半導体チップの切断方法では、次のような問題があった。
即ち、完成した半導体ウエハの裏面に、配線基板等へ接続するためのバンプや配線が形成されている場合、この半導体ウエハの裏面とダイシングテープとの間に空間が発生しやすい。特に、半導体ウエハのグリッドライン部分がダイシングテープに密着していないと、切断時に半導体ウエハが移動したり、振動したりすることにより、クラックが生じるという問題がある。
一方、半導体ウエハとダイシングテープを密着させると、バンプ等がダイシングテープ中に埋め込まれるので、切断後の半導体チップのピックアップ時に剥がれに難くなる。そして、無理に半導体チップを剥がすことにより、損傷を与えてしまうという問題があった。このように、ダイシング時とピックアップ時の問題点に対し、ダイシングテープに対する要求は相反し、対策が立て難かった。
本発明は、安定したダイシングと容易なピクアップを可能とする半導体装置製造用治具を提供することを目的としている。
本発明の半導体装置製造用治具は、半導体ウエハに形成された複数の集積回路を複数の半導体チップに分割する切断領域を支持するために格子状に形成された格子部と、前記半導体ウエハの外周部を支持するために前記格子部を囲むように形成された外枠部と、前記格子部で囲まれた複数の領域の下側を塞ぎ、該格子部及び前記外枠部の上側に搭載される前記半導体ウエハとの間に密閉したキャビティを形成するための底部とを備えたことを特徴としている。
本発明の治具は、半導体ウエハを複数の半導体チップに分割するための切断領域を支持する格子部と底部によって、この半導体ウエハとの間に密閉したキャビティが形成できるようになっている。従って、例えば、減圧された容器の中で治具に切断対象の半導体ウエハを位置合わせした後、この容器内部を常圧に戻すことによってこの半導体ウエハを治具に吸着固定したり、或いは、治具の外枠部に設けられた吸排気口からキャビティ内の空気を吸い出すことによってこの半導体ウエハを治具に吸着固定したりすることができる。これにより、半導体ウエハの裏面にバンプや配線等の凹凸があっても、これらの凹凸はキャビティ内に収まるので、半導体ウエハを治具に確実に固定することができる。また、切断後の半導体チップの取り出しの際には、治具の底部に穴を空けたり、外枠部に設けられた吸排気口を開けたりすることによりキャビティ内部を常圧に戻し、半導体チップを容易に取り出すことができる、という効果がある。
治具の格子部と外枠部の上側に、半導体ウエハとの密着性を高めると共に、この半導体ウエハを切断するときに格子部を保護するための所定の厚さを有する膜を設ける。これにより、半導体ウエハを切断するときに、格子部には傷が付かないので、保護用の膜を取り替えるだけで、本体部分を再利用することができる。
この発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、次の好ましい実施例の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。但し、図面は、もっぱら解説のためのものであって、この発明の範囲を限定するものではない。
図1(a)〜(c)は、本発明の実施例1を示すダイシング用治具の構成図であり、同図(a)は平面図、同図(b)は同図(a)中のX−X線に沿う部分の断面図、及び同図(c)は同図(a)中のY部の拡大斜視図である。
このダイシング用治具10は、図1(a),(b)に示すように、ダイシング対象の半導体ウエハのグリッドラインに対応して格子型に形成された格子部11と、この格子部11の周囲を取り囲み、かつ半導体ウエハよりも一回り大きく形成された外枠部12と、これら格子部11及び外枠部12の下側を覆う底部13で構成されている。
格子部11と外枠部12の表面は同一平面を構成するように、同じ高さに形成されている。また、格子部11の側面には、これらの格子部11、または格子部11と外枠部12で囲まれる空間(キャビティ)Cを結合するための連結孔11aが設けられている。更に、外枠部12には、連結孔11aで結合されたキャビティ内の空気を排気したり、このキャビティ内に空気を注入したりするための吸排気口12aが設けられている。
なお、このダイシング用治具10は、アルミニウムやステンレス鋼等の金属材料で構成されている。また、このダイシング用治具10の直径や、格子部11及び外枠部12の寸法は、取り扱う半導体ウエハの寸法に対応し、キャビティCの深さは、この半導体ウエハの裏面に形成されたバンプ等の高さに応じた寸法となっている。また、底部13の厚さは、全体的な強度によって決定されるが、通常0.5mm程度あれば良い。
図2は、図1のダイシング用治具を用いた半導体ウエハの切断方法の説明図である。以下、この図2を参照しつつ、図1のダイシング用治具10を用いた半導体ウエハWのダイシング方法を説明する。
まず、図2(a)に示すように、ダイシング対象の半導体ウエハWの裏面に形成されたバンプや配線部分等がダイシング用治具10のキャビティCに収まり、この半導体ウエハWのグリッドラインがダイシング用治具10の格子部11上に位置するように、半導体ウエハWをダイシング用治具10上に位置合わせする。
次に、図2(b)に示すように、ダイシング用治具10の外枠部12に設けられた吸排気口12aに真空ポンプ1を接続し、キャビティC内の空気を排出する。これにより、キャビティC内の気圧が低くなり、半導体ウエハWはダイシング用治具10の格子部11と外枠部12の表面に密着固定される。その後、吸排気口12aに栓12bをしてキャビティC内を減圧状態に保持し、真空ポンプ1を外す。
更に、半導体ウエハWが吸着されたダイシング用治具10を、図示しないダイシング装置のウエハ載置台にセットする。そして、図2(c)に示すように、回転ブレード2を用い、半導体ウエハWの表面から所定のグリッドラインに沿って個々の半導体チップCPに切断する。この時、切断する深さは、半導体ウエハWを完全に切断し、かつダイシング用治具10の格子部11の表面に達する程度に調整する。
その後、吸排気口12aの栓12bを外し、キャビティCの気圧を常圧に戻す。そして、図2(d)に示すように、ピックアップヘッド3を用い、ダイシング用治具10から個々の半導体チップCPを引き上げて取り出す。
以上のように、この実施例1のダイシング用治具10は、ダイシング対象の半導体ウエハWのグリッドラインに対応した格子部11と、この格子部11と底部13で囲まれたキャビティCを有している。このため、半導体ウエハWに形成されたバンプや回路がダイシング用治具10に当たって損傷するおそれがない。また、キャビティC内の気圧を減圧状態にすることで、半導体ウエハWのグリッドラインを格子部11に密着して固定することができる。これにより、安定したダイシングが可能になり、半導体チップCPのクラックが防止できる。更に、半導体チップCPのピックアップ時には、吸排気口12aの栓12bを外してキャビティC内を常圧に戻すことにより、チップ剥がれや損傷を与えることなく、容易に取り出すことができるという利点がある。
図3は、本発明の実施例2を示すダイシング用治具の構成図であり、図1(b)の断面に対応する断面を示している。
このダイシング用治具10Aは、図1のダイシング用治具10の格子部11と外枠部12の上面、即ちダイシング対象の半導体ウエハWの外周部とグリッドラインに対応する部分に、例えば、ポリシリコン、シリコンゴム等の弾力性のある樹脂14を0.1mm程度の厚さに形成したものである。この樹脂14は、塗布または予め成型した薄膜を張り付けて形成することができる。なお、格子部11、外枠部12、及び底部13の構造は、図1と同様である。
このダイシング用治具10Aを用いた半導体ウエハWの切断方法は、実施例1とほぼ同様である。即ち、まず、ダイシング対象の半導体ウエハWをダイシング用治具10Aの樹脂14上に位置合わせし、吸排気口12aに真空ポンプ1を接続してキャビティC内の空気を排出し、この半導体ウエハWをダイシング用治具10Aに密着固定する。更に、吸排気口12aに栓12bをしてキャビティC内を減圧状態に保持し、真空ポンプ1から外してダイシング装置のウエハ載置台にセットする。
そして、回転ブレード2を用いて半導体ウエハWの表面から所定のグリッドラインに沿って個々の半導体チップCPに切断する。この時、切断する深さは、ダイシング用治具10Aの樹脂14の表面に達するが、金属製の格子部11には達しない程度に調整する。
その後、吸排気口12aの栓12bを外してキャビティC内を常圧に戻し、ピックアップヘッド3を用いて、ダイシング用治具10Aから個々の半導体チップCPを引き上げて取り出す。
以上のように、この実施例2のダイシング用治具10Aは、金属製の治具10の上に弾力性のある樹脂14を形成しているので、実施例1と同様の利点に加えて、ダイシング時に金属部分に切り込みが入らないので、樹脂14を除去して再形成することにより金属部分を再利用することができるという利点がある。更に、弾力性のある樹脂14は金属面よりも密着性があるので、キャビティC内の真空度が低くても半導体ウエハWとの固定力が得られる。従って、キャビティCの減圧による半導体ウエハWへの応力を小さくすることができるので、半導体ウエハWの変形による損傷が抑制できるという利点がある。
図4は、本発明の実施例3を示すダイシング用治具の構成図であり、図1(b)の断面に対応する断面を示している。
このダイシング用治具20は、図1のダイシング用治具10の材質を、金属材料からガラスやプラスチック等の紫外線を透過する材料に変更した格子部21、外枠部22及び底部23を有すると共に、これらの格子部21と外枠部22の上面、即ちダイシング対象の半導体ウエハWの外周部とグリッドラインに対応する部分に、紫外線によって硬化するUV硬化樹脂24を、0.1mm程度の厚さに形成したものである。このUV硬化樹脂24は、塗布または予め成型した薄膜を張り付けて形成することができる。なお、格子部21、外枠部22及び底部23の構造は、図1と同様である。但し、底部23の厚さは、その材料であるガラスやプラスチック等の強度にあわせて設定する必要がある。
このダイシング用治具20を用いた半導体ウエハWの切断方法は、実施例2とほぼ同様であり、まず、半導体ウエハWをダイシング用治具20のUV硬化樹脂24上に位置合わせし、吸排気口22aに真空ポンプ1を接続してキャビティC内の空気を排出して半導体ウエハWをダイシング用治具20に密着固定する。更に、吸排気口22aに栓22bをしてキャビティC内を減圧状態に保持して真空ポンプ1を外し、ダイシング装置のウエハ載置台にセットする。
そして、回転ブレード2を用いて半導体ウエハWの表面から所定のグリッドラインに沿って個々の半導体チップCPに切断する。この時、切断する深さは、ダイシング用治具20のUV硬化樹脂24の表面に達するが、ガラス等で形成された格子部21には達しない程度に調整する。
その後、ダイシング用治具20の裏面から紫外線を照射してUV硬化樹脂24を硬化させ、半導体ウエハWの裏面とこのUV硬化樹脂24の密着力を弱くする。そして、吸排気口22aの栓22bを外してキャビティC内を常圧に戻し、ピックアップヘッド3を用いて、ダイシング用治具20から個々の半導体チップCPを引き上げて取り出す。
以上のように、この実施例3のダイシング用治具20は、ガラス等の紫外線を透過する材料で形成された治具の上にUV硬化樹脂24を設けているので、実施例1及び実施例2と同様の利点に加えて、ダイシング時に半導体ウエハWとUV硬化樹脂24の密着力を更に強くすることができ、より安定したダイシングが可能になる。また、ピックアップ時に紫外線を照射することによって半導体ウエハWとUV硬化樹脂24の密着力を弱めることができるので、個々の半導体チップCPを損傷せず容易にピクアップできるという利点がある。
図5(a),(b)は、本発明の実施例4を示すダイシング用治具の構成図であり、同図(a)は平面図、及び同図(b)は同図(a)中のZ−Z線に沿う部分の断面図である。
このダイシング用治具30は、ダイシング対象の半導体ウエハWのグリッドラインに対応して格子型に形成された格子部31と、この格子部31の周囲を取り囲み、かつ半導体ウエハWよりも一回り大きく形成された外枠部32と、これら格子部31及び外枠部32の下側を覆う底部33で構成されている。
格子部31と外枠部32の表面は同一平面を構成するように、同じ高さに形成されている。また、これらの格子部31、または格子部31と外枠部32、及び底部33で囲まれる空間は、それぞれ独立したキャビティCを形成している。即ち、実施例1〜3で採用されているキャビティC間を結合する連結孔や、キャビティC内の空気を出し入れするための吸排気口は、このダイシング用治具30には設けられていない。
図6は、図5のダイシング用治具を用いた半導体ウエハの切断方法の説明図である。以下、この図6を参照しつつ、図5のダイシング用治具30を用いた半導体ウエハWのダイシング方法を説明する。
まず、図6(a)に示すように、真空ポンプ1によって減圧状態にされた密閉容器4の中で、ダイシング対象の半導体ウエハWの裏面に形成されたバンプや配線部分等がダイシング用治具30のキャビティCに収まり、この半導体ウエハWのグリッドラインがダイシング用治具30の格子部31上に位置するように、半導体ウエハWをダイシング用治具30上に位置合わせする。
その後、密閉容器4の空気弁5を開き、この密閉容器4内に気圧を常圧に戻す。これにより、ダイシング用治具30のキャビティCの内部が減圧状態になるので、半導体ウエハWはダイシング用治具30に吸着され、格子部31及び外枠部32との間で密着固定される。
次に、半導体ウエハWが吸着されたダイシング用治具30を、図示しないダイシング装置のウエハ載置台にセットする。そして、図6(b)に示すように、回転ブレード2を用い、半導体ウエハWの表面から所定のグリッドラインに沿って個々の半導体チップCPに切断する。この時、切断する深さは、半導体ウエハWを完全に切断し、かつダイシング用治具30の格子部31の表面に達する程度に調整する。
更に、図6(c)に示すように、個片化された複数の半導体チップCPが吸着されたダイシング用治具30をダイスピックアップ装置にセットし、ピックアップヘッド3で半導体チップCPを固定する。そして、固定した半導体チップCPに対応するダイシング用治具30のキャビティCの底部33を、ピン6で突き破る。これにより、キャビティC内の気圧は常圧に戻る。
その後、図6(d)に示すように、ピックアップヘッド3によって、ダイシング用治具30から半導体チップCPを引き上げて取り出す。
以上のように、この実施例4のダイシング用治具30は、連結孔や吸排気口がないので、実施例1〜3のダイシング用治具に比べて構造が単純で作成が容易である。
また、実施例1等と同様に、ダイシング対象の半導体ウエハWのグリッドラインに対応した格子部31と、この格子部31と底部33で囲まれたキャビティCを有している。このため、半導体ウエハWに形成されたバンプや配線部分等がダイシング用治具30に当たって損傷するおそれがない。また、キャビティC内の気圧を減圧状態にすることで、半導体ウエハWのグリッドラインを格子部31に密着して固定することができる。これにより、安定したダイシングが可能になり、半導体チップCPのクラックが防止できる。更に、半導体チップCPのピックアップ時には、底部33を突き破ってキャビティC内を常圧に戻すことにより、チップ剥がれや損傷を与えることなく、容易に取り出すことができるという利点がある。
更に、ピックアップ時に、キャビティCは実施例1〜3と異なり個別に常圧に戻すので、ダイシング用治具30上に残っている半導体チップCPの位置ずれが発生しないという利点がある。
図7は、本発明の実施例5を示すダイシング用治具の構成図であり、図5(b)の断面に対応する断面を示している。
このダイシング用治具40は、図5のダイシング用治具30の格子部31と外枠部32に対応する部分をアルミニウム等の金属材料で形成した枠部41と、この枠部41の底面に張り付けた透光性(可視光または赤外線を透過するもの)を有するダイシングテープ42とで構成されている。
このダイシング用治具40を用いた半導体ウエハWの切断方法は、実施例4とほぼ同様である。即ち、まず、真空ポンプ1によって減圧状態にされた密閉容器4の中で、ダイシング対象の半導体ウエハWの裏面に形成されたバンプや回路部分がダイシング用治具40のキャビティCに収まり、この半導体ウエハWのグリッドラインがダイシング用治具40の格子部上に位置するように、半導体ウエハWをダイシング用治具40上に位置合わせを行う。この位置合わせは、ダイシング用治具40の下側、即ち、ダイシングテープ42側から可視光または赤外線を使用するカメラを用いて行う。
その後、密閉容器4の空気弁5を開き、この密閉容器4内に気圧を常圧に戻す。これにより、ダイシング用治具40のキャビティCの内部が減圧状態になるので、半導体ウエハWはダイシング用治具34に吸着され、格子部及び外枠部との間で密着固定される。
次に、半導体ウエハWが吸着されたダイシング用治具40を、図示しないダイシング装置のウエハ載置台にセットする。そして、回転ブレード2を用い、半導体ウエハWの表面から所定のグリッドラインに沿って個々の半導体チップCPに切断する。この時、切断する深さは、半導体ウエハWを完全に切断し、かつダイシング用治具40の格子部の表面に達する程度に調整する。
更に、個片化された複数の半導体チップCPが吸着されたダイシング用治具40をダイスピックアップ装置にセットし、ピックアップヘッド3で半導体チップCPを固定する。そして、固定した半導体チップCPに対応するダイシング用治具40のキャビティCの底部のダイシングテープ42を、ピン6で突き破る。これにより、キャビティC内の気圧は常圧に戻る。その後、ピックアップヘッド3によって、ダイシング用治具40から半導体チップCPを引き上げて取り出す。
以上のように、この実施例5のダイシング用治具40は、実施例4と同様の利点に加えて、底部が透光性のダイシングテープ42で構成されているので、半導体ウエハWの正確な位置合わせを行うことが可能になる。
これにより、実施例1〜4に比べて合わせずれマージンを小さくすることができるので、キャビティCの寸法や、キャビティ間の寸法を小さくすることができ、合わせずれマージンのためにチップサイズを大きくする必要がなくなる。
また、高精度のロボットアームや特殊なカメラを必要とせずに、正確な位置合わせができるので、高価な製造設備が不要となる。
なお、本発明は、上記実施例に限定されず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例えば、次のようなものがある。
(1) ダイシング対象の半導体ウエハは、裏面にバンプ等の凹凸があるものに限定されず、裏面が平坦なものでも同様に適用でき、同様の効果がある。
(2) ダイシングは、回転ブレードによる切断の他、レーザービームによる切断等も可能である。
(3) 実施例3のガラス等で構成したダイシング用治具20の場合、実施例5と同様に、ダイシング用治具20の下側からカメラを用いて、半導体ウエハの位置合わせを行うことができる。その場合、実施例5と同様に位置合わせマージンを小さくすることができ、チップサイズの小型化が可能になる。
(4) 実施例4のダイシング用治具30の格子部31と外枠部32の表面に、実施例2と同様の弾力性のある樹脂を張り付けることができる。これにより、実施例2と同様に、半導体ウエハとの密着力を向上させることができる。
(5) 実施例4のダイシング用治具30を、実施例3と同様の紫外線を透過する材料で構成すると共に、その格子部31と外枠部32の表面に、実施例3と同様のUV硬化樹脂を張り付けることができる。これにより、実施例3と同様に、半導体ウエハとの密着力を向上させることができる。
(6) 実施例5のダイシング用治具40の枠部41の表面に、実施例2と同様の弾力性のある樹脂、または実施例3と同様のUV硬化樹脂を張り付けることができる。これにより、実施例2,3と同様に、半導体ウエハとの密着力を向上させると共に、枠部41の再利用が可能になる。
(7) 実施例5のダイシング用治具40は金属製の枠部41を使用しているが、この枠部41の材質は金属に限定されない。例えば、ポリイミド等の膜で構成しても良い。ポリイミド膜の場合、感光性ポリイミド膜をダイシングテープ42上に塗布し、その後、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術によってパターニングして、格子部と外枠部を有する枠型の膜を形成する。
本発明の実施例1を示すダイシング用治具の構成図である。 図1のダイシング治具を用いた半導体ウエハの切断方法の説明図である。 本発明の実施例2を示すダイシング用治具の構成図である。 本発明の実施例3を示すダイシング用治具の構成図である。 本発明の実施例4を示すダイシング用治具の構成図である。 図5のダイシング治具を用いた半導体ウエハの切断方法の説明図である。 本発明の実施例5を示すダイシング用治具の構成図である。
符号の説明
1 真空ポンプ
2 回転ブレード
3 ピックアップヘッド
4 密閉容器
6 ピン
10,10A,20,30,40 ダイシング用治具
11,21,31 格子部
11a 連結孔
12,22,32 外枠部
12a 吸排気口
12b 栓
13,23,33 底部
14 樹脂
24 UV硬化樹脂
41 枠部
42 ダイシングテープ
C キャビティ
CP 半導体チップ
W 半導体ウエハ

Claims (10)

  1. 半導体ウエハに形成された複数の集積回路を複数の半導体チップに分割する切断領域を支持するために格子状に形成された格子部と、
    前記半導体ウエハの外周部を支持するために前記格子部を囲むように形成された外枠部と、
    前記格子部で囲まれた複数の領域の下側を塞ぎ、該格子部及び前記外枠部の上側に搭載される前記半導体ウエハとの間に密閉したキャビティを形成するための底部とを、
    備えたことを特徴とする半導体装置製造用治具。
  2. 前記格子部に前記キャビティ同士を連結する連結孔を設けると共に、前記外枠部に前記キャビティ内の空気を出し入れするための吸排気口を設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置製造用治具。
  3. 前記半導体装置製造用治具は、透光性を有する材料で形成したことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置製造用治具。
  4. 前記底部を透光性を有する材料で形成したことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置製造用治具。
  5. 前記格子部と前記外枠部の上側に、前記半導体ウエハとの密着性を高めると共に、該半導体ウエハを切断するときに該格子部を保護するための所定の厚さを有する膜を設けたことを特徴とする請求項1、2、3または4記載の半導体装置製造用治具。
  6. 前記底部を紫外線を透過する材料で形成すると共に、前記膜を紫外線照射によって硬化する材料で形成したことを特徴とする請求項5記載の半導体装置製造用治具。
  7. 減圧された容器の中で、半導体ウエハの切断領域を支持する格子部と該格子部を囲むように形成された外枠部と該格子部で囲まれた複数の領域の下側を塞ぐことによって上側に搭載される半導体ウエハとの間に密閉したキャビティを形成する底部とを備えた半導体装置製造用治具の上側に、ダイシングの対象となる半導体ウエハを搭載する搭載工程と、
    前記容器の内部の気圧を常圧に戻すことにより、前記キャビティ内の減圧された気圧によって前記導体ウエハを前記半導体装置製造用治具に密着させる密着工程と、
    前記半導体ウエハの切断領域を切断して複数の半導体チップに分割する切断工程と、
    前記半導体装置製造用治具の底部に穴を開けることによって対応する前記キャビティ内の気圧を常圧に戻し、前記半導体チップを取り出す取出工程とを、
    有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  8. 半導体ウエハの切断領域を支持する格子部と該格子部を囲むように形成された外枠部と該格子部で囲まれた複数の領域の下側を塞ぐことによって上側に搭載される半導体ウエハとの間に密閉したキャビティを形成する底部とを備え、該格子部に該キャビティ同士を連結する連結孔が設けられると共に、該外枠部には該キャビティ内の空気を出し入れするための吸排気口が設けられた半導体装置製造用治具の上側に、ダイシングの対象となる半導体ウエハを搭載する搭載工程と、
    前記半導体装置製造用治具の前記吸排気口から前記キャビティ内の空気を引き抜いて該キャビティ内部を減圧状態にすることにより、前記半導体ウエハを該半導体装置製造用治具に密着させる密着工程と、
    前記半導体ウエハの切断領域を切断して複数の半導体チップに分割する切断工程と、
    前記半導体装置製造用治具の前記吸排気口から前記キャビティ内に空気を入れて該キャビティ内部を常圧に戻し、前記半導体チップを取り出す取出工程とを、
    有することを特徴とする半導体装置製造方法。
  9. 前記半導体装置製造用治具の格子部、外枠部及び底部の内、少なくとも底部は透光性材料で構成され、前記搭載工程において、該半導体装置製造用治具の裏側から前記半導体ウエハを監視しながら該半導体ウエハの搭載位置の位置合わせを行うことを特徴とする請求項7または8記載の半導体装置製造方法。
  10. 前記半導体装置製造用治具の格子部、外枠部及び底部の内、少なくとも底部は透光性材料で構成され、前記搭載工程において、該格子部及び外枠部の上に紫外線照射によって硬化する樹脂を介して前記半導体ウエハ搭載し、前記取出工程において、該半導体装置製造用治具の底面から紫外線を照射して該樹脂を硬化させた後で、前記キャビティ内部を常圧に戻して前記半導体チップを取り出すことを特徴とする請求項7、8または9記載の半導体装置製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009010056A (ja) * 2007-06-26 2009-01-15 Yamaha Corp 識別マークの読取方法
JP2012146897A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体ウエハの割断方法及び割断装置
US8247773B2 (en) 2007-06-26 2012-08-21 Yamaha Corporation Method and apparatus for reading identification mark on surface of wafer
KR20140050935A (ko) * 2012-10-22 2014-04-30 삼성전자주식회사 캐비티를 갖는 웨이퍼 캐리어
JP2014107518A (ja) * 2012-11-30 2014-06-09 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板のスクライブ用治具、スクライブ方法及び分断方法
JP2021019163A (ja) * 2019-07-23 2021-02-15 株式会社ディスコ チップの製造方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5991133B2 (ja) * 2012-10-16 2016-09-14 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性材料基板のブレイク用治具及びブレイク方法
SG11201504078TA (en) * 2012-12-17 2015-07-30 Agency Science Tech & Res Wafer dicing apparatus and wafer dicing method
US9257321B2 (en) * 2013-06-13 2016-02-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Singulation apparatus and method
FR3030880B1 (fr) * 2014-12-19 2018-05-11 Commissariat Energie Atomique Procede de transformation d'un dispositif electronique
CN111477563B (zh) * 2019-01-24 2022-04-22 中国电子科技集团公司第二十四研究所 用于半导体器件熔封的对位工装
EP3739619B1 (de) * 2019-05-17 2022-03-09 SR-Schindler Maschinen - Anlagetechnik GmbH Plattenproduktionsanlage mit ausstosseinrichtung

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3809050A (en) * 1971-01-13 1974-05-07 Cogar Corp Mounting block for semiconductor wafers
JPS5157283A (en) * 1974-11-15 1976-05-19 Nippon Electric Co Handotaikibanno bunkatsuhoho
US5061049A (en) * 1984-08-31 1991-10-29 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5445559A (en) * 1993-06-24 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Wafer-like processing after sawing DMDs
US5618759A (en) * 1995-05-31 1997-04-08 Texas Instruments Incorporated Methods of and apparatus for immobilizing semiconductor wafers during sawing thereof
KR100267155B1 (ko) * 1996-09-13 2000-10-16 아끼구사 나오유끼 반도체 장치의 제조 방법 및 제조 장치
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
US5809987A (en) * 1996-11-26 1998-09-22 Micron Technology,Inc. Apparatus for reducing damage to wafer cutting blades during wafer dicing
US5869139A (en) * 1997-02-28 1999-02-09 International Business Machines Corporation Apparatus and method for plating pin grid array packaging modules
WO1998052220A1 (fr) * 1997-05-09 1998-11-19 Citizen Watch Co., Ltd. Procede de production d'un boitier pour semi-conducteur et systeme de carte de circuits
US6271102B1 (en) * 1998-02-27 2001-08-07 International Business Machines Corporation Method and system for dicing wafers, and semiconductor structures incorporating the products thereof
JP4151164B2 (ja) * 1999-03-19 2008-09-17 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
US6688300B2 (en) * 1999-04-08 2004-02-10 Intercon Technologies, Inc. Techniques for dicing substrates during integrated circuit fabrication
US6635512B1 (en) * 1999-11-04 2003-10-21 Rohm Co., Ltd. Method of producing a semiconductor device by dividing a semiconductor wafer into separate pieces of semiconductor chips
US6656768B2 (en) * 2001-02-08 2003-12-02 Texas Instruments Incorporated Flip-chip assembly of protected micromechanical devices
US6507082B2 (en) * 2000-02-22 2003-01-14 Texas Instruments Incorporated Flip-chip assembly of protected micromechanical devices
US6476415B1 (en) * 2000-07-20 2002-11-05 Three-Five Systems, Inc. Wafer scale processing
JP2002075937A (ja) * 2000-08-30 2002-03-15 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの加工方法
US6869861B1 (en) * 2001-03-08 2005-03-22 Amkor Technology, Inc. Back-side wafer singulation method
US6661080B1 (en) * 2001-06-28 2003-12-09 Amkor Technology, Inc. Structure for backside saw cavity protection
JP3892703B2 (ja) * 2001-10-19 2007-03-14 富士通株式会社 半導体基板用治具及びこれを用いた半導体装置の製造方法
US6650011B2 (en) * 2002-01-25 2003-11-18 Texas Instruments Incorporated Porous ceramic work stations for wire and die bonders
JP4137471B2 (ja) * 2002-03-04 2008-08-20 東京エレクトロン株式会社 ダイシング方法、集積回路チップの検査方法及び基板保持装置
TWI225279B (en) * 2002-03-11 2004-12-11 Hitachi Ltd Semiconductor device and its manufacturing method
JP2004055860A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP4471563B2 (ja) * 2002-10-25 2010-06-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
JP2005053966A (ja) * 2003-08-05 2005-03-03 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物および接着剤
US7135124B2 (en) * 2003-11-13 2006-11-14 International Business Machines Corporation Method for thinning wafers that have contact bumps
US20060012020A1 (en) * 2004-07-14 2006-01-19 Gilleo Kenneth B Wafer-level assembly method for semiconductor devices
JP4777761B2 (ja) * 2005-12-02 2011-09-21 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009010056A (ja) * 2007-06-26 2009-01-15 Yamaha Corp 識別マークの読取方法
US8247773B2 (en) 2007-06-26 2012-08-21 Yamaha Corporation Method and apparatus for reading identification mark on surface of wafer
JP2012146897A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd 半導体ウエハの割断方法及び割断装置
KR20140050935A (ko) * 2012-10-22 2014-04-30 삼성전자주식회사 캐비티를 갖는 웨이퍼 캐리어
KR102043378B1 (ko) * 2012-10-22 2019-11-12 삼성전자주식회사 캐비티를 갖는 웨이퍼 캐리어
JP2014107518A (ja) * 2012-11-30 2014-06-09 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板のスクライブ用治具、スクライブ方法及び分断方法
JP2021019163A (ja) * 2019-07-23 2021-02-15 株式会社ディスコ チップの製造方法
JP7344695B2 (ja) 2019-07-23 2023-09-14 株式会社ディスコ チップの製造方法

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