JP2007082302A - Circuit protection component - Google Patents

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Hideaki Tokunaga
英晃 徳永
Tomoyuki Washisaki
智幸 鷲▲崎▼
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit protection component where nonconformity such as burning, etc. never occur even if an overvoltage protective part falls in-short circuit state by the application, etc. of abnormal voltage. <P>SOLUTION: Even if the overvoltage protective part 2 should get in short-circuit state by the application, etc. of abnormal voltage, the overcurrent flows to the overcurrent protective part 1 and the overcurrent protective part 1 opens, by serially connecting and integrating the overvoltage protective part 1 whose resistance value increases when an overcurrent flows and an overvoltage protective part 2 whose impedance drops if overvoltage is applied, thus it can prevent the occurrence of nonconformity such as burning, etc. of the circuit protection component due to an overcurrent. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は電子機器を静電気から保護する回路保護部品に関するものである。   The present invention relates to a circuit protection component for protecting an electronic device from static electricity.

近年、携帯電話等の電子機器の小型化、高性能化が急速に進み、それに伴い電子機器に用いられる電子部品の小型化も急速に進んでいる。しかしながら、その反面、この小型化に伴って電子機器や電子部品の耐電圧は低下するもので、これにより、人体と電子機器の端子が接触した時に発生する静電気パルスによって機器内部の電気回路が破壊するのが増えてきている。これは静電気パルスによって1ナノ秒以下の速度でかつ数百〜数キロボルトという高電圧が機器内部の電気回路に印加されるからである。   In recent years, electronic devices such as mobile phones have been rapidly reduced in size and performance, and accordingly, electronic components used in electronic devices have also been rapidly reduced in size. However, with this miniaturization, the withstand voltage of electronic equipment and electronic components decreases, and this causes the electrical circuit inside the equipment to be destroyed by electrostatic pulses generated when the human body contacts the terminals of the electronic equipment. Increasingly. This is because a high voltage of several hundreds to several kilovolts is applied to an electric circuit inside the device at a speed of 1 nanosecond or less by an electrostatic pulse.

従来においては、このような静電気パルスへの対策として、静電気が入るラインとグランド間に対策部品を設ける方法がとられているが、近年では信号ラインの信号周波数が数百Mbps以上といった高速化が進んでおり、前記した対策部品の浮遊容量が大きい場合には信号品質が劣るため、より小さい方が好ましく、したがって、数百Mbps以上の伝送速度になると1pFの低静電容量の対策部品が必要になってくるものである。   Conventionally, as a countermeasure against such electrostatic pulses, a method of providing a countermeasure component between the line where static electricity enters and the ground has been taken, but in recent years, the signal frequency of the signal line has been increased to several hundred Mbps or more. Since the signal quality is inferior when the stray capacitance of the countermeasure component is large, the smaller one is preferable. Therefore, when the transmission speed is several hundred Mbps or more, a countermeasure component with a low capacitance of 1 pF is required. It will become.

このような高速伝送ラインでの静電気対策として、従来においては、対向するギャップ電極の間に過電圧保護材料を充填するタイプの静電気対策部品が提案されている。   Conventionally, as a countermeasure against static electricity in such a high-speed transmission line, a type of countermeasure against static electricity in which an overvoltage protection material is filled between opposing gap electrodes has been proposed.

なお、この出願の発明に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特表2001−504635号公報
As prior art document information relating to the invention of this application, for example, Patent Document 1 is known.
Special table 2001-504635 gazette

上記した対向するギャップ電極の間に過電圧保護材料を充填するタイプの静電気対策部品は保護するライン(例えば信号ライン)とグランドとの間に設置されるが、通常時には絶縁抵抗値が高くなって、静電気対策部品側へは電流が流れないことが望ましく、一方、ショート破壊による破壊モードは焼損等の危険性があるため、できるかぎり回避することが望まれる。また、上記したギャップ電極の間に過電圧保護材料を充填するタイプの静電気対策部品は、静電気に対する保護効果を高めるために、ギャップ電極の間隔をできるだけ狭めたり、あるいは高速伝送ラインに対応するために過電圧保護材料間の電極面積をできるだけ低減させているが、このようにギャップ電極の間隔を狭めた場合は、耐候試験等でのショート破壊の可能性が高くなり、一方、ギャップ電極の間隔を大きくするために電極面積を小さくした場合は、過負荷がかかった際のエネルギー耐量が小さくなり、これがショート破壊に至るという危険性を有するものであった。   The antistatic component of the type filled with overvoltage protection material between the gap electrodes facing each other is installed between the line to be protected (for example, signal line) and the ground, but normally the insulation resistance value becomes high, It is desirable that no current flow to the static electricity countermeasure component side. On the other hand, it is desirable to avoid the destruction mode due to short circuit destruction as much as possible because there is a risk of burning. In addition, the anti-static component of the type that fills the gap electrode with the over-voltage protection material described above is designed to reduce the gap electrode gap as much as possible or to handle the over-voltage in order to increase the protection effect against static electricity. Although the electrode area between the protective materials is reduced as much as possible, if the gap electrode gap is narrowed in this way, the possibility of short circuit breakage in a weather resistance test or the like increases, while the gap electrode gap is increased. For this reason, when the electrode area is reduced, the energy resistance when overloaded is reduced, which has a risk of causing short circuit breakdown.

本発明は上記従来の課題を解決するもので、過電圧保護部が異常電圧の印加等によりショート状態になったとしても、焼損等の不具合が発生することのない回路保護部品を提供することを目的とするものである。   The present invention solves the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a circuit protection component that does not cause defects such as burnout even if the overvoltage protection unit is short-circuited due to application of abnormal voltage or the like. It is what.

上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有するものである。   In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

本発明の請求項1に記載の発明は、過電流が印加されると抵抗値が増大する過電流保護部と、過電圧が印加されるとインピーダンスが低下する過電圧保護部とを直列に接続して一体化したもので、この構成によれば、過電圧保護部がショート状態になったとしても、過電流保護部に過電流が流れて過電流保護部がオープンになるため、過電流による回路保護部品の焼損等の不具合の発生を防ぐことができるという作用効果を有するものである。   According to the first aspect of the present invention, an overcurrent protection unit whose resistance value increases when an overcurrent is applied and an overvoltage protection unit whose impedance decreases when an overvoltage is applied are connected in series. With this configuration, even if the overvoltage protection unit becomes short-circuited, overcurrent flows through the overcurrent protection unit and the overcurrent protection unit opens, so circuit protection components due to overcurrent This has the effect of preventing the occurrence of defects such as burnout.

本発明の請求項2に記載の発明は、特に、セラミック基材上に金属膜を形成し、かつこの金属膜にレーザで過電圧保護部形成用間隙を形成し、この間隙に過電圧保護材料を充填することにより過電圧保護部を形成したもので、この構成によれば、過電圧保護部形成用の間隙をレーザで形成するようにしているため、この間隙は狭ピッチに形成することができ、これにより、過電圧保護効果の大きい回路保護部品を提供することができるという作用効果を有するものである。   In the invention described in claim 2 of the present invention, in particular, a metal film is formed on a ceramic substrate, and a gap for forming an overvoltage protection portion is formed on the metal film by a laser, and this gap is filled with an overvoltage protection material. In this configuration, the gap for forming the overvoltage protection portion is formed by the laser, so that the gap can be formed at a narrow pitch. The circuit protection component having a large overvoltage protection effect can be provided.

本発明の請求項3に記載の発明は、特に、セラミック基材上にフィトリソ法により過電圧保護部形成用間隙と過電流保護部をパターン化した金属膜を形成し、かつ前記過電圧保護部形成用間隙に過電圧保護材料を充填することにより過電圧保護部を形成したもので、この構成によれば、フォトリソ法を用いて、セラミック基材上に過電圧保護部形成用間隙と過電流保護部をパターン化した金属膜を形成しているため、過電圧保護部形成用間隙を狭ピッチで、かつ高精度に形成することができ、これにより、過電圧保護効果が大きく、かつ高精度の回路保護部品を提供することができるという作用効果を有するものである。   The invention according to claim 3 of the present invention, in particular, forms a metal film in which a gap for forming an overvoltage protection part and an overcurrent protection part are patterned by a phytolitho method on a ceramic substrate, and for forming the overvoltage protection part The overvoltage protection part is formed by filling the gap with an overvoltage protection material. According to this configuration, the overvoltage protection part formation gap and the overcurrent protection part are patterned on the ceramic substrate using the photolithography method. Since the metal film is formed, the gap for forming the overvoltage protection portion can be formed with a narrow pitch and with high precision, thereby providing a circuit protection component having a large overvoltage protection effect and high precision. It has the effect that it can be performed.

本発明の請求項4に記載の発明は、特に、セラミック基材上に金属膜を形成し、かつこの金属膜にトリミング溝の形成により抵抗値調整が可能な過電流保護部を形成したもので、この構成によれば、その抵抗値をトリミングで調整することにより、より正確な溶断特性を保障することができるため、高精度の回路保護部品を提供することができるという作用効果を有するものである。   The invention according to claim 4 of the present invention is particularly the one in which a metal film is formed on a ceramic substrate, and an overcurrent protection portion capable of adjusting a resistance value is formed on the metal film by forming a trimming groove. According to this configuration, by adjusting the resistance value by trimming, it is possible to ensure a more accurate fusing characteristic, and therefore, there is an effect that a highly accurate circuit protection component can be provided. is there.

以上のように本発明の回路保護部品は、過電流が印加されると抵抗値が増大する過電流保護部と、過電圧が印加されるとインピーダンスが低下する過電圧保護部とを直列に接続して一体化しているため、万一、過電圧保護部が異常電圧の印加等によりショート状態になったとしても、過電流保護部に過電流が流れて過電流保護部がオープン状態となるため、これにより、過電流による回路保護部品の焼損等の不具合の発生を防ぐことができるという優れた効果を奏するものである。   As described above, the circuit protection component of the present invention includes an overcurrent protection unit whose resistance value increases when an overcurrent is applied and an overvoltage protection unit whose impedance decreases when an overvoltage is applied in series. Since it is integrated, even if the overvoltage protection unit becomes short-circuited due to abnormal voltage application etc., overcurrent flows through the overcurrent protection unit and the overcurrent protection unit becomes open. Thus, it is possible to prevent the occurrence of problems such as burning of circuit protection parts due to overcurrent.

(実施の形態1)
以下、実施の形態1を用いて、本発明の特に請求項1,2に記載の発明について説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the first and second aspects of the present invention will be described with reference to the first embodiment.

図1は本発明の実施の形態1における回路保護部品の等価回路図、図2〜図6は同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図、図7は同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図である。   FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of a circuit protection component according to Embodiment 1 of the present invention, FIGS. 2 to 6 are external perspective views of work-in-process for explaining a method of manufacturing the circuit protection component, and FIG. It is an external appearance perspective view of the circuit protection component obtained by this.

図1において、1は過電流保護部で、この過電流保護部1は過電流が印加されると抵抗値が増大するものである。2は過電圧保護部で、この過電圧保護部2は過電圧が印加されるとインピーダンスが低下するものである。そして本発明の実施の形態1における回路保護部品は、図1に示すように、過電流保護部1と過電圧保護部2とを直列に接続して一体化しているものである。   In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an overcurrent protection unit, and the overcurrent protection unit 1 increases in resistance when an overcurrent is applied. Reference numeral 2 denotes an overvoltage protection unit. The overvoltage protection unit 2 has an impedance that decreases when an overvoltage is applied. And the circuit protection component in Embodiment 1 of this invention is connecting the overcurrent protection part 1 and the overvoltage protection part 2 in series, and integrating, as shown in FIG.

図2〜図7において、3はセラミック基材、4は端子、5は金属膜、6は過電流保護部形成用溝、7は過電圧保護部形成用間隙、8は過電圧保護材料、9は保護樹脂である。   2-7, 3 is a ceramic substrate, 4 is a terminal, 5 is a metal film, 6 is a groove for forming an overcurrent protection part, 7 is a gap for forming an overvoltage protection part, 8 is an overvoltage protection material, and 9 is a protection Resin.

図2〜図7に示すように、本発明の実施の形態1における回路保護部品は、セラミック基材3上の金属膜5に、電気的接続を一部で確保する過電流保護部形成用溝6と、電気的接続を確保しない過電圧保護部形成用間隙7とを直列に接続するように形成し、そして前記過電圧保護部形成用間隙7上に過電圧保護材料8を形成し、さらに過電流保護部形成用溝6と過電圧保護部形成用間隙7を覆うように保護樹脂9を形成した構成になっている。   As shown in FIGS. 2 to 7, the circuit protection component according to the first embodiment of the present invention is a groove for forming an overcurrent protection portion that partially secures electrical connection to the metal film 5 on the ceramic substrate 3. 6 and an overvoltage protection portion forming gap 7 that does not ensure electrical connection are formed to be connected in series, and an overvoltage protection material 8 is formed on the overvoltage protection portion formation gap 7 to further protect against overcurrent. The protective resin 9 is formed so as to cover the part forming groove 6 and the overvoltage protection part forming gap 7.

このように過電流保護部1と過電圧保護部2とを直列に接続することにより、万一、過電圧保護部2が異常電圧の印加等によりショート状態になった場合は、過電流保護部1に過電流が流れて過電流保護部1がオープン状態になるため、これにより、回路保護部品の焼損等の不具合の発生を防ぐことができるものである。   In this way, by connecting the overcurrent protection unit 1 and the overvoltage protection unit 2 in series, if the overvoltage protection unit 2 becomes short-circuited due to application of abnormal voltage, the overcurrent protection unit 1 Since overcurrent flows and the overcurrent protection unit 1 is in an open state, it is possible to prevent the occurrence of problems such as burnout of circuit protection components.

次に、本発明の実施の形態1における回路保護部品の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the circuit protection component in Embodiment 1 of this invention is demonstrated.

まず、図2に示すように、アルミナ等の誘電率が50以下、好ましくは10以下の低誘電率材料を乾式プレス等の方法で直方体に成形した後、900〜1300℃で焼成することによりセラミック基材3を得た。   First, as shown in FIG. 2, a low dielectric constant material such as alumina having a dielectric constant of 50 or less, preferably 10 or less, is formed into a rectangular parallelepiped by a method such as dry pressing, and then fired at 900 to 1300 ° C. A substrate 3 was obtained.

次に、図3に示すように、前記セラミック基材3上にCu,Ag,Au,Cr,Ni,Al,Pdあるいはこれらの合金等のいずれかの金属を無電解めっき、蒸着、スパッタ等によって形成し、さらにその上に電気めっきを行うことにより0.1〜30μmの金属膜5を形成した。   Next, as shown in FIG. 3, any metal such as Cu, Ag, Au, Cr, Ni, Al, Pd or an alloy thereof is deposited on the ceramic substrate 3 by electroless plating, vapor deposition, sputtering, or the like. The metal film 5 having a thickness of 0.1 to 30 μm was formed by performing electroplating thereon.

次に、図4(a)の前面図および図4(b)の背面図に示すように、前記金属膜5を形成したセラミック基材3の中央付近にYAGレーザを照射すると同時に、セラミック基材3を長手方向を軸として回転させ、かつ長手方向に5〜50μm/(一回転)の速度で移動させた。YAGレーザは、セラミック基材3が1〜1.25回転している間照射することにより、両端子4間の電気的導通をある一面だけで確保する5〜50μmの導電部を残した過電流保護部形成用溝6を形成して図1に示す過電流保護部1を形成した。前記過電流保護部形成用溝6の幅は5〜50μmが望ましい。   Next, as shown in the front view of FIG. 4A and the rear view of FIG. 4B, the YAG laser is irradiated near the center of the ceramic substrate 3 on which the metal film 5 is formed, and at the same time, the ceramic substrate. 3 was rotated about the longitudinal direction as an axis, and moved at a speed of 5 to 50 μm / (one rotation) in the longitudinal direction. The YAG laser irradiates while the ceramic substrate 3 is rotating 1 to 1.25, so that an electrical current between the terminals 4 is ensured only on one surface, and an overcurrent that leaves a conductive portion of 5 to 50 μm. A protective portion forming groove 6 was formed to form the overcurrent protective portion 1 shown in FIG. The width of the overcurrent protection portion forming groove 6 is preferably 5 to 50 μm.

次に、図5に示すように、前記過電流保護部形成用溝6の横に、上記と同様にYAGレーザを照射させるとともに、セラミック基材3を長手方向を軸として回転させることにより、過電圧保護部形成用間隙7を形成した。この場合、セラミック基材3は、長手方向に移動させないようにすることにより、両端子4間の導電性が完全に遮断されるようにした。なお、前記過電圧保護部形成用間隙7は、絶縁を保障できる範囲で小さい方が過電圧保護効果は優れているため、50μm以下の幅であることが望ましい。   Next, as shown in FIG. 5, the YAG laser is irradiated on the side of the overcurrent protection portion forming groove 6 in the same manner as described above, and the ceramic substrate 3 is rotated about the longitudinal direction as an overvoltage. A protective part forming gap 7 was formed. In this case, by preventing the ceramic base material 3 from moving in the longitudinal direction, the conductivity between the terminals 4 is completely cut off. The overvoltage protection portion forming gap 7 is preferably 50 μm or less because the overvoltage protection effect is better when the gap is within a range in which insulation can be ensured.

次に、図6に示すように、直方体のセラミック基材3の四面のうちの少なくとも一面の過電圧保護部形成用間隙7に過電圧保護材料8をディップ、ポッティング等の方法で充填して図1に示す過電圧保護部2を形成する。前記過電圧保護材料8は、例えばZnOを主成分とするバリスタ材料を塗布して焼成することにより形成しているものである。この過電圧保護材料8は上記した材料以外に、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド等の樹脂成分にニッケル粉、アルミニウム粉、カーボン粉等の導電性物質を分散させた過電圧保護材料やSiCを主成分とするバリスタ材料を用いて形成しても良いものである。   Next, as shown in FIG. 6, an overvoltage protection material 8 is filled in the overvoltage protection portion forming gap 7 on at least one of the four sides of the rectangular parallelepiped ceramic base material 3 by a method such as dipping or potting, and FIG. The overvoltage protection unit 2 shown is formed. The overvoltage protection material 8 is formed, for example, by applying and baking a varistor material mainly composed of ZnO. In addition to the materials described above, this overvoltage protection material 8 is made of an overvoltage protection material or SiC in which a conductive material such as nickel powder, aluminum powder, or carbon powder is dispersed in a resin component such as silicone resin, epoxy resin, phenol resin, or polyimide. It may be formed using a varistor material as a main component.

最後に、図7に示すように、端子4の部分を除いて、過電流保護部1、過電圧保護部2を覆うようにエポキシ樹脂、フェノール樹脂等をディップ等の方法で塗布し、かつ乾燥させ、そして150〜200℃で15〜60分硬化させることにより保護樹脂9を形成して、本発明の実施の形態1における回路保護部品を得た。   Finally, as shown in FIG. 7, an epoxy resin, a phenol resin or the like is applied by a method such as dipping so as to cover the overcurrent protection unit 1 and the overvoltage protection unit 2 except for the terminal 4 portion, and is dried. Then, the protective resin 9 was formed by curing at 150 to 200 ° C. for 15 to 60 minutes to obtain the circuit protection component according to Embodiment 1 of the present invention.

上記本発明の実施の形態1においては、過電流保護部1を形成した後に過電圧保護部2を形成しているが、それは以下の理由によるものである。すなわち、本発明の実施の形態1における過電流保護部1の過電流に対する保護の方法は、過電流が図4(a)の前面図に示す微細部分6aを通る際のジュール熱によって金属導体が融点を超えて溶断することを利用したものであり、その溶断特性は抵抗値と相関性があり、抵抗値を決めることによって保障することができる。また過電圧保護部2は完全にセラミック基材3の両端部に位置する端子4間を電気的に遮断するもので、これにより、抵抗値はオープンに見えるものであるため、過電圧保護部2を形成する前に過電流保護部1の抵抗値を測定することによって、溶断特性を保障することができるものである。   In the first embodiment of the present invention, the overvoltage protection unit 2 is formed after the overcurrent protection unit 1 is formed, for the following reason. That is, in the method for protecting the overcurrent of the overcurrent protection unit 1 according to Embodiment 1 of the present invention, the metal conductor is caused by Joule heat when the overcurrent passes through the fine portion 6a shown in the front view of FIG. It utilizes the fusing beyond the melting point, and the fusing characteristics have a correlation with the resistance value, and can be ensured by determining the resistance value. Further, the overvoltage protection unit 2 completely cuts off the terminals 4 located at both ends of the ceramic base material 3 and thereby the resistance value appears to be open, so that the overvoltage protection unit 2 is formed. By measuring the resistance value of the overcurrent protection part 1 before the fusing, the fusing characteristics can be ensured.

上記したように本発明の実施の形態1における回路保護部品は、過電流保護部1と過電圧保護部2とを直列に接続して一体化した構成としているため、万一、過電圧保護部2が異常電圧の印加等によってショート状態になった場合は、インピーダンスが低下することになり、そしてこのインピーダンスの低下に伴って流れる過電流が過電流保護部1の金属導体を溶断させてオープン状態にするため、過電流による回路部品の焼損等の不具合を未然に防ぐことができるものである。   As described above, the circuit protection component according to Embodiment 1 of the present invention has a configuration in which the overcurrent protection unit 1 and the overvoltage protection unit 2 are connected in series and integrated. When the short circuit is caused by the application of abnormal voltage or the like, the impedance is decreased, and the overcurrent flowing along with the decrease in the impedance melts the metal conductor of the overcurrent protection unit 1 to be in the open state. Therefore, problems such as burning of circuit components due to overcurrent can be prevented in advance.

また、上記本発明の実施の形態1における回路保護部品においては、セラミック基材3上に形成した金属膜5に過電圧保護部2を形成するための過電圧保護部形成用間隙7を形成する場合、レーザで過電圧保護部形成用間隙7を形成しているため、この間隙7は狭ピッチに形成することができ、これにより、過電圧保護効果の大きい回路保護部品を提供することができるものである。   In the circuit protection component according to the first embodiment of the present invention, when the overvoltage protection portion forming gap 7 for forming the overvoltage protection portion 2 is formed on the metal film 5 formed on the ceramic substrate 3, Since the gap 7 for forming an overvoltage protection portion is formed by a laser, the gap 7 can be formed at a narrow pitch, thereby providing a circuit protection component having a large overvoltage protection effect.

なお、上記本発明の実施の形態1においては、直方体のセラミック基材3の全表面に金属膜5を形成し、そしてこの金属膜5に過電流保護部1と過電圧保護部2を形成したものについて説明したが、厚膜チップ抵抗器のように基板の一面のみに過電流保護部1と過電圧保護部2を形成した場合においても、上記本発明の実施の形態1と同様の効果が得られるものである。   In the first embodiment of the present invention, the metal film 5 is formed on the entire surface of the rectangular parallelepiped ceramic substrate 3, and the overcurrent protection unit 1 and the overvoltage protection unit 2 are formed on the metal film 5. However, even when the overcurrent protection unit 1 and the overvoltage protection unit 2 are formed only on one surface of the substrate like a thick film chip resistor, the same effect as that of the first embodiment of the present invention can be obtained. Is.

(実施の形態2)
以下、実施の形態2を用いて、本発明の特に請求項1,3に記載の発明について説明する。
(Embodiment 2)
Hereinafter, the second and second embodiments of the present invention will be described.

図8は本発明の実施の形態2における回路保護部品の断面図、図9〜図11は同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図、図12は同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図である。   8 is a cross-sectional view of a circuit protection component according to Embodiment 2 of the present invention, FIGS. 9 to 11 are external perspective views of work-in-process for explaining the method of manufacturing the circuit protection component, and FIG. It is an external appearance perspective view of the obtained circuit protection component.

図8〜図12において、10はセラミック基材、11は金属膜、12は過電圧保護材料、13は保護樹脂、14は端子電極、15は過電圧保護部形成用間隙、16は過電流保護部である。   8 to 12, 10 is a ceramic substrate, 11 is a metal film, 12 is an overvoltage protection material, 13 is a protection resin, 14 is a terminal electrode, 15 is a gap for forming an overvoltage protection part, and 16 is an overcurrent protection part. is there.

図8〜図12に示すように、本発明の実施の形態2における回路保護部品は、平板状のセラミック基材10上に、過電圧保護部形成用間隙15と過電流保護部16をパターン化した金属膜11を形成し、そして前記過電圧保護部形成用間隙15上に過電圧保護材料12を形成し、さらに端子電極14と接続できるように金属膜11の端部を残し、かつ過電流保護部16と過電圧保護材料12を完全に覆うように保護樹脂13を形成し、そして前記金属膜11の端部に端子電極14を電気的に接続するように形成することによって構成している。   As shown in FIGS. 8 to 12, in the circuit protection component according to the second embodiment of the present invention, the overvoltage protection portion forming gap 15 and the overcurrent protection portion 16 are patterned on the flat ceramic substrate 10. The metal film 11 is formed, and the overvoltage protection material 12 is formed on the overvoltage protection portion forming gap 15, and the end of the metal film 11 is left so that it can be connected to the terminal electrode 14, and the overcurrent protection portion 16 is formed. The protective resin 13 is formed so as to completely cover the overvoltage protective material 12, and the terminal electrode 14 is formed so as to be electrically connected to the end of the metal film 11.

次に、本発明の実施の形態2における回路保護部品の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the circuit protection component in Embodiment 2 of this invention is demonstrated.

まず、図9に示すように、アルミナ等の誘電率が50以下、好ましくは10以下の低誘電率材料を900〜1300℃で焼成することにより得られたセラミック基材10上に、図9に示すようなパターンで、スパッタ、蒸着等によってCu,Ag,Au,Cr,Ni,Al,Pd等のいずれかからなる金属膜11を10nm〜20μmの厚みで形成した。図9に示すパターン形成は、スパッタや蒸着等によって金属膜11を形成する際にマスクを使用してパターン形成したり、あるいは金属膜11を形成した後、フォトリソ法を用いてエッチングすることによりパターン形成を行っても良いが、過電圧保護材料12の過電圧保護効果は過電圧保護部形成用間隙15の幅を小さくした方が優れているため、この過電圧保護部形成用間隙15の幅を小さくするためには、フォトリソ法を用いることが望ましい。なお、前記過電圧保護部形成用間隙15の幅は50μm以下が望ましい。   First, as shown in FIG. 9, on a ceramic substrate 10 obtained by firing a low dielectric constant material such as alumina having a dielectric constant of 50 or less, preferably 10 or less at 900 to 1300 ° C., FIG. A metal film 11 made of any one of Cu, Ag, Au, Cr, Ni, Al, Pd or the like was formed to a thickness of 10 nm to 20 μm by sputtering, vapor deposition, or the like as shown. The pattern formation shown in FIG. 9 is performed by forming a pattern using a mask when the metal film 11 is formed by sputtering or vapor deposition, or by etching using a photolithographic method after forming the metal film 11. However, since the overvoltage protection effect of the overvoltage protection material 12 is better when the width of the overvoltage protection portion forming gap 15 is made smaller, the width of the overvoltage protection portion forming gap 15 is made smaller. For this, it is desirable to use a photolithography method. The width of the overvoltage protection portion forming gap 15 is preferably 50 μm or less.

金属膜11は過電圧が印加された際に、電流としてバイパスさせることを求められるため、その抵抗値は低いことが望まれる。一方、過電流保護部16は過電流が微細パターン部分を通る際のジュール熱によって金属導体が融点を越えて溶断することを利用しているため、その溶断特性を精度良くするためにはパターンの微細化が求められる。以上のことから、金属膜11は低比抵抗の金属材料を用い、かつパターン形成は微細加工が容易なフォトリソ法を用いることが望ましい。また金属膜11における過電流保護部16を形成する部分の幅は5〜50μmが望ましい。   Since the metal film 11 is required to be bypassed as a current when an overvoltage is applied, its resistance value is desirably low. On the other hand, since the overcurrent protection unit 16 utilizes the fact that the metal conductor melts beyond the melting point due to Joule heat when the overcurrent passes through the fine pattern portion, in order to improve the fusing characteristics, Refinement is required. In view of the above, it is desirable to use a metal material having a low specific resistance for the metal film 11 and to use a photolithography method that facilitates microfabrication for pattern formation. The width of the portion of the metal film 11 where the overcurrent protection part 16 is formed is preferably 5 to 50 μm.

次に、図10に示すように、過電圧保護部形成用間隙15を完全に埋めるように過電圧保護材料12を過電圧保護部形成用間隙15に充填して過電圧保護部を形成する。前記過電圧保護材料12は、例えば、ZnOを主成分とするバリスタ材料粉末とガラス粉末の混合体に有機ビヒクルを適量加えて混練することによってバリスタペーストを得、そしてこのバリスタペーストを、スクリーン印刷法を用いて5〜50μmの厚みで図10に示すようなパターンに印刷して乾燥させ、そして700〜950℃で15分〜3時間焼成することにより過電圧保護材料12を形成しているものである。この過電圧保護材料12は上記した材料以外に、SiCを主成分とするバリスタ材料や、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド等の樹脂成分にニッケル粉、アルミニウム粉、カーボン粉等の導電性物質を分散させた過電圧保護材料を用いて形成しても良いものである。   Next, as shown in FIG. 10, the overvoltage protection material 12 is filled into the overvoltage protection portion forming gap 15 so as to completely fill the overvoltage protection portion formation gap 15 to form an overvoltage protection portion. The overvoltage protection material 12 is obtained by, for example, obtaining a varistor paste by adding an appropriate amount of an organic vehicle to a mixture of a varistor material powder mainly composed of ZnO and a glass powder, and kneading the varistor paste with a screen printing method. The overvoltage protective material 12 is formed by printing in a pattern as shown in FIG. 10 with a thickness of 5 to 50 μm, drying it, and baking at 700 to 950 ° C. for 15 minutes to 3 hours. In addition to the above-described materials, this overvoltage protection material 12 is a varistor material mainly composed of SiC, or a conductive material such as nickel powder, aluminum powder, or carbon powder in addition to resin components such as silicone resin, epoxy resin, phenol resin, and polyimide. It may be formed using an overvoltage protection material in which is dispersed.

次に、図11に示すように、過電圧保護材料12と過電流保護部16を完全に覆い、かつ両端に金属膜11の端部が残った状態となるように、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等からなる保護用の樹脂ペーストをスクリーン印刷法を用いて10〜100μmの厚みで印刷して乾燥させ、そして150〜200℃で15〜60分間硬化させることにより、保護樹脂13を形成した。   Next, as shown in FIG. 11, the overvoltage protection material 12 and the overcurrent protection unit 16 are completely covered, and an end portion of the metal film 11 is left at both ends so that the end portions of the metal film 11 remain. The resulting protective resin paste was printed at a thickness of 10 to 100 μm using a screen printing method, dried, and cured at 150 to 200 ° C. for 15 to 60 minutes to form protective resin 13.

最後に、図12に示すように、金属膜11の端部と電気的に接続されるように、Ag等の金属粉とエポキシ樹脂等の硬化用樹脂からなる電極ペーストを塗布して乾燥させ、かつ硬化させることによりセラミック基材10の両端部に端子電極14を形成して、本発明の実施の形態2における回路保護部品を得た。   Finally, as shown in FIG. 12, an electrode paste made of a metal powder such as Ag and a curing resin such as an epoxy resin is applied and dried so as to be electrically connected to the end of the metal film 11, And the terminal electrode 14 was formed in the both ends of the ceramic base material 10 by making it harden | cure, and the circuit protection component in Embodiment 2 of this invention was obtained.

上記したように本発明の実施の形態2における回路保護部品は、過電流保護部16と、過電圧保護部形成用間隙15と過電圧保護材料12からなる過電圧保護部とを直列に接続して一体化した構成としているため、万一、過電圧保護部が異常電圧の印加等によってショート状態になった場合は、インピーダンスが低下することになり、そしてこのインピーダンスの低下に伴って流れる過電流が過電流保護部16の金属導体を溶断させてオープン状態にするため、過電流による回路部品の焼損等の不具合を未然に防ぐことができるものである。   As described above, the circuit protection component according to the second embodiment of the present invention integrates the overcurrent protection unit 16, the overvoltage protection unit forming gap 15, and the overvoltage protection unit made of the overvoltage protection material 12 in series. Therefore, in the unlikely event that the overvoltage protection unit becomes short-circuited due to abnormal voltage application, etc., the impedance will decrease, and the overcurrent that flows as this impedance decreases will be protected against overcurrent. Since the metal conductor of the portion 16 is blown to the open state, problems such as circuit component burnout due to overcurrent can be prevented in advance.

また、上記本発明の実施の形態2における回路保護部品においては、フォトリソ法を用いて、セラミック基材10上に過電圧保護部形成用間隙15と過電流保護部16をパターン化した金属膜11を形成しているため、過電圧保護部形成用間隙15を狭ピッチで、かつ高精度に形成することができ、これにより、過電圧保護効果が大きく、かつ高精度の回路保護部品を提供することができるものである。   In the circuit protection component according to the second embodiment of the present invention, the metal film 11 in which the overvoltage protection portion forming gap 15 and the overcurrent protection portion 16 are patterned on the ceramic substrate 10 by using a photolithography method. Therefore, the gap 15 for forming the overvoltage protection portion can be formed with a narrow pitch and with high accuracy, thereby providing a circuit protection component having a high overvoltage protection effect and high accuracy. Is.

(実施の形態3)
以下、実施の形態3を用いて、本発明の特に請求項4に記載の発明について説明する。
(Embodiment 3)
The third aspect of the present invention will be described below with reference to the third embodiment.

図13は本発明の実施の形態3における回路保護部品の断面図、図14〜図17は同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図、図18は同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図である。   13 is a cross-sectional view of a circuit protection component according to Embodiment 3 of the present invention, FIGS. 14 to 17 are external perspective views of work-in-process for explaining the method of manufacturing the circuit protection component, and FIG. It is an external appearance perspective view of the obtained circuit protection component.

図13〜図18において、17はセラミック基材、18は金属膜、19は過電圧保護材料、20は保護樹脂、21は端子電極、22は過電圧保護部形成用間隙、23は過電流保護部、24はトリミング溝である。   13 to 18, 17 is a ceramic substrate, 18 is a metal film, 19 is an overvoltage protection material, 20 is a protection resin, 21 is a terminal electrode, 22 is an overvoltage protection portion forming gap, 23 is an overcurrent protection portion, Reference numeral 24 denotes a trimming groove.

図13〜図18に示すように、本発明の実施の形態3における回路保護部品は、平板状のセラミック基材17上に、過電圧保護部形成用間隙22と、側部の左右から内部にかけて少なくとも1本ずつトリミング溝24を設けてなる過電流保護部23とから成る金属膜18を形成し、そして前記過電圧保護部形成用間隙22上に過電圧保護材料19を形成し、さらに端子電極21と接続できるように金属膜18の端部を残し、かつ過電流保護部23と過電圧保護材料19を完全に覆うように保護樹脂20を形成し、そして前記金属膜18の端部に端子電極21を電気的に接続するように形成することによって構成している。   As shown in FIGS. 13 to 18, the circuit protection component according to the third embodiment of the present invention includes at least an overvoltage protection portion forming gap 22 on the flat ceramic substrate 17 and from the left and right sides to the inside of the side portion. A metal film 18 composed of an overcurrent protection portion 23 provided with trimming grooves 24 one by one is formed, and an overvoltage protection material 19 is formed on the overvoltage protection portion forming gap 22 and further connected to the terminal electrode 21. A protective resin 20 is formed so as to leave the end portion of the metal film 18 and completely cover the overcurrent protection portion 23 and the overvoltage protection material 19, and the terminal electrode 21 is electrically connected to the end portion of the metal film 18. It forms by connecting so that it may connect.

次に、本発明の実施の形態3における回路保護部品の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the circuit protection component in Embodiment 3 of this invention is demonstrated.

まず、図14に示すように、アルミナ等の誘電率が50以下、好ましくは10以下の低誘電率材料を900〜1300℃で焼成することにより得られたセラミック基材17上に、図14に示すような過電圧保護部形成用間隙22を有するベタパターンで、スパッタ、蒸着等によってCu,Ag,Au,Cr,Ni,Al,Pd等のいずれかからなる金属膜18を10nm〜20μmの厚みで形成した。   First, as shown in FIG. 14, on a ceramic substrate 17 obtained by firing a low dielectric constant material such as alumina having a dielectric constant of 50 or less, preferably 10 or less at 900 to 1300 ° C., FIG. The metal film 18 made of any one of Cu, Ag, Au, Cr, Ni, Al, Pd or the like is formed with a thickness of 10 nm to 20 μm by sputtering, vapor deposition, or the like, with a solid pattern having an overvoltage protection portion forming gap 22 as shown. Formed.

次に、図15に示すように、金属膜18における過電流保護部23を構成する部分に、金属膜18の側部の左右から内部にかけて少なくとも1本ずつトリミング溝24を設けることにより過電流保護部23を形成した。このトリミング溝24は、トリミング溝24の両端で抵抗値を測定しながらYAGレーザで5〜50μmの幅の溝を形成してトリミングを行った。   Next, as shown in FIG. 15, overcurrent protection is provided by providing at least one trimming groove 24 from the left and right sides to the inside of the side of the metal film 18 in the portion of the metal film 18 constituting the overcurrent protection unit 23. Part 23 was formed. The trimming groove 24 was trimmed by forming a groove having a width of 5 to 50 μm with a YAG laser while measuring the resistance value at both ends of the trimming groove 24.

この場合、過電流保護部23の両端の抵抗値は1Ω以下になるようにするのが好ましい。それは以下に示す理由によるものである。すなわち、過電流保護部23の抵抗値が大きくなりすぎると、静電気パルス等の異常電圧が発生した際に、被保護回路に対して並列に接続される回路保護部品において、回路保護部品側に電流が流れづらくなり、これにより、被保護回路に比較的大きな電圧が印加されることになって、十分な回路保護効果が実現できないからである。   In this case, the resistance value at both ends of the overcurrent protection unit 23 is preferably 1Ω or less. The reason is as follows. That is, if the resistance value of the overcurrent protection unit 23 becomes too large, when an abnormal voltage such as an electrostatic pulse occurs, the circuit protection component connected in parallel to the protected circuit has a current on the circuit protection component side. This is because a relatively large voltage is applied to the protected circuit, and a sufficient circuit protection effect cannot be realized.

次に、図16に示すように、過電圧保護部形成用間隙22を完全に埋めるように過電圧保護材料19を過電圧保護部形成用間隙22に充填して過電圧保護部を形成する。前記過電圧保護材料19は、例えば、ZnOを主成分とするバリスタ材料粉末とガラス粉末の混合体に有機ビヒクルを適量加えて混練することによってバリスタペーストを得、そしてこのバリスタペーストを、スクリーン印刷法を用いて5〜50μmの厚みで図16に示すようなパターンに印刷して乾燥させ、そして700〜950℃で15分〜3時間焼成することにより過電圧保護材料19を形成しているものである。この過電圧保護材料19は上記した材料以外に、SiCを主成分とするバリスタ材料や、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド等の樹脂成分にニッケル粉、アルミニウム粉、カーボン粉等の導電性物質を分散させた過電圧保護材料を用いて形成しても良いものである。   Next, as shown in FIG. 16, the overvoltage protection material 19 is filled into the overvoltage protection portion formation gap 22 so as to completely fill the overvoltage protection portion formation gap 22 to form an overvoltage protection portion. The overvoltage protective material 19 is obtained by, for example, obtaining a varistor paste by adding an appropriate amount of an organic vehicle to a mixture of a varistor material powder mainly composed of ZnO and a glass powder, and kneading the varistor paste with a screen printing method. The overvoltage protection material 19 is formed by printing in a pattern as shown in FIG. 16 with a thickness of 5 to 50 μm, drying, and baking at 700 to 950 ° C. for 15 minutes to 3 hours. In addition to the above-mentioned materials, this overvoltage protective material 19 is a varistor material mainly composed of SiC, or a conductive material such as nickel powder, aluminum powder, carbon powder, or the like, or a resin component such as silicone resin, epoxy resin, phenol resin, or polyimide. It may be formed using an overvoltage protection material in which is dispersed.

次に、図17に示すように、過電圧保護材料19と過電流保護部23を完全に覆い、かつ両端に金属膜18の端部が残った状態となるように、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等からなる保護用の樹脂ペーストをスクリーン印刷法を用いて10〜100μmの厚みで印刷して乾燥させ、そして150〜200℃で15〜60分間硬化させることにより、保護樹脂20を形成した。   Next, as shown in FIG. 17, the overvoltage protection material 19 and the overcurrent protection portion 23 are completely covered, and an end portion of the metal film 18 is left at both ends, so that an epoxy resin, a phenol resin, or the like is used. A protective resin paste 20 was formed by printing a protective resin paste having a thickness of 10 to 100 [mu] m using a screen printing method, drying it, and curing it at 150 to 200 [deg.] C. for 15 to 60 minutes.

最後に、図18に示すように、金属膜18の端部と電気的に接続されるように、Ag等の金属粉とエポキシ樹脂等の硬化用樹脂からなる電極ペーストを塗布して乾燥させ、かつ硬化させることによりセラミック基材17の両端部に端子電極21を形成して、本発明の実施の形態3における回路保護部品を得た。   Finally, as shown in FIG. 18, an electrode paste made of a metal powder such as Ag and a curing resin such as an epoxy resin is applied and dried so as to be electrically connected to the end of the metal film 18. And the terminal electrode 21 was formed in the both ends of the ceramic base material 17 by making it harden | cure, and the circuit protection component in Embodiment 3 of this invention was obtained.

上記したように本発明の実施の形態3における回路保護部品は、セラミック基材17上に金属膜18を形成し、かつこの金属膜18にトリミング溝24の形成により抵抗値調整が可能な過電流保護部23を形成しているため、その抵抗値をトリミングで調整することにより、より正確な溶断特性を保障することができ、これにより、高精度の回路保護部品を提供することができるものである。   As described above, the circuit protection component according to the third embodiment of the present invention has an overcurrent in which the metal film 18 is formed on the ceramic substrate 17 and the resistance value can be adjusted by forming the trimming groove 24 in the metal film 18. Since the protection part 23 is formed, the resistance value is adjusted by trimming, so that more accurate fusing characteristics can be ensured, thereby providing a highly accurate circuit protection component. is there.

本発明にかかる回路保護部品は、過電流が印加されると抵抗値が増大する過電流保護部と、過電圧が印加されるとインピーダンスが低下する過電圧保護部とを直列に接続して一体化しているため、万一、過電圧保護部が異常電圧の印加等によりショート状態になった場合は、過電流保護部に過電流が流れて過電流保護部がオープン状態になって、過電流による回路保護部品の焼損等の不具合の発生を防ぐことができるもので、特に電装品などの信頼性を要求される回路において有効な対策を行うことが可能となるものである。   The circuit protection component according to the present invention integrates an overcurrent protection unit whose resistance value increases when an overcurrent is applied and an overvoltage protection unit whose impedance decreases when an overvoltage is applied in series. Therefore, in the unlikely event that the overvoltage protection unit becomes short-circuited due to the application of abnormal voltage, etc., overcurrent flows through the overcurrent protection unit, the overcurrent protection unit opens, and circuit protection due to overcurrent occurs. It is possible to prevent the occurrence of defects such as burnout of parts, and it is possible to take effective measures particularly in circuits that require reliability such as electrical components.

本発明の実施の形態1における回路保護部品の等価回路図Equivalent circuit diagram of circuit protection component in Embodiment 1 of the present invention 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component (a)(b)同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図(A) (b) The external appearance perspective view of the work-in-process for demonstrating the manufacturing method of the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図External perspective view of circuit protection component obtained by the manufacturing method 本発明の実施の形態2における回路保護部品の断面図Sectional drawing of the circuit protection component in Embodiment 2 of this invention 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図External perspective view of circuit protection component obtained by the manufacturing method 本発明の実施の形態3における回路保護部品の断面図Sectional drawing of the circuit protection component in Embodiment 3 of this invention 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同回路保護部品の製造方法を説明するための仕掛品の外観斜視図External perspective view of work-in-process for explaining a method for manufacturing the circuit protection component 同製造方法により得られた回路保護部品の外観斜視図External perspective view of circuit protection component obtained by the manufacturing method

符号の説明Explanation of symbols

1,16,23 過電流保護部
2 過電圧保護部
3,10,17 セラミック基材
4 端子
5,11,18 金属膜
6 過電流保護部形成用溝
7,15,22 過電圧保護部形成用間隙
8,12,19 過電圧保護材料
9,13,20 保護樹脂
14,21 端子電極
24 トリミング溝
1, 16, 23 Overcurrent protection part 2 Overvoltage protection part 3, 10, 17 Ceramic substrate 4 Terminal 5, 11, 18 Metal film 6 Overcurrent protection part formation groove 7, 15, 22 Overvoltage protection part formation gap 8 , 12, 19 Overvoltage protective material 9, 13, 20 Protective resin 14, 21 Terminal electrode 24 Trimming groove

Claims (4)

過電流が印加されると抵抗値が増大する過電流保護部と、過電圧が印加されるとインピーダンスが低下する過電圧保護部とを直列に接続して一体化した回路保護部品。 A circuit protection component in which an overcurrent protection unit whose resistance value increases when an overcurrent is applied and an overvoltage protection unit whose impedance decreases when an overvoltage is applied are connected in series. セラミック基材上に金属膜を形成し、かつこの金属膜にレーザで過電圧保護部形成用間隙を形成し、この間隙に過電圧保護材料を充填することにより過電圧保護部を形成した請求項1記載の回路保護部品。 2. A metal film is formed on a ceramic substrate, and an overvoltage protection part forming gap is formed in the metal film with a laser, and an overvoltage protection material is filled in the gap to form the overvoltage protection part. Circuit protection component. セラミック基材上にフィトリソ法により過電圧保護部形成用間隙と過電流保護部をパターン化した金属膜を形成し、かつ前記過電圧保護部形成用間隙に過電圧保護材料を充填することにより過電圧保護部を形成した請求項1記載の回路保護部品。 A metal film in which an overvoltage protection portion forming gap and an overcurrent protection portion are patterned is formed on a ceramic substrate by a phytolitho method, and the overvoltage protection portion is filled by filling the overvoltage protection portion forming gap with an overvoltage protection material. The circuit protection component according to claim 1 formed. セラミック基材上に金属膜を形成し、かつこの金属膜にトリミング溝の形成により抵抗値調整が可能な過電流保護部を形成した請求項1記載の回路保護部品。 2. The circuit protection component according to claim 1, wherein a metal film is formed on the ceramic substrate, and an overcurrent protection unit capable of adjusting a resistance value is formed on the metal film by forming a trimming groove.
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