JP2007080953A - 照明装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 平面状に配置された複数のLDから出射される出射光の出射光軸の角度がずれていても、光の利用効率を向上させることができ、かつ、照明の指向性を高めることができる照明装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】 2次元配列させた複数のLD1111から出力される拡散光をシリンドリカルレンズ1121、1132により広がり角が円周方向に一様で指向性が高いビームとする。このとき、LD1111の発光の中心がシリンドリカルレンズ1121、1132の光軸に一致しないことに起因する光軸の傾きを楔ガラス1151によって補正し、LD1111から出力された光の各光軸をインテグレータ13の入射面における光軸に一致させる。
【選択図】 図2
【解決手段】 2次元配列させた複数のLD1111から出力される拡散光をシリンドリカルレンズ1121、1132により広がり角が円周方向に一様で指向性が高いビームとする。このとき、LD1111の発光の中心がシリンドリカルレンズ1121、1132の光軸に一致しないことに起因する光軸の傾きを楔ガラス1151によって補正し、LD1111から出力された光の各光軸をインテグレータ13の入射面における光軸に一致させる。
【選択図】 図2
Description
本発明は被照明領域に均一で効率の良い照明光を照射する照明装置及びこのような照明装置を備える露光装置に関する。
従来、被照明物体を照明したり被露光物体を露光するための光源として、水銀ランプやエキシマレーザが使用されていた。しかし、これらの光源の場合、投入するエネルギのほとんどが熱に変わるため、効率が悪かった。
そこで、被照射物を発光エネルギが小さい複数の光源で照明することにより、省エネルギで高性能な照明を実現した照明方法およびその装置の技術が開示されている(特許文献1)。この特許文献1では、光源として半導体レーザ(以下、LDという。)を採用し、2種類のシリンドリカルレンズにより、LDから出射される発散角の大きな光をほぼ平行な光に変換し、集光光学系によりインテグレータに集光させている。
特開2004−39871号公報
ところで、LDはキャンタイプ(通常、円形)のパッケージになっており、キャンの基準外形の中心(以下、キャンの中心という)に対して発光の中心が数十μm、最大80μm程度偏芯している。このため、外形基準でLDを実装すると、発光の中心がシリンドリカルレンズの光軸から外れる場合がある。発光の中心がシリンドリカルレンズの光軸から外れている場合、LDから出射された光は設計上の光軸に対してΔθ傾いて進み、図7の点線で示すようにインテグレータの中心からfΔθ(ただし、fは集光光学系の焦点距離である。)だけ外れた位置に入射する。
照明の指向性を高めるためは、集光光学系の焦点距離fを長くすることが有効である。しかし、発光の中心がキャンの中心に対して偏芯している場合、集光光学系の焦点距離fを長くするとLDから出力された光がインテグレータから外れる程度が大きくなるため、光の利用効率が低下した。一方、集光光学系の焦点距離fを短くすると照明の指向性を高めることができなかった。
本発明の目的は、上記課題を解決し、平面状に配置された複数のLDから出射される出射光の出射光軸の角度がずれていても、光の利用効率を向上させることができ、かつ、照明の指向性を高めることができる照明装置及び露光装置を提供するにある。
上記課題を解決するため、本発明の第1の手段は、2次元配列させた複数の光源と、前記光源のそれぞれから出力される光を指向性の高い光ビームに変換するビーム変換手段と、前記ビーム変換手段により変換された前記指向性の高い各光ビームの光軸をインテグレータの入射面の光軸に位置決めする集光光学系とを備え、前記インテグレータから出力された出射光を被照射領域に照射させるようにした照明装置において、前記光ビーム毎に前記光ビームの光路を偏向させる偏向手段を設け、前記光ビームの各光軸を前記インテグレータの入射面の光軸に入射させることを特徴とする。
また、本発明の第2の手段は、2次元配列させた複数の光源と、前記光源のそれぞれから出力される光を指向性の高い光ビームに変換するビーム変換手段と、前記ビーム変換手段により変換された前記指向性の高い各光ビームの光軸をインテグレータの入射面の光軸に位置決めする集光光学系と、インテグレータと、前記インテグレータを通過した光を前記パターン表示手段に照射させる光学系と、露光すべきパターンを表示するパターン表示手段と、前記パターン表示手段を透過もしくは反射した光を被露光物体に投影露光する投影光学系と、被露光物体を搭載するステージと、前記複数の光源、前記パターン表示手段および前記ステージを駆動制御する制御回路と、からなる露光装置において、前記光ビームの光路を偏向させる偏向手段を前記光ビーム毎に設け、前記光ビームの各光軸を前記光インテグレータの入射面の光軸に入射させることを特徴とする。
光源から出力される光の利用効率を向上させることができる。
以下、図面を参照しながら、本発明を説明する。
図1は、本発明に係る露光装置の全体図、図2は光源系の詳細図である。
まず、全体構成について説明する。複数のLDからなる光源系11の中心光の光軸O上には、第1の集光レンズ12、ガラス円板15、インテグレータ13、第2の集光レンズ14、ビームスプリッタ16が配置されている。ビームスプリッタ16の反射側にはマスク、レチクル、あるいはマスクレス露光に用いる2次元光変調器、即ち液晶型の2次元光変調器やDMD(ディジタル・ミラー・デバイス)等の変調面2(ここでは、2次元光変調器である。以下、これらをまとめて「マスク」という。)、投影レンズ3が配置され、透過側には光検出器17が配置されている。テーブル4は投影レンズ3と対向する位置に配置され、直交する2軸方向に移動自在である。被露光基板5はテーブル4上に固定されている。
制御回路6は光源系11、モータ15a、マスク2および光検出器17を制御する。
図1は、本発明に係る露光装置の全体図、図2は光源系の詳細図である。
まず、全体構成について説明する。複数のLDからなる光源系11の中心光の光軸O上には、第1の集光レンズ12、ガラス円板15、インテグレータ13、第2の集光レンズ14、ビームスプリッタ16が配置されている。ビームスプリッタ16の反射側にはマスク、レチクル、あるいはマスクレス露光に用いる2次元光変調器、即ち液晶型の2次元光変調器やDMD(ディジタル・ミラー・デバイス)等の変調面2(ここでは、2次元光変調器である。以下、これらをまとめて「マスク」という。)、投影レンズ3が配置され、透過側には光検出器17が配置されている。テーブル4は投影レンズ3と対向する位置に配置され、直交する2軸方向に移動自在である。被露光基板5はテーブル4上に固定されている。
制御回路6は光源系11、モータ15a、マスク2および光検出器17を制御する。
次に、各構成要素について説明する。
光源系11は、図2に示すように、青(紫)色LD1111を2次元状に配列した光源群111と、複数のシリンドリカルレンズ1121、シリンドリカルレンズ1131および楔ガラス1151とから構成されている。個々の青(紫)色LD1111は、405nmの波長の光を60mW程度の出力で出射する。複数のシリンドリカルレンズ1121、シリンドリカルレンズ1131および楔ガラス1151の機能については後述する。
光源系11は、図2に示すように、青(紫)色LD1111を2次元状に配列した光源群111と、複数のシリンドリカルレンズ1121、シリンドリカルレンズ1131および楔ガラス1151とから構成されている。個々の青(紫)色LD1111は、405nmの波長の光を60mW程度の出力で出射する。複数のシリンドリカルレンズ1121、シリンドリカルレンズ1131および楔ガラス1151の機能については後述する。
第1の集光レンズ12の前側焦点は後述するシリンドリカルレンズ1121と1131によるLDの虚像位置11´に、また、後側焦点はインテグレータ13の入射端にある。
ガラス円板15は透明なガラスで形成され、表面には数μmの凹凸がmm単位の周期で円周方向に形成されている。ガラス円板15は光軸Oと交差するように配置され、光軸Oに平行な軸線の回りに回転する。モータ15aはガラス円板15を回転させる。
インテグレータ13は、特許文献1の場合と同様に、断面が方形で長さLの複数のロッドレンズ131を光軸Oと直角な2方向に積層したものであり、各ロッドレンズ131の入射側及び出射側の端面はそれぞれ曲率半径がRの球凸面である。ロッドレンズ131を構成するガラスの屈折率をnとすると、ロッドレンズ131の長さLはL=nR/(n−1)に定められている。
前端面(光が入射する面)が第1の集光レンズ12の後側焦点面に位置決めされたインテグレータ13の後端面(光が出射する面)は、集光レンズ14の前側焦点に位置決めされている。
また、インテグレータ13の後端面(出射位置)は、集光レンズ14を介して投影レンズ3の入射瞳と結像関係にある。すなわち、インテグレータ13の後端面は集光レンズ14の前側焦点であり、集光レンズ14の後側焦点は投影レンズ3の前側焦点の位置に位置決めされている。
前端面(光が入射する面)が第1の集光レンズ12の後側焦点面に位置決めされたインテグレータ13の後端面(光が出射する面)は、集光レンズ14の前側焦点に位置決めされている。
また、インテグレータ13の後端面(出射位置)は、集光レンズ14を介して投影レンズ3の入射瞳と結像関係にある。すなわち、インテグレータ13の後端面は集光レンズ14の前側焦点であり、集光レンズ14の後側焦点は投影レンズ3の前側焦点の位置に位置決めされている。
ビームスプリッタ16は、入射する光の1%を透過させ、残りを反射する。
マスク2は、通常のクロムまたは酸化クロムマスクあるいはマスクの機能を有する例えば液晶やDMD(Digital Mirror Device)等の2次元光変調器である。
次に、光源系11について更に詳しく説明する。
複数のLD1111は、外形を基準にして等ピッチの均一な密度分布で図示を省略するプレートに直角な2方向に配列され(ここでは各方向に8個、合計64個)、光源群111を構成している。光源群111のエリアはマスク2または2次元光変調器のパターン表示部である被照明領域の形状に概ね相似な領域になっている。
複数のLD1111は、外形を基準にして等ピッチの均一な密度分布で図示を省略するプレートに直角な2方向に配列され(ここでは各方向に8個、合計64個)、光源群111を構成している。光源群111のエリアはマスク2または2次元光変調器のパターン表示部である被照明領域の形状に概ね相似な領域になっている。
次に、LD1111から出射された出射光の外形を制御する方法について説明する。
図3はLD1111の出射光の広がり角を示す図、図4は光学系の動作説明図であり、(a)はLDから集光レンズ14までの入射光と出射光の関係を示す図、(b)は1本のロッドレンズ131を集光レンズ14側から見た図、(c)は(b)のK矢視図である。
図3に示すように、通常、LD1111から出射される出射光の広がり角はxとy方向とで異なり、例えば最大値に対する半値を与える場所が光軸を中心にy方向では22度、x方向では8度程度になる。このため、両方向の広がり角をほぼ等しくするか、支障のない最大値として1.5倍以内にする必要がある。
図3はLD1111の出射光の広がり角を示す図、図4は光学系の動作説明図であり、(a)はLDから集光レンズ14までの入射光と出射光の関係を示す図、(b)は1本のロッドレンズ131を集光レンズ14側から見た図、(c)は(b)のK矢視図である。
図3に示すように、通常、LD1111から出射される出射光の広がり角はxとy方向とで異なり、例えば最大値に対する半値を与える場所が光軸を中心にy方向では22度、x方向では8度程度になる。このため、両方向の広がり角をほぼ等しくするか、支障のない最大値として1.5倍以内にする必要がある。
図4(a)に示すように、シリンドリカルレンズ1121は光源の虚像を虚像位置11´に結像する。すなわち、LD1111から出射された光は虚像位置11´に配置された点光源(以下、点光源11´という場合がある。)から出射される光と等価になり、LD出射時にはy方向に22度の広がり角を持っていたレーザビームがシリンドリカルレンズ1121を透過することにより1度程度の広がり角になる。
同様にx方向に並ぶシリンドリカルレンズ1131(なお、シリンドリカルレンズ1131の焦点距離はシリンドリカルレンズ1121の焦点距離よりも長い)も光源の虚像をほぼ虚像位置11´に結像する。すなわち、点光源11´から出射するようになり、LD出射時にはx方向に光軸から8度の広がり角を持っていたレーザビームが1度程度の広がり角になる。
同様にx方向に並ぶシリンドリカルレンズ1131(なお、シリンドリカルレンズ1131の焦点距離はシリンドリカルレンズ1121の焦点距離よりも長い)も光源の虚像をほぼ虚像位置11´に結像する。すなわち、点光源11´から出射するようになり、LD出射時にはx方向に光軸から8度の広がり角を持っていたレーザビームが1度程度の広がり角になる。
したがって、LDの発光の中心がシリンドリカルレンズ1121、1131の中心に一致している場合、シリンドリカルレンズ1121、1131により、1個1個のLDがそれぞれ点対称の強度分布になり、それぞれの光軸が光軸Oと平行、広がり角1度程度で広がりながら第1の集光レンズ12に入射し、ほぼ平行ビームになって第1の集光レンズ12から出射する。そして、ほぼ平行ビームの状態でガラス円板15を透過してインテグレータ13に入射する。この場合、インテグレータ13へ入射する平行ビームの角度は図2に示すLD1111の配列111の位置(x、y)に対応している。このように各LDからインテグレータ13に入射するビームは平行ビームで回転対称に近くインテグレータ13の入射面の中心(光軸O)に中心を持つガウス分布となる。
図7に示したように、各ロッドレンズ131には総てのLDからの出射光が入射する。ロッドレンズ131に入射したビームは入射面の球凸レンズの効果により、出射端面に絞り込まれる。すなわち、図4(b)に示すように、ロッドレンズ131の出射側の端面には、光源群111を構成する総てのLDがLDの配置に合わせて絞り込まれる(結像される)。なお、図4(a)では、図中上段のLDの出射光を実線で、下段のLDの出射光を破線で、それぞれ記載し、中間のLDについては図示を省略している。
ロッドレンズ131の出射端面から出射するビームは出射面の球凸レンズの効果により、入射光の入射角に依存せず、総て光軸(ロッドレンズ131の軸に平行)に平行な主光線を持つ出射光となる。そして、図4(c)に示すように、出射端面から出射するビームの広がり角度は、ロッドレンズ131に入射する角度の最大値がθx´、θy´(ただし、添え字xはx方向の角度を、yはy方向の角度である。)になる。
そして、インテグレータ13から出射した出射光は第2の集光レンズ14に入射し、ほぼ平行ビームになって集光レンズ14から出射し、ほぼ平行ビームの状態でマスク2に入射する。すなわち、インテグレータを構成する各ロッドレンズから出射するどの光もマスク2の表示領域全体を照明する。このため、マスク2の表示領域は一様に照明される。
ここで、シリンドリカルレンズとしては焦点距離が短く、開口NAが大きなレンズにする必要があるが、材質を屈折率が小さいものにすると、球面収差によりLDから出射される光の直径をインテグレータ端面(入射面)の開口径に近づけることができない。そこで、この実施形態では、シリンドリカルレンズ1121の材質を屈折率が大きな硝材(屈折率1.6以上)を採用することにより、発散角が大きな光線であってもインテグレータ13の開口径内に取り込めるようにしている。
ところで、例えば、LD1111の発光の中心がキャンの中心から外れている場合、LD1111の発光の中心はシリンドリカルレンズ1121、1131の中心から外れる。このような場合、LD1111を出射した光は光軸Oに対して角度Δθ傾いて進み、平行ビームの光軸がインテグレータの前端の光軸Oに一致する位置(図7において実線で示す目標位置)103に対して、光軸Oから外れた点線で示す1031〜1034の位置に入射する。
本発明ではこの課題を解決するため、図2に示すように、各LD1111に対して楔ガラス1151を設けている。
図5は、本発明に係る楔ガラス1151の詳細図であり、(a)は正面図、(b)は平面図、(c)は側面図である。
楔ガラス1151は円形で、板厚方向に極僅かの傾きΔθが設けてある。傾き角Δθは例えば1分間隔で5〜6分まで複数種用意されている。そして、LD1111から出力された光の中心がインテグレータ13の中心から外れる場合は、照射ずれ(角度ずれ)を補正することができる楔ガラス1151を選択し、楔ガラス1151の角度の方向(図5(a)に矢印で示す方向)を光の傾きの方向に合わせて、ホルダ1150に固定する(図2の最下段のLDに対応する楔ガラス1151対して表示した矢印を参照)。そして、このようにすると、LD1111出射光の90%程度以上のエネルギをインテグレータ13に入射させることが可能になる。
楔ガラス1151は円形で、板厚方向に極僅かの傾きΔθが設けてある。傾き角Δθは例えば1分間隔で5〜6分まで複数種用意されている。そして、LD1111から出力された光の中心がインテグレータ13の中心から外れる場合は、照射ずれ(角度ずれ)を補正することができる楔ガラス1151を選択し、楔ガラス1151の角度の方向(図5(a)に矢印で示す方向)を光の傾きの方向に合わせて、ホルダ1150に固定する(図2の最下段のLDに対応する楔ガラス1151対して表示した矢印を参照)。そして、このようにすると、LD1111出射光の90%程度以上のエネルギをインテグレータ13に入射させることが可能になる。
次に、本発明の動作を説明する。
LD1111から出力された光は、シリンドリカルレンズ1121およびシリンドリカルレンズ1131により広がり角度が円周方向にほぼ等しい光に変換され、楔ガラス1151によりそれぞれの光軸が光軸Oと平行になって第1の集光レンズ12に入射し、ガラス円板15を透過してインテグレータ13の前面の中心に一致する位置にほぼ平行光で入射する。このとき、各平行ビームの角度は図1に示すLD1111の配列111の位置(x、y)に対応する。ガラス円板15が回転している場合、露光時間内における各平行ビームの位相が2π以上変えられる。このため、干渉性が高い(スペクトル幅が狭い)LD1111からの出力光であっても、光束間で生じる干渉縞の位置が高速に変化し、露光時間内で平均化されてその存在がほとんど目立たなくなる。なお、ガラス円板15が回転している場合の各平行ビームの光路の傾きは実用上無視できる程度である。
LD1111から出力された光は、シリンドリカルレンズ1121およびシリンドリカルレンズ1131により広がり角度が円周方向にほぼ等しい光に変換され、楔ガラス1151によりそれぞれの光軸が光軸Oと平行になって第1の集光レンズ12に入射し、ガラス円板15を透過してインテグレータ13の前面の中心に一致する位置にほぼ平行光で入射する。このとき、各平行ビームの角度は図1に示すLD1111の配列111の位置(x、y)に対応する。ガラス円板15が回転している場合、露光時間内における各平行ビームの位相が2π以上変えられる。このため、干渉性が高い(スペクトル幅が狭い)LD1111からの出力光であっても、光束間で生じる干渉縞の位置が高速に変化し、露光時間内で平均化されてその存在がほとんど目立たなくなる。なお、ガラス円板15が回転している場合の各平行ビームの光路の傾きは実用上無視できる程度である。
インテグレータ13を透過した各光(すなわち、各LD1111から出力された各光)は、インテグレータ13に入射した角度に依存せず、どのLDからの光も同じ広がり角度でインテグレータ13から出射され、第2の集光レンズ14に入射し、集光レンズ14により平行ビームに変換され、大部分はビームスプリッタ16に反射されてマスク2に入射する。どのLDから出射する光もマスク2の表示部にほぼ一様に照射するため、総てのLDで照明されるマスク状の表示部の強度分布は±1%程度に一様になる。マスク2のON状態の絵素部で反射した光は投影レンズ3に入射し、被露光基板5上の露光エリア51にマスク2のパターンを投影露光する。
露光エリア51の露光が終了したら、テーブル4を露光方向と直角の方向に移動させ、次の露光エリア51を投影レンズ3に対して位置決めする。
ここで、制御回路6は2次元表示パターン情報に基づきマスク2である2次元光変調器を駆動制御すると共に、テーブル4を駆動する。
なお、光検出器17は、露光時間の設定に使用される。すなわち、制御回路6は光検出器17で検出された光強度を積分し、積分値があらかじめ指定された(記憶されている)所望の設定値(最適露光量)に達した段階でLD1111をOFFし、露光を終了する。
被露光基板5上の露光エリア51にマスク2のパターンを投影露光し、当該露光エリア51の露光が終了したら、テーブル4を移動させ、次の露光エリア51を投影レンズ3に対して位置決めする。
この実施形態では、瞳上の光の強度分布が回転対称であるので、DMDのパターンの方向に依存せずほぼ等しい照明の指向性が得られる。この結果、パターンの方向に依存しない解像特性が得られ、基板上に歪(いびつ)になることなく正確に露光される。
なお、通常のマスクを用いる場合には、マスク上に描画されたパターンが繰り返し、露光されるし、2次元光変調器を用いる場合には基板5のほぼ全体に所望のパターンを1セット、あるいは数セット露光することになる。
また、2次元空間変調器を用いる場合には任意のパターンが表示できるので複数の露光光学系をx方向に並べてy方向に走査することにより広い露光領域を一度に露光することが可能になる。)
ところで、LD1111の出力が十分大きな場合にはLDの数が少なくて済み、LD1111の配列ピッチを大きく取ることが可能になる。
このような場合には、図6に示すように、LD1111を保持するホルダにLD1111そのものを2軸方向に移動させる手段を設け、LD1111の位置を2軸方向に移動させて当該光軸をシリンドリカルレンズ1121及びシリンドリカルレンズ1131の光軸に位置決めするように構成してもよい。
このような場合には、図6に示すように、LD1111を保持するホルダにLD1111そのものを2軸方向に移動させる手段を設け、LD1111の位置を2軸方向に移動させて当該光軸をシリンドリカルレンズ1121及びシリンドリカルレンズ1131の光軸に位置決めするように構成してもよい。
また、同図に示すように、シリンドリカルレンズ1121及びシリンドリカルレンズ1131に代えて、LD1111から出力される光の広がり角を円周方向に一様にする非球面レンズ1121´を採用することもできる。ただし、この場合にはこの相対位置を微調整する機構を光源の数だけ多数設ける必要があるので、光源の実装密度が高くない場合、光源の数が少ない場合、あるいは上記の指向性の高い光ビームにする手段が光源ごとに独立に設けることができる場合に適用することが実用的である。
なお、ガラス円板15はインテグレータ13と集光レンズ14の間に配置してもよい。
13 インテグレータ
1111 LD(半導体レーザ)
1121 シリンドリカルレンズ
1131 シリンドリカルレンズ
1151 楔ガラス
1111 LD(半導体レーザ)
1121 シリンドリカルレンズ
1131 シリンドリカルレンズ
1151 楔ガラス
Claims (5)
- 2次元配列させた複数の光源と、前記光源のそれぞれから出力される光を指向性の高い光ビームに変換するビーム変換手段と、前記ビーム変換手段により変換された前記指向性の高い各光ビームの光軸をインテグレータの入射面の光軸に位置決めする集光光学系とを備え、前記インテグレータから出力された出射光を被照射領域に照射させるようにした照明装置において、
前記光ビーム毎に前記光ビームの光路を偏向させる偏向手段を設け、前記光ビームの各光軸を前記インテグレータの入射面の光軸に入射させることを特徴とする照明装置。 - 前記偏向手段を楔ガラスとして前記ビーム変換手段と前記インテグレータとの間に配置し、前記楔ガラスにより前記ビーム変換手段で変換された指向性の高い光ビームの光路を偏向することを特徴とする請求項1に記載の照明装置。
- 前記偏向手段に代えて、前記光源の保持位置を変更する手段を設け、前記光源の前記ビーム変換手段に対する位置をそれぞれ変更可能に構成することを特徴とする請求項1に記載の照明装置。
- 前記ビーム変換手段を、前記光源に対向して配置され、前記光源から出射された光の第1の方向の広がり角を規制する第1のシリンドリカルレンズと、この第1のシリンドリカルレンズに対向して直角に配置され、前記光源から出射された光の第2の方向の広がり角を規制する第2のシリンドリカルレンズと、から構成し、前記第1のシリンドリカルレンズの屈折率1.6以上とすることを特徴とする請求項1に記載の照明装置。
- 2次元配列させた複数の光源と、前記光源のそれぞれから出力される光を指向性の高い光ビームに変換するビーム変換手段と、前記ビーム変換手段により変換された前記指向性の高い各光ビームの光軸をインテグレータの入射面の光軸に位置決めする集光光学系と、インテグレータと、
前記インテグレータを通過した光を前記パターン表示手段に照射させる光学系と、
露光すべきパターンを表示するパターン表示手段と、前記パターン表示手段を透過もしくは反射した光を被露光物体に投影露光する投影光学系と、被露光物体を搭載するステージと、前記複数の光源、前記パターン表示手段および前記ステージを駆動制御する制御回路と、からなる露光装置において、
前記光ビームの光路を偏向させる偏向手段を前記光ビーム毎に設け、前記光ビームの各光軸を前記光インテグレータの入射面の光軸に入射させることを特徴とする露光装置。
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