JP2007066940A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n型GaAs基板1の上にn型GaAsバッファ層2、n型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層3、アンドープAl0.05Ga0.45In0.5P活性層4、p型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層5、p型Al0.7Ga0.3As電流拡散層6が形成されている。電流拡散層6にはp型不純物としてZnがドープされている。電流拡散層6は活性層4に近い側からZn濃度の異なる第一の電流拡散層7と第二の電流拡散層8との2層構造で構成されており、第一の電流拡散層7のZn濃度が第二の電流拡散層8のZn濃度よりも高い。
【選択図】図1
Description
まず、n型シリコン(Si)ドープGaAs基板1の上に、MOCVD法によりn型GaAsバッファ層2、n型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層3、アンドープAl0.05Ga0.45In0.5P活性層4、p型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層5を順次成長させる。n型不純物原料として水素希釈モノシラン(SiH4)を用いるが、セレン化水素を用いることもできる。Al、Ga、InおよびPの原料にはそれぞれトリメチルアルミニウム、トリメチルガリウム、トリメチルインジウムおよびホスフィンを用いる。その後、p型クラッド層5上に連続してp型Al0.7Ga0.3As電流拡散層6を成長させる。電流拡散層は活性層に近い側からZn濃度の高い第一の電流拡散層7とZn濃度の低い第二の電流拡散層8とを連続して成長した2層構造としている。p型クラッド層、第一の電流拡散層および第二の電流拡散層の厚みはそれぞれ1.0μm、2.0μmおよび5.0μmとした。
比較のために、図2のA、B、C、Dに示す範囲のZn濃度の条件を用いる以外は実施例と同様にて半導体発光素子を作製し、通電前の光出力と通電500時間後の輝度残存率を評価した。AおよびBの条件は前掲第三の方法を用いたものに相当する。Aの条件を用いた半導体発光素子は通電前の光出力が1.2mW、輝度残存率が85%であった。Bの条件は光出力が0.8mW、輝度残存率が90%であった。一方、Cの条件は光出力が1.5mW、輝度残存率が60%、Dの条件は光出力が1.7mW、輝度残存率70%であった。
2 n型GaAsバッファ層
3 n型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層
4 アンドープAl0.05Ga0.45In0.5P活性層
5 p型Al0.35Ga0.15In0.5Pクラッド層
6 p型Al0.7Ga0.3As電流拡散層
7 第一の電流拡散層
8 第二の電流拡散層
9 p側電極
10 n側電極
Claims (3)
- GaAs基板上にAlGaInPからなるn型クラッド層と活性層とp型クラッド層とAlGaAsからなる電流拡散層を有し、前記電流拡散層にはp型不純物としてZnがドープされてなる半導体発光素子であって、前記電流拡散層は活性層に近い側からZnの濃度が異なる第一の電流拡散層と第二の電流拡散層の少なくとも2層を含み、第一の電流拡散層のZn濃度が第二の電流拡散層のZn濃度よりも高いことを特徴とする半導体発光素子。
- 前記第一の電流拡散層のZn濃度は4×1018/cm3以上2×1019/cm3以下の範囲に設定されてなり、かつ、前記第一の電流拡散層の厚みは0.5μmから3μmの範囲に設定されてなることを特徴とする請求項1記載の半導体発光素子。
- 前記第二の電流拡散層のZn濃度は5×1017/cm3以上3×1018/cm3未満の範囲に設定されてなることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体発光素子。
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