JP2007048995A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007048995A JP2007048995A JP2005232857A JP2005232857A JP2007048995A JP 2007048995 A JP2007048995 A JP 2007048995A JP 2005232857 A JP2005232857 A JP 2005232857A JP 2005232857 A JP2005232857 A JP 2005232857A JP 2007048995 A JP2007048995 A JP 2007048995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dicing
- laser irradiation
- laser
- semiconductor
- semiconductor wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Dicing (AREA)
Abstract
【課題】 ダイシング工程において、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多い半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体ウェハ1に半導体素子を形成し、ダイシングライン2、3の両側に間隔を開けてレーザ照射光を当て、膜剥れ防止溝を形成する。半導体ウェハ1をダイシングライン2、3に沿ってダイシングを行い複数の半導体チップに分割する。レーザ照射光は、少なくとも一部は間欠的にレーザ照射を行う離散光である。レーザ照射が少なく、熱の影響が低減されるので、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
【選択図】 図3
【解決手段】 半導体ウェハ1に半導体素子を形成し、ダイシングライン2、3の両側に間隔を開けてレーザ照射光を当て、膜剥れ防止溝を形成する。半導体ウェハ1をダイシングライン2、3に沿ってダイシングを行い複数の半導体チップに分割する。レーザ照射光は、少なくとも一部は間欠的にレーザ照射を行う離散光である。レーザ照射が少なく、熱の影響が低減されるので、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
【選択図】 図3
Description
本発明は、ダイシング工程において、半導体ウェハに形成された半導体素子を構成する被膜の剥離防止を行うことができる半導体装置の製造方法に関するものである。
従来半導体装置を製造する工程において、半導体ウェハを処理して半導体素子を形成し、処理後ダイシングラインに沿って分割し、半導体ウェハを複数の半導体チップに分割している。しかしながら、ダイシング時に半導体素子が形成された主面の成膜がダイシングラインに近い部分から剥離し不良品になることがあった。このような不良品を少なくするために膜剥れ防止膜をダイシングラインの両側に形成することが提案されている。この膜剥れ防止膜は、レーザ照射光により形成される。
従来は、半導体ウェハに対してレーザを連続して当てて切削し膜剥れ防止膜を形成していた。このレーザ照射工程において、レーザ照射後の半導体ウェハを観察すると照射光と照射光との交点では剥離が頻繁に発生している。特に照射後のブレ−ドダイシング後ではかなりの確立で剥離が発生する。
従来は、半導体ウェハに対してレーザを連続して当てて切削し膜剥れ防止膜を形成していた。このレーザ照射工程において、レーザ照射後の半導体ウェハを観察すると照射光と照射光との交点では剥離が頻繁に発生している。特に照射後のブレ−ドダイシング後ではかなりの確立で剥離が発生する。
ダイシングに係る従来技術には特許文献1がある。これは、レーザダイシング領域の表層にダイシングラインに沿って配線層を設け、レーザ照射時のダミーパターンとして機能させる。ダミーパターンとしての配線層は、レーザ光を吸収し、照射エネルギーを均一化させてダイシング切断性を向上させる。
特開2004−221286号公報
本発明は、ダイシング工程において、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多い半導体装置の製造方法を提供する。
本発明の半導体装置の製造方法の一態様は、半導体ウェハに半導体素子を形成する工程と、前記半導体ウェハにダイシングラインを形成する工程と、前記半導体ウェハに、前記ダイシングラインの両側に間隔を開けてレーザ照射光を当て、膜剥れ防止溝を形成する工程と、前記半導体ウェハをダイシングラインに沿ってダイシング行い複数の半導体チップに分割する工程とを備え、前記レーザ照射光は、少なくとも一部は間欠的にレーザ照射を行う離散光であることを特徴としている。
本発明は、熱の影響が低減されるので、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
本発明は、半導体チップに分割する際に行うブレ−ドダイシング工程前に半導体ウェハ上のダイシングラインの両側に間隔をおいて離散光をレ‐ザ照射することに特徴がある。
以下、実施例を参照して発明の実施の形態を説明する。
以下、実施例を参照して発明の実施の形態を説明する。
まず、図1乃至図3を参照して実施例1を説明する。
図1は、ブレードダイシングラインが形成されレーザダイシングが施された半導体ウェハの平面図、図2は、図1の半導体ウェハからブレードダイシングラインに沿って切出された半導体チップBの断面図、図3は、図1の半導体ウェハのA領域を示す部分平面図である。半導体装置は、半導体ウェハに半導体素子を形成し、その後ダイシングラインに沿って半導体ウェハをダイシングし、半導体素子が形成された複数の半導体チップを得る。その後半導体チップを組立て処理し検査して製品を得る。
図1は、ブレードダイシングラインが形成されレーザダイシングが施された半導体ウェハの平面図、図2は、図1の半導体ウェハからブレードダイシングラインに沿って切出された半導体チップBの断面図、図3は、図1の半導体ウェハのA領域を示す部分平面図である。半導体装置は、半導体ウェハに半導体素子を形成し、その後ダイシングラインに沿って半導体ウェハをダイシングし、半導体素子が形成された複数の半導体チップを得る。その後半導体チップを組立て処理し検査して製品を得る。
図1は、シリコンなどの半導体ウェハ1である。この図では便宜上ウェハ平面に直角な座標軸(X−Y)を付す。横方向がX軸であり、縦方向がY軸である。半導体ウェハ径は、6インチ乃至8インチであり、方向性を持たせるためにノッジあるいはオリフラなどを設けるようにしても良い。半導体ウェハ1の表面領域にはチップ形成領域毎に半導体素子(図示しない)が形成されている。チップ形成領域6は、ブレードダイシングライン2、3によって区画されている。ブレードダイシングラインは、ブレードによって形成され、X軸方向(横方向)にはブレードダイシングライン2が形成され、Y軸方向(縦方向)にはブレードダイシングライン3が形成されている。
このブレードダイシングライン2、3の両側に沿ってレーザダイシング4、5が行われる。ブレードダイシングラインは、半導体ウェハを半導体チップに分割するための分割線であり、レーザダイシングにより半導体チップ周辺に沿って膜剥がれ防止溝が形成される。膜剥がれ防止溝は、ダイシング時に半導体素子が形成された主面の成膜がダイシングラインに近い部分から剥離し不良品になることを少なくするためにブレードダイシングラインの両側に形成される。
図2は、図1の半導体ウェハからブレードダイシングラインに沿って切出された半導体チップBの断面図である。シリコンなどの半導体ウェハから分割された半導体チップは、半導体基板10主面の表面領域に素子領域12が形成されており、半導体基板10表面には層間絶縁膜、保護膜などの成膜11が施されている。この半導体基板10の各辺に沿って膜剥がれ防止溝13が形成されている。この膜剥がれ防止溝13は、レーザダイシング4、5により形成される。
図2は、図1の半導体ウェハからブレードダイシングラインに沿って切出された半導体チップBの断面図である。シリコンなどの半導体ウェハから分割された半導体チップは、半導体基板10主面の表面領域に素子領域12が形成されており、半導体基板10表面には層間絶縁膜、保護膜などの成膜11が施されている。この半導体基板10の各辺に沿って膜剥がれ防止溝13が形成されている。この膜剥がれ防止溝13は、レーザダイシング4、5により形成される。
図3は、半導体ウェハ1主面のA領域を示す部分平面図である。このブレードダイシングライン2、3の両側に沿ってレーザダイシング4、5が行われる。このレーザダイシング4、5により成膜11下の半導体チップを構成するシリコン半導体基板10の周縁部近傍に膜剥がれ防止溝13が形成される。
半導体ウェハ1は、ブレードダイシングライン2、3に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン2、3に囲まれた領域に形成される。したがって、ブレードダイシングライン2、3の両側に沿って行われるレーザダイシング4、5によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。従来の連続レーザ光では、この交点では2回のレーザ照射があり、この部分でチッピングが生じる主要な原因となっている。
半導体ウェハ1は、ブレードダイシングライン2、3に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン2、3に囲まれた領域に形成される。したがって、ブレードダイシングライン2、3の両側に沿って行われるレーザダイシング4、5によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。従来の連続レーザ光では、この交点では2回のレーザ照射があり、この部分でチッピングが生じる主要な原因となっている。
この実施例では、交点への2回の照射を避けるために、縦方向あるいは横方向のいずれか一方のレーザダイシングにレーザ照射光として離散光を用い、他方に連続光を用いている。図3では縦方向のレーザダイシング5に連続光を用い、横方向のレーザダイシング4に前記交点には照射されない離散光を用いている。勿論、交点に1回のレーザ照射にするためには他の方法を用いることができる。例えば、縦方向のレーザダイシング5には交互に離散光のみのダイシングと連続光のみのダイシングとを用い、横方向のレーザダイシング4にはすべて離散光を用いる場合があり、レーザダイシング5が離散光の場合の交点ではレーザダイシング4は照射するようにして、どの交点でも必ず1回照射を行うようにする。また、横方向のレーザダイシング4には交互に離散光のみのダイシングと連続光のみのダイシングとを用い、縦方向のレーザダイシング5にはすべて離散光を用いる場合があり、レーザダイシング4が離散光の場合の交点では照射するようにして、どの交点でも必ず1回照射を行うようにする。さらに、一方を交互にではなく、幾つか置きに連続光のみを用いたダイシングを行い、これに対応するように他方を離散光によるダイシングを行い、どの交点でも必ず1回照射を行うようにする。
この実施例で用いられるレ−ザは、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約1.0W、溶融径を約30μmそして、切削速度を100mm/secで実施する。この実施例ではYAG−THGレーザにおいて、Qsw周波数は、約100〜200kHzが適当であり、平均出力は、約1.0〜10Wが適当であり、溶融径は、約20〜50μmが適当であり、切削速度は、約80〜400mm/secが適当である。
この実施例では、レーザダイシングの交点は必ず1回照射を維持できるので、熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
この実施例では、レーザダイシングの交点は必ず1回照射を維持できるので、熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
次に、図4を参照して実施例2を説明する。
この実施例ではレーザ照射光が交差する交点において、2つのレーザ照射光が交点に照射されないことに特徴がある。図4は、半導体ウェハから切り出される半導体チップを含む領域の部分平面図(図1参照)である。
図4は、半導体ウェハ21の主面を示す部分平面図である。このブレードダイシングライン22、23の両側に沿ってレーザダイシング24、25が行われる。このレーザダイシング24、25により成膜下の半導体チップを構成するシリコン半導体基板の周縁部近傍に膜剥がれ防止溝が形成される。
半導体ウェハ21は、ブレードダイシングライン22、23に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン22、23に囲まれた領域に形成される。したがって、ブレードダイシングライン22、23の両側に沿って行われるレーザダイシング24、25によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。
この実施例ではレーザ照射光が交差する交点において、2つのレーザ照射光が交点に照射されないことに特徴がある。図4は、半導体ウェハから切り出される半導体チップを含む領域の部分平面図(図1参照)である。
図4は、半導体ウェハ21の主面を示す部分平面図である。このブレードダイシングライン22、23の両側に沿ってレーザダイシング24、25が行われる。このレーザダイシング24、25により成膜下の半導体チップを構成するシリコン半導体基板の周縁部近傍に膜剥がれ防止溝が形成される。
半導体ウェハ21は、ブレードダイシングライン22、23に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン22、23に囲まれた領域に形成される。したがって、ブレードダイシングライン22、23の両側に沿って行われるレーザダイシング24、25によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。
この実施例では、交点への2回の照射を避けるために、縦方向あるいは横方向の双方のレーザダイシングにレーザ照射光として離散光を用いている。ここではレーザダイシングのどの交点にレーザ照射を行わないようにする。
この実施例で用いられるレ−ザは、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約1.0W、溶融径を約30μmそして、切削速度を100mm/secで実施する。
この実施例では、レーザダイシングの交点は必ず1回照射を維持できるので、熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。熱の影響は実施例1より少ない。
この実施例で用いられるレ−ザは、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約1.0W、溶融径を約30μmそして、切削速度を100mm/secで実施する。
この実施例では、レーザダイシングの交点は必ず1回照射を維持できるので、熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。熱の影響は実施例1より少ない。
次に、図5を参照して実施例2を説明する。
この実施例では縦方向及び横方向のレーザ照射光がいずれも離散光であることに特徴がある。図5は、半導体ウェハから切り出される半導体チップを含む領域の部分平面図(図1参照)である。
図5は、半導体ウェハ31の主面を示す部分平面図である。このブレードダイシングライン32、33の両側に沿ってレーザダイシング34、35が行われる。このレーザダイシング34、35により成膜下の半導体チップを構成するシリコン半導体基板の周縁部近傍に膜剥がれ防止溝が形成される。
半導体ウェハ31は、ブレードダイシングライン32、33に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン32、33に囲まれた領域に形成される。ブレードダイシングライン32、33の両側に沿って行われるレーザダイシング34、35によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。
この実施例では縦方向及び横方向のレーザ照射光がいずれも離散光であることに特徴がある。図5は、半導体ウェハから切り出される半導体チップを含む領域の部分平面図(図1参照)である。
図5は、半導体ウェハ31の主面を示す部分平面図である。このブレードダイシングライン32、33の両側に沿ってレーザダイシング34、35が行われる。このレーザダイシング34、35により成膜下の半導体チップを構成するシリコン半導体基板の周縁部近傍に膜剥がれ防止溝が形成される。
半導体ウェハ31は、ブレードダイシングライン32、33に沿って分割され、したがって、半導体チップは、ブレードダイシングライン32、33に囲まれた領域に形成される。ブレードダイシングライン32、33の両側に沿って行われるレーザダイシング34、35によるラインは、半導体チップ周縁に形成され、そのコーナー近傍で交点が形成される。
この実施例では、レーザ照射光は、図に示すように、所定の間隔で照射が行われる離散光を用いる。この実施例では、2つのレーザ照射光の交点に被照射部分を設ける工夫することはしない。したがって、この交点では1回照射、2回照射あるいは照射無しの場合があり得る。
この実施例で用いられるレ−ザは、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約1.0W、溶融径を約30μmそして、切削速度を100mm/secで実施する。
この実施例では、レーザダイシングの交点は2回照射を行う場合もあるが、他の部分で照射しない場合があるので、全体的に熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
この実施例で用いられるレ−ザは、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約1.0W、溶融径を約30μmそして、切削速度を100mm/secで実施する。
この実施例では、レーザダイシングの交点は2回照射を行う場合もあるが、他の部分で照射しない場合があるので、全体的に熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
次に、図6乃至図8を参照して実施例4を説明する。
この実施例では、レーザ照射装置の照射方法に特徴が有る。図6は、レーザ照射装置が配置された半導体ウェハの断面図、図7は、レーザ照射痕が示されたレーザダイシングのラインが形成された半導体ウェハの部分平面図、図8は、ブレードダイシングライン及びこのラインの両側に沿って行われたレーザダイシングを示す半導体ウェハの部分断面図である。この実施例の照射方法は、実施例1乃至実施例3のすべてに適用することができる。
この実施例では、レーザ照射装置の照射方法に特徴が有る。図6は、レーザ照射装置が配置された半導体ウェハの断面図、図7は、レーザ照射痕が示されたレーザダイシングのラインが形成された半導体ウェハの部分平面図、図8は、ブレードダイシングライン及びこのラインの両側に沿って行われたレーザダイシングを示す半導体ウェハの部分断面図である。この実施例の照射方法は、実施例1乃至実施例3のすべてに適用することができる。
半導体ウェハ41を半導体チップに分割する際に行うブレードダイシング工程前にブレードダイシングライン43に沿ってその両側にレーザダイシングを行う。この時、図6に示すように、レーザ照射装置40を傾けるとその照射場所で照射されるエネルギー密度が異なる。図7に示すように傾斜する側(図の右側)は照射面積が広いが、これに対して傾斜する側とは反対側(図の左側)は照射面積が狭い。したがって、傾斜する側にデブリが多く発生し、傾斜する側と反対側のデブリ(debris)の発生は著しく少ない。そして、図8に示すように、レーザダイシングライン45の中心より左側の幅dは、右側の幅Dより小さくなっている(d<D)。即ち、レーザ照射装置40の傾斜する側と反対側は、垂直に切削することができるので、レーザダイシングライン45の幅を狭くすることができる。レーザダイシングライン45の右側の幅Dは、大きく、また、この部分は、デブリの発生が多いが、この部分は、ブレードダイシングライン43の存在する側であり、半導体チップに分割した時にチップ端部に相当するので、デブリの発生が多くても、チップとしての特性に影響は少ない。
同じように、ブレードダイシングライン43の右側のレーザダイシングライン45′にもデブリの発生を押さえるために、図6に示すレーザ照射装置40を傾ける。傾ける方向は、図6に示す方向とは反対側である。このようにすればレーザダイシングライン45′の中心の左側の幅は、広くなる。この部分は、デブリの発生が多いが、この部分は半導体チップに分割した時にチップ端部に相当するので、デブリの発生が多くても、チップとしての実害は無い。レーザダイシングライン45′の中心の右側の幅は狭くデブリ発生は少ない。
この実施例で用いられるレ−ザ照射装置は、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約2.0W、溶融径を約30μm、切削速度を400mm/secそして傾斜角度θを45度で実施する。この傾斜角度は、5度〜85度の範囲で有効である。
この実施例では、レーザダイシングに離散光を用いるので、全体的に熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
この実施例で用いられるレ−ザ照射装置は、YAG−THG(波長355nm)であり、Qsw周波数を100kHz、平均出力を約2.0W、溶融径を約30μm、切削速度を400mm/secそして傾斜角度θを45度で実施する。この傾斜角度は、5度〜85度の範囲で有効である。
この実施例では、レーザダイシングに離散光を用いるので、全体的に熱の影響が低減され、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多いダイシング処理が行われる。
また、この実施例では、ブレードダイシングラインの両側に照射されるレーザ照射光は、レーザ照射装置をブレードダイシングラインの延びる方向に移動させながら照射され、レーザ照射装置は、ブレードダイシングラインが形成されている側とは反対側に傾けながら照射するのでレーザダイシングライン幅を狭くすることが可能になる。
1、21、31、41・・・半導体ウェハ
2、3、22、23、32、33、43・・・ブレードダイシングライン
4、5、24、25、34、35・・・レーザダイシングライン
6・・・チップ形成領域
10・・・半導体基板
11・・・成膜
12・・・素子領域
13・・・膜剥がれ防止膜
40・・・レーザ照射装置
45、45′・・・レーザダイシングライン
2、3、22、23、32、33、43・・・ブレードダイシングライン
4、5、24、25、34、35・・・レーザダイシングライン
6・・・チップ形成領域
10・・・半導体基板
11・・・成膜
12・・・素子領域
13・・・膜剥がれ防止膜
40・・・レーザ照射装置
45、45′・・・レーザダイシングライン
Claims (5)
- 半導体ウェハに半導体素子を形成する工程と、
前記半導体ウェハのダイシングラインの両側に間隔を置いてレーザ照射光を当て、膜剥れ防止溝を形成する工程と、
前記半導体ウェハをダイシングラインに沿ってダイシングを行い複数の半導体チップに分割する工程とを備え、
前記レーザ照射光は、少なくとも一部は間欠的にレーザ照射を行う離散光であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記ダイシングラインは、前記半導体ウェハに縦方向及びこの方向とは直角の横方向に複数本形成され、その両側に照射されるレーザ照射光は、前記レーザ照射により形成される前記膜剥れ防止膜の交点には一回の前記レーザ照射を行うか、もしくは前記レーザ照射を行わないことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ダイシングラインの両側に照射されるレーザ照射光は、前記縦方向もしくは横方向のいずれか一方には連続光を照射し、他方には離散光を照射することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ダイシングラインの両側に照射されるレーザ照射光は、レーザ照射装置を前記ダイシングラインの延びる方向に移動させながら照射され、前記レーザ照射装置は、前記ダイシングラインが形成されている側とは反対側に傾けながら照射することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記レーザ照射装置の傾き角度は、垂直方向に対して5度から85度の間であることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005232857A JP2007048995A (ja) | 2005-08-11 | 2005-08-11 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005232857A JP2007048995A (ja) | 2005-08-11 | 2005-08-11 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007048995A true JP2007048995A (ja) | 2007-02-22 |
Family
ID=37851568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005232857A Pending JP2007048995A (ja) | 2005-08-11 | 2005-08-11 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007048995A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009184002A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ加工方法 |
WO2011002089A1 (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 脆性材料基板の割断方法及び割断装置並びにその割断方法により得られる車両用窓ガラス |
CN102405509A (zh) * | 2009-03-31 | 2012-04-04 | 安森美半导体贸易公司 | 半导体装置及其制造方法 |
JP2013004925A (ja) * | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光デバイスウエーハの加工方法 |
JP2014011358A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Toshiba Mach Co Ltd | レーザダイシング方法 |
US8871540B2 (en) | 2011-07-27 | 2014-10-28 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Laser dicing method |
US8895345B2 (en) | 2010-06-24 | 2014-11-25 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Dicing methods |
-
2005
- 2005-08-11 JP JP2005232857A patent/JP2007048995A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009184002A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ加工方法 |
CN102405509A (zh) * | 2009-03-31 | 2012-04-04 | 安森美半导体贸易公司 | 半导体装置及其制造方法 |
WO2011002089A1 (ja) * | 2009-07-03 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 脆性材料基板の割断方法及び割断装置並びにその割断方法により得られる車両用窓ガラス |
JP5609870B2 (ja) * | 2009-07-03 | 2014-10-22 | 旭硝子株式会社 | 脆性材料基板の割断方法及び割断装置並びにその割断方法により得られる車両用窓ガラス |
US8895345B2 (en) | 2010-06-24 | 2014-11-25 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Dicing methods |
JP2013004925A (ja) * | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光デバイスウエーハの加工方法 |
US8871540B2 (en) | 2011-07-27 | 2014-10-28 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Laser dicing method |
JP2014011358A (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-20 | Toshiba Mach Co Ltd | レーザダイシング方法 |
CN103521934A (zh) * | 2012-06-29 | 2014-01-22 | 东芝机械株式会社 | 激光切片方法 |
US9050683B2 (en) | 2012-06-29 | 2015-06-09 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Laser dicing method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102185243B1 (ko) | 웨이퍼의 생성 방법 | |
US10532431B2 (en) | Laser processing method | |
JP2005064230A (ja) | 板状物の分割方法 | |
JP6429715B2 (ja) | ウエーハの生成方法 | |
JP2005064231A (ja) | 板状物の分割方法 | |
JP5171294B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
JP5670764B2 (ja) | レーザ加工方法 | |
US20210407855A1 (en) | Manufacturing process of element chip using laser grooving and plasma-etching | |
KR102433150B1 (ko) | 유리 인터포저의 제조 방법 | |
JP2007048995A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2005019667A (ja) | レーザ光線を利用した半導体ウエーハの分割方法 | |
JP2009184002A (ja) | レーザ加工方法 | |
CN1516635A (zh) | 激光分段切割 | |
KR20150045944A (ko) | 가공 대상물 절단 방법 | |
JP2005142398A (ja) | 半導体ウエーハの分割方法 | |
JP6366485B2 (ja) | ウエーハの生成方法 | |
JP6560040B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2006196641A (ja) | ウエーハのレーザー加工方法 | |
JP2006032419A (ja) | ウエーハのレーザー加工方法 | |
JP7182456B2 (ja) | レーザ加工方法、及び、半導体部材製造方法 | |
US7211500B2 (en) | Pre-process before cutting a wafer and method of cutting a wafer | |
JP6455166B2 (ja) | 半導体ウエハおよび半導体チップの製造方法 | |
KR20150045943A (ko) | 가공 대상물 절단 방법 | |
TWI744499B (zh) | 晶圓的雷射加工方法 | |
JP6519819B2 (ja) | 素子チップの製造方法 |