JP2007033609A - 光モジュールの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 ファイバの斜めカット方向を正確かつ容易に形成することの可能な，新規かつ改良された光モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数のファイバとアレイ状のレンズが実装された光モジュールの製造方法であって，シリコンオプティカルベンチ３１０上に複数のファイバ３２０を実装する工程と，複数のファイバの一部をシリコンオプティカルベンチに固定する工程と，複数のファイバを保持基板３５０で保持する工程と，保持基板の一部および複数のファイバの基板に固定されていない部分の少なくとも一部を削除するとともに，複数のファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，保持基板の一部および複数のファイバの基板に固定されていない部分の少なくとも一部が削除された領域に，複数のファイバに光学的に対応したアレイ状のレンズ３３０を実装する工程と，を含むことを特徴とする。
【選択図】 図１２

Description

本発明は，光通信機器に適用するのに好適な光モジュールの製造方法にかかり，特に，先端が斜めにカットされたファイバ（斜めカットファイバ）とシリコンマイクロレンズ（以下，単にレンズともいう。）とがシリコンオプティカルベンチに実装されたファイバコリメータ等の光モジュールの製造方法に関するものである。

ファイバ間のコリメート系等の光学系では，ファイバ端面での反射を抑えるために斜めにカットした端面をもつ斜めカットファイバを用いることが多い。一例として，特開平１０−１９７７６２号公報に開示されたファイバコリメータにおいて，レンズは，共軸型ファイバコリメータ（リフラクティブ，波長＝１５５０ｎｍ，レンズ直径＝１２５μｍ，厚さ＝１００μｍ）を用い，レンズの両端に実装されたシングルモードファイバは８°カットファイバである。これらは，予め８°にカットされたシングルモードファイバとレンズを，共通のシリコンオプティカルベンチ上に実装・固定することによって作製している。

特開平１０−１９７７６２号公報

しかしながら，上記従来のファイバコリメータでは，端面がカットされたシングルモードファイバをシリコンオプティカルベンチ上に実装する工程が容易ではなく，多大な工数が掛かっていた。シングルモードファイバの端面のカット角度（通常７〜１０°程度）は光学的には重要な角度であるが，実装工程上，目視等で確認するのには角度が小さいために，斜めカットの方向を決定するのが非常に困難であった。

本発明は，従来のファイバコリメータの製造方法が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，ファイバの斜めカット方向を正確かつ容易に形成することの可能な，新規かつ改良された光モジュールの製造方法を提供することである。

上記課題を解決するため，本発明の第１の観点によれば，基板上にファイバが実装された光モジュールの製造方法であって，基板上にファイバを固定する工程と，ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法が提供される（請求項１）。

かかる製造方法によれば，斜めカットの処理が施されていない通常のファイバを基板上に実装，固定した後に，ファイバを所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，ファイバの実装時には，ファイバの回転方向を考慮する必要がないため，実装工程も非常に容易になる。なお，ファイバの斜めカットには，例えば，刃を傾けたダイシングソー等の手段を用いることが可能である。このようにして，ファイバの端面に，反射光の削減等の観点から光学的に重要な斜めカット加工が施された光モジュールを製造することが可能である。

さらに，ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程の後工程に，片面（表面または裏面）が所定角度で斜めカット加工されたレンズを実装する工程を含むことも可能である（請求項２）。レンズはファイバに比べて実装方向の取り違えの可能性が低いため，予め斜めカット加工されたレンズを実装することが可能である。このようにして，レンズの片面（表面または裏面）にも，光学的に重要な斜めカットが施された光モジュールを製造することが可能である。

上記課題を解決するため，本発明の第２の観点によれば，基板上にファイバおよびレンズが実装された光モジュールの製造方法であって，基板上にファイバおよびレンズを固定する工程と，ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，レンズの片面（表面または裏面）を所定角度で斜めカット加工する工程と，を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法が提供される（請求項３）。

かかる製造方法によれば，斜めカットの処理が施されていない通常のファイバおよびレンズを基板上に実装，固定した後に，ファイバおよびレンズを所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，ファイバの実装時には，ファイバの回転方向を考慮する必要がないため，実装工程も非常に容易になる。さらに，ファイバおよびレンズを一度に加工することができるので，ファイバおよびレンズを実装した光モジュールを製造するにあたり，工程数を削減することが可能である。なお，ファイバおよびレンズの斜めカットには，例えば，刃を傾けたダイシングソー等の手段を用いることが可能である。このようにして，ファイバの端面およびレンズの片面（表面または裏面）に，反射光の削減等の観点から光学的に重要な斜めカット加工が施された光モジュールを製造することが可能である。

上記課題を解決するため，本発明の第３の観点によれば，基板上に複数のファイバとアレイ状のレンズが実装された光モジュールの製造方法であって，基板上に複数のファイバを実装する工程と，複数のファイバの一部を基板に固定する工程と，複数のファイバを保持基板で保持する工程と，保持基板の一部および複数のファイバの基板に固定されていない部分の少なくとも一部を削除するとともに，複数のファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，保持基板の一部および複数のファイバの基板に固定されていない部分の少なくとも一部が削除された領域に，複数のファイバに光学的に対応したアレイ状のレンズを実装する工程と，を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法が提供される（請求項４）。

かかる製造方法によれば，斜めカットの処理が施されていない通常のファイバを基板上に実装，固定した後に，ファイバを所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，ファイバの実装時には，ファイバの回転方向を考慮する必要がないため，実装工程も非常に容易になる。さらに，複数のファイバを一度に加工することができるので，複数のファイバを実装した光モジュールを製造するにあたり，工程数を削減することが可能である。なお，ファイバの斜めカットには，例えば，刃を傾けたダイシングソー等の手段を用いることが可能である。このようにして，ファイバの端面に，反射光の削減等の観点から光学的に重要な斜めカット加工が施された光モジュールを製造することが可能である。

アレイ状のレンズは，片面（表面または裏面）が所定角度で斜めカット加工されたものであってもよい（請求項５）。レンズはファイバに比べて実装方向の取り違えの可能性が低いため，予め斜めカット加工されたレンズを実装することが可能である。このようにして，レンズの片面（表面または裏面）にも，光学的に重要な斜めカットが施された光モジュールを製造することが可能である。

あるいは，アレイ状のレンズを実装する工程の後工程に，アレイ状のレンズの片面（表面または裏面）を所定角度で斜めカット加工する工程を含むようにしてもよい（請求項６）。ファイバおよびレンズを一度に加工することができるので，ファイバおよびレンズを実装した光モジュールを製造するにあたり，工程数を削減することが可能である。

以上のように，本発明によれば，ファイバの斜めカット方向を正確かつ容易に形成することの可能な，新規かつ改良された光モジュールの製造方法を提供することが可能である。

以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる光モジュールの製造方法の好適な実施形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。なお，以下の実施形態では，光モジュールの一例としてファイバコリメータを例に挙げて説明するが，本発明がこれに限定されるものではなく，基板上にファイバやレンズ等が実装されるあらゆる光モジュールに適用可能である。

（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態について説明する。
まず，図１〜３を参照しながら，本実施形態にかかる光モジュールの一例として，シングルモードファイバ（以下，単にファイバという。）とシリコンマイクロレンズ（以下，単にレンズという。）を搭載したファイバコリメータについて説明する。

図１は，本実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す説明図である。
本実施形態にかかるファイバコリメータ１００は，図１に示したように，シリコンオプティカルベンチ１１０上にファイバ１２０とレンズ１３０が実装されている。ファイバ１２０とレンズ１３０との配置関係は，一例として，レンズ１３０とファイバ１２０間の距離を２５０μｍ，２つの対向するレンズ１３０間の距離を３００μｍとする。

シリコンオプティカルベンチ１１０を構成する基板には，例えばプラットフォームとして加工技術の成熟してあるシリコン基板を採用できる。シリコンオプティカルベンチ１１０の上面には，図２に示したように，横断面形状がＶ字形状であるＶ溝１１０ａが形成されている。このＶ溝１１０ａはシリコンの（１１１）面群を斜面に持つような構成で精密に作製されている。ファイバ１２０およびレンズ１３０は，図２に示したように，シリコンオプティカルベンチ１１０に形成されたＶ溝１１０ａ上に実装・固定される。

ファイバ１２０は，端面での反射を抑えるために斜めにカットした端面をもつ。図３は，図１のファイバ１２０の端面部分（符号Ａ）の拡大図である。本実施形態では，ファイバ１２０として，図３に示したように，端面を８°にカットした８°カットファイバを用いる。ただし本発明において，ファイバ１２０の端面の角度は８°に限定されるものではない。反射光の削減等の観点から光学的に重要な角度であればどのような角度でもよく，例えば，ファイバ端面の角度を７〜１０°程度にすることが可能である。

レンズ１３０は，共軸型ファイバコリメータ（リフラクティブ，波長＝１５５０ｎｍ，レンズ直径＝１２５μｍ，厚さ＝１００μｍ）を用いることができる。レンズ１３０は，図１に示したように，ファイバ１２０から出射される出射光をコリメート光に変換するとともに，対向するレンズ１３０から入射したコリメート光をレンズ１２０に集光する。

以上，本実施形態にかかるファイバコリメータ１００の構成について説明した。
次いで，ファイバコリメータ１００の製造方法について説明する。図４は，本実施形態にかかるファイバコリメータ１００の製造方法の各工程を示す説明図である。

まず，図４（ａ）に示したように，Ｖ溝１１０ａが形成されているシリコンオプティカルベンチ１１０にレンズ１３０を実装する。また，シリコンオプティカルベンチ１１０上に斜めカット等の処理のされていない通常のファイバ１２０を実装する。このとき，ファイバ１２０の先端は回転対称であるため，実装方向については考慮する必要はない。そして，シリコンオプティカルベンチ１１０上に実装されたファイバ１２０およびレンズ１３０を，エポキシ系樹脂等で完全に固定する。

次に，図４（ｂ）に示したように，シリコンオプティカルベンチ１１０上に固定されたファイバ１２０に対して，斜めに刃を傾けたダイシングソー１４０を用いて，カット角度８°となるように，正確に端面の研磨を行う。このように本実施形態では，シリコンオプティカルベンチ１１０上にファイバ１２０を実装，固定した後に，所望のカット角度になるよう端面研磨を行うことを特徴とする。

以上の各工程を経て，図２（ｃ）に示したように，ファイバコリメータ１００が完成する。

（第１の実施形態の効果）
以上説明したように，本実施形態によれば，シリコンオプティカルベンチ１１０上にファイバ１２０を実装，固定した後に，所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，ファイバ１２０の実装時には，ファイバ１２０の回転方向を考慮する必要がないため，実装工程も非常に容易になる。

（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態について説明する。
まず，図５〜７を参照しながら，本実施形態にかかる光モジュールの一例として，シングルモードファイバ（以下，単にファイバという。）とシリコンマイクロレンズ（以下，単にレンズという。）を搭載したファイバコリメータについて説明する。

図５は，本実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す説明図である。
本実施形態にかかるファイバコリメータ２００は，図５に示したように，シリコンオプティカルベンチ２１０上にファイバ２２０とレンズ２３０が実装されている。ファイバ２２０とレンズ２３０との配置関係は，一例として，レンズ２３０とファイバ２２０間の距離を２５０μｍ，２つの対向するレンズ２３０間の距離を３００μｍとする。

シリコンオプティカルベンチ２１０を構成する基板には，例えばプラットフォームとして加工技術の成熟してあるシリコン基板を採用できる。シリコンオプティカルベンチ２１０の上面には，図６に示したように，横断面形状がＶ字形状であるＶ溝２１０ａが形成されている。このＶ溝２１０ａはシリコンの（１１１）面群を斜面に持つような構成で精密に作製されている。ファイバ２２０およびレンズ２３０は，図２に示したように，シリコンオプティカルベンチ２１０に形成されたＶ溝２１０ａ上に実装・固定される。

本実施形態のファイバ２２０は，第１の実施形態のファイバ１２０と実質的に同様であり，端面での反射を抑えるために斜めにカットした端面をもつ８°カットファイバを用いる。

レンズ２３０は，共軸型ファイバコリメータ（リフラクティブ，波長＝１５５０ｎｍ，レンズ直径＝１２５μｍ，厚さ＝１００μｍ）を用いることができる。レンズ２３０は，図５に示したように，ファイバ２２０から出射される出射光をコリメート光に変換するとともに，対向するレンズ２３０から入射したコリメート光をレンズ２２０に集光する。

そして，本実施形態のレンズ２３０は，表面（または裏面）での反射を抑えるために斜めにカットした面をもつ。図７は，図５のレンズ２３０の片面部分（符号Ｂ）の拡大図である。本実施形態では，レンズ２３０として，図７に示したように，片面を８°にカットした８°カットレンズを用いる。ただし本発明において，レンズ２３０の片面の角度は８°に限定されるものではない。反射光の削減等の観点から光学的に重要な角度であればどのような角度でもよく，例えば，７〜１０°程度にすることが可能である。また，ファイバ２２０の斜めカット角度と同一でなくてもよい。

以上，本実施形態にかかるファイバコリメータ２００の構成について説明した。
次いで，ファイバコリメータ２００の製造方法について説明する。図８は，本実施形態にかかるファイバコリメータ２００の製造方法の各工程を示す説明図である。

まず，図８（ａ）に示したように，Ｖ溝２１０ａが形成されているシリコンオプティカルベンチ２１０に斜めカット等の処理のされていない通常のレンズ２３０を実装する。また，シリコンオプティカルベンチ２１０上に斜めカット等の処理のされていない通常のファイバ２２０を実装する。このとき，このシングルモードファイバ２２０の先端は回転対称であるため，実装方向については考慮する必要はない。そして，このシリコンオプティカルベンチ２１０上に実装されたファイバ２２０およびレンズ２３０を，エポキシ系樹脂等で完全に固定する。

次に，図８（ｂ）に示したように，シリコンオプティカルベンチ２１０上に固定されたファイバ２２０およびレンズ２３０の表面（または裏面）に対して，斜めに刃を傾けたダイシングソー２４０を用いて，所望のカット角度となるように，正確に面の研磨を行う。このように本実施形態では，ファイア２２０と同時にレンズ２３０に対しても，同様な斜めカットの加工を行うことを特徴とする。

以上の各工程を経て，図８（ｃ）に示したように，ファイバコリメータ２００が完成する。

（第２の実施形態の効果）
以上説明したように，本実施形態によれば，シリコンオプティカルベンチ２１０上にファイバ２２０を実装，固定した後に，所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，ファイバ２２０の実装時には，ファイバ２２０の回転方向を考慮する必要がないため，実装工程が非常に容易になる。

さらに，レンズ２３０表面（または裏面）においても同様な斜めカットの加工を行うことによって，さらなる反射光の削減が実現できる。

なお，本実施形態では，レンズ２３０をシリコンオプティカルベンチ２１０に実装した後，ダイシングソー２４０を用いて斜めカットを形成したが，本発明はこれに限定されない。例えば，レンズ２３０に予め所望のカット角度を形成しておき，その後，シリコンオプティカルベンチ２１０に実装するようにしてもよい。レンズの場合には，予め所望のカット角度を形成した後に実装しても，実装方向を間違える可能性は低いため，このような工程順を採用することも可能である。

（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態について説明する。
まず，図９〜１１を参照しながら，本実施形態にかかる光モジュールの一例として，シングルモードファイバ（以下，単にファイバという。）とシリコンマイクロレンズ（以下，単にレンズという。）を搭載したファイバコリメータとその製造方法について説明する。

図９は，本実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す説明図である。
本実施形態にかかるファイバコリメータ１００は，図９に示したように，シリコンオプティカルベンチ３１０上にファイバ３２０とレンズ３３０が実装されている。ファイバ３２０とレンズ３３０との配置関係は，一例として，レンズ３３０とファイバ３２０間の距離を２５０μｍ，２つの対向するレンズ３３０間の距離を３００μｍとする。

シリコンオプティカルベンチ３１０を構成する基板には，例えばプラットフォームとして加工技術の成熟してあるシリコン基板を採用できる。シリコンオプティカルベンチ３１０の上面には，図１０に示したように，横断面形状がＶ字形状であるＶ溝３１０ａが４本形成されている。これらＶ溝３１０ａはシリコンの（１１１）面群を斜面に持つような構成で精密に作製されている。ファイバ３２０およびレンズ３３０は，図１０に示したように，シリコンオプティカルベンチ３１０に形成されたＶ溝３１０ａ上に実装・固定される。

本実施形態のファイバ３２０は，第１の実施形態のファイバ１２０と実質的に同様であり，端面での反射を抑えるために斜めにカットした端面をもつ８°カットファイバを用いる。本実施形態では一例として，図１０に示したように，４本のファイバ３２０が実装されている。ファイバ３２０の数は任意の本数とすることが可能である。また，各ファイバ３２０の端面の角度は８°に限定されるものではなく，また，ファイバ３２０間で同一の角度でなくてもよい。

レンズ３３０は，共軸型ファイバコリメータ（リフラクティブ，波長＝１５５０ｎｍ，レンズ直径＝１２５μｍ，厚さ＝１００μｍを用いる。本実施形態のレンズ３３０は，４本のＶ溝３１０ａに嵌合するように，４つのレンズ部を有するアレイ状のレンズ（マイクロレンズアレイ）である。レンズ３３０は，図９に示したように，各ファイバ３２０から出射される出射光をコリメート光に変換するとともに，対向するレンズ３３０から入射したコリメート光をレンズ３２０に集光する。

以上，本実施形態にかかるファイバコリメータ３００の構成について説明した。
次いで，ファイバコリメータ３００の製造方法について説明する。図１１，１２は，本実施形態にかかるファイバコリメータ３００の製造方法の各工程を示す説明図である。

まず，図１１（ａ）に示した複数のＶ溝３１０ａが形成されているシリコンオプティカルベンチ３１０に，斜めカット等の処理のされていない通常のファイバ３２０を４本実装する（図１１（ｂ））。このとき，各ファイバ３２０の先端は回転対称であるため，実装方向については，考慮する必要はない。

そして，このシリコンオプティカルベンチ３１０上に実装されたファイバ３２０を，エポキシ系樹脂３４０で完全に固定する。この際，図１１（ｃ）に示したように，後工程でファイバ３２０を削除する領域（非固定領域）にはエポキシ樹脂３４０を用いず，後工程でファイバ３２０を削除しない領域（固定領域）にのみエポキシ樹脂３４０を用いてファイバ３２０を固定する。さらに，保持基板３５０で保持する（図１１（ｃ））。

次に，シリコンオプティカルベンチ３１０上に固定された各ファイバ３２０に対して，斜めに刃を傾けたダイシングソー３６０を用いて，カット角度８°となるように，正確に端面の研磨を行う（図１１（ｄ））。

ダイシングソー３６０により削られて不要となったファイバ３２０の一部および保持基材３５０の一部を除去する（図１２（ｅ））。

ファイバ３２０の一部および保持基材３５０の一部を除去してできた空間に，レンズ３２０を実装する（図１２（ｆ））。

以上の各工程を経て，図９に示したファイバコリメータ３００が完成する。

（第３の実施形態の効果）
以上説明したように，本実施形態によれば，シリコンオプティカルベンチ３１０上にファイバ３２０を実装，固定した後に，所望のカット角度になるよう端面研磨を行うため，光学系に対し，正確な斜め角度を形成することが可能である。また，４本のファイバ３２０の実装時には，ファイバ３２０の回転方向を考慮する必要がないため，実装工程も非常に容易になる。実装するファイバ３２０の本数が多くなるほど，効果的である。

さらに，複数のファイバを一度に加工することができるので，複数のファイバを実装したファイバコリメータを作製するにあたり，工程数を削減することが可能である。

なお，本実施形態の応用例として，レンズ３３０の表面（または裏面）を，第２の実施形態と同様な斜めカットの加工を行うようにしてもよい。斜めカット加工は，レンズ３３０をシリコンオプティカルベンチ３１０に実装する前に予め行ってもよく，また，レンズ３３０をシリコンオプティカルベンチ３１０に実装した後，ダイシングソーを用いて斜めカット加工を行ってもよい。

以上，添付図面を参照しながら本発明にかかる光モジュールの製造方法の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

本発明は，光通信機器に適用するのに好適な光モジュールの製造方法に利用可能であり，特に，先端が斜めにカットされたファイバ（斜めカットファイバ）とシリコンマイクロレンズが実装されたシリコンオプティカルベンチで形成されたファイバコリメータ等の光モジュールの製造方法に利用可能である。

第１の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す側面図である。 第１の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す斜視図である。 ファイバの形状を示す説明図である。 第１の実施形態にかかるファイバコリメータの製造方法を示す説明図である。 第２の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す側面図である。 第２の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す斜視図である。 レンズの形状を示す説明図である。 第２の実施形態にかかるファイバコリメータの製造方法を示す説明図である。 第３の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す側面図である。 第３の実施形態にかかるファイバコリメータを概略的に示す斜視図である。 第３の実施形態にかかるファイバコリメータの製造方法を示す説明図である。 第３の実施形態にかかるファイバコリメータの製造方法を示す説明図である。

符号の説明

１００ ファイバコリメータ
１１０ シリコンオプティカルベンチ（シリコン基板）
１１０ａ Ｖ溝
１２０ ファイバ
１３０ レンズ
１４０ ダイシングソー
３００ ファイバコリメータ
３１０ シリコンオプティカルベンチ（シリコン基板）
３１０ａ Ｖ溝
３２０ ファイバ
３３０ レンズ
３４０ エポキシ系樹脂
３５０ 保持基板
３６０ ダイシングソー

Claims (6)

1. 基板上にファイバが実装された光モジュールの製造方法であって，
   基板上にファイバを固定する工程と，
   前記ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，
   を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法。
2. さらに，前記ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程の後工程に，
   片面が所定角度で斜めカット加工されたレンズを実装する工程を含むことを特徴とする，請求項１に記載の光モジュールの製造方法。
3. 基板上にファイバおよびレンズが実装された光モジュールの製造方法であって，
   基板上にファイバおよびレンズを固定する工程と，
   前記ファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，
   前記レンズの片面を所定角度で斜めカット加工する工程と，
   を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法。
4. 基板上に複数のファイバとアレイ状のレンズが実装された光モジュールの製造方法であって，
   基板上に複数のファイバを実装する工程と，
   前記複数のファイバの一部を前記基板に固定する工程と，
   前記複数のファイバを保持基板で保持する工程と，
   前記保持基板の一部および前記複数のファイバの前記基板に固定されていない部分の少なくとも一部を削除するとともに，前記複数のファイバの端面を所定角度で斜めカット加工する工程と，
   前記保持基板の一部および前記複数のファイバの前記基板に固定されていない部分の少なくとも一部が削除された領域に，前記複数のファイバに光学的に対応したアレイ状のレンズを実装する工程と，
   を含むことを特徴とする，光モジュールの製造方法。
5. 前記アレイ状のレンズは，片面が所定角度で斜めカット加工されたものであることを特徴とする，請求項４に記載の光モジュールの製造方法。
6. さらに，前記アレイ状のレンズを実装する工程の後工程に，前記アレイ状のレンズの片面を所定角度で斜めカット加工する工程を含むことを特徴とする，請求項４に記載の光モジュールの製造方法。

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