JP2007032633A - Vibration isolation device, and vibration isolation frame and vibration isolation carriage provided therewith - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、免振装置およびこれを備えた免振架台ならびに免振台車に関するものである。 The present invention relates to a vibration isolation device, a vibration isolation rack including the vibration isolation device, and a vibration isolation cart.
半導体工場におけるウエハ等の精密部品の搬送台車として、加減速時に生じる振動によってウエハ等の精密部品が傷つかないように、免振装置を備えた搬送台車が知られている(特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art As a transportation carriage for precision parts such as wafers in a semiconductor factory, a transportation carriage provided with a vibration isolator is known so that precision parts such as wafers are not damaged by vibrations generated during acceleration / deceleration (see Patent Document 1).
しかし、上述の搬送台車は、バネ要素および減衰要素を免振装置の基本構成としているものであり、共振点を長周期化できずに1Hz以下の長周期に対する応答が大きくなってしまうという問題がある。
一方、上記共振点を長周期化する手法として、回転慣性付加重量を加えて二質点系を構成する手法が知られている。ところが、二質点系により長周期化できたとしても、高周波に対する応答を低減できないという問題がある。
特に、半導体製造設備をパーツ毎に分解して飛行機で輸送する場合には、着陸時の衝撃による高周波の振動に対しては、上述の二質点系の免振装置では十分な応答の低減が得られず、半導体製造設備のパーツの損傷を招くという問題がある。
However, the above-described transport cart has a spring element and a damping element as the basic configuration of the vibration isolator, and the problem is that the resonance point cannot be lengthened and the response to a long period of 1 Hz or less becomes large. is there.
On the other hand, as a technique for increasing the period of the resonance point, a technique for constructing a two-mass system by adding rotational inertia additional weight is known. However, there is a problem that even if the period can be increased by the two-mass point system, the response to high frequencies cannot be reduced.
In particular, when the semiconductor manufacturing equipment is disassembled into parts and transported by airplane, the above-mentioned two-mass system vibration isolator can sufficiently reduce the response to high-frequency vibration caused by impact during landing. However, there is a problem of causing damage to parts of the semiconductor manufacturing equipment.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、共振点の長周期化を実現するとともに、例えば1Hz以上の高周波入力に対しても十分に応答を低減することができる免振装置およびこれを備えた免振架台ならびに免振台車を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to achieve a long period of the resonance point and to sufficiently reduce the response even for a high frequency input of, for example, 1 Hz or more. It is an object of the present invention to provide a device, a vibration isolation gantry equipped with the device, and a vibration isolation cart.
上記課題を解決するために、本発明の免振装置およびこれを備えた免振架台ならびに免振台車は以下の手段を採用する。
すなわち、本発明にかかる免振装置は、相対変位する2つの物体間に設けられて並列に配置された第1バネ要素および第1減衰要素と、これら第1バネ要素および第1減衰要素に並列に配置され、前記相対変位を回転運動に変換して得られる回転慣性モーメントによって付加質量を得る回転慣性付加質量と、を備えた免振装置において、前記回転慣性付加質量に対して直列に接続された付加質量と、該付加質量に対して直列に、かつ前記回転慣性付加質量の反対側に設けられて並列に配置された第2バネ要素および第2減衰要素と、前記回転慣性付加質量に並列に配置された第3バネ要素と、を備えていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the vibration isolator of the present invention, the vibration isolation rack including the same, and the vibration isolation cart employ the following means.
That is, the vibration isolator according to the present invention includes a first spring element and a first damping element which are provided between two relatively displaced objects and are arranged in parallel, and are parallel to the first spring element and the first damping element. And a rotary inertia added mass that obtains an added mass by a rotary inertia moment obtained by converting the relative displacement into a rotary motion, and is connected in series to the rotary inertia added mass. An additional mass, a second spring element and a second damping element that are arranged in parallel to the additional mass in series and on the opposite side of the rotational inertia additional mass, and in parallel with the rotational inertia additional mass And a third spring element disposed on the surface.
回転慣性付加質量に対して直列に第2バネ要素および第2減衰要素を設けたことにより、共振点が長周期化されるとともに高周波の免振が可能となる。
本発明の「付加質量」は、「回転慣性付加質量」とは区別され、それ自身が有する質量を付加質量とするものである。例えば、免振される重量物の質量に対して大幅に小さな質量、例えば0.5%程度の質量が設定される。
By providing the second spring element and the second damping element in series with the rotational inertia added mass, the resonance point is lengthened and high-frequency vibration isolation is possible.
The “additional mass” of the present invention is distinguished from the “rotational inertia addition mass”, and the addition mass is the mass it has. For example, a significantly smaller mass, for example, a mass of about 0.5% is set with respect to the mass of the heavy object to be isolated.
さらに、本発明の免振装置では、前記第2バネ要素および前記第2減衰要素は、防振ゴムまたは粘弾性体とされ、前記回転慣性付加質量は、円盤とされ、該円盤は、ボールネジナットに螺合して該ボールネジナットの変位に伴い回転するボールネジ軸に固定され、または、ボールネジ軸に螺合して該ボールネジ軸の変位に伴い回転するボールネジナットに固定されていることを特徴とする。 Furthermore, in the vibration isolator of the present invention, the second spring element and the second damping element are vibration-proof rubbers or viscoelastic bodies, the rotational inertia added mass is a disk, and the disk is a ball screw nut. It is fixed to a ball screw shaft that rotates with the displacement of the ball screw nut and is fixed to a ball screw nut that is screwed to the ball screw shaft and rotates with the displacement of the ball screw shaft. .
第2バネ要素および第2減衰要素を防振ゴムまたは粘弾性体によって構成するとともに、回転慣性付加質量をボールネジ軸またはボールネジナットとともに回転する円盤としたので、免振装置をコンパクトに構成できる。 Since the second spring element and the second damping element are made of vibration-proof rubber or a viscoelastic body and the rotary inertia added mass is a disk that rotates together with the ball screw shaft or the ball screw nut, the vibration isolator can be made compact.
また、本発明の免振架台は、対象物を支持する架台を備え、いずれかの上記免振装置が設けられていることを特徴とする。 Moreover, the vibration isolator of the present invention includes a rack that supports an object, and any one of the above-described vibration isolator is provided.
また、本発明の免振台車は、対象物を支持する架台を備え、該架台には、いずれかの上記免振装置と、走行車輪とが設けられていることを特徴とする。 In addition, the vibration isolation cart according to the present invention includes a gantry that supports the object, and the gantry is provided with any of the above-described vibration isolation devices and traveling wheels.
回転慣性付加質量に対して直列に第2バネ要素および第2減衰要素を設けることとしたので、共振点の長周期化だけでなく、高周波入力に対する応答の低減が可能となる。 Since the second spring element and the second damping element are provided in series with the rotational inertia added mass, not only the period of the resonance point is lengthened but also the response to the high frequency input can be reduced.
以下に、本発明にかかる実施形態について、図面を参照して説明する。
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態について、図1〜図4を用いて説明する。
図1(a)には、本発明にかかる免振装置1が示されている。
本実施形態では、基礎BS上に質量M1の重量物3を支持する構成の免振装置1が示されている。
免振装置1は、基礎BSと重量物3との間に並列に配置された第1免振要素Iと第2免振要素IIとを有している。
Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 (a) shows a vibration isolator 1 according to the present invention.
In the present embodiment, a vibration isolator 1 configured to support a
The vibration isolator 1 has a first vibration isolation element I and a second vibration isolation element II arranged in parallel between the base BS and the
第1免振要素Iは、バネ定数がK1とされた第1バネ要素5および減衰係数がC1とされた第1減衰要素6を備えている。この第1免振要素Iの具体的構成例が図2に示されている。すなわち、第1免振要素Iは、第1バネ要素5に相当する第1圧縮コイルバネ15と、この第1圧縮コイルバネ15の内部に配置され、その略中心軸線上に立設された第1オイルダンパ16とを有している。第1オイルダンパ16は、図1(a)に示した第1減衰要素6に相当する。
The first vibration isolation element I includes a
第2免振要素IIは、図1に示されているように、第1免振要素Iの側方に設けられ、質量M2の付加質量8を備えている。この付加質量8の一側(図において下方)には、バネ定数K2の第2バネ要素10および減衰係数C2の第2減衰要素11が設けられている。また、付加質量8の他側(図において上方)には、バネ定数K3の第3バネ要素13および回転慣性付加質量14を備えている。回転慣性付加質量14は、重量物3と基礎BSとの間の相対変位が回転運動に変換されることによって回転されるものであり、この回転運動による回転慣性モーメントによって大きな等価付加質量を得るものである。
このように、第2免振要素IIは、付加質量8、第2バネ要素10、第2減衰要素11、第3バネ要素13および回転慣性付加質量14から構成されている。
As shown in FIG. 1, the second vibration isolation element II is provided on the side of the first vibration isolation element I and includes an additional mass 8 having a mass M2. On one side of the additional mass 8 (downward in the figure), a
As described above, the second vibration isolation element II includes the additional mass 8, the
図3には、第2免振要素IIの具体的構成例が示されている。
すなわち、第2免振要素IIは、上部に配置された防振ゴム20と、この防振ゴム20の下方に配置された接続フランジ22と、接続フランジ22の下方に配置された第3圧縮コイルバネ23と、この第3圧縮コイルバネ23の内部に設けられた回転慣性質量付加機構25とを備えている。
FIG. 3 shows a specific configuration example of the second vibration isolation element II.
That is, the second vibration isolation element II includes an
防振ゴム20は、重量物3の下面と接続フランジ22の上面との間に配置されている。この防振ゴム20は、バネ成分と減衰成分を有しており、したがって、図1に示した第2バネ要素10と第2減衰要素11に相当する。第2バネ要素10のバネ定数K2及び第2減衰要素11の減衰係数C2は、防振ゴムの材質、直径、高さ等を変更することによって適宜調整される。
The
なお、防振ゴム20に代えて、防振ゴムと同様にバネ成分と減衰成分を有する粘弾性体を用いてもよい。粘弾性体は重量物3の下面と、接続フランジ22の上面より櫛歯状に噛み合わされた鋼板との間に接着して用いるが、バネ定数K2及び減衰係数C2は接着面積や厚さ等を変更することで適宜調整される。
Instead of the
また、図1では、第2バネ要素10及び第2減衰要素11が回転慣性付加質量14の下方に取り付けられているが、第2バネ要素10及び第2減衰要素と回転慣性付加質量14との上下の位置関係はこれに限らず、図2に示したように、第2バネ要素10及び第2減衰要素11である防振ゴム20を上方に、回転慣性質量付加機構25を下方に配置しても良い。
In FIG. 1, the
接続フランジ22は、上方の防振ゴム20と下方の第3圧縮コイルバネ23及び回転慣性質量付加機構25とを接続するものである。接続フランジ22は、それ自身の質量が図1に示した付加質量8に相当する。
接続フランジ22は、上方から下方に向けて、上段フランジ22a、中段フランジ22b及び下段フランジ22cの3つのフランジを有している。
The
The
上段フランジ22aは、防振ゴム20のフランジ20aに対して、複数のボルト27a及びナット27bによって固定されている。
The
中段フランジ22bは、第1筒部22dによって上段フランジ22aに対して一体に接続されている。中段フランジ22bの直径は、上段フランジ22aの直径よりも大きくされており、これにより、中段フランジ22bの外周に配置された複数の長ボルト29aが上段フランジ22aに干渉しないようになっている。各長ボルト29aは、中段フランジ22bを貫通し、下端が下段フランジ22cに固定されている。
The
下段フランジ22cは、中段フランジ22bよりも大きな直径を有している。下段フランジ22cには中央に孔部22c1が形成されており、この孔部22c1に、中段フランジ22bの下面に接続されて下方へと延在する第2筒部22eが挿通されている。したがって、第2筒部22eの外周と下段フランジ22cの孔部22c1を形成する内周縁との間には所定の隙間が形成されている。下段フランジ22cの下面には、第3圧縮コイルバネ23の上端が当接するようになっている。
下段フランジ22cは、中段フランジ22bとの間の距離が任意に変更できるようになっている。すなわち、中段フランジ22bの上面側に位置すると共に長ボルト29aに螺合された止めナット29bの位置を変更することにより、下段フランジ22cと中段フランジ22bとの距離が変更できるようになっている。
The
The distance between the
第3圧縮コイルバネ23は、下段フランジ22cの下面と、第2免振要素IIの下端を構成する下端フランジ30の上面との間に配置されている。この第3圧縮コイルバネ23は、図1の第3バネ要素13に相当する。第3圧縮コイルバネ23の初期バネ力(初期付勢力)は、中段フランジ22bと下段フランジ22cとの間の距離を変更することによって調整される。
The third
回転慣性質量付加機構25は、接続フランジ22と下端フランジ30との間であって、第3圧縮コイルバネ23の略中心軸線上に立設されている。
回転慣性付加質量機構25は、本実施形態では接続フランジ22側に固定されたボールネジナット25aと、ボールネジ軸25bと、ボールネジ軸25bに固定された円盤25cと、ボールネジ軸25bの下端を回転自在に支持する軸受25dとを備えている。
ボールネジナット25aは、接続フランジ22の上段フランジ22a及び中段フランジ22bに対して固定されており、その内部にボールネジ軸25bの上端が挿通されている。
ボールネジ軸25bは、ボールネジナット25a及び軸受25bによって上下両端が支持されており、これらの間で中心軸線周りに回転するようになっている。すなわち、接続フランジ22が上下動すると、ボールネジナット25a内に収納された複数のボールがボールネジ軸25bのネジ溝25b1上を転がり、これにより、ボールネジ軸25bが回転させられる。
円盤25cは、ボールネジ軸25bに固定されているので、ボールネジ軸25bの回転に伴い回転する。円盤25cは、図1に示した回転慣性付加質量14に相当する。
円盤25cは、上述のように接続フランジ22の鉛直方向の変位、すなわち基礎BSと重量物3との間の相対変位に基づいて回転運動するようになっている。この回転運動によって回転慣性モーメントが得られ、これにより、下式のような等価付加質量△Mの付加質量を得ることができる。
△M=2mp(πR/L)2 ・・・・(1)
ここで、mpは円盤25cの質量、Rは円盤25cの半径、Lはボールネジ軸25bに設けられたネジ溝25b1のリードである。
このように、円盤25cの質量mpが小さくても、大きな等価付加質量△Mを得ることができる。例えば、円盤25cの直径を200mm、厚さ30mmとすると質量mpは7.4kgfとなり、リードLを20mmとすると、等価付加質量△Mは、3648kgとなり、円盤質量の約500倍の等価付加質量を得ることができる。このように、円盤25cには、装置をコンパクトに構成することができるというメリットがある。
The rotary inertia
In the present embodiment, the rotary inertia
The
The
Since the
As described above, the
ΔM = 2m p (πR / L) 2 ... (1)
Here, m p is the mass of the
Thus, even with a small mass m p of the
なお、図3では、ボールネジ軸25bに固定された円盤25cが回転する構成としたが、次のように構成しても良い。ボールネジ軸は、その軸線周りの回転が規制される一方で軸線方向の変位は許容されるように設置される。ボールネジナットは、このボールネジ軸に螺合するように設けられ、このボールネジナットに円盤が固定される。これにより、ボールネジ軸の軸線方向変位に伴ってボールネジナットおよび円盤が回転し、回転慣性付加質量が得られる。
In FIG. 3, the
次に、図4を用いて、本実施形態による免振装置1の効果について説明する。
図4には、本実施形態による免振装置1のシミュレーション結果が、他の比較例とともに示されている。図1(b)及び(c)には、比較例の構成が示されている。
図1(b)に示された免振装置Aは、重量物3と基礎BSとの間に、バネ要素100と減衰要素102が並列に配置されている。
図1(c)に示された免振装置Bは、図1(a)に示した免振装置Aに対して、回転慣性付加質量104を並列に加えたものである。
Next, the effect of the vibration isolator 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 4 shows a simulation result of the vibration isolator 1 according to the present embodiment together with another comparative example. FIGS. 1B and 1C show the configuration of the comparative example.
In the vibration isolator A shown in FIG. 1B, the
A vibration isolator B shown in FIG. 1C is obtained by adding a rotational inertia added
下表には、シミュレーションの際に各免振装置1,A,Bに与えた質量M、バネ定数K、減衰係数Cが示されている。
上記表において、ケースA及びケースA’は免振装置Aを示し、ケースBは免振装置Bを示す。ケースAとケースA’との相違は、第1減衰係数C1の大きさであり、ケースA’の減衰係数はケースAの3倍としている。
重量物3の質量は、全ての免振装置1,A,Bに対して同一の1(kg、cm、sec、又は、ton、m、secなど対象規模に応じて適宜選択できる単位系)とした。第1バネ要素のバネ定数K1についても、全ての免振装置1,A,Bに対して同一の5とした。第1減衰係数C1については、ケースA,B及び本発明について0.45とし、ケースA’についてのみ1.35とした。また、本発明の第2減衰係数は0.9とした。これは、比較の容易のために、第1減衰係数と第2減衰係数との和を、ケースA’の減衰係数1.35に一致させるようにしたものである。
In the above table, case A and case A ′ indicate the vibration isolator A, and case B indicates the vibration isolator B. The difference between Case A and Case A ′ is the magnitude of the first attenuation coefficient C1, and the attenuation coefficient of Case A ′ is three times that of Case A.
The mass of the
上述の条件の下、シミュレーションを行って得られた結果が図4である。図4において、横軸が入力周波数(Hz)、縦軸が絶対加速度応答倍率である。
ケースA及びA’とケースBとを比較すれば分かるように、共振点の周波数が低周波数側に移動している。すなわち、回転慣性付加質量104を加えて2質点系とすることにより、共振点の長周期化が実現されている。しかし、ケースBでは、1Hz以上の高周波領域において絶対加速度応答倍率が他のケースA及びケースA’よりも大きくなってしまうという欠点がある。
本発明では、長周期化されたケースBよりも、共振点がさらに長周期化されているとともに、絶対加速度応答倍率が約1/2にまで低減されている。さらに、本発明では、1Hz以上での加速度応答倍率も大幅に低減されている。これらは、付加質量8を加えた上で、第2バネ要素10及び第2減衰要素11を付加質量8及び回転慣性付加質量14に対して直列に接続したことによるものである。特に、重量物3、付加質量8及び回転慣性付加質量14の共振点をほぼ一致させるように質量、バネ定数のパラメータを設定すると良い。具体的には、K1/M1=(K2+K3)/(△M+M2)となるように各パラメータを設定するとよい。
また、本発明とケースAに対して減衰係数を3倍にしたケースA’とを比較すると、共振点における応答が若干増大しているものの、共振点の長周期化が実現され、1Hz以上での絶対加速度がほぼ同等とされている。
以上から、本発明の免振装置1は、共振点の長周期化を実現しつつ、1Hz以上の高周波での応答をも低減できるという効果を奏する。
FIG. 4 shows the result obtained by performing the simulation under the above conditions. In FIG. 4, the horizontal axis represents the input frequency (Hz) and the vertical axis represents the absolute acceleration response magnification.
As can be seen from the comparison between cases A and A ′ and case B, the frequency of the resonance point is shifted to the low frequency side. That is, by adding the rotary inertia
In the present invention, the resonance point is made longer than in the case B which is made longer, and the absolute acceleration response magnification is reduced to about ½. Furthermore, in the present invention, the acceleration response magnification at 1 Hz or higher is also greatly reduced. These are because the
Further, when comparing the present invention with case A ′ in which the attenuation coefficient is tripled with respect to case A, the response at the resonance point is slightly increased, but the resonance point is lengthened, and at 1 Hz or higher. The absolute acceleration is almost equivalent.
From the above, the vibration isolator 1 of the present invention has an effect that the response at a high frequency of 1 Hz or more can be reduced while realizing a long period of the resonance point.
なお、本実施形態にかかる免振装置1は、基礎BS上に重量物3を支持する構成としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば相対移動する2物体間に設けることとしてもよい。
In addition, although the vibration isolator 1 concerning this embodiment was set as the structure which supports the
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態について、図5を用いて説明する。
図5には、本発明の一実施形態にかかる免振台車50が示されている。免振台車50は、上部に搬送物4を載置して搬送する台車である。免振台車50には、上述の第1免振要素I及び第2免振要素IIが用いられている。
免振台車50は、下部に複数の車輪52が取り付けられた外フレーム54と、この外フレーム54の内側に配置された水平免振フレーム56と、この水平免振フレーム56を上方から囲繞するように配置された上下免振フレーム58とを備えている。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 5 shows a
The
外フレーム54は、平面視して長方形に組まれた下枠54aと、この下枠54aから上方に立設する複数の縦棒材54bと、これら縦棒材54bによって下方から支持され、下枠54aと同形状とされた上枠54cとを備えている。これら下枠54a、縦棒材54b及び上枠54cは、それぞれ溶接によって固定されている。
下枠54aの下面には車輪52が4つ設けられている。また、下枠54aの側部には二本の横行部材54dが設けられており、これら横行部材54d上に複数の水平スライダ54eが設置されている。水平スライダ54eは水平面方向(xy方向)にスライド自在とされており、例えばx方向およびy方向にそれぞれLMガイドを配置した構成とされている。水平スライダ54eによって、水平免振フレーム56は下方から支持されている。
上枠54cの両側部には、作業者が把持することができる把持部54fが固定されている。
The
Four
A gripping
水平免振フレーム56は、上述のように、外フレーム54の内側に配置されるとともに、水平スライダ54eを介して水平方向に移動自在に下方から支持されている。
水平免振フレーム56は、直方体の各辺に角材が配置された構成とされている。水平免振フレーム56の上枠56cの外側面と、外フレーム54の上枠54cの内側面との間には、複数の免振要素I,IIが配置されている。すなわち、水平免振フレーム56の上枠56cの4辺の中央部に第2免振要素IIがそれぞれ設けられ、上枠56cの各角部には第1免振要素Iがそれぞれ設けられている。したがって、第2免振要素IIは合計で4つ、第1免振要素Iは合計で8つ設けられている。
水平免振フレーム56と上下免振フレーム58との間には、水平リンク60が設けられている。この水平リンク60により、上下免振フレーム58は、水平免振フレーム56に対して水平を維持した状態で上下動できるようになっている。
As described above, the horizontal
The horizontal
A
上下免振フレーム58は、図5において側方に位置する下枠部材が省略されており、したがって、図5の側方から見た場合に門型形状とされている。これにより、上下免振フレーム58は、水平免振フレーム56の上方から囲繞するように配置される。
上下免振フレーム58の上枠58cの下面と、水平免振フレーム56の上枠56cの上面との間には、複数の免振要素I,IIが設けられている。
すなわち、第1免振要素Iは四隅に4つ設けられ、第2免振要素IIは、上下免振フレーム58の上枠58cから側方に突出して延在する突出部材58dの下方に2つ設けられている。
The upper and lower
A plurality of vibration isolation elements I and II are provided between the lower surface of the
That is, four first vibration isolation elements I are provided at the four corners, and two second vibration isolation elements II are provided below the projecting
上記構成の免振台車50は、次のように用いられる。
半導体製造装置を運搬する際には、当該装置を各パーツに分割し、パーツ毎に運搬される。各パーツは、精密部品であるため振動による損傷が懸念される。したがって、各パーツは搬送物4として免振台車50上に設置された状態で運搬される。搬送物4が載置された免振台車50は、トラックや飛行機に積み込まれる。トラックや飛行機では搬送中に種々の振動が生じる。特に飛行機では着陸の時に衝撃力が発生し、高周波の振動が免振台車50に入力される。免振台車50は、第1免振要素I及び第2免振要素IIによって水平方向および上下方向が免振されているので、高周波に対する応答は大幅に低減される(図4のグラフ参照)。したがって、免振台車50上に載置された半導体製造装置のパーツに損傷が生じることがない。
また、免振台車50は、第1免振要素I及び第2免振要素IIによって共振点が長周期化されているので(図4のグラフ参照)、トラックや飛行機での比較的ゆっくりとした振動に対しても十分に応答が低減される。
また、第2免振要素IIの回転慣性付加質量14として、自重の数百倍もの等価付加質量を発揮する円盤25c(図3参照)を用いたので、免振台車50を軽量かつコンパクトに構成することができる。したがって、輸送時のコストも低減される。
The
When transporting a semiconductor manufacturing apparatus, the apparatus is divided into parts and transported for each part. Since each part is a precision part, there is a concern about damage due to vibration. Accordingly, each part is transported as a transported
In addition, the
Further, as the rotary inertia
なお、上記実施形態では免振台車50について説明したが、免振台車50の車輪52を排除して、免振架台として用いても良い。
また、上記各実施形態において、第1バネ要素5及び第1減衰要素6を実現する構成として第1免振要素Iとし、回転慣性付加質量14、付加質量8、第2バネ要素10、第2減衰要素11及び第3バネ要素13を実現する構成として第2免振要素IIとして、2つの免振要素として構成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各要素をまとめて一つのユニットとして構成しても良いし、それぞれ別々の要素として構成しても良い。
In the above embodiment, the
In each of the above embodiments, the first vibration isolation element I is used as the configuration for realizing the
1 免振装置
5 第1バネ要素
6 第1減衰要素
8 付加質量
10 第2バネ要素
11 第2減衰要素
13 第3バネ要素
14 回転慣性付加質量
50 免振台車
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
これら第1バネ要素および第1減衰要素に並列に配置され、前記相対変位を回転運動に変換して得られる回転慣性モーメントによって付加質量を得る回転慣性付加質量と、を備えた免振装置において、
前記回転慣性付加質量に対して直列に接続された付加質量と、
該付加質量に対して直列に、かつ前記回転慣性付加質量の反対側に設けられて並列に配置された第2バネ要素および第2減衰要素と、
前記回転慣性付加質量に並列に配置された第3バネ要素と、
を備えていることを特徴とする免振装置。 A first spring element and a first damping element provided between two relatively displaced objects and arranged in parallel;
A rotary inertia additional mass that is arranged in parallel to the first spring element and the first damping element and obtains an additional mass by a rotary inertia moment obtained by converting the relative displacement into a rotary motion,
An additional mass connected in series to the rotational inertial additional mass;
A second spring element and a second damping element arranged in series with and in parallel to the additional mass and on the opposite side of the rotary inertia additional mass;
A third spring element disposed in parallel with the rotational inertia added mass;
A vibration isolator characterized by comprising:
前記回転慣性付加質量は、円盤とされ、
該円盤は、ボールネジナットに螺合して該ボールネジナットの変位に伴い回転するボールネジ軸に固定され、または、ボールネジ軸に螺合して該ボールネジ軸の変位に伴い回転するボールネジナットに固定されていることを特徴とする免振装置。 The second spring element and the second damping element are anti-vibration rubber or viscoelastic body,
The rotational inertia added mass is a disk,
The disk is screwed to a ball screw nut and fixed to a ball screw shaft that rotates with displacement of the ball screw nut, or is screwed to the ball screw shaft and fixed to a ball screw nut that rotates with displacement of the ball screw shaft. A vibration isolator characterized by comprising:
該架台には、請求項1又は2に記載された免振装置が設けられていることを特徴とする免振架台。 It has a gantry to support the object,
A vibration isolator according to claim 1 or 2, wherein the vibration isolator is provided on the stand.
該架台には、請求項1又は2に記載された免振装置と、走行車輪とが設けられていることを特徴とする免振台車。 It has a gantry to support the object,
The vibration isolation cart according to claim 1 or 2, wherein the frame is provided with a vibration isolation device and a traveling wheel.
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- 2005-07-25 JP JP2005214267A patent/JP4347273B2/en active Active
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