JP2007027740A - 改良された光リソグラフ処理の方法およびシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト層内にパターンのイメージを得るため、パラメータ選択により基板の光リソグラフ処理を改善。選択可能なパラメータを持つ光リソグラフシステムに対する1組のパラメータで、光リソグラフシステムを特徴付け、転換レンズ瞳情報を得る(306)。これは選択された組みのシステムパラメータを持つ光リソグラフシステム内の組みのポイントの各ポイントに対し基板位置で少なくとも1つの光学パラメータを得て達成され、少なくとも1つの光学パラメータは、レンズ瞳内の組みのポイントの前記ポイントから基板に投射の光線の性質である。レンズ瞳情報は、レジスト層内のパターン発生に使用されるマスク情報に結合され(310)、リソグラフ処理に対する組みのパラメータで決定のシステムの評価又はランク付けをする(312)。
【選択図】図7
Description
a) 選択可能なシステムパラメータを持っている光リソグラフのシステムのための1組のシステムパラメータを選択するステップと、
b) 選択された組みのシステムパラメータがある光リソグラフのシステムのレンズ瞳内の1組のポイントの各ポイントに対し、装置のレベルでの少なくとも1つの光学パラメータの値を取得するステップと、
c) レンズ瞳内の対応するポイントの位置にリンクした前記決定された値を備える情報を、前記装置の光リソグラフ処理のために使用された少なくとも1つのマスクについての情報に結合するステップとを備え、前記少なくとも1つの光学パラメータは、レンズ瞳内の1組のポイントの各ポイントから装置に向けて投射された光線の特性である。そして、組みのシステムパラメータと、前記少なくとも1つのマスクとの結合の前記結合された情報に基づいて、評価ステップが実行される。
・選択可能なシステムパラメータを持っている光リソグラフシステムのための1組のシステムパラメータを選択するステップと、
・選択された組みのパラメータを持つ光リソグラフシステムのレンズ瞳内の1組のポイント内の各ポイントに対し、デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップと、
・レンズ瞳内の組みのポイントの各ポイントに対して格納するか、出力するステップとを備え、
少なくとも1つの光学パラメータは、レンズ瞳内の組みのポイントの前記ポイントからデバイスに投射された光線の特性であり、少なくとも1つの光学パラメータは、前記レンズ瞳内の前記ポイントに対する座標で結合される。
・光リソグラフシステムの1組のシステムパラメータの特性を得るための手段と、
・前記光リソグラフシステムのレンズ瞳内で組みのポイントの各ポイントに対し、デバイスのレベルでの少なくとも1つの光学パラメータに対する値を例えば計算して得るための手段と、および
・前記レンズ瞳内で対応するポイントにリンクされた、例えば計算して得られた値を、少なくとも1つのマスクについての情報に結合して、結合された情報をもたらすための手段とを備える。
・光リソグラフシステムのシステムパラメータの特性を入手するための手段と、
・前記光リソグラフシステムのレンズ瞳内で1組のポイントの各ポイントに対し、デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータを例えば計算して得るための手段と、および
・レンズ瞳内で組みのポイントの各ポイントに対し、前記レンズ瞳内の前記ポイントに対する座標で結合された少なくとも1つの光学パラメータの値を格納するか出力するための手段とを備える。
X偏向の光源に対し、
102:光源
104:レンズ
106:マスク
108:イメージモジュール
112:レジスト層
114:基板
116:基板ステージ
118:浸漬液体
Claims (21)
- デバイスのリソグラフ処理を設定するための方法(300)であり、
a) 選択可能なシステムパラメータを持っている光リソグラフのシステム(100)のための1組のシステムパラメータを選択するステップ(304)と、
b) 選択された組みのシステムパラメータがある光リソグラフのシステム(100)のレンズ瞳内の1組のポイントの各ポイントに対し、装置のレベルでの少なくとも1つの光学パラメータの値を取得するステップ(306)と、
c) レンズ瞳内の対応するポイントの位置にリンクした前記決定された値を備える情報を、前記装置の光リソグラフ処理のために使用された少なくとも1つのマスクについての情報に結合するステップ(310)と、
d) 前記結合された情報に基づき、前記選択された組みのシステムパラメータと、前記少なくとも1つのマスク(106)との結合を評価するステップ(312)とを備え、
前記少なくとも1つの光学パラメータは、レンズ瞳内の1組のポイントの各ポイントから装置に向けて投射された光線の特性であり、
前記デバイスのレベルで、少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップは、入射光の偏向状態を考慮することを備える方法(300)。 - 前記結合する情報は、前記レンズ瞳内に少なくとも部分的に存在する拡散状態に対応するレンズ瞳内の位置を決定することを備える請求項1記載の方法。
- 前記評価するステップ(312)は、前記選択された組みのシステムパラメータと、前記少なくとも1つのマスク(106)との結合を格付けすることを備える請求項1または2に記載の方法。
- 前記レンズ瞳内の対応する位置にリンクされた前記決定値を備える情報は、使用された光源の偏向に関連する情報である請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記システム(100)は、光源(102)、イメージングモジュール(108)、基板(114)上のレジスト層(112)および、浸漬液体(118)を備え、
前記選択可能なシステムパラメータは、開口値、レジスト層の実反射係数および/または、吸収係数、レジスト層(112)の透過率、浸漬液体(118)の実反射係数および/または、吸収係数、浸漬液体(118)の透過率、光源(102)の各部での光の偏向状態、光源(102)での光の放射強度、光源(102)の光の放射波長または放射波長の範囲、光源(102)の形状、底部の反射防止コーティングの実部反射係数および/または吸収係数および/または厚さ、基板の形状、マスクタイプ、トップの反射防止コーティングの実部反射係数および/または吸収係数および/または厚さのいずれかを含む請求項1〜4のいずれかに記載の方法。 - 前記少なくとも一つの光学パラメータは透過率であり、前記光リソグラフシステム(100)は、前記少なくとも1つのマスク(106)で回折され、そして、情報を結合するステップ(310)は、レンズ瞳内の前記位置の予め決定したポイントに対し、前記レンズ瞳内の前記位置のこれらの予め決定したポイントに対応する前記透過率を得るステップを更に備える請求項2〜5のいずれかに記載の方法。
- 前記位置の前記予め決定されたポイントは、レンズ瞳内の前記位置の全エリアにわたって実質的にサンプリングされる請求項6に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの光学パラメータは干渉を備え、前記光リソグラフシステム(100)内の光は、前記少なくとも1つのマスク(106)により回折され、そして、前記情報を結合するステップは、前記位置の予め決定されたポイントに対し、前記位置におけるこれらの予め決定のポイントに対応する前記干渉の値を得るステップを更に備える請求項2から7のいずれかに記載の方法。
- 前記位置の予め決定されたポイントは、前記位置の中心である請求項7に記載の方法。
- レンズ瞳内の対応するポイントの位置にリンクした決定された値を備える情報は、2次元の強度プロットで示される請求項1から9のいずれかに記載の方法。
- デバイスの位置での少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップは、フレネル公式を用いた計算に基づく請求項1〜10のいずれかに記載の方法。
- 当該方法は、光リソグラフシステムの全システム計算を用いるリソグラフシュミレータへ入力を与えるために、前記結合された情報の前記評価を用いることを更に備える請求項1から11のいずれかに記載の方法。
- デバイスのリソグラフ処理に対する関連した情報をリソグラフ処理することを得るための方法であり、
・選択可能なシステムパラメータを持っている光リソグラフシステム(100)のための1組のシステムパラメータを選択するステップと、
・選択された組みのパラメータを持つ光リソグラフシステムのレンズ瞳内の1組のポイント内の各ポイントに対し、デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップと、
・レンズ瞳内の組みのポイントの各ポイントに対して格納するか、出力するステップとを備え、
少なくとも1つの光学パラメータは、レンズ瞳内の組みのポイントの前記ポイントからデバイスに投射された光線の特性であり、少なくとも1つの光学パラメータは、前記レンズ瞳内の前記ポイントに対する座標で結合され、
デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップは、入射光の偏向状態を考慮することを特徴とする方法。 - 前記システム(100)は、光源(102)、イメージングモジュール(108)、レジスト層(112)および、浸漬液体(118)を備え、前記システムパラメータは、開口値、レジスト層(112)の実反射係数および/または吸収係数、レジスト層(112)の透過率、浸漬液体(118)の実反射係数および/または、吸収係数、浸漬液体(118)の透過率、光源(102)の各部での光の偏向状態、光源(102)での光の放射強度、光源(102)の放射強度または放射強度範囲、光源(102)の形状、底部の反射防止コーティングの実部反射係数および/または吸収係数および/または厚さ、基板タイプ、マスクタイプ、トップの反射防止コーティングの実部反射係数および/または吸収係数および/または厚さのいずれかを備える請求項13記載の方法。
- デバイスの位置で少なくとも1つの光学パラメータの値を得るステップは、フレネルの公式を用いた計算に基づく請求項13または14に記載の方法。
- 前記情報は、2次元の強度プロットとして格納されるか出力される請求項13から15のいずれかに記載の方法。
- デバイスのリソグラフ処理を設定するためのシステムであり、
・光リソグラフシステム(100)の1組のシステムパラメータの特性を得るための手段と、
・前記光リソグラフシステム(100)のレンズ瞳内の組みのポイントの各ポイントに対し、デバイスのレベルでの少なくとも1つの光学パラメータに対する値を例えば計算して得るための手段と、
・前記レンズ瞳内の対応するポイントにリンクされた、例えば計算して得られた値を、少なくとも1つのマスク(106)についての情報に結合して、結合された情報をもたらすための手段と、および
・前記結合された情報に基づき、前記組みのシステムパラメータおよび、前記少なくとも1つのマスク(106)の結合を評価する手段とを備え、
デバイスの位置で少なくとも1つの光学パラメータの値を得る手段が、入射光の偏向状態を考慮することを特徴とするシステム。 - デバイスのリソグラフ処理のために、リソグラフ処理する関連情報を得るためのシステムであり、
・光リソグラフシステムのシステムパラメータの特性を入手するための手段と、
・前記光リソグラフシステムのレンズ瞳内の1組のポイントの各ポイントに対し、デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータを例えば計算して得るための手段と、および
・レンズ瞳内の組みのポイントの各ポイントに対し、前記レンズ瞳内の前記ポイントに対する座標で結合された少なくとも1つの光学パラメータの値を格納するか出力するための手段とを備え、
デバイスのレベルで少なくとも1つの光学パラメータの値を得る手段は、入射光の偏向状態を考慮することを特徴とするシステム。 - 請求項1から16のいずれかに請求された方法を実行するためのコンピュータプログラム製品。
- 請求項19のコンピュータプログラム製品を格納する機械読み出し可能なデータ格納デバイス。
- ローカルなまたは広範囲の遠隔通信ネットワークにわたって送信される請求項19記載のコンピュータプログラム製品。
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