JP2007025057A - Photosensitive composition and new compound for use in the same - Google Patents

Photosensitive composition and new compound for use in the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition using a new photoinitiation system having high sensitivity to an oscillation wavelength of an inexpensive short-wavelength semiconductor laser and also having high sensitivity to various wavelengths of 350-450 nm, and useful as a photosensitive layer of a lithographic printing original plate for scanning exposure adapted for a computer-to-plate (CTP) system excellent in work efficiency and economical efficiency, and a new dye compound usable in the photosensitive composition having high sensitivity to the oscillation wavelength of the inexpensive short-wavelength semiconductor laser. <P>SOLUTION: The photosensitive composition contains (A) a sensitizing dye of which one-electron oxidized derivative produced by one electron oxidation of the dye is capable of releasing one or more electrons, (B) an initiator compound capable of generating a radical, an acid or a base, and (C) a compound of which physical or chemical property is irreversibly changed by at least one of a radical, an acid and a base. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、露光により高感度で硬化する感光性組成物及びそれに用いる新規な色素化合物に関し、詳細には、デジタル信号に基づいた走査露光により画像形成しうる平版印刷版原版の感光層として有用な感光性組成物、及び、それに用いられる光熱変換能に優れた新規な色素化合物に関する。   The present invention relates to a photosensitive composition that cures with high sensitivity upon exposure and a novel dye compound used therefor, and in particular, is useful as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor capable of forming an image by scanning exposure based on a digital signal. The present invention relates to a photosensitive composition and a novel dye compound having excellent photothermal conversion ability.

従来、平版印刷版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するＰＳ版が広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきた。その結果レーザ光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介すことなく、直接印刷版を製造するコンピュータ トゥ プレート（ＣＴＰ）技術が望まれ、これに適応した印刷版原版を得ることが重要な技術課題となっている。 Conventionally, as a lithographic printing plate, a PS plate having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support has been widely used. As the plate making method, usually, mask exposure (surface After exposure), the desired printing plate was obtained by dissolving and removing the non-image area.
In recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to the technology have come into practical use. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light in accordance with digitized image information and directly manufactures a printing plate without using a lith film is desired. Obtaining an adapted printing plate precursor is an important technical issue.

このような走査露光可能な平版印刷版を得る方式の一つとして、親水性表面を有する支持体上に、インク受容性の樹脂層領域を形成する方式が採用されている。これは、支持体上に、走査露光により硬化してインク受容性領域を形成するネガ型の感光層を設けてなる材料であって、感光スピードに優れた光重合系組成物を用いた構成が提案され、既に実用化されているものもある。このような構成の平版印刷版原版は、現像処理が簡便であり、さらに解像度、着肉性、耐刷性、汚れ性に優れるといった望ましい刷版、印刷性能を有する。   As one of methods for obtaining such a lithographic printing plate capable of scanning exposure, a method of forming an ink receptive resin layer region on a support having a hydrophilic surface is employed. This is a material in which a negative photosensitive layer that is cured by scanning exposure to form an ink receptive region is provided on a support, and has a configuration using a photopolymerization composition excellent in photosensitive speed. Some have been proposed and are already in practical use. The lithographic printing plate precursor having such a constitution has desirable printing plate and printing performance such that development processing is simple, and further excellent in resolution, inking property, printing durability, and stain resistance.

前記光重合性組成物は、基本的にはエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と光重合開始系、及び、所望によりバインダー樹脂を含有し、走査露光により、光開始系が光吸収し、活性ラジカル等の活性種を生成して重合性化合物の重合反応を生起、進行させることにより露光領域を硬化させて画像形成するものである。
このような走査露光可能な光重合性組成物においては、感光性に優れた光開始系が種々開示されている（例えば、非特許文献１、２参照。）。これらに記載の光開始系は、露光光源としてＡｒレーザー（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）のような長波長の可視光源を用いた、従来のＣＴＰシステムに適用された場合には、光源の出力が十分高くない現状においては充分な感度得られず、さらなる高速露光に適合し得る高感度の開始系が望まれている。 The photopolymerizable composition basically contains a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiation system, and optionally a binder resin, and by scanning exposure, the photoinitiation system absorbs light, An active species such as an active radical is generated to cause and advance the polymerization reaction of the polymerizable compound, thereby curing the exposed area to form an image.
In such a photopolymerizable composition capable of scanning exposure, various photoinitiating systems having excellent photosensitivity have been disclosed (for example, see Non-Patent Documents 1 and 2). The photoinitiating system described in these documents is a light source when applied to a conventional CTP system using a long wavelength visible light source such as an Ar laser (488 nm) or an FD-YAG laser (532 nm) as an exposure light source. In the present situation where the output is not sufficiently high, sufficient sensitivity cannot be obtained, and a highly sensitive starting system that can be adapted to further high-speed exposure is desired.

一方、近年、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料を用い、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域で連続発振可能な半導体レーザが実用段階となっている。これらの短波光源を用いた走査露光システムは、半導体レーザが構造上、安価に製造できるため、十分な出力を有しながら、経済的なシステムを構築できるといった長所を有する。さらに、従来のＦＤ−ＹＡＧやＡｒレーザを使用するシステムに比較して、より明るいセーフライト下での作業が可能な、短波長領域に感光性を有する感光材料が使用できる。しかしながら、このような３５０ｎｍから４５０ｎｍの短波長領域において走査露光に十分な感度を有する光開始系は知られていないのが現状である。
これを受けて、この短波長領域において高感度な増感色素を含む感光性組成物が提案されているが（特許文献１参照。）、これらの増感色素などを包含するさらなる光開始系の高感度化が望まれている。 On the other hand, in recent years, for example, semiconductor lasers that use InGaN-based materials and can continuously oscillate in the 350 nm to 450 nm region have been put into practical use. The scanning exposure system using these short-wave light sources has an advantage that an economical system can be constructed while having a sufficient output because a semiconductor laser can be manufactured at a low cost because of its structure. Furthermore, as compared with a system using a conventional FD-YAG or Ar laser, a photosensitive material having photosensitivity in a short wavelength region capable of working under a brighter safe light can be used. However, there is currently no known photoinitiating system having sufficient sensitivity for scanning exposure in such a short wavelength region of 350 nm to 450 nm.
In response to this, a photosensitive composition containing a sensitizing dye having a high sensitivity in this short wavelength region has been proposed (see Patent Document 1), but a further photoinitiating system including these sensitizing dyes and the like. Higher sensitivity is desired.

さらに、例えば、非特許文献３及び４に記載されるように、感度の高い光開始系を得ることは、広く、イメージング分野において、なお切望される技術である。増感色素と開始剤化合物とからなる光開始系は、開始剤化合物の選択により、上記活性ラジカルの他、酸、塩基を発生することができ、例えば、光造形、ホログラフィー、カラーハードコピーといった画像形成や、フォトレジスト等の電子材料製造分野、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途に利用される。これらの産業分野においては、開始剤化合物の分解を効率良く引き起こすため目的で、光吸収性、増感能に優れた増感色素を見いだすことが切望されている。   Further, for example, as described in Non-Patent Documents 3 and 4, obtaining a highly sensitive photoinitiating system is a technique that is still widely desired in the imaging field. The photoinitiating system consisting of a sensitizing dye and an initiator compound can generate an acid and a base in addition to the above active radicals by selecting the initiator compound. For example, images such as stereolithography, holography, and color hard copy It is used in the field of manufacturing, manufacturing of electronic materials such as photoresists, and photocurable resin materials such as inks, paints, and adhesives. In these industrial fields, it is eagerly desired to find a sensitizing dye excellent in light absorption and sensitizing ability for the purpose of efficiently causing the decomposition of the initiator compound.

ブルース・エム・モンロー(Bruce M. Monroe)ら著、ケミカル・レビュー(Chemical Revue)、1993年、第93巻、ｐ．435−448Bruce M. Monroe et al., Chemical Revue, 1993, volume 93, p. 435-448 アール・エス・デビッドソン(R. S. Davidson)著、ジャーナル・オブ・フォトケミストリー・アンド・バイオロジー・エー・ケミストリー (Journal of Photochemistry and Biology A :Chemistry)、1993年、第73巻、ｐ．81−96R. S. Davidson, Journal of Photochemistry and Biology A: Chemistry, 1993, Vol. 73, p. 81-96 ジェーピーファウザー(J. P. Faussier), "光開始重合の理論と応用" (Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications), ラプラ・レビュー (Rapra Review) , 1998年、第9巻, ラプラ・テクノロジィー (Rapra Technology)J. P. Faussier, "Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications", Rapra Review, 1998, Vol. 9, Rapra Technology エム ツノーカら(M. Tsunooka et al), プログレッシブ・ポリマー・サイエンス (Prog. Polym. Sci.), 1996年、第21巻, 第1頁M. Tsunooka et al, Progressive Polymer Science (Prog. Polym. Sci.), 1996, 21, 21, 特開２０００−２５８９１０公報JP 2000-258910 A

上記課題を考慮した本発明の目的は、作業性、経済性に優れたＣＴＰシステムに適合する走査露光用の平版印刷版原版の感光層として有用な、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度で、広く３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光開始系を用いた感光性組成物を提供することにある。また、本発明の第二の目的は、前記短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な感光性組成物に用いうる新規な色素化合物を提供することにある。   The object of the present invention in consideration of the above-mentioned problems is high with respect to the oscillation wavelength of an inexpensive short-wave semiconductor laser useful as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor for scanning exposure suitable for a CTP system excellent in workability and economy. It is an object of the present invention to provide a photosensitive composition using a novel photoinitiating system having a high sensitivity with respect to a wide wavelength range from 350 nm to 450 nm. A second object of the present invention is to provide a novel dye compound that can be used in a photosensitive composition that is highly sensitive to the oscillation wavelength of the shortwave semiconductor laser.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有する増感色素と開始剤化合物とからなる新規な光開始系が高い感光性を与え、特に３５０ｎｍから４５０ｎｍ付近において高感度であることを見いだし、本発明を完成した。すなわち、本発明の目的は、下記の手段によって達成された。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventor has given a high photosensitivity to a novel photoinitiating system comprising a sensitizing dye having a specific structure and an initiator compound, particularly in the vicinity of 350 nm to 450 nm. The present invention was completed. That is, the object of the present invention has been achieved by the following means.

（１）（Ａ）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素、
（Ｂ）ラジカル、酸あるいは塩基を生成しうる開始剤化合物、及び、
（Ｃ）ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的あるいは化学的特性が不可逆的に変化する化合物、
を含有する感光性組成物。 (1) (A) A sensitizing dye capable of emitting one electron or more electrons from a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation,
(B) an initiator compound capable of generating radicals, acids or bases, and
(C) a compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radicals, acids and bases,
Containing the photosensitive composition.

（２）上記（１）における増感色素が下記一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表わされることを特徴とする、（１）記載の感光性組成物 (2) The photosensitive composition according to (1), wherein the sensitizing dye in (1) is represented by the following general formula (I) or general formula (II):

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
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式（Ｉ）中、Ｒ1およびＲ2は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｍは０以上の整数を表わす。Ａ1は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
式（ＩＩ）中、Ｒ21およびＲ22は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25及びＲ26は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ21およびＬ22は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｎは０以上の整数を表わす。Ａ21は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
但し、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造を有する。 In formula (I), R 1 and R 2 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 1 , L 2 and L 3 independently represent a methine group which may have a substituent. m represents an integer of 0 or more. A 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
In the formula (II), R 21 and R 22 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 23 , R 24 , R 25 and R 26 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 21 and L 22 independently represent a methine group which may have a substituent. n represents an integer of 0 or more. A 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
However, the general formula (I) and the general formula (II) have a structure in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more.

（３）一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）において、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造が下記一般式（ＩＩＩ）で表わされることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の感光性組成物。 (3) In the general formula (I) and the general formula (II), a structure in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can emit one electron or more is represented by the following general formula (III) The photosensitive composition as described in (1) or (2) above.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

ＲａおよびＲｂは、独立に、水素原子、または、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。Ｘは酸化に伴いＣ−Ｘ結合が開裂してＣラジカルおよび脱離フラグメントＸを生じることができる置換基を表わす。   Ra and Rb independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. X represents a substituent capable of generating a C radical and a leaving fragment X by cleavage of the C—X bond upon oxidation.

（４） 一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表わされる化合物。 (4) A compound represented by general formula (I) or general formula (II).

（５） 開始剤化合物がヘキサアリールビスイミダゾール類であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の感光性組成物。 (5) The photosensitive composition as described in any one of (1) to (3) above, wherein the initiator compound is hexaarylbisimidazoles.

（６） ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的あるいは化学的特性が不可逆的に変化する化合物が、エチレン性不飽和二重結合を有する不可重合性化合物である上記（１）〜（３）または（５）のいずれかに記載の感光性組成物。 (6) The above (1), wherein the compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radical, acid and base is an unpolymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond. ) To (3) or (5).

（７） 上記（１）、（２）、（３）、（５）または（６）に記載の感光性組成物を４５０ｎｍ以下の波長を有するレーザー光で露光することを特徴とする光重合方法。 (7) A photopolymerization method comprising exposing the photosensitive composition according to the above (1), (2), (3), (5) or (6) with a laser beam having a wavelength of 450 nm or less. .

本発明の作用機構は明確ではないが、本発明の増感色素は、３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長に対し高感度であり、安価な短波半導体レーザの発振波長の照射（露光）に対し高感度で電子励起状態となり、この光吸収による電子励起状態に係る電子移動、エネルギー移動、発熱などが、併存する開始剤化合物に作用して開始剤化合物に化学変化を生起させてラジカル、酸或いは塩基を生成させる。さらに、ここで生成されたラジカル、酸または塩基のうちの少なくともいずれか１種によって、ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的或いは化学的特性が不可逆的に変化する化合物に発色、消色、重合などの不可逆的な変化を生じさせる。このような化合物のなかでも好ましい、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を用いることで、硬化反応が開始、進行し、露光領域を硬化させる。このため、本発明の感光性組成物を使用することで、短波半導体レーザによる走査露光に十分な感度を有し、また、紫外線領域には極大吸収を有しないことから、白灯下での安定性に優れ、明るい蛍光灯などの下でも取り扱い可能であるという利点を有する。従って、この感光性組成物において、付加重合性化合物を含有するものを感光層として用いた平版印刷版原版は、高感度で記録可能であり、セーフライト安定性に優れ、所望されない非画像部の汚れの発生が抑制されており、優れた印刷性能を示すものと考えられる。   Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the sensitizing dye of the present invention is highly sensitive to wavelengths from 350 nm to 450 nm and highly sensitive to irradiation (exposure) of an oscillation wavelength of an inexpensive short-wave semiconductor laser. It becomes an excited state, and electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. related to the electron excited state due to this light absorption act on the coexisting initiator compound to cause a chemical change in the initiator compound to generate radicals, acids or bases. . Furthermore, it is a compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radical, acid and base by at least one of radical, acid or base generated here. Causes irreversible changes such as coloring, decoloring, and polymerization. By using an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, which is preferable among such compounds, the curing reaction starts and proceeds, and the exposed region is cured. For this reason, by using the photosensitive composition of the present invention, it has sufficient sensitivity for scanning exposure with a short-wave semiconductor laser, and has no maximum absorption in the ultraviolet region, so that it is stable under white light. It has the advantage that it can be handled even under bright fluorescent lamps. Therefore, in this photosensitive composition, a lithographic printing plate precursor using an addition polymerizable compound as a photosensitive layer can be recorded with high sensitivity, excellent safelight stability, and undesired non-image area. The occurrence of smudges is suppressed, and it is considered that excellent printing performance is exhibited.

本発明の感光性組成物は、ＩｎＧａＮのような短波長の半導体レーザによる走査露光に適した十分な感度を有し、かつ、耐刷性・汚れ性・安定性に優れた平版印刷版原版の感光層として有用である。また、本発明の増感色素は、前記感光性組成物に用いられる光開始系に応用することで、前記短波半導体レーザの発振波長に対し高感度でラジカル、酸、塩基を発生しうるという効果を奏する。   The photosensitive composition of the present invention is a lithographic printing plate precursor having sufficient sensitivity suitable for scanning exposure with a semiconductor laser having a short wavelength such as InGaN and having excellent printing durability, stain resistance and stability. Useful as a photosensitive layer. In addition, the sensitizing dye of the present invention can generate radicals, acids, and bases with high sensitivity to the oscillation wavelength of the short-wave semiconductor laser when applied to the photoinitiating system used in the photosensitive composition. Play.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感光性組成物は、（Ａ）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素と、（Ｂ）ラジカル、酸或いは塩基を生成しうる開始剤化合物と、（Ｃ）ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的或いは化学的特性が不可逆的に変化する化合物と、を含有するが、これらのうち、（Ａ）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素と、（Ｂ）ラジカル、酸或いは塩基を生成しうる開始剤化合物とで、この感光性組成物の光開始系を構成する。この系においては、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素の光吸収により生じる電子励起状態による、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用により開始剤化合物が化学変化を起こし、ラジカル、酸或いは塩基を生成する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photosensitive composition of the present invention is (A) a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation, and (B) a radical, an acid or a base. And (C) a compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radicals, acids and bases. Among these, (A) This photosensitivity is obtained with a sensitizing dye capable of emitting one or more electrons from a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation, and (B) an initiator compound capable of generating a radical, acid or base. Constitutes the photoinitiating system of the composition; In this system, the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation produces electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. due to the electronic excitation state caused by light absorption of a sensitizing dye capable of emitting one or more electrons. By action, the initiator compound undergoes a chemical change to generate radicals, acids or bases.

まず、この光開始系について説明する。
本発明の光開始系に有用な、（Ａ）特定構造を有する増感色素の特徴の１つは、３５０ｎｍから４５０ｎｍ域に特に優れた吸収特性を有することにある。さらに（Ａ）本発明の１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素は、種々の（Ｂ）開始剤化合物の分解を効率良く引き起こし、非常に高い感光性を示す。一般に、増感色素／開始剤化合物からなる光開始系の増感機構は（ａ）増感色素の
電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、（ｂ）開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、（ｃ）増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解、といった経路が知られるが、本発明の増感色素は、これら何れのタイプの増感反応をも優れた効率で引き起こすことがわかった。 First, this photoinitiating system will be described.
One of the characteristics of the sensitizing dye having a specific structure (A) useful for the photoinitiating system of the present invention is that it has particularly excellent absorption characteristics in the 350 nm to 450 nm region. Furthermore, (A) the sensitizing dye that can be emitted by one-electron oxidant of the present invention produced by one-electron oxidation of the present invention efficiently emits one or more electrons, (B) efficiently causes decomposition of various initiator compounds, Very high photosensitivity. In general, the sensitization mechanism of a photoinitiating system comprising a sensitizing dye / initiator compound is (a) reductive decomposition of an initiator compound based on an electron transfer reaction from an electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, b) Oxidative decomposition of initiator compound based on electron transfer from initiator compound to electronically excited state of sensitizing dye, (c) Initiation based on energy transfer from electronically excited state of sensitizing dye to initiator compound Although a route such as decomposition of an agent compound from an electronically excited state is known, it was found that the sensitizing dye of the present invention causes any of these types of sensitizing reactions with excellent efficiency.

本発明者は、高感度を得るためには増感色素が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造を有していることが非常に重要であることを見いだしたが、その作用機構は明らかではない。本発明の増感色素は高強度の発光（ケイ光および／またはリン光）スペクトルを示す。このことから、一つの可能性として、上記部分構造を有する本発明の増感色素は励起状態の寿命が比較的長いため、開始剤化合物との反応の効率化に作用していることが考えられる。その他の可能性として、増感色素の部分構造が、増感反応初期過程（電子移動等）の効率化や、さらに、開始剤化合物分解にいたる後続反応の効率化に寄与している可能性もある。   In order to obtain high sensitivity, the present inventor is very important that the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the sensitizing dye has a structure capable of emitting one electron or more. However, the mechanism of action is not clear. The sensitizing dye of the present invention exhibits a high-intensity emission (fluorescence and / or phosphorescence) spectrum. From this, one possibility is that the sensitizing dye of the present invention having the above partial structure has a relatively long lifetime in the excited state, and therefore it is considered that it acts on the efficiency of the reaction with the initiator compound. . As another possibility, the partial structure of the sensitizing dye may contribute to the efficiency of the initial stage of the sensitization reaction (electron transfer, etc.) and the subsequent reaction leading to the decomposition of the initiator compound. is there.

本発明の増感色素は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物であることが特徴である。これらの化合物として好ましくは、次のタイプ１、タイプ２から選ばれる化合物である。
(タイプ１)
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ２)
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成反応を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。 The sensitizing dye of the present invention is characterized in that a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of emitting one electron or more. These compounds are preferably compounds selected from the following types 1 and 2.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can further emit one or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation reaction.

まずタイプ１の化合物について説明する。
タイプ１の化合物で、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに１電子を放出し得る化合物としては、特開平９−２１１７６９号(具体例：２８〜３２頁の表Ｅおよび表Ｆに記載の化合物ＰＭＴ−１〜Ｓ−３７)、特開平９−２１１７７４号、特開平１１−９５３５５号(具体例：化合物ＩＮＶ１〜３６)、特表２００１−５００９９６号(具体例：化合物１〜７４、８０〜８７、９２〜１２２)、米国特許５，７４７，２３５号、米国特許５，７４７，２３６号、欧州特許７８６６９２Ａ１号(具体例：化合物ＩＮＶ１〜３５)、特開平１１−１０２０４４号、欧州特許８９３７３２Ａ１号、米国特許６，０５４，２６０号、米国特許５，９９４，０５１号などの特許に記載の「１光子２電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。 First, the compound of type 1 will be described.
JP-A-9-211769 (specific example: 28-) shows a compound that can be emitted from a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of a type 1 compound, with a subsequent bond cleavage reaction. Compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on page 32), JP-A-9-211774, JP-A-11-95355 (specific examples: compounds INV1-36), JP-T 2001-500996 (Specific Examples: Compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747,236, European Patent 786662A1 (Specific Examples: Compounds INV1-35), "One-photon two-electron sensitizer" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-102044, European Patent No. 893732A1, US Patent No. 6,054,260, US Patent No. 5,994,051 or the like Compound called deprotonating electron donating sensitizer "and the like. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

またタイプ１の化合物で、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式（１）（特開２００３-１１４４８７号に記載の一般式（１）と同義）、一般式（２）（特開２００３-１１４４８７号に記載の一般式（２）と同義）、一般式（３）（特開２００３-１１４４８８号に記載の一般式（１）と同義）、一般式（４）（特開２００３-１１４４８８号に記載の一般式（２）と同義）、一般式（５）（特開２００３-１１４４８８号に記載の一般式（３）と同義）、一般式（６）（特開２００３-７５９５０号に記載の一般式（１）と同義）、一般式（７）（特開２００３-７５９５０号に記載の一般式（２）と同義）、一般式（８）（特開２００４-２３９９４３号に記載の一般式（１）と同義）、または化学反応式（１）（特開２００４-２４５９２９号に記載の化学反応式（１）と同義）で表される反応を起こしうる化合物のうち一般式（９）（特開２００４-２４５９２９号に記載の一般式（３）と同義）で表される化合物が挙げられる。またこれら
の化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。 In addition, as a compound of type 1 that can be emitted by one-electron oxidant generated by one-electron oxidation and further releasing one electron or more with a subsequent bond cleavage reaction, a compound represented by the general formula (1) ( General formula (1) described in JP-A-2003-114487), general formula (2) (synonymous with general formula (2) described in JP-A-2003-114487), general formula (3) (JP-A-2003-114487) General formula (1) described in 2003-114488), general formula (4) (synonymous with general formula (2) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488), general formula (5) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-114488). 114488 (general formula (3)), general formula (6) (synonymous with general formula (1) described in JP2003-75950), and general formula (7) (JP2003-75950). In the general formula (2)), the general formula (8) (JP-A-2) The reaction represented by the general formula (1) described in 004-239943) or the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929) may occur. Among the compounds, a compound represented by the general formula (9) (synonymous with the general formula (3) described in JP-A-2004-245929) can be given. The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

一般式（１）及び（２）中、ＲＥＤ1、ＲＥＤ2は還元性基を表す。Ｒ1は炭素原子（C）とＲＥＤ1とともに５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、もしくはヘキサヒドロ体に相当する環状構造を形成しうる非金属原子団を表す。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子または置換基を表す。Ｌv1、Ｌv2は脱離基を表す。ＥＤは電子供与性基を表す。 In the general formulas (1) and (2), RED 1 and RED 2 represent a reducing group. R 1 is a non-metallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle) or a hexahydro form together with carbon atom (C) and RED 1. To express. R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. Lv 1 and Lv 2 represent a leaving group. ED represents an electron donating group.

Figure 2007025057
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一般式（３）、（４）及び（５）中、Ｚ1は窒素原子とベンゼン環の２つの炭素原子とともに６員環を形成しうる原子団を表す。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19は水素原子または置換基を表す。Ｒ20は水素原子または置換基を表すが、Ｒ20がアリール基以外の基を表すとき、Ｒ16、Ｒ17は互いに結合して芳香族環または芳香族ヘテロ環を形成する。Ｒ8、Ｒ12はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ１は０〜３の整数を表し、ｍ２は０〜４の整数を表す。Ｌv3、Ｌv4、Ｌv5は脱離基を表す。 In the general formulas (3), (4) and (5), Z 1 represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring together with the nitrogen atom and the two carbon atoms of the benzene ring. R 5, R 6, R 7 , R 9, R 10, R 11, R 13, R 14, R 15, R 16, R 17, R 18, R 19 represents a hydrogen atom or a substituent. R 20 represents a hydrogen atom or a substituent. When R 20 represents a group other than an aryl group, R 16 and R 17 are bonded to each other to form an aromatic ring or an aromatic heterocycle. R 8 and R 12 represent a substituent that can be substituted on the benzene ring, m1 represents an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 0 to 4. Lv 3 , Lv 4 and Lv 5 represent a leaving group.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

一般式（６）および（７）中、ＲＥＤ3、ＲＥＤ4は還元性基を表す。Ｒ21〜Ｒ30は水素原子または置換基を表す。Ｚ2は−Ｃ(Ｒ111)(Ｒ112)−、−ＮＲ113−、または−Ｏ−を表す。 Ｒ111、Ｒ112はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。Ｒ113は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In general formulas (6) and (7), RED 3 and RED 4 represent a reducing group. R 21 to R 30 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 2 represents —C (R 111 ) (R 112 ) —, —NR 113 —, or —O—. R 111 and R 112 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R113 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

Figure 2007025057
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一般式（８）中、ＲＥＤ5は還元性基でありアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。Ｒ31は水素原子または置換基を表す。Ｘはアルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。Ｌv6は脱離基でありカルボキシ基もしくはその塩または水素原子を表す。 In the general formula (8), RED 5 is a reducing group and represents an arylamino group or a heterocyclic amino group. R 31 represents a hydrogen atom or a substituent. X represents an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Lv 6 is a leaving group and represents a carboxy group or a salt thereof, or a hydrogen atom.

Figure 2007025057
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一般式（９）で表される化合物は脱炭酸を伴う２電子酸化が起こった後に、さらに酸化される事で化学反応式（１）で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式（１）中、Ｒ32、Ｒ33は水素原子または置換基を表す。Ｚ3はＣ＝Ｃとともに５員または６員のヘテロ環を形成する基を表す。Ｚ4はＣ＝Ｃとともに５員または６員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Ｍはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式（９）中、Ｒ32、Ｒ33、Ｚ3は化学反応式（１）中のものと同義である。Ｚ5はＣ−Ｃとともに５員または６員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。 The compound represented by the general formula (9) is a compound that undergoes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being further oxidized after two-electron oxidation accompanied by decarboxylation has occurred. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group that forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (9), R 32 , R 33 and Z 3 have the same meaning as in the chemical reaction formula (1). Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C.

次にタイプ２の化合物について説明する。
タイプ２の化合物で１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成反応を伴って、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物としては、一般式（１０）（特開２００３-１４０２８７号に記載の一般式（１）と同義）、化学反応式（１）（特開２００４-２４５９２９号に記載の化学反応式（１）と同義）で表される反応を起こしうる化合物であって一般式（１１）（特開２００４-２４５９２９号に記載の一般式（２）と同義）で表される化合物が挙げられる。これらの化合物の好ましい範囲は、引用されている特許明細書に記載の好ましい範囲と同じである。 Next, the type 2 compound will be described.
As a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation with a type 2 compound can further emit one or more electrons with a subsequent bond formation reaction, a compound represented by the general formula (10) A compound capable of causing a reaction represented by the general formula (1) described in 2003-140287) and the chemical reaction formula (1) (synonymous with the chemical reaction formula (1) described in JP-A-2004-245929) And a compound represented by the general formula (11) (synonymous with the general formula (2) described in JP-A No. 2004-245929). The preferred ranges of these compounds are the same as the preferred ranges described in the cited patent specifications.

Figure 2007025057
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一般式（１０）中、ＲＥＤ6は１電子酸化される還元性基をあらわす。ＹはＲＥＤ6が１電子酸化されて生成する１電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環部位を含む反応性基を表す。ＱはＲＥＤ6とＹを連結する連結基を表す。 In the general formula (10), RED 6 represents a reducing group that is one-electron oxidized. Y reacts with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 6 to form a new bond, a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or Reactive group containing a non-aromatic heterocyclic moiety of a benzo-fused ring. Q represents a linking group linking RED 6 and Y.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

一般式（11）で表される化合物は酸化される事で化学反応式（１）で表される結合形成反応を起こす化合物である。化学反応式（１）中、Ｒ32、Ｒ33は水素原子または置換基を表す。Ｚ3はＣ＝Ｃとともに５員または６員のヘテロ環を形成する基を表す。Ｚ4はＣ＝Ｃとともに５員または６員のアリール基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Ｚ5はＣ−Ｃとともに５員または６員の環状脂肪族炭化水素基またはヘテロ環基を形成する基を表す。Ｍはラジカル、ラジカルカチオン、またはカチオンを表す。一般式（11）中、Ｒ32、 Ｒ33、Ｚ3、Ｚ4は化学反応式（１）中のものと同義である。 The compound represented by the general formula (11) is a compound that undergoes a bond formation reaction represented by the chemical reaction formula (1) by being oxidized. In the chemical reaction formula (1), R 32 and R 33 represent a hydrogen atom or a substituent. Z 3 represents a group which forms a 5-membered or 6-membered heterocycle with C═C. Z 4 represents a group that forms a 5- or 6-membered aryl group or heterocyclic group with C═C. Z 5 represents a group which forms a 5- or 6-membered cyclic aliphatic hydrocarbon group or heterocyclic group together with C—C. M represents a radical, a radical cation, or a cation. In the general formula (11), R 32 , R 33 , Z 3 and Z 4 have the same meanings as in the chemical reaction formula (1).

本発明において用いることができる色素はいかなるものでも良いが、好ましくは以下に挙げた色素である。
例えば、シアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、メロシアニン色素（ゼロメチンメロシアニン（シンプルメロシアニン）を含む）、３核メロシアニン色素、４核メロシアニン色素、ロダシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、アロポーラー色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素、スクアリウム色素、クロコニウム色素、アザメチン色素、クマリン色素、アリーリデン色素、アントラキノン色素、トリフェニルメタン色素、アゾ色素、アゾメチン色素、スピロ化合物、メタロセン色素、フルオレノン色素、フルギド色素、ペリレン色素、フェナジン色素、フェノチアジン色素、キノン色素、インジゴ色素、ジフェニルメタン色素、ポリエン色素、アクリジン色素、アクリジノン色素、ジフェニルアミン色素、キナクリドン色素、キノフタロン色素、フェノキサジン色素、フタロペリレン色素、ポルフィリン色素、クロロフィル色素、フタロシアニン色素、金属錯体色素が挙げられる。 Any dye may be used in the present invention, but the dyes listed below are preferred.
For example, cyanine dye, styryl dye, hemicyanine dye, merocyanine dye (including zero methine merocyanine (simple merocyanine)), trinuclear merocyanine dye, tetranuclear merocyanine dye, rhodacyanine dye, complex cyanine dye, complex merocyanine dye, allopolar dye, oxonol Dye, hemioxonol dye, squalium dye, croconium dye, azamethine dye, coumarin dye, arylidene dye, anthraquinone dye, triphenylmethane dye, azo dye, azomethine dye, spiro compound, metallocene dye, fluorenone dye, fulgide dye, perylene dye , Phenazine dye, phenothiazine dye, quinone dye, indigo dye, diphenylmethane dye, polyene dye, acridine dye, acridinone color , Diphenylamine dyes, quinacridone dyes, quinophthalone dyes, phenoxazine dyes, phthaloperylene dyes, porphyrin dyes, chlorophyll dyes, phthalocyanine dyes and metal complex dyes.

これらの色素の詳細については、エフ・エム・ハーマー(F. M. Harmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズーシアニンダイズ・アンド・リレィティド・コンパウンズ(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related Compounds)」、（ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley & Sons)社−ニューヨーク、ロンドン、１９６４年刊）、デー・エム・スターマー(D. M. Sturmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズースペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー(Heterocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic chemistry)」第１８章、第１４節、第４８２から５１５頁（ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley & Sons) 社−ニューヨーク、ロンドン、１９７７年刊）、「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ(Rodd's Chemistry of Carbon Compounds) 2nd. Ed. vol. IV, part B」第１５章、第３６９から４２２頁（エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク(Elsevier Science Publishing Company Inc.)社、ニューヨーク、１９７７刊）、などに記載されている。   For more information on these dyes, see FM Harmer, “Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related Compounds”, (John Wiley. John Wiley & Sons (New York, London, 1964), DM Sturmer, “Heterocyclic Compounds in Heterocyclic Compounds in Heterocyclic Chemistry” -Special topics in cyclic chemistry), Chapter 18, Section 14, 482-515 (John Wiley & Sons-New York, London, 1977), "Rods Chemistry." Rodd's Chemistry of Carbon Compounds 2nd. Ed. Vol. IV, part B ", Chapter 15, pages 369-422 (Elsevier Science Publishing Company Inc., New York, 1977), etc. Has been.

本発明の増感色素は、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表わされることが好ましい。続いて、本発明の一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表わされる化合物について詳細に説明する。
一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2は置換あるいは無置換のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表わす。アルキル基の例として、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。アリール基の例として、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。ヘテロ環基の例として、ピリジル基、モルホリノ基が挙げられる。 The sensitizing dye of the present invention is preferably represented by general formula (I) and general formula (II). Subsequently, the compounds represented by formulas (I) and (II) of the present invention will be described in detail.
In the general formula (I), R 1 and R 2 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group and a morpholino group.

これらは任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては１価の置換基（以下Ｒと表わす）が挙げられる。１価の置換基Ｒの例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
更に詳しくは、Ｒは、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５も
しくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の
置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。 These may have a substituent at any position. Examples of the substituent include monovalent substituents (hereinafter referred to as R). Examples of the monovalent substituent R include a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group and a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic ring. Group, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy, amino group (anilino) Group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, Telocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group, imide group, phosphino group , A phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group.
More specifically, R represents a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group [straight chain, branched, cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. They are alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl). A cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl), a bicycloalkyl group (preferably having 5 to 30 carbon atoms). A substituted or unsubstituted bicycloalkyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms, for example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl), a tricyclo structure with more ring structures Domo is intended to cover. An alkyl group (for example, an alkyl group of an alkylthio group) in the substituents described below also represents such an alkyl group. ], An alkenyl group [represents a linear, branched or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group. They are alkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl), cycloalkenyl groups (preferably substituted or substituted groups having 3 to 30 carbon atoms). An unsubstituted cycloalkenyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms (for example, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl), Bicycloalkenyl group (a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond. For example, bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl, bicyclo 2,2,2] oct-2-en-4-yl). ], An alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group, aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms) For example, phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl), a heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound A monovalent group in which one hydrogen atom is removed from, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms, such as 2-furyl, 2-thienyl, 2 -Pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group Preferably, it is a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n-octyloxy, 2-methoxyethoxy), aryloxy group (preferably having a carbon number) 6 to 30 substituted or unsubstituted aryloxy groups such as phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 2-tetradecanoylaminophenoxy), silyloxy groups (preferably carbon 3 to 20 silyloxy groups such as trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy), heterocyclic oxy groups (preferably substituted or unsubstituted heterocyclic oxy groups having 2 to 30 carbon atoms, 1-phenyltetrazole 5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy An acyloxy group (preferably a formyloxy group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as formyloxy, acetyloxy, Pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy), a carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably a substitution of 2 to 30 carbon atoms) Or an unsubstituted alkoxycarbonyloxy group such as methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, n-octylcarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted group having 7 to 30 carbon atoms) An aryloxycarbonyloxy group such as phenoxycarbonyloxy, p-methoxyphenoxycarbonyloxy, pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy), an amino group (preferably an amino group, a substituted or unsubstituted group having 1 to 30 carbon atoms) Alkylamino groups, substituted or unsubstituted anilino groups having 6 to 30 carbon atoms such as amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino), acylamino groups (preferably Or a formylamino group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroyl Amino, benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino), aminocarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted aminocarbonylamino having 1 to 30 carbon atoms, such as carbamoylamino, N, N-dimethylaminocarbonylamino, N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino), an alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as , Methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-methyl-methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted having 7 to 30 carbon atoms) Aryloxycarbonylamino group of, for example, phenoxycarbonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino), sulfamoylamino group (preferably substituted or unsubstituted having 0 to 30 carbon atoms) Sulfamoylamino groups such as sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino, Nn-octylaminosulfonylamino), alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably carbon A substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, phenylsulfonylamino, 2,3,5-tri Chlorophenylsulfonylamino, p-methylphenylsulfonylamino), mercapto group, alkylthio group (preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio), arylthio group (preferably A substituted or unsubstituted arylthio having 6 to 30 carbon atoms such as phenylthio, p-chlorophenylthio, m-methoxyphenylthio), a heterocyclic thio group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio having 2 to 30 carbon atoms) A group such as 2-benzothiazolylthio, 1-phenyltetrazol-5-ylthio), a sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms such as N-ethylsulfamoyl, N -(3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N-acetylsulfamoyl, N-benzoylsulfamoyl, N- (N'-phenylcarbamoyl) sulfamoyl), sulfo group, alkyl and An arylsulfinyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl, p-methylphenyl Sulfinyl), Alkyl and arylsulfonyl groups (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, p- Methylphenylsulfonyl), acyl group (preferably formyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, or 4 to 30 carbon atoms) Heterocyclic carbonyl groups bonded to carbonyl groups by substituted or unsubstituted carbon atoms, such as acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl, 2-pyridylcarbonyl, 2 -Furylcarbonyl), A reeloxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, o-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrophenoxycarbonyl, pt-butylphenoxycarbonyl), An alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably having 1 carbon atom) To 30 substituted or unsubstituted carbamoyl such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamo Yl), aryl and heterocyclic azo groups (preferably substituted or unsubstituted arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo, p-chlorophenylazo , 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo), imide group (preferably N-succinimide, N-phthalimide), phosphino group (preferably substituted or unsubstituted having 2 to 30 carbon atoms) Phosphino groups such as dimethylphosphino, diphenylphosphino, methylphenoxyphosphino), phosphinyl groups (preferably substituted or unsubstituted phosphinyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as phosphinyl, dioctyloxyphosphinyl, di Ethoxyphosphinyl), phosphinyloxy group (preferred Or a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as diphenoxyphosphinyloxy, dioctyloxyphosphinyloxy), a phosphinylamino group (preferably having 2 to 3 carbon atoms). 30 substituted or unsubstituted phosphinylamino groups such as dimethoxyphosphinylamino, dimethylaminophosphinylamino), silyl groups (preferably substituted or unsubstituted silyl groups having 3 to 30 carbon atoms such as , Trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, phenyldimethylsilyl).
Among the above functional groups, those having a hydrogen atom may be substituted with the above groups by removing this. Examples of such functional groups include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group. Examples thereof include methylsulfonylaminocarbonyl, p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl, acetylaminosulfonyl, and benzoylaminosulfonyl groups.
Further, the substituent may be further substituted, and when there are a plurality of substituents, they may be the same or different. Moreover, you may combine with substituents and may form a ring.

Ｒ1およびＲ2は互いに結合して環を形成しても良い。形成する環としてはＲ1、Ｒ2および窒素原子と一緒になって５、６または７員環を形成する場合が好ましい。形成した環はさらに置換基を有していても良い。置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。 R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. The ring to be formed is preferably a case in which R 1 , R 2 and a nitrogen atom are combined to form a 5-, 6- or 7-membered ring. The formed ring may further have a substituent. Examples of the substituent include the monovalent substituent R described above.

Ｒ1およびＲ2として好ましくは、アルキル基、アリール基である。より好ましくはアルキル基である。 R 1 and R 2 are preferably an alkyl group or an aryl group. More preferably, it is an alkyl group.

Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は水素原子または１価の置換基を表わす。１価の置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。 R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of the monovalent substituent include the above-described monovalent substituent R.

Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは水素原子、アルキル基である。さらに好ましくは水素原子である。 R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. More preferably, they are a hydrogen atom and an alkyl group. More preferably, it is a hydrogen atom.

Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は互いに結合して環を形成しても良い。形成する環としては、Ｒ3、Ｒ4およびそれらが結合している２個の炭素原子と一緒になって５、６または７員環を形成する場合が好ましい。Ｒ5とＲ6で環を形成する場合も同様である。形成した環はさらに置換基を有していても良い。置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。 R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a ring. The ring to be formed is preferably a case in which R 3 , R 4 and two carbon atoms to which they are bonded together form a 5-, 6- or 7-membered ring. The same applies to the case where R 5 and R 6 form a ring. The formed ring may further have a substituent. Examples of the substituent include the monovalent substituent R described above.

一般式（Ｉ）において、Ｒ1とＲ3が互いに結合して環を形成しても良い。形成する環としては、Ｒ1、Ｒ3およびそれらが結合している窒素原子と２個の炭素原子と一緒になって５、６または７員環を形成する場合が好ましい。Ｒ2とＲ5で環を形成する場合も同様である。
形成した環はさらに置換基を有していても良い。置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。 In the general formula (I), R 1 and R 3 may be bonded to each other to form a ring. The ring to be formed is preferably a case where R 1 , R 3 and the nitrogen atom to which they are bonded together with two carbon atoms form a 5-, 6- or 7-membered ring. The same applies to the case where R 2 and R 5 form a ring.
The formed ring may further have a substituent. Examples of the substituent include the monovalent substituent R described above.

Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は置換基を有していても良いメチン基を表わす。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3上の置換基としては、上述の１価の置換基Ｒが挙げられる。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3上の置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。好ましくはアルキル基である。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3として好ましくは無置換のメチン基である。
異なるＬ上の置換基同士が結合して環を形成してもよい。また、Ｌ1、Ｌ2またはＬ3上の置換基とＲ4またはＲ6が結合して環を形成してもよい。さらに、Ｌ1、Ｌ2またはＬ3上の置換基とＡ1が結合して環を形成してもよい。 L 1 , L 2 and L 3 represent a methine group which may have a substituent. Examples of the substituent on L 1 , L 2 and L 3 include the monovalent substituent R described above. Preferred examples of the substituent on L 1 , L 2 and L 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group and a halogen atom. An alkyl group is preferred. L 1 , L 2 and L 3 are preferably unsubstituted methine groups.
Different substituents on L may be bonded to form a ring. In addition, a substituent on L 1 , L 2 or L 3 and R 4 or R 6 may be bonded to form a ring. Further, a substituent on L 1 , L 2 or L 3 and A 1 may be bonded to form a ring.

ｍは０以上の整数を表わす。好ましくは０である。
ｍが２以上の整数の場合に、繰り返されるＬ2とＬ3は同じであっても良いし、異なっていても良い。 m represents an integer of 0 or more. Preferably it is 0.
When m is an integer of 2 or more, the repeated L 2 and L 3 may be the same or different.

Ａ1は置換あるいは無置換の芳香族基またはヘテロ環基を表わす。芳香族基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基などが挙げられる。
これらはさらに任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては上述の１価の置換基Ｒが挙げられる。 A 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group. Aromatic groups include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl , Phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenyl Carbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphor Such as Tofeniru group, and the like.
These may further have a substituent at an arbitrary position. Examples of the substituent include the monovalent substituent R described above.

ヘテロ環基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環または多環ヘテロ環から誘導される基である。ヘテロ環基を構成するヘテロ環の例として、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、ピロリン、ジヒドロフラン、ジヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、イミダゾリン、オキサゾリン、チアゾリン、ピラゾリジン、イソオキサゾリジン、イソチアゾリジン、ピラゾリン、イソオキサゾリン、イソチアゾリン、テトラヒドロピラン、ピペリジン、モルホリン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンなどが挙げられる。   The heterocyclic group is a group derived from a monocyclic or polycyclic heterocyclic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclic group include thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, imidazole, oxazole, thiazole, triazole, oxadi Azole, thiadiazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, pyrrolidine, tetrahydrofuran, tetrahydrothiophene, pyrroline, dihydrofuran, dihydrothiophene, imidazolidine, oxazolidine, thiazolidine, imidazoline, oxazoline, thiazoline, pyrazolidine, isoxazolidine, isothiazolidine, pyrazoline, Isoxazoline, isothiazoline, tetrahydropyran, piperidine, morpholine, indolizine Isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine, furan, phenoxazine Etc.

これらは任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては上述の１価の置換基Ｒおよび２価の置換基が挙げられる。２価の置換基の例として＝Ｏ、＝ＮＲ、＝Ｓ、＝ＣＲ2が挙げられる（ここでＲは１価の置換基を表わし、上述の１価の置換基が例として挙げられる）。
これらはさらに環上の置換基同士で結合して、縮合ヘテロ環を形成してもよい。縮合ヘテロ環の例としては、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、などが挙げられる。これらの縮合環上にさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述の１価の置換基Ｒおよび２価の置換基の例が挙げられる。 These may have a substituent at any position. Examples of the substituent include the above-described monovalent substituent R and divalent substituent. Examples of the divalent substituent include ═O, ═NR, ═S, and ═CR 2 (wherein R represents a monovalent substituent, and the above-described monovalent substituent is exemplified).
These may be further bonded with substituents on the ring to form a condensed heterocycle. Examples of the condensed heterocycle include indole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, benzimidazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, and the like. You may have a substituent further on these condensed rings. Examples of the substituent include the aforementioned monovalent substituent R and divalent substituent.

但し、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）において、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造が下記一般式（ＩＩＩ）で表わされることが好ましい。
一般式（ＩＩＩ）において、ＲａおよびＲｂは水素原子または置換あるいは無置換のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表わす。置換あるいは無置換のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基の例としては、上述の置換基の例が挙げられる。 However, in the general formula (I) and the general formula (II), a structure in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can emit one electron or more is represented by the following general formula (III) Is preferred.
In general formula (III), Ra and Rb represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, and heterocyclic group include the above-described substituent examples.

ＲａおよびＲｂは互いに結合して環を形成しても良い。形成する環としてはＲａ、Ｒｂおよび炭素原子と一緒になって５、６または７員環を形成する場合が好ましい。形成した環はさらに置換基を有していても良い。置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。
ＲａおよびＲｂとして好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基である。より好ましくは水素原子またはアルキル基である。 Ra and Rb may combine with each other to form a ring. The ring to be formed is preferably a case in which Ra, Rb and a carbon atom are combined to form a 5-, 6- or 7-membered ring. The formed ring may further have a substituent. Examples of the substituent include the monovalent substituent R described above.
Ra and Rb are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. More preferred is a hydrogen atom or an alkyl group.

Ｘは酸化に伴いＣ−Ｘ結合が開裂してＣラジカルおよび脱離フラグメントＸを生じることができる置換基を表わす。Ｘの例としては、ＣＯ2 -Ｍ、ＳｉＲ’3、ＳｎＲ’3、ＧｅＲ’3、Ｂ-Ａｒ3Ｍが挙げられる。ここでＲ’は置換あるいは無置換のアルキル基を表わし、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基を表わし、Ｍは分子全体の電荷を調整するために必要なカチオンを表わす。
Ｒ’として好ましくはメチル基、エチル基である。特に好ましくはメチル基である。
Ａｒとして好ましくはフェニル基、ナフチル基である。特に好ましくはフェニル基である。 X represents a substituent capable of generating a C radical and a leaving fragment X by cleavage of the C—X bond upon oxidation. Examples of X include CO 2 − M, SiR ′ 3 , SnR ′ 3 , GeR ′ 3 , and B − Ar 3 M. Here, R ′ represents a substituted or unsubstituted alkyl group, Ar represents a substituted or unsubstituted aryl group, and M represents a cation necessary for adjusting the charge of the whole molecule.
R ′ is preferably a methyl group or an ethyl group. Particularly preferred is a methyl group.
Ar is preferably a phenyl group or a naphthyl group. Particularly preferred is a phenyl group.

Ｍとして好ましくは、水素イオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウム
イオン（Ｎ+Ｒ”4）である。特に好ましくはアンモニウムイオンである。ここでＲ”は水素原子または１価の置換基を表わす。１価の置換基としては上記の１価の置換基Ｒが挙げられる。窒素原子と結合している４個のＲ”はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｒ”として好ましくは置換あるいは無置換のアルキル基である。Ｒ”は互いに結合して環を形成してもよい。環を形成したＮ+Ｒ”4の例としては、ピリジニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピペリジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムイオン（DBU-H+）などが挙げられる。
Ｎ+Ｒ”4として好ましくは、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムイオンである。特に好ましくはテトラエチルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオンである。
Ｘとして好ましくはＣＯ2 -Ｎ+Ｅｔ4、ＣＯ2 -Ｎ+ＨＥｔ3、ＳｉＭｅ3である。 M is preferably a hydrogen ion, a sodium ion, a potassium ion, or an ammonium ion (N + R ″ 4 ). Particularly preferably, it is an ammonium ion. Here, R ″ represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of the monovalent substituent include the above-described monovalent substituent R. Four R ″ bonded to the nitrogen atom may be the same or different. R ″ is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group. R ″ may combine with each other to form a ring. Examples of N + R ″ 4 that form a ring include pyridinium ions, imidazolium ions, piperidinium ions, diazabicycloundecenium ions (DBU− H + ).
N + R ″ 4 is preferably tetraethylammonium ion, tetrabutylammonium ion, triethylammonium ion, pyridinium ion, or diazabicycloundecenium ion. Particularly preferred are tetraethylammonium ion or triethylammonium ion.
The preferred X CO 2 - is N + HEt 3, SiMe 3 - N + Et 4, CO 2.

続いて一般式（ＩＩ）について説明する。
Ｒ21およびＲ22は置換あるいは無置換のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表わす。Ｒ21およびＲ22の例としては、一般式（Ｉ）におけるＲ1およびＲ2と同じである。好ましい例も同じである。
Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26は水素原子または１価の置換基を表わす。Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26の例としては、一般式（Ｉ）におけるＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6と同じである。好ましい例も同じである。 Next, general formula (II) will be described.
R 21 and R 22 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heterocyclic group. Examples of R 21 and R 22 are the same as R 1 and R 2 in formula (I). The preferred examples are also the same.
R 23 , R 24 , R 25 and R 26 represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of R 23 , R 24 , R 25 and R 26 are the same as R 3 , R 4 , R 5 and R 6 in formula (I). The preferred examples are also the same.

Ｌ21およびＬ22は置換基を有していても良いメチン基を表わす。Ｌ21およびＬ22の上の置換基例としては、一般式（Ｉ）における。Ｌ1、Ｌ2およびＬ3の場合と同じである。好ましい例も同じである。また、Ｌ21とＬ22上の置換基同士が結合して環を形成してもよい。また、Ｌ21またはＬ22上の置換基とＲ24またはＲ26が結合して環を形成してもよい。さらに、Ｌ21またはＬ22上の置換基とＡ21が結合して環を形成してもよい。 L 21 and L 22 represent a methine group which may have a substituent. Examples of substituents on L 21 and L 22 are in general formula (I). The same as in the case of L 1 , L 2 and L 3 . The preferred examples are also the same. Further, the substituents on L 21 and L 22 may be bonded to form a ring. Further, the substituent on L 21 or L 22 and R 24 or R 26 may be bonded to form a ring. Further, a substituent on L 21 or L 22 and A 21 may combine to form a ring.

ｎは０以上の整数を表わす。好ましくは０および１である。特に好ましくは１である。   n represents an integer of 0 or more. Preferably 0 and 1. Particularly preferred is 1.

Ａ21は５また６員環のヘテロ環基を表わす。Ａ21の例としては、一般式（Ｉ）におけるＡ1の場合と同じである。好ましい例も同じである。 A 21 represents a 5- or 6-membered heterocyclic group. Examples of A 21 are the same as those of A 1 in the general formula (I). The preferred examples are also the same.

一般式（Ｉ）においてＬ1とＡ1の結合およびｍが１以上のときのＬ2＝Ｌ3結合、および一般式（ＩＩ）においてｎが１以上のときのＬ21＝Ｌ22結合は、二重結合であるため幾何異性体が存在するが、Ｅ体およびＺ体のいずれの構造であってもよいし、任意の割合の混合物であってもよい。 In general formula (I), the bond between L 1 and A 1 , L 2 = L 3 bond when m is 1 or more, and L 21 = L 22 bond when n is 1 or more in general formula (II), Since it is a double bond, a geometric isomer exists, but any structure of E-form and Z-form may be used, and a mixture of any ratio may be used.

一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表わされる化合物は、その置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。   The compound represented by the general formula (I) or (II) may take a tautomer depending on the environment in which it is placed. Although the present invention is described in one of the representative forms, tautomers different from those described in the present invention are also included in the compounds of the present invention.

本発明の化合物は、同位元素（例えば、2Ｈ、3Ｈ、13Ｃ、15Ｎ、17Ｏ、18Ｏなど）を含有していてもよい。 The compound of the present invention may contain isotopes (for example, 2 H, 3 H, 13 C, 15 N, 17 O, 18 O and the like).

本発明の増感色素の例としては、特開平１１−１０２０４４号に記載の化合物例INV 1〜INV 4や、以下に示す一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表わされる化合物の例などが挙げられるが、本発明はこれに限定されない。   Examples of the sensitizing dye of the present invention include compound examples INV 1 to INV 4 described in JP-A No. 11-101444, and examples of compounds represented by the following general formulas (I) and (II). However, the present invention is not limited to this.

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本発明の増感色素は、以下の成書や特許、文献に記載の方法を参考にして合成すること
ができる。ケー・ベンカタラマン（K. Venkataraman）編「ザ・ケミストリー・オブ・シンセティック・ダイズ（The Chemistry of Synthetic Dyes）」第１巻〜第８巻（アカデミック・プレス（Academic Press）社−ニューヨーク、サンフランシスコ、ロンドン、１９５２年〜１９７８年刊）。エフ・エム・ハーマー(F. M. Harmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズーシアニンダイズ・アンド・リレィティド・コンパウンズ(Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related Compounds)」、（ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley & Sons)社−ニューヨーク、ロンドン、１９６４年刊）。デー・エム・スターマー(D. M. Sturmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズースペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー(Heterocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic chemistry)」（ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley
& Sons) 社−ニューヨーク、ロンドン、１９７７年刊）。「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ(Rodd's Chemistry of Carbon Compounds) 2nd. Ed. vol. IV, part B」（エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク(Elsevier Science Publishing Company Inc.)社、ニューヨーク、１９７７刊）。大河原信他著“機能性色素”（講談社サイエンティフィク、１９９２年刊）。日本化学会編「実験化学講座第４版 第１９巻」（丸善、１９９２年刊）。特開２００３−２２１５１７号、特開平１０−２０４０８５号、特開平６−１９２３０９号、特公昭５９−２８３２９号、特公昭５１−７４８８号、米国特許第４１４７５５２号、英国特許８６７５９２号、J. Chem. Soc. 1964, 5472、J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 1975, 568、Pharmazie 1997, 52, 739、Helv. Chim. Acta. 1971, 54, 980、Indian J. Chem. 1965, 358、J. Phys. Chem. A 1999,
103, 9626、J. Heterocycl. Chem. 1986, 23, 1347、J. Drug. Res. 1972, 4, 123、Chem. Pharm. Bull. 1973, 21, 1914、Synthesis 1997, 87、J. Am. Chem. Soc. 1941, 63, 3203、Zhur. Obshchei. Khim. 1956, 26, 2891。 The sensitizing dye of the present invention can be synthesized with reference to the methods described in the following books, patents and literature. K. Venkataraman “The Chemistry of Synthetic Dyes” Volumes 1 to 8 (Academic Press-New York, San Francisco, London, 1952-1978). FM Harmer “Heterocyclic Compounds-Cyanine Dyes and Related Compounds”, (John Wiley & Sons )-New York, London, 1964). DM Sturmer, “Heterocyclic Compounds-Special topics in cyclic chemistry” (John Wiley and Sons)
& Sons)-New York, London, 1977). "Rodd's Chemistry of Carbon Compounds 2nd. Ed. Vol. IV, part B" (Elsevier Science Publishing Company Inc., New York, 1977). Nobu Okawara et al. “Functional pigments” (Kodansha Scientific, published in 1992). The Chemical Society of Japan "Experimental Chemistry Course 4th Edition Volume 19" (Maruzen, 1992). JP 2003-221517, JP 10-204085, JP 6-192309, JP 59-28329, JP 51-7488, US Pat. No. 4,147,552, British Patent 867592, J. Chem. Soc. 1964, 5472, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 1975, 568, Pharmazie 1997, 52, 739, Helv. Chim. Acta. 1971, 54, 980, Indian J. Chem. 1965, 358, J. Phys. Chem. A 1999,
103, 9626, J. Heterocycl. Chem. 1986, 23, 1347, J. Drug. Res. 1972, 4, 123, Chem. Pharm. Bull. 1973, 21, 1914, Synthesis 1997, 87, J. Am. Chem Soc. 1941, 63, 3203, Zhur. Obshchei. Khim. 1956, 26, 2891.

前記本発明に用いられる増感色素に関しては、さらに、感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基）とを、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結合させることで、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの色素の不要な析出抑制を行うことができる。
また、増感色素と後述する開始剤化合物におけるラジカル発生能を有する部分構造（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過酸化物、ビイミダゾール、オニウム、ビイミダゾール等の還元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシリルメチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等の酸化解裂性部位）との結合により、特に開始系の濃度の低い状態での感光性を著しく高めることができる。 The sensitizing dye used in the present invention can be further subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer. For example, sensitizing dye and addition polymerizable compound structure (for example, acryloyl group or methacryloyl group) are bonded by a method such as covalent bond, ionic bond, hydrogen bond, etc. Unnecessary precipitation suppression of the dye from the subsequent film can be performed.
In addition, partial structures having radical generating ability in sensitizing dyes and initiator compounds described later (for example, reductive decomposable sites such as alkyl halides, oniums, peroxides, biimidazoles, oniums, biimidazoles, borates, amines) , Trimethylsilylmethyl, carboxymethyl, carbonyl, imine, and other oxidatively cleavable moieties) can significantly increase the photosensitivity particularly in a low concentration of the starting system.

さらに、本発明の感光性組成物を好ましい使用様態である平版印刷版原版の感光層として用いる場合には、アルカリ系、或いは、水系の現像液への処理適性を高める目的に対しては、親水性部位（カルボキシル基並びにそのエステル、スルホン酸基並びにそのエステル、エチレンオキサイド基等の酸基もしくは極性基）の導入が有効である。特にエステル型の親水性基は、感光層中では比較的疎水的構造を有するため相溶性に優れ、かつ、現像液中では、加水分解により酸基を生成し、親水性が増大するという特徴を有する。
その他、例えば、感光層中での相溶性向上、結晶析出抑制のために適宜置換基を導入することができる。例えば、ある種の感光系では、アリール基やアリル基等の不飽和結合が相溶性向上に非常に有効である場合があり、また、分岐アルキル構造導入等の方法により、色素π平面間の立体障害を導入することで、結晶析出が著しく抑制できる。また、ホスホン酸基やエポキシ基、トリアルコキシシリル基等の導入により、金属や金属酸化物等の無機物への密着性を向上させることができる。そのほか、目的に応じ、増感色素のポリマー化等の方法も利用できる。 Further, when the photosensitive composition of the present invention is used as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor which is a preferred mode of use, it is hydrophilic for the purpose of enhancing the processing suitability for an alkaline or aqueous developer. It is effective to introduce a functional site (carboxyl group and its ester, sulfonic acid group and its ester, ethylene oxide group or other acid group or polar group). In particular, ester-type hydrophilic groups have a relatively hydrophobic structure in the photosensitive layer, so that they have excellent compatibility, and in the developer, acid groups are generated by hydrolysis, resulting in increased hydrophilicity. Have.
In addition, for example, a substituent can be appropriately introduced in order to improve compatibility in the photosensitive layer and to suppress crystal precipitation. For example, in certain types of photosensitive systems, unsaturated bonds such as aryl groups and allyl groups may be very effective in improving compatibility. By introducing an obstacle, crystal precipitation can be remarkably suppressed. Further, by introducing a phosphonic acid group, an epoxy group, a trialkoxysilyl group, or the like, adhesion to an inorganic substance such as a metal or a metal oxide can be improved. In addition, a method such as polymerization of a sensitizing dye can be used depending on the purpose.

本発明に用いる増感色素としては、本発明の特徴である増感色素を少なくとも一種用い
ればよく、本発明の増感色素の特徴を有する限りにおいて、例えば、先に述べた修飾を施したものなど、どのような構造の色素を用いるか、単独で使用するか２種以上併用するか、添加量はどうか、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて適宜設定できる。例えば、増感色素を２種以上併用することで、感光層への相溶性を高めることができる。
増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用することにより、色素の添加量は比較的少なくできるので、経済的であり、かつ感光層の膜物性の点からも有利である。
なお、本発明においては、前記（Ａ）の特定の増感色素に加えて、本発明の効果を損なわない限りにおいて他の汎用の増感色素を併用することもできる。 As the sensitizing dye used in the present invention, at least one sensitizing dye that is a feature of the present invention may be used. For example, the sensitizing dye that has been modified as described above may be used as long as it has the characteristics of the sensitizing dye of the present invention. The details of usage, such as what type of dye is used, whether it is used alone or in combination of two or more, and how much is added, can be appropriately set according to the performance design of the final photosensitive material . For example, the compatibility with the photosensitive layer can be increased by using two or more sensitizing dyes in combination.
In selecting the sensitizing dye, in addition to the photosensitivity, the molar extinction coefficient at the emission wavelength of the light source used is an important factor. By using a dye having a large molar extinction coefficient, the amount of the dye added can be made relatively small, which is economical and advantageous from the viewpoint of film properties of the photosensitive layer.
In the present invention, in addition to the specific sensitizing dye (A), other general-purpose sensitizing dyes can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.

感光層の感光性、解像度や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。例えば、吸光度が０．１以下の低い領域では感度が低下する。また、ハレーションの影響により低解像度となる。但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化させる目的に対しては、このような低い吸光度の方がかえって硬化度を上げられる場合もある。また、吸光度が３以上のような高い領域では、感光層表面で大部分の光が吸収され、より内部での硬化が阻害され、例えば印刷版として使用した場合には膜強度、基板密着性の不十分なものとなる。
例えば、本発明の感光性組成物を比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版原版の感光層に使用する場合には、増感色素の添加量は、感光層の吸光度が０．１から１．５の範囲、好ましくは０．２５から１の範囲となるように設定するのが好ましい。吸光度は前記増感色素の添加量と感光層の厚みとにより決定されるため、所定の吸光度は両者の条件を制御することにより得られる。感光層の吸光度は常法により測定することができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの感光層を形成し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の感光層として利用する場合には、増感色素の添加量は、通常、感光層を構成する全固形成分１００質量部に対し、０．０５〜３０質量部、好ましくは０．１〜２０質量部、さらに好ましくは０．２〜１０質量部の範囲である。 Since the photosensitivity and resolution of the photosensitive layer and the physical properties of the exposure film are greatly affected by the absorbance at the light source wavelength, the addition amount of the sensitizing dye is appropriately selected in consideration of these. For example, the sensitivity decreases in a low region where the absorbance is 0.1 or less. Also, the resolution becomes low due to the influence of halation. However, for the purpose of curing a thick film of, for example, 5 μm or more, there is a case where such a low absorbance can be increased instead. Further, in a region where the absorbance is as high as 3 or more, most of the light is absorbed on the surface of the photosensitive layer, and the internal curing is inhibited. For example, when used as a printing plate, the film strength and the substrate adhesion are poor. It will be insufficient.
For example, when the photosensitive composition of the present invention is used in the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor using a relatively thin film thickness, the amount of the sensitizing dye added is such that the absorbance of the photosensitive layer is 0.1 to 1. .5, preferably 0.25 to 1. Since the absorbance is determined by the addition amount of the sensitizing dye and the thickness of the photosensitive layer, the predetermined absorbance can be obtained by controlling both conditions. The absorbance of the photosensitive layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a photosensitive layer having a thickness appropriately determined in a range where the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and a transmission type optical densitometer is used. Examples thereof include a measuring method, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density.
When the photosensitive composition of the present invention is used as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the addition amount of the sensitizing dye is usually 0.05 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid component constituting the photosensitive layer. It is 30 mass parts, Preferably it is 0.1-20 mass parts, More preferably, it is the range of 0.2-10 mass parts.

次に、本発明の感光性組成物における光開始系の第２の必須成分である、（Ｂ）開始剤化合物について説明する。
（Ｂ）開始剤化合物
本発明における開始剤化合物は増感色素の電子励起状態に起因する電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカル、酸、及び塩基からなる群より選択される少なくとも１種を生成する化合物である。
以下、このようにして生じたラジカル、酸、塩基を単に活性種と呼ぶ。これらの化合物が存在しない場合や、開始剤化合物のみを単独で用いた場合には、実用上十分な感度が得られないが、前記、増感色素と、活性化合物を併用する一つの態様として、これらを、適切な化学的方法（増感色素と、開始剤化合物との化学結合による連結等）によって単一の化合物として利用することも可能である。 Next, (B) the initiator compound, which is the second essential component of the photoinitiating system in the photosensitive composition of the present invention, will be described.
(B) Initiator Compound The initiator compound in the present invention undergoes a chemical change due to the effects of electron transfer, energy transfer, heat generation, etc. caused by the electronic excitation state of the sensitizing dye, and consists of radicals, acids, and bases. A compound that produces at least one selected from the group.
Hereinafter, radicals, acids, and bases generated in this way are simply referred to as active species. When these compounds are not present, or when only the initiator compound is used alone, practically sufficient sensitivity cannot be obtained, but as one aspect of using the sensitizing dye and the active compound in combination, These can be used as a single compound by an appropriate chemical method (such as linking of a sensitizing dye and an initiator compound through a chemical bond).

通常これらの、開始剤化合物の多くは、次の（１）から（３）に代表される初期化学プロセスをへて、活性種を生成するものと考えられる。即ち、（１）増感色素の電子励起状態から開始剤化合物への電子移動反応に基づく、開始剤化合物の還元的分解、（２）開始剤化合物から増感色素の電子励起状態への電子移動に基づく、開始剤化合物の酸化的分解、（３）増感色素の電子励起状態から開始剤化合物へのエネルギー移動に基づく、開始剤化合物の電子励起状態からの分解、である。個々の開始剤化合物が（１）から（３）のど
のタイプに属するかに関しては、曖昧な場合も多いが、本発明における、増感色素の大きな特徴は、これら何れのタイプの開始剤化合物と組み合わせても非常に高い増感効果を示すことにある。 Usually, many of these initiator compounds are considered to generate active species through the following initial chemical processes represented by (1) to (3). That is, (1) reductive decomposition of the initiator compound based on the electron transfer reaction from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound, and (2) the electron transfer from the initiator compound to the electronically excited state of the sensitizing dye. (3) decomposition of the initiator compound from the electronically excited state based on energy transfer from the electronically excited state of the sensitizing dye to the initiator compound. Although it is often ambiguous as to which type (1) to (3) each individual initiator compound belongs, the major feature of the sensitizing dye in the present invention is any of these types of initiator compounds. Even if it is combined, it has a very high sensitizing effect.

本発明における開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、 Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue,93,435(1993).やR. S. Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A: Chemistry, 73. 81 (1993). J. P.
Faussier " Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications" :Rapra Review
vol. 9, Report, Rapra Technology (1998年). M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996).などの文献に記載されている多数の化合物を使用することができる。また、前記(1)、(2)の機能を有する他の化合物群としては、さらに、F. D. Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990). G. G. Maslak, Topicsin Current Chemistry, 168, 1 (1993年). H. B. Shuster et al, JACS, 112, 6329 (1990). I. D. F. Eaton et al., JACS, 102, 3298 (1980).等に記載されているような、酸化的もしくは還元的に結合解裂を生じる化合物群もまた、開始剤化合物として使用できる。 As the initiator compound in the present invention, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically, for example, Bruce M. Monroe et al., Chemical Revue, 93, 435 (1993), RS Davidson, Journal, of Photochemistry and biology A: Chemistry, 73. 81 (1993) .JP
Faussier "Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications": Rapra Review
vol. 9, Report, Rapra Technology (1998). M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996). it can. Further, as other compound groups having the functions of (1) and (2), FD Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990). GG Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993) HB Shuster et al, JACS, 112, 6329 (1990). IDF Eaton et al., JACS, 102, 3298 (1980). The group of compounds that yields can also be used as initiator compounds.

以下、好ましい開始剤化合物の具体例に関し、（ａ）還元されて結合解裂を起こし活性種を生成するもの、（ｂ）酸化されて結合解裂を起こし活性種を生成しうるもの、（ｃ）その他のものに分類して説明するが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては通説がない場合も多く、本発明はこれらの反応機構に関する記述に制限を受けるものではない。   In the following, specific examples of preferred initiator compounds are: (a) those that are reduced to cause bond cleavage to generate active species, (b) those that can be oxidized to cause bond cleavage to generate active species, (c However, there are many cases where there is no general explanation as to which of the individual compounds belongs, and the present invention is not limited to the description of these reaction mechanisms.

（ａ）還元されて結合解裂を起こし活性種を生成するもの。
炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性種を発生すると考えられる（例えば、Polymer Preprints, Jpn., 41 (3) 542 (1992).に記載れている）。活性種としては、ラジカル、酸を発生しうる。具体的には、例えば、ハロメチル−ｓ−トリアジン類の他、M. P. Hutt, E. F. ElslagerおよびL. M. Merbel著Journal of Heterocyclic chemistry, 7, 511 (1970).に記載される合成方法により当業者が容易に合成しうるハロメチルオキサジアゾール類、また、ドイツ特許２６４１１００号，同３３３３４５０号，同３０２１５９０号、同３０２１５９９号に記載される化合物等が好適に使用できる。 (A) Those that are reduced to cause bond cleavage and generate active species.
Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that a carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active species (for example, described in Polymer Preprints, Jpn., 41 (3) 542 (1992). ) As the active species, radicals and acids can be generated. Specifically, for example, in addition to halomethyl-s-triazines, those skilled in the art can easily synthesize by the synthesis methods described in MP Hutt, EF Elslager and LM Merbel, Journal of Heterocyclic chemistry, 7, 511 (1970). Halomethyl oxadiazoles that can be used, and compounds described in German Patent Nos. 2641100, 3333450, 3021590, and 3021599 can be preferably used.

窒素−窒素結合もしくは、含窒素ヘテロ環−含窒素ヘテロ環結合を有する化合物：還元的に結合解裂を起こす（例えば、J. Pys. Chem., 96, 207 (1992).に記載されている）。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。生成する活性種はロフィンラジカルであり、必要に応じ水素供与体との併用で、ラジカル連鎖反応を開始するほか、ロフィンラジカルによる酸化反応を用いた画像形成も知られる（J. Imaging Sci.,
30, 215 (1986).に記載される）。 Compounds having a nitrogen-nitrogen bond or a nitrogen-containing heterocycle-nitrogen-containing heterocycle bond: reductive bond cleavage (for example, as described in J. Pys. Chem., 96, 207 (1992). ). Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used. The active species produced are lophine radicals, and in combination with hydrogen donors as necessary, radical chain reactions are initiated, and image formation using oxidation reactions with lophine radicals is also known (J. Imaging Sci.,
30, 215 (1986).

酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる（例えば、Polym. Adv. Technol., 1, 287 (1990).に記載されている）。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。活性種としてラジカルを発生しうる。   Compounds having an oxygen-oxygen bond: It is considered that an oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical (for example, described in Polym. Adv. Technol., 1, 287 (1990).) . Specifically, for example, organic peroxides are preferably used. A radical can be generated as an active species.

オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性種を発生すると考えられる（例えば、J. Photopolym. Sci. Technol., 3, 149 (1990).に記載されている）。具体的には例えば、欧州特許１０４１４３号，米国特許４８３７１２４号，特開平２−１５０８４８号，特開平２−９６５１４号に記載されるヨードニウム塩類、欧州特許３７０６９３号，同２３３５６７号，同２９７４４３号，同２９７４４２号，同２７９２１０号，同４２２５７０号，米国特許３９０２１４４号，同４９３３３７７号，同
４７６００１３号，同４７３４４４４号，同２８３３８２７号に記載されるスルホニウム塩類、ジアゾニウム塩類（置換基を有してもよいベンゼンジアゾニウム等）、ジアゾニウム塩樹脂類（ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド樹脂等）、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩類等（例えば、米国特許第４，７４３，５２８号、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特公昭４６−４２３６３号等に記載されるもので、具体的には１−メトキシ−４−フェニルピリジニウム テトラフルオロボレート等）、さらには特公昭５２−１４７２７７号、同５２−１４２７８号，同５２−１４２７９号記載の化合物が好適に使用される。活性種としてラジカルや酸を生成する。 Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active species (for example, as described in J. Photopolym. Sci. Technol., 3, 149 (1990). ing). Specifically, for example, iodonium salts described in European Patent No. 104143, U.S. Pat. No. 4,837,124, Japanese Patent Laid-Open No. 2-150848, and Japanese Patent Laid-Open No. 2-96514, European Patent Nos. 370693, 233567, 297443, 293442, 279210, 422570, U.S. Pat. Nos. 3,902,144, 4,933,377, 4,760013, 4,734,344 and 2,833,827, sulfonium salts and diazonium salts (which may have a substituent) Diazonium, etc.), diazonium salt resins (formaldehyde resin of diazodiphenylamine, etc.), N-alkoxypyridinium salts, etc. (for example, U.S. Pat. No. 4,743,528, JP-A-63-138345, JP-A-63-142345). No., JP 3-142346, JP-B-46-42363, etc., specifically 1-methoxy-4-phenylpyridinium tetrafluoroborate, etc.), and further, JP-B-52-147277, 52-14278. Nos. 52-14279 are preferably used. Generates radicals and acids as active species.

活性エステル類：スルホン酸やカルボン酸のニトロベンジルエステル類、スルホン酸やカルボン酸とＮ-ヒドロキシ化合物（Ｎ−ヒドロキシフタルイミドやオキシム等）とのエステル類、ピロガロールのスルホン酸エステル類、ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル類等は還元的に分解しうる。活性種としては、ラジカル、酸、を発生しうる。具体的な、スルホン酸エステル類の例としては、欧州特許０２９０７５０号、同０４６０８３号，同１５６１５３号，同２７１８５１号、同０３８８３４３号，米国特許３９０１７１０号，同４１８１５３１号，特開昭６０−１９８５３８号，特開昭５３−１３３０２２号に記載されるニトロベンズルエステル化合物、欧州特許０１９９６７２，同８４５１５号，同１９９６７２，同０４４１１５号，同０１０１１２２号，米国特許４６１８５６４，同４３７１６０５号，同４４３１７７４号、特開昭６４−１８１４３号，特開平２−２４５７５６号，特開平４−３６５０４８号記載のイミノスルホネート化合物、特公昭６２−６２２３号、特公昭６３−１４３４０号，特開昭５９−１７４８３１号に記載される化合物等が挙げられ、さらに、例えば下記に示すような化合物が挙げられる。   Active esters: nitrobenzyl esters of sulfonic acid or carboxylic acid, esters of sulfonic acid or carboxylic acid with N-hydroxy compounds (N-hydroxyphthalimide, oxime, etc.), sulfonic acid esters of pyrogallol, naphthoquinone diazide-4 -Sulfonates can be reductively decomposed. As the active species, radicals and acids can be generated. Specific examples of the sulfonic acid esters include European Patent Nos. 0290750, 046083, 1156153, 271851, 0388343, U.S. Pat. Nos. 3,901,710 and 4,181,531, Japanese Patent Laid-Open No. 60-198538. Nitrobenzester compounds described in JP-A-53-133022, European Patents 0196672, 84515, 199672, 044115, 0101122, US Pat. Nos. 4,618,564, 4371605, and 4431774, The iminosulfonate compounds described in JP-A No. 64-18143, JP-A-2-245756, JP-A-4-365048, JP-B-62-2223, JP-B-63-14340, JP-A-59-174831 Compounds, etc. For example compounds may be mentioned below.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（式中、Ａｒは置換されてもよい芳香族基、脂肪族基を表す。）   (In the formula, Ar represents an aromatic group or an aliphatic group which may be substituted.)

また、活性種として塩基を生成することも可能であり、例えば下記のような化合物群が知られる。
フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的には例えば、特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号に開示されている。 Moreover, it is also possible to produce | generate a base as an active species, for example, the following compound groups are known.
Ferrocene and iron arene complexes: An active radical can be reductively generated. Specifically, for example, they are disclosed in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（式中、Ｒは置換されてもよい脂肪族基、芳香族基を表す。）
ジスルホン類：還元的にＳ−Ｓ結合解裂を起こし酸を発生しうる。例えば特開昭６１−１６６５４４に記載されるようなジフェニルジスルホン類が知られる。 (In the formula, R represents an optionally substituted aliphatic group or aromatic group.)
Disulfones: Reducing S—S bond reductively and generating an acid. For example, diphenyl disulfones as described in JP-A 61-166544 are known.

（ｂ）酸化されて結合解裂を起こし活性種を生成するもの。
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる（例えば、J. Am. Chem. Soc., 112, 6329 (1990).に記載される）。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。 (B) Those that are oxidized to cause bond cleavage and generate active species.
Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical (for example, as described in J. Am. Chem. Soc., 112, 6329 (1990)). Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.

アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる（例えば、J. Am. Chem. Soc., 116, 4211 (1994).に記載される）。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。   Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical (for example, J. Am. Chem. Soc., 116, 4211 (1994). As described in). X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines, and the like.

含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。   Sulfur-containing and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. Further, a compound having an SS bond is also known to be sensitized by SS cleavage.

α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類を挙げることができる。   α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl] -2-morpholinopronone-1 and these and a hydroxylamine were reacted, and then N—OH was etherified. Mention may be made of oxime ethers.

スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙げることができる。   Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include sodium arylsulfinate.

（ｃ）増感機構は明確ではないが、開始剤化合物として機能しうる化合物
その他増感機構は明確ではないが、開始剤化合物として機能しうるものも多く、これらもまた、本発明において開始剤化合物として用いうる。例えば、チタノセン化合物、フェロセン化合物等の有機金属化合物や芳香族ケトン、アシルフォスフィン、ビスアシルフォスフィン類等が挙げられ、活性種として、ラジカルあるいは酸を発生しうる。 (C) Although the sensitization mechanism is not clear, the compound can function as an initiator compound. Other sensitization mechanisms are not clear, but many of them can function as an initiator compound, and these are also the initiators in the present invention. It can be used as a compound. For example, organometallic compounds such as titanocene compounds and ferrocene compounds, aromatic ketones, acylphosphine, bisacylphosphine and the like can be mentioned, and radicals or acids can be generated as active species.

以下、本発明に使用される開始剤化合物のうち、感度や安定性に特に優れる好ましい化
合物群を具体的に例示する。
（１）ハロメチルトリアジン類
ハロメチルトリアジン類としては、下記式［II］で表される化合物が挙げられる。特にラジカル発生、酸発生能に優れる。 Hereinafter, among the initiator compounds used in the present invention, a preferred compound group particularly excellent in sensitivity and stability will be specifically exemplified.
(1) Halomethyltriazines Examples of halomethyltriazines include compounds represented by the following formula [II]. Particularly excellent in radical generation and acid generation ability.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

前記式［II］中、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｙ1は−ＣＸ3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ1’、−ＮＲ1’2、−ＯＲ1’を表す。ここでＲ1’はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表す。またＲ1は−ＣＸ3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表す。
このような化合物の具体例としては、例えば、若林ら著、Bull. Chem. Soc. Japan, ４２，２９２４（１９６９）記載の化合物、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（２' ，４' −ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許第1388492 号明細書記載の化合物、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等、独国特許第3337024 号明細書記載の化合物、例えば下記の化合物を挙げることができる。 In the formula [II], X represents a halogen atom. Y 1 represents —CX 3 , —NH 2 , —NHR 1 ′, —NR 1 ′ 2 , or —OR 1 ′. Here, R 1 ′ represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. R 1 represents —CX 3 , an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a substituted alkenyl group.
Specific examples of such compounds include, for example, compounds described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), such as 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl)- S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2 -(P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl)- S- And triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, and the like. In addition, compounds described in GB 1388492, for example, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine Compounds described in JP-A-53-133428, such as 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho) -1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6-bis-trichloro Examples of the compound described in DE 3337024, such as methyl-S-triazine, include the following compounds.

Figure 2007025057
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Figure 2007025057
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また、F. C. Schaefer等による J. Org. Chem.，２９，１５２７（１９６４）記載の化合物、例えば２−メチル−４，６−ビス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。
さらに特開昭６２−５８２４１号記載の化合物、例えば下記の化合物を挙げることができる。 Further, compounds described in J. Org. Chem., 29, 1527 (1964) by FC Schaefer et al., For example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (Tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl And -6-trichloromethyl-S-triazine.
Further, compounds described in JP-A No. 62-58241, for example, the following compounds can be mentioned.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
Figure 2007025057

さらに特開平５−２８１７２８号記載の化合物、例えば下記の化合物を挙げることができる。   Further, compounds described in JP-A-5-281728, for example, the following compounds can be mentioned.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（３）ボレート塩化合物
下記式［III］で表されるボレート塩類はラジカル発生能に優れる。 (3) Borate salt compounds Borate salts represented by the following formula [III] are excellent in radical generating ability.

Figure 2007025057
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前記式［III］中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、または置換もしくは無置換の複素環基を示し、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はその２個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54のうち、少なくとも１つは置換または無置換のアルキル基である。Ｚ+はアルカリ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示す。 In the formula [III], R 51 , R 52 , R 53 and R 54 may be the same or different from each other, and each is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted group. An alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein R 51 , R 52 , R 53 and R 54 are combined to form a cyclic structure. May be. However, at least one of R 51 , R 52 , R 53 and R 54 is a substituted or unsubstituted alkyl group. Z + represents an alkali metal cation or a quaternary ammonium cation.

上記Ｒ51〜Ｒ54のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、下記の基、 The alkyl groups of R 51 to R 54 include straight chain, branched, and cyclic groups, and those having 1 to 18 carbon atoms are preferable. Specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, stearyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like are included. Examples of the substituted alkyl group include the above alkyl groups, halogen atoms (for example, -Cl, -Br, etc.), cyano groups, nitro groups, aryl groups (preferably phenyl groups), hydroxy groups, the following groups,

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（ここでＲ55、Ｒ56は独立して水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、またはアリール基を示す。）、−ＣＯＯＲ57（ここでＲ57は水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基、またはアリール基を示す。）、−ＣＯＯＲ58または−ＯＲ59（ここでＲ58は炭素数１〜１４のアルキル基、またはアリール基を示す。）を置換基として有するものが含まれる。 (Here, R 55 and R 56 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, or an aryl group.), —COOR 57 (wherein R 57 represents a hydrogen atom, having 1 to 14 carbon atoms. an alkyl group or an aryl group,), -. COOR 58 or -OR 59 (wherein R 58 is included those having as a substituent a) an alkyl group or an aryl group, 1 to 14 carbon atoms..

上記Ｒ51〜Ｒ54のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基、または炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含まれる。 Examples of the aryl group of R 51 to R 54 include 1 to 3 ring aryl groups such as a phenyl group and a naphthyl group, and examples of the substituted aryl group include the substitution of the above substituted alkyl group with the above aryl group. And those having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms.

上記Ｒ51〜Ｒ54のアルケニル基としては、炭素数２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ、置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。 Examples of the alkenyl group represented by R 51 to R 54 include linear, branched, and cyclic groups having 2 to 18 carbon atoms, and examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the substituents of the substituted alkyl group. Is included.

上記Ｒ51〜Ｒ54のアルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖または分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。 Examples of the alkynyl group of R 51 to R 54 include linear or branched groups having 2 to 28 carbon atoms, and examples of the substituent of the substituted alkynyl group include those listed as the substituent of the substituted alkyl group. included.

また、上記Ｒ51〜Ｒ54の複素環基としてはＮ、ＳおよびＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。さらに置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。 In addition, examples of the heterocyclic group of R 51 to R 54 include a 5- or more-membered heterocyclic group containing at least one of N, S and O, preferably a 5- to 7-membered heterocyclic group. May contain a condensed ring. Furthermore, you may have what was mentioned as a substituent of the above-mentioned substituted aryl group as a substituent.

式［III］で示される化合物例としては具体的には米国特許第３５６７４５３号、同４３４３８９１号、ヨーロッパ特許第１０９７７２号、同１０９７７３号に記載されている化合物および以下に示すものが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula [III] include compounds described in U.S. Pat. Nos. 3,567,453 and 4,434,891, European Patents 109772 and 109773, and those shown below.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（４）ヘキサアリールビイミダゾール類
安定性に優れ、高感度なラジカル発生が可能である。具体的には、２，２' −ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ，ｏ' −ジクロロフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール、２，２' −ビス（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）−４，４' ，５，５' −テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。 (4) Hexaarylbiimidazoles Excellent in stability and capable of generating highly sensitive radicals. Specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5 '-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-tri Fluoromethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and the like.

（５）オニウム塩化合物
周期律表の１５（５Ｂ）、１６（６Ｂ）、１７（７Ｂ）族元素、具体的にはＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｉのオニウム化合物は感度にすぐれた開始剤化合物である、特にヨードニウム塩やスルホニウム塩、とりわけ、ジアリールヨードニウム、
トリアリールスルホニウム塩化合物は感度と保存安定性の両方の観点で極めて優れている。酸、および／またはラジカルの発生が可能であり、これらは目的に応じて、使用条件を適宜選択することで使い分けることができる。具体的には以下の化合物が挙げられる。 (5) Onium salt compounds 15 (5B), 16 (6B), and 17 (7B) group elements of the periodic table, specifically, N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te, I Onium compounds are sensitive initiator compounds, especially iodonium salts and sulfonium salts, especially diaryl iodonium,
Triarylsulfonium salt compounds are extremely excellent in terms of both sensitivity and storage stability. Acids and / or radicals can be generated, and these can be used properly by appropriately selecting the use conditions according to the purpose. Specific examples include the following compounds.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
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Figure 2007025057
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Figure 2007025057
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（６）有機過酸化物
有機過酸化物型の開始剤化合物を用いる場合、活性種としてラジカルの発生を非常に高感度で行うことができる。
本発明に使用される開始剤化合物（化合物（Ｂ））の他の例である（６）「有機過酸化物」としては分子中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、例えばメチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔ−ブチル
パーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチル過酸化マレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、３，３' ，４，４' −テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。 (6) Organic peroxide When an organic peroxide type initiator compound is used, radicals can be generated as active species with very high sensitivity.
(6) “Organic peroxide” as another example of the initiator compound (compound (B)) used in the present invention includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples thereof include, for example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, Diisopropylbenzene hydroperoxide, parame Hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide , Dicumyl peroxide, bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (t -Butylperoxy) hexyne-3, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, peroxy Benzoyl oxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide Meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl ) Peroxydicarbonate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyoctanoate, t-butylperoxy-3,5 5-trimethylhexanoate, t-butyl peroxylaurate, t-butyl peroxybenzoate, di-t-butyl peroxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-Butyl peroxide maleate Acid, t-butylperoxyisopropyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-amylperoxy) Carbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′ , 4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

これらの中で、３，３' ，４，４' −テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３' ，４，４' −テトラ（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。   Among these, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3 , 3 ′, 4,4′-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ Peroxyesters such as tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred. .

（７）チタノセン化合物
開始剤化合物に好適なチタノセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号等の各公報に記載のチタノセン化合物を挙げることができる。 (7) Titanocene compound As the titanocene compound suitable for the initiator compound, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2 And titanocene compounds described in each publication such as -4705.

上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕チタン、   Specific examples of the titanocene compound include di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl. Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1 -Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopenta Dienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1 − Di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyridin-1-yl) Phenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (methylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- Butylbialoyl-amino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ペン
チル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル）−（２，２−ジメチルブタノイル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methylacetyl) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-ethyl- (2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (2,2-dimethylbutane) Noyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-pentyl- (2,2-dimethylbutyl) Noyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl)-(2,2-dimethylbutanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) ) Bis [2,6-difluoro-3- (N-methylbutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methylpentanoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルシクロヘキシルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルイソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２，５，５−テトラメチル−１，２，５−アザジシロリジニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（オクチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−トリルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−ドデシルフェニルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylcyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl) Isobutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6- Difluoro-3- (2,2,5,5-tetramethyl-1,2,5-azadisilolidin-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- ( Octylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-tolylsulfonamide) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-dodecylphenyl sulfonyl) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−（１−ペンチルヘプチル）フェニルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（エチルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（４−ブロモフェニル）−スルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−ナフチルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ヘキサデシルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチル−（４−ドデシルフェニル）スルホニルアミド）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4- (1-pentylheptyl) phenylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(Ethylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((4-bromophenyl) -sulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-naphthylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (hexadecylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclo Pentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methyl- (4-dodecylphenyl)] Ruhoniruamido) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチル−４−（１−ペンチルヘプチル）フェニル）スルホニルアミド）〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリル）−スルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ピロリジン−２，５−ジオニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，４−ジメチル−３−ピロリジン−２，５−ジオニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フタルイミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（エトキシカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（２−クロロエトキシ）−カルボニルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methyl-4- (1-pentylheptyl) phenyl) sulfonylamide)] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (N-hexyl- (4-tolyl) -sulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (pyrrolidine-2,5-dioni-1) -Yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3,4-dimethyl-3-pyrrolidin-2,5-dioni-1-yl) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phthalimido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 Isobutoxycarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (ethoxycarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3-((2-chloroethoxy) -carbonylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェノキシカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルチオウレイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルチオウレイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルウレイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルウレイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ，Ｎ−ジアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジメチルウレイド）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phenoxycarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylthioureido) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-butylthioureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- ( 3-phenylureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-butylureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro -3- (N, N-diacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro 3- (3,3-dimethyl-ureido) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（アセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（デカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（オクタデカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（イソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチルヘキサノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−メチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (acetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butyrylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (decanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (octadecanoylamino) phenyl] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (isobutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethyl) Hexanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-methylbuta) Ylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (pivaloylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチル−２−メチルヘプタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（シクロヘキシルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2 -Ethyl-2-methylheptanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (cyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 , 6-Difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylpropanoylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-chloromethyl-2-methyl) 3-chloro-propanoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，４−キシロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−エチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４，６−メシチルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3,4-xyloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4- Ethylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,4,6-mesitylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [ 2,6-difluoro-3- (benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl) -2,2-dimethylpentanoylamino ] Phenyl titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6- Difluoro-3- (N-isobutylbenzoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチル）−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トルイルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethylpivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N -(Oxolan-2-ylmethyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl) -2,2-dimethylbutanoylamino ) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (oxolani-2-ylmethyl)-(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (si Ropentajieniru) bis [2,6-difluoro -3- (N- (4- Toruirumechiru) benzoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トルイルメチル）−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−トルイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，４−ジメチルペンチル）−２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４−ジメチルペンチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-toluylmethyl)-(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- ( N- (2,4-dimethylpentyl) -2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- - (2,4-dimethylpentyl) -2,2-dimethyl pentanoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−エトキシプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−アリルオキシプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−アリルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2 -Dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-ethoxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi) Enyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-allyloxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N -Allylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethylbutanoylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-(N-cyclohexylmethyl-benzoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N- (2-ethylhexyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) ) Bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl) -2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3- (N-hexylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro -3- (N-cyclohexylmethyl-2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium ,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル）ピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl) -2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 , 6-Difluoro-3- (N-hexyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl-2,2 -Dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl) pivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclo Ntajieniru) bis [2,6-difluoro -3- (N- (2- methoxyethyl) benzoylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−（２−エチル−２−メチルヘプタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl- (4-Toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl)-(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 , 6-Difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadiene) Le) bis [2,6-difluoro-3-(N-cyclohexylmethyl - (2-ethyl-2-methyl-heptanoyl) amino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（２−エチル−２−メチルブタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジメチル−２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-hexyl- (2-ethyl-2-methylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl-2,2-dimethyl) Pentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (oxolani-2-ylmethyl) -2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro -3- (3,3-dimethyl-2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) ) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [ 2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4- Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (2,2-di) Chill -3 chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロパノイル）−２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニルチオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopenta Dienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (N-isobutyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- ( 2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 (Butyl thiocarbonyl amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phenylthio carbonylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロパノイル）−２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) ) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [ 2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4- Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (2,2-di) Til-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-3- Chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニルチオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N -Butyl- (2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butylthiocarbonylamino) phenyl] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phenylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis Methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-(N-hexyl-2,2-dimethyl-butanoylamino) amino) phenyl] titanium,

ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（トリメチルシリルペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−トリメチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル−（１，１，２，−トリメチルプロピル）ジメチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6- Difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (trimethylsilylpentadienyl) ) Bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl-2,2-dimethylpropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- ( 2-methoxyethyl) -trimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6- Fluoro-3- (N-butylhexyldimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (1,1,2, -trimethylpropyl) Dimethylsilylamino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−エトキシメチル−３−メチル−２−アゼチオジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−アリルオキシメチル−３−メチル−２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−クロロメチル−３−メチル−２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（５，５−ジメチル−２−ピロリジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（６，６−ジフェニル−２−ピペリジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-ethoxymethyl-3-methyl-2-azethiodinon-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2, 6-difluoro-3- (3-allyloxymethyl-3-methyl-2-azetidinon-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-chloro Methyl-3-methyl-2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl-2,2-dimethylpropanoylamino) phenyl ] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (5,5-dimethyl-2-pyrrolidinoni-1-yl) phenyl] tita , Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (6,6-diphenyl-2-Piperijinoni-1-yl) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１，２−ベンジソチアゾロ−３−オン（１，１−ジオキシド）−２−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2,3-dihydro-1,2-benzisothiazolo-3-one (1,1-dioxide) -2-yl) phenyl] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro -3- (N-hexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl- (4-chlorobenzoyl) amino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl)-(4-chlorobenzoyl) a Roh) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-(N-(4-methylphenyl methyl) - (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−ク
ロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルアミノ）フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-benzyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl) -4-tolyl-sulfonyl] ) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-oxaheptyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 , 6-Difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bi [2,6-difluoro-3- (trifluoromethylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoroacetyl) phenyl] titanium,

ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイル）アミノ〕フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン等を挙げることができる。 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-chlorobenzoyl) amino] phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-chloro Benzoyl) amino] phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,7-dimethyl-7-methoxyoctyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (N-cyclohexylbenzoylamino) phenyl] titanium and the like.

好ましい開始剤化合物としては、ハロメチルトリアジン類、ヘキサアリールビイミダゾール類、チタノセン化合物が挙げられ、特に好ましくはヘキサアリールビイミダゾール類が挙げられる。   Preferable initiator compounds include halomethyltriazines, hexaarylbiimidazoles, and titanocene compounds, and particularly preferably hexaarylbiimidazoles.

以上述べた開始剤化合物に関しても、先の増感色素と同様、さらに、感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他の開始剤化合物パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。   The initiator compound described above can also be subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer as in the case of the sensitizing dye. For example, bonding with sensitizing dyes, addition-polymerizable unsaturated compounds and other initiator compound parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents for suppressing crystal precipitation, substituents for improving adhesion Methods such as introduction and polymerization can be used.

これらの開始剤化合物の使用法に関しても、先述の増感色素同様、感材の性能設計により適宜、任意に設定できる。例えば、２種以上併用することで、感光層への相溶性を高めることができる。
開始剤化合物の使用量は通常多い方が感光性の点で有利であり、感光層成分１００質量部に対し、０.５〜８０質量部、好ましくは１〜５０質量部の範囲で用いることで十分な感光性が得られる。 The method of using these initiator compounds can be arbitrarily set as appropriate depending on the performance design of the light-sensitive material as in the case of the sensitizing dye described above. For example, by using two or more kinds in combination, the compatibility with the photosensitive layer can be increased.
A larger amount of the initiator compound is usually advantageous in terms of photosensitivity, and is used in a range of 0.5 to 80 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the photosensitive layer component. Sufficient photosensitivity can be obtained.

本発明の感光性組成物における第３の必須成分「（Ｃ） 開始剤化合物より生成したラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的或いは化学的特性が不可逆的に変化する化合物」は上述の光開始系の光反応により生じた、活性種の作用により、その物理的もしくは化学的特性が不可逆的に変化して、硬化反応、発色、消色反応などが生じる化合物であり、このような性質を有するものであれば特に制限なく任意のものを使用でき、例えば、上述の開始系に挙げた化合物自身がそのような性質を有する場合も多い。
光開始系から生成したラジカル、酸、および／または塩基により、変化する（Ｃ）化合物の特性としては、例えば、吸収スペクトル（色）、化学構造、分極率等の分子的な物性や、溶解性、強度、屈折率、流動性、粘着性、等の材料的な物性の変化を含む。 Third essential component in the photosensitive composition of the present invention “(C) Compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radical, acid and base generated from an initiator compound” ”Is a compound that is generated by the photoreaction of the above-mentioned photoinitiating system, and its physical or chemical characteristics are irreversibly changed by the action of the active species, and a curing reaction, color development, decoloring reaction, etc. occur. Any compound having such properties can be used without particular limitation. For example, the compounds listed in the above-mentioned initiation system themselves often have such properties.
The characteristics of the compound (C) that changes depending on the radical, acid, and / or base generated from the photoinitiating system include, for example, molecular properties such as absorption spectrum (color), chemical structure, polarizability, and solubility. , Changes in material physical properties such as strength, refractive index, fluidity, and adhesiveness.

例えば、成分（Ｃ）重合性化合物として、ｐＨ指示薬のように、ｐＨによって吸収スペクトルの変化する化合物を用い、開始系から酸または塩基を発生させれば、露光部のみ色
調を変化させることができ、このような組成物は画像形成材料として有用である。同様に、（Ｃ）として、酸化・還元や求核付加反応により吸収スペクトルが変化する化合物を用いた場合、開始系から生成するラジカルによる酸化、還元等を引き起こし画像形成が可能である。そのような例は、例えば、J. Am. Chem. Soc., １０８, １２８ (１９８６年)、J. Imaging. Soc., ３０, ２１５（１９８６年）、Israel. J. Chem., ２５, ２６４ （１９８６年）に開示されている。 For example, if a compound whose absorption spectrum changes with pH, such as a pH indicator, is used as the component (C) polymerizable compound and an acid or base is generated from the initiation system, the color tone can be changed only in the exposed area. Such a composition is useful as an image forming material. Similarly, when a compound whose absorption spectrum is changed by oxidation / reduction or nucleophilic addition reaction is used as (C), it is possible to form an image by causing oxidation or reduction by radicals generated from the initiation system. Such examples are described, for example, in J. Am. Chem. Soc., 108, 128 (1986), J. Imaging. Soc., 30, 215 (1986), Israel. J. Chem., 25, 264. (1986).

なかでも、（Ｃ）化合物として、（Ｃ−１）ラジカル、酸、および／または塩基により反応する重合性化合物（以下、適宜、重合性化合物と称する）、具体的には、付加重合または、重縮合可能な化合物を用い、開始系と組み合わせることにより、光硬化性樹脂、あるいはネガ型フォトポリマーを形成可能である。また、このような組成物は平版印刷版原版のネガ型感光層としても有用である。   Among these, as the compound (C), (C-1) a polymerizable compound that reacts with a radical, an acid, and / or a base (hereinafter appropriately referred to as a polymerizable compound), specifically, addition polymerization or heavy polymerization. A photocurable resin or a negative photopolymer can be formed by using a condensable compound and combining with an initiation system. Such a composition is also useful as a negative photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor.

このような（Ｃ）成分としては、ラジカル重合性化合物（エチレン性不飽和結合を有する化合物等）やカチオン重合性化合物（エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、メチロール化合物等）、アニオン重合性化合物（エポキシ化合物等）が用いられ、そのような例は、例えば、フォトポリマー懇話会編、フォトポリマーハンドブック、工業調査会刊（１９８９）や、高分子、第４５巻，７８６（１９９６）等に記載される。また、（Ｃ）としてチオール化合物を用い、光ラジカル発生系と組み合わせた組成物も良く知られる。   Examples of such component (C) include radical polymerizable compounds (such as compounds having an ethylenically unsaturated bond), cationic polymerizable compounds (such as epoxy compounds, vinyl ether compounds, and methylol compounds), anionic polymerizable compounds (such as epoxy compounds). Such examples are described in, for example, Photopolymer Social Society, Photopolymer Handbook, published by Industrial Research Institute (1989), Polymer, Vol. 45, 786 (1996). A composition using a thiol compound as (C) and combined with a photoradical generation system is also well known.

（Ｃ）として酸分解性の化合物を用い、光酸発生剤と組み合わせることも有用である。例えば、側鎖や、主鎖が酸で分解する高分子を用い、光により溶解性や親疎水性等を変化させる材料は光分解型感光性樹脂、ポジ型フォトポリマーとして広く実用されている。そのような具体例は例えば、ACS. Symp. Ser. 242, 11 (1984)、特開昭６０−３６２５号、米国特許第５１０２７７１号，同５２０６３１７号，同５２１２０４７号，特開平４−２６８５０号，特開平３−１９２１７３１号，特開昭６０−１０２４７号，特開昭６２−４０４５０号等が挙げられる。   It is also useful to use an acid-decomposable compound as (C) and combine it with a photoacid generator. For example, a material that uses a polymer whose side chain or main chain is decomposed by an acid and changes its solubility or hydrophilicity / hydrophobicity by light is widely used as a photodegradable photosensitive resin or a positive photopolymer. Such specific examples are, for example, ACS. Symp. Ser. 242, 11 (1984), JP-A-60-3625, U.S. Pat. Nos. 5102771, 5206317, 5212047, JP-A-4-26850, JP-A-3-1921731, JP-A-60-10247, JP-A-62-245050 and the like.

以下には本発明の感光性組成物の主要な用途の一つである、高感度な平版印刷版原版を得る目的に対し特に優れた（Ｃ）化合物である付加重合性化合物を用いた場合を例に挙げ、より詳しく述べる。   In the following, one of the main uses of the photosensitive composition of the present invention, the case of using an addition polymerizable compound which is a compound (C) that is particularly excellent for the purpose of obtaining a highly sensitive lithographic printing plate precursor. Take an example and explain in more detail.

（Ｃ−１）付加重合性化合物
本発明に使用される好ましい（Ｃ）化合物である、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類と
の置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 (C-1) Addition polymerizable compound An addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, which is a preferred compound (C) used in the present invention, has at least one terminal ethylenically unsaturated bond. It is selected from compounds having, preferably two or more. Such compound groups are widely known in the industrial field, and these can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an unsaturated carboxylic acid ester having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional alcohol, an amine or a thiol, a halogen group Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters, amides with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols having a leaving substituent such as a tosyloxy group. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。 Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。 Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP Those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149, those containing an amino group described in JP-A-1-165613, and the like are also preferably used.
The aforementioned ester monomers can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。 Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｖ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (V) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ （Ｖ）
（ただし、Ｒ及びＲ’は、Ｈ又はＣＨ3を示す。） CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (V)
(However, R and R ′ represent H or CH 3. )

また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができる。   Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photosensitive composition having an extremely excellent photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、感光層中の他の成分（例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述のオー
バーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。感光層中の付加重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、感光層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、感光層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、付加重合性化合物は、感光層中の不揮発性成分に対して、好ましくは５〜８０質量％、更に好ましくは２５〜７５質量％の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても２種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。 About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both photosensitivity and intensity by using a compound) is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and an overcoat layer described later. Regarding the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the photosensitive layer, a larger amount is more advantageous in terms of sensitivity, but if it is too much, an undesirable phase separation occurs or a problem in the production process due to the adhesiveness of the photosensitive layer. For example, problems such as transfer of photosensitive layer components and manufacturing defects due to adhesion, and precipitation from a developer may occur. From these viewpoints, the addition polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably 25 to 75% by mass with respect to the nonvolatile component in the photosensitive layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

成分（Ｃ）として、前記（Ｃ−１）重合性化合物以外のものを用いる場合の含有量は、目的とする特性変化或いは用いられる化合物により最適な量を適宜選択しうるが、一般的には、酸化・還元や吸核付加反応により吸収スペクトルが変化する化合物を用いた場合、組成物の全固形分中１０〜８０質量％程度であることが好ましい。   As the component (C), the content in the case of using a compound other than the polymerizable compound (C-1) can be appropriately selected as appropriate depending on the intended property change or the compound used. When a compound whose absorption spectrum is changed by oxidation / reduction or nucleophilic addition reaction is used, it is preferably about 10 to 80% by mass in the total solid content of the composition.

（Ｄ）バインダーポリマー
本発明の感光性組成物の好ましい実施形態である平版印刷版原版の感光層への適用に際しては、感光性組成物には膜性向上などの観点から、さらにバインダーポリマーを使用することが好ましい。
バインダーポリマーとしては線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい。このような「線状有機高分子重合体」としては、どのような化合物を使用しても構わないが、好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。 (D) Binder polymer In application to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor which is a preferred embodiment of the photosensitive composition of the present invention, a binder polymer is further used in the photosensitive composition from the viewpoint of improving film properties. It is preferable to do.
As the binder polymer, it is preferable to contain a linear organic polymer. As such a “linear organic polymer”, any compound may be used, but preferably water or weak alkaline water soluble or swellable that enables water development or weak alkaline water development. A linear organic polymer is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film-forming agent for the composition but also according to its use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development is possible. Examples of such linear organic high molecular polymers include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-sho. 54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itacon Examples include acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.

特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
また、特公平７−１２００４号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特願平１０−１１６２３２号等に記載される、酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平１１−１７１９０７号記載のアミド基を有するバインダーは優れた現像性と膜強度を併せもち、好適である。 Among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition polymerizable vinyl monomers as required] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / as required Other addition-polymerizable vinyl monomers] are preferred because they are excellent in the balance of film strength, sensitivity and developability.
In addition, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. Urethane binder polymers containing acid groups described in Japanese Patent No. 271741 and Japanese Patent Application No. 10-116232 are very excellent in strength, and are advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
A binder having an amide group described in JP-A No. 11-171907 is suitable because it has excellent developability and film strength.

さらに、この他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし９０質量％を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５質量％である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、質量比で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。好ましい実施様態においてバインダーポリマーは実質的に水不要でアルカリに可溶なものが用いられる。そうすることで、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を用いないかもしくは非常に少ない使用量に制限できる。このような使用法においてはバインダーポリマーの酸価（ポリマー１ｇ当たりの酸含率を化学等量数で表したもの）と分子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸価は、０．４〜３．０ｍｅｑ／ｇであり、好ましい分子量は重量平均分子量で３０００から５０万の範囲であり、より好ましくは、酸価が０．６〜２．０ｍｅｑ／ｇ、重量平均分子量が１万から３０万の範囲である。 In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the entire composition. However, when it exceeds 90% by mass, a preferable result is not given in terms of the strength of the formed image. Preferably it is 30-85 mass%. The photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic polymer are preferably in the range of 1/9 to 7/3 by mass ratio. In a preferred embodiment, a binder polymer that does not require water and is soluble in alkali is used. By doing so, an organic solvent that is not environmentally preferable is not used as the developer, or the amount can be limited to a very small amount. In such a method of use, the acid value of the binder polymer (the acid content per gram of polymer expressed as a chemical equivalent number) and the molecular weight are appropriately selected from the viewpoint of image strength and developability. The preferred acid value is 0.4 to 3.0 meq / g, the preferred molecular weight is in the range of 3000 to 500,000 in terms of weight average molecular weight, more preferably the acid value is 0.6 to 2.0 meq / g, The weight average molecular weight is in the range of 10,000 to 300,000.

（Ｅ）その他の成分
本発明の感光性組成物には、さらにその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。
（Ｅ−１）共増感剤
ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いることで、感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、熱重合開始剤により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジカル、カチオン）と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。 (E) Other components The photosensitive composition of the present invention may further contain other components suitable for its use and production method. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.
(E-1) Co-sensitizer The sensitivity can be further improved by using a certain additive (hereinafter referred to as a co-sensitizer). These mechanisms of action are not clear, but many are thought to be based on the following chemical processes. That is, the photosensitivity initiated by the thermal polymerization initiator and the subsequent intermediate polymerization species (radicals and cations) generated in the course of the addition polymerization reaction react with the co-sensitizer to generate new active radicals. It is estimated that These can be broadly divided into (a) those that can be reduced to generate active radicals, (b) those that can be oxidized to generate active radicals, and (c) radicals that are more active by reacting with less active radicals. Can be classified into those that act as chain transfer agents, but there is often no generality as to which of these individual compounds belong.

（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物：還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素一酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。
フエロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。 (A) Compound that is reduced to produce an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that the carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used.
Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used.
Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that an oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides are preferably used.
Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active radicals. Specifically, for example, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used.
Ferrocene and iron arene complexes: An active radical can be reductively generated.

（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニリン類等があげられる。
含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたもの
が、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。 (B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.
Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines, and the like.
Sulfur-containing and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. Further, a compound having an SS bond is also known to be sensitized by SS cleavage.

α−置換メチルカルボニル化合物：酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨをエーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができる。
スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあげる事ができる。 α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl] -2-morpholinopronone-1 and these and a hydroxylamine were reacted, and then N—OH was etherified. Oxime ethers can be listed.
Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include arylsulfin sodium.

（ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物：例えば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳiＨ、ＧｅＨを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダゾール類等があげられる。 (C) Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, compounds having SH, PH, SiH, GeH in the molecule are used. These can generate hydrogen by donating hydrogen to a low-activity radical species to generate radicals, or after being oxidized and deprotonated. Specific examples include 2-mercaptobenzimidazoles.

これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平９−２３６９１３号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。なお、下記式中、−ＴＭＳはトリメチルシリル基を表す。   More specific examples of these co-sensitizers are described, for example, in JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity, and these are also applied in the present invention. be able to. Some examples are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following formulae, -TMS represents a trimethylsilyl group.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、感光層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や開始剤化合物、付加重合性不飽和化合物その他のパートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用で
きる。
これらの共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用いることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物１００質量部に対し０．０５〜１００質量部、好ましくは１〜８０質量部、さらに好ましくは３〜５０質量部の範囲が適当である。 These co-sensitizers can also be subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer as in the case of the above sensitizing dye. For example, bonds with sensitizing dyes, initiator compounds, addition polymerizable unsaturated compounds and other parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents for suppressing crystal precipitation, substituents for improving adhesion Methods such as introduction and polymerization can be used.
These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, and more preferably 3 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.

（Ｅ−２）重合禁止剤
また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ―ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷版用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。 (E-2) Polymerization inhibitor In the present invention, in addition to the above basic components, unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond that can be polymerized during production or storage of the photosensitive composition. In order to prevent this, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the entire composition. In addition, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and a lithographic printing plate precursor is used. It may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in the course of drying. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass of the total composition.

（Ｅ−３）着色剤等
さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用いる場合、その感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させる事ができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約０．５質量％〜約５質量％が好ましい。 (E-3) Colorant, etc. Furthermore, when the photosensitive composition of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. Thereby, so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and suitability for an image density measuring machine as a printing plate can be improved. As the colorant, many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerization type photosensitive layer. Therefore, it is particularly preferable to use a pigment as the colorant. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass of the total composition.

（Ｅ−４）その他の添加剤
さらに、本発明の感光性組成物を平版印刷版用原版に用いる場合、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。 (E-4) Other additives Furthermore, when the photosensitive composition of the present invention is used for a lithographic printing plate precursor, an inorganic filler, other plasticizer, or photosensitive layer surface is used to improve the physical properties of the cured film. You may add well-known additives, such as a fat-sensitizing agent which can improve ink inking property.

可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。   Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. 10 mass% or less can be added with respect to the total mass of the compound which has an ionic unsaturated double bond, and a binder.

また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するための、ＵＶ開始剤や、熟架橋剤等の添加もできる。
その他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設ける事を可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用を有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、耐刷性を高める事が可能であり、一方ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能となる。 Further, for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a mature crosslinking agent, or the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development.
In addition, it is possible to provide an additive and an intermediate layer for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and improving the development removability of the unexposed photosensitive layer. For example, by adding or undercoating a compound having a relatively strong interaction with the substrate, such as a compound having a diazonium structure or a phosphone compound, adhesion can be improved and printing durability can be improved. By adding or undercoating with a hydrophilic polymer such as acid or polysulfonic acid, the developability of the non-image area is improved, and the stain resistance can be improved.

平版印刷版原版を作製するために、本発明の感光性組成物を支持体上に塗布して感光層
を形成する際には、種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、２〜５０質量％が適当である。 In order to produce a lithographic printing plate precursor, when the photosensitive composition of the present invention is applied on a support to form a photosensitive layer, it is dissolved in various organic solvents and used. Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記感光層の支持体への塗布量は、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮し、用途に応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の感光性組成物の好ましい使用態様である走査露光用平版印刷版原版の感光層としての塗布量は、一般的には、乾燥後の質量で約０．ｌｇ／ｍ2〜約１０ｇ／ｍ2の範囲が適当である。より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ2である。 The coating amount of the photosensitive layer on the support is preferably selected as appropriate according to the use in consideration of the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, the strength of the exposed film and the printing durability. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. The coating amount as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor for scanning exposure, which is a preferred use mode of the photosensitive composition of the present invention, is generally about 0.00 by weight after drying. A range of lg / m 2 to about 10 g / m 2 is suitable. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

なお、本発明の感光性組成物を平版印刷版原版の感光層として用いる際には、感度と保存安定性の観点から、増感色素として一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を用い、開始剤化合物としてヘキサアリールビイミダゾール類を組み合わせた開始系を用いることが好ましく、これらからなる開始系と（Ｃ−１）付加重合性化合物とを含有する態様が特に好ましい。   When the photosensitive composition of the present invention is used as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, it is represented by the general formula (1) or the general formula (2) as a sensitizing dye from the viewpoint of sensitivity and storage stability. It is preferable to use an initiator system in which hexaarylbiimidazoles are combined as an initiator compound, and an embodiment containing an initiator system composed of these compounds and (C-1) an addition polymerizable compound is particularly preferable.

（支持体）
本発明の感光性組成物を用いた平版印刷版原版を得るには上記感光層を、表面が親水性の支持体上に設けることが望ましい。親水性の支持体としては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支持体を限定なく使用することができる。使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。また、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目的で適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。 (Support)
In order to obtain a lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention, it is desirable to provide the photosensitive layer on a support having a hydrophilic surface. As the hydrophilic support, a conventionally known hydrophilic support used in a lithographic printing plate can be used without limitation. The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc). , Copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) It is done. These may be a single component sheet such as a resin film or a metal plate, or may be a laminate of two or more materials. For example, a paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. And laminated sheets of different plastic films. Also, these surfaces may be subjected to appropriate known physical and chemical treatments for the purpose of imparting hydrophilicity and improving strength, if necessary.

特に好ましい支持体としては、紙、ポリエステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭４８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアル
ミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。 Particularly preferred supports include paper, polyester film or aluminum plate, among which dimensional stability is good and relatively inexpensive, and a surface with excellent hydrophilicity and strength can be provided by surface treatment as required. An aluminum plate is particularly preferred. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまたは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ましくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm〜０．３mmである。   A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
この様に粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。 In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, roughening (graining) treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate, etc., or anodic oxidation treatment, etc. It is preferable that surface treatment is performed.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
The aluminum plate roughened in this way can be subjected to an anodizing treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface through an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
支持体の親水化処理としては、米国特許第３６５８６６２号に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。また、特開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。 Furthermore, an aluminum plate that has been roughened and then immersed in an aqueous sodium silicate solution can be preferably used. As described in Japanese Examined Patent Publication No. 47-5125, an aluminum plate which has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment is carried out in an electrolytic solution in which an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or a salt solution thereof, or a combination of two or more thereof, is used. This is carried out by passing an electric current using the aluminum plate as an anode.
Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective as a hydrophilic treatment for the support. A surface obtained by combining a support subjected to electrolytic grain as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, and JP-A-52-30503 with the above-described anodizing treatment and sodium silicate treatment. Processing is also useful. Further, those obtained by performing mechanical surface roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodizing treatment, and sodium silicate treatment in this order as disclosed in JP-A-56-28893 are also suitable.

さらに、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
さらに特開平７−１５９９８３号に開示されているようなラジカルによって付加反応を
起こし得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
その他好ましい例として、任意の支持体上に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも上げることができる。このような表面層としては例えば米国特許第３０５５２９５号や、特開昭５６−１３１６８号記載の無機顔料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４記載の親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７記載の酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜等を挙げることができる。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするために施される以外に、その上に設けられる感光性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性向上等のために施されるものである。 Furthermore, after performing these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having sulfonic acid groups in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate) or Those having a primer such as a yellow dye or an amine salt are also suitable.
Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A-7-159983 is covalently used.
As another preferred example, a substrate provided with a water-resistant hydrophilic layer as a surface layer on an arbitrary support can be raised. Examples of such a surface layer include a layer composed of an inorganic pigment and a binder described in U.S. Pat. No. 3,055,295 and JP-A-56-13168, a hydrophilic swelling layer described in JP-A-9-80744, Examples thereof include sol-gel films made of titanium oxide, polyvinyl alcohol, and silicic acids described in 8-507727.
These hydrophilic treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions of the photosensitive composition provided thereon, and to improve the adhesion of the photosensitive layer, etc. It is for the purpose.

（保護層）
本発明の感光性組成物を走査露光用平版印刷版原版に用いる場合、重合性の化合物を含む感光層の上に、必要に応じて保護層を設ける事ができる。このような平版印刷版原版は、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過性が良好で、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。 (Protective layer)
When the photosensitive composition of the present invention is used in a lithographic printing plate precursor for scanning exposure, a protective layer can be provided on the photosensitive layer containing a polymerizable compound as necessary. Such a lithographic printing plate precursor is usually exposed in the air, but the protective layer is a low molecular weight molecule such as oxygen or a basic substance present in the air that inhibits the image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer. This prevents the compound from being mixed into the photosensitive layer and prevents the inhibition of the image forming reaction due to exposure in the air. Therefore, the properties desired for such a protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, excellent adhesion to the photosensitive layer, And it is desirable that it can be easily removed in the development process after exposure.

このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第３、４５８、３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。特に、ポリビニルアルコールに対しポリビニルピロリドンを１５〜５０質量％の範囲で置き換えた混合物が保存安定性の観点から好ましい。   Such a device for the protective layer has been conventionally devised, which is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, Water-soluble polymers such as acrylic acid are known, but among these, using polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. In particular, a mixture obtained by replacing polyvinyl pyrrolidone in a range of 15 to 50% by mass with respect to polyvinyl alcohol is preferable from the viewpoint of storage stability.

ポリビニルアルコールの具体例としては７１〜１００％加水分解され、分子量が３００から２４００の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ一ＣＳ、ＰＶＡ―ＣＳＴ、ＰＶＡ一ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。   Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a molecular weight in the range of 300 to 2400. Specifically, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害に
より膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。 Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a new oil-based polymer layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization.

これに対し、これら２層間の接着性を改すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第２９２、５０１号、米国特許第４４、５６３号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジヨンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０質量％混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する事ができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，４５８，３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Pat. No. 292,501 and U.S. Pat. No. 44,563 contain 20-60 of acrylic emulsion or water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing by mass% and laminating on a polymerized layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.

さらに、保護層に他の機能を付与する事もできる。例えば、露光に使う光（例えば、赤外線レーザならば波長７６０〜１２００ｎｍ）の透過性に優れ、かつ露光に係わらない波長の光を効率良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに高める事ができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (such as a water-soluble dye) that is excellent in transparency of light used for exposure (for example, a wavelength of 760 to 1200 nm for an infrared laser) and can efficiently absorb light of a wavelength that is not related to exposure. Therefore, the suitability for safelight can be further enhanced without lowering the sensitivity.

本発明の感光性組成物を用いた平版印刷版原版を製版し、平版印刷版とする際には、通常、以下に詳述する露光処理（画像露光）を施した後、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を形成する。これらの感光性組成物を平版印刷版の作製に使用する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％になるように添加される。   When a lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention is made into a lithographic printing plate, it is usually subjected to an exposure process (image exposure) described in detail below, and then a photosensitive layer with a developer. The unexposed portion is removed to form an image. As a preferred developer when these photosensitive compositions are used for preparing a lithographic printing plate, a developer as described in JP-B-57-7427 is exemplified, and sodium silicate and potassium silicate are used. , Sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia etc. A suitable inorganic alkaline agent or an aqueous solution of an organic alkaline agent such as monoethanolamine or diethanolamine is suitable. It is added so that the concentration of such an alkaline solution is 0.1 to 10% by mass, preferably 0.5 to 5% by mass.

また、このようなアルカリ性水溶液には、必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載されているものを挙げることができる。
さらに、特開昭５０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載されている現像液も優れている。 Such an alkaline aqueous solution may contain a small amount of a surfactant, an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, and 2-butoxyethanol as necessary. Examples thereof include those described in US Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480.
Further, the developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, and 56-42860 are also excellent.

ここで用いられる特に好ましい現像液としては、特開２００２−２０２６１６公報に記載の、下記一般式（VI）式で表される非イオン性化合物を含有し、ｐＨが１１．５〜１２．８であり、かつ３〜３０ｍＳ／ｃｍの電導度を有する現像液が挙げられる。
Ａ−Ｗ 一般式（VI）
（前記一般式（VI）中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。） A particularly preferred developer used here contains a nonionic compound represented by the following general formula (VI) described in JP-A No. 2002-202616, and has a pH of 11.5 to 12.8. And a developer having a conductivity of 3 to 30 mS / cm.
A-W General Formula (VI)
(In the general formula (VI), A represents a hydrophobic organic group having a log P of AH of 1.5 or more, and W represents a nonionic hydrophilic organic group having a log P of W-H of less than 1.0. Represents.)

ｌｏｇＰとは、Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ，Ａ．Ｌｅｏ，“Ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ ｆｏｒ Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ”，Ｊ．Ｗｉｌｅ＆Ｓｏｎｓ，（１９７９年）記載の疎水性パラメータとして一般的に使用されるものであり、目的とする分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタノール／水２層系に対して、各層に分配される割合から算出した平衡濃度比Ｐの対数として定義される。
ここでは、一般式（VI）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標として使用しており、Ａ，Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結合させた、Ａ−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、Ａ．Ｋ．Ｃｈｏｓｅ、ｅｔ．ａｌ．Ｊ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｃｈｅｍ．９，８０（１９８８）．記載の方法に
基づき、既知データより計算し、求めたものである。 logP is C.I. Hansch, A.M. Leo, “Substituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology”, J. Am. Commonly used as a hydrophobicity parameter as described in Wille & Sons, (1979) and distributed to each layer for the octanol / water bilayer system of the molecule of interest (AH and WH). Defined as the logarithm of the equilibrium concentration ratio P calculated from the ratio.
Here, it is used as an index for identifying each group of A and W in the general formula (VI), and is an AH or WH structure conveniently bonded to a hydrogen atom to each organic group of A or W. A. K. Choose, et. al. J. et al. Comput. Chem. 9, 80 (1988). Based on the described method, it is calculated from known data.

具体的には、構造としては、有機基Ａ、Ｗは互いに異なり、上述のｌｏｇＰを満足する、一価の有機残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、シアノ基、ニトロ基を表す。   Specifically, as the structure, the organic groups A and W are different from each other, and represent a monovalent organic residue that satisfies the above-mentioned logP. More preferably, they are the same or different from each other and may have a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent, and may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a substituted oxy group. , Mercapto group, substituted thio group, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, carboxylate group, sulfo group, sulfonate group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, phosphono group, substituted phosphono group, phosphonato group, substituted phosphonate group Represents a cyano group or a nitro group.

上記置換基を有していても良く、かつ、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基としては、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、および置換アルキニル基が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group which may have the above substituent and may contain an unsaturated bond include an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, and an alkynyl group. Groups, and substituted alkynyl groups.

これらのアルキル基、置換アルキル基としては、先にＲ1、Ｒ2、Ｒ3の好ましい具体例として挙げたものを同様に挙げることができる。
また、ここで、これらの置換基における、アルキル基としては炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルへキシル基、２−メチルへキシル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。 As these alkyl groups and substituted alkyl groups, those exemplified above as preferred specific examples of R 1 , R 2 and R 3 can be similarly mentioned.
Here, in these substituents, examples of the alkyl group include a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group. Ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl Group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2- Mention may be made of norbornyl groups. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、エトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。
また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。 Specific examples of aryl groups include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, fluorophenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxy Phenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxy Carbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, phenoxycarbonylphenyl, N-phenylcarbamoylphenyl, phenyl, etrophenyl, cyanophenyl, sulfophenyl, sulfo Natofeniru group, phosphono phenyl group, such as phosphate Hona preparative phenyl group can be exemplified.
Examples of alkenyl groups include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Examples of alkynyl groups include ethynyl group, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, phenylethynyl group and the like.

上述のアシル基（Ｒ4ＣＯ−）としては、Ｒ4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリル
オキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルメチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、 The above-described acyl group (R 4 CO-), R 4 can be exemplified hydrogen atom and the above alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group.
On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. Specific examples of preferred substituted alkyl groups include chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl, methylthiomethyl, Ruthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N- Methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, methoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylbutyl group, ethoxycarbonyl Bonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, allyloxycarbonylmethyl group, benzyloxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylphenylmethyl group, trichloromethylcarbonylmethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N- Methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfopropyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfur Famoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphono Eniru) sulfamoyl-octyl group,

ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノへキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロへニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、及び、下記官能基等を挙げることができる。 Phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phospho Natoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-prohenylmethyl group, 2-butenyl group , 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, and the following functional groups.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

アリール基としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。   Examples of the aryl group include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, A naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group can be exemplified, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

置換アリール基は、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、（水素原子以外の）１価の非金属原子団の基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
これらの、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等をあげることができる。 As the substituted aryl group, those having a monovalent nonmetallic atomic group (other than a hydrogen atom) as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group described above are used. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group.
Preferred examples of these substituted aryl groups include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, Hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxyphenyl, methylthiophenyl, tolylthiophenyl, phenylthiophenyl, ethylaminophenyl, diethylaminophenyl, morpholinophenyl, acetyl Oxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoyl Minophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) ) Carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfa Moylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diph Nylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3-butynylphenyl group, and the like.

アルケニル基としては、前記導入可能な置換基において説明したアルケニル基と同様のものを挙げることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方、アルケニル基は上述のアルケニル基を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例としては、下記構造で示すもの等を挙げることができる。   Examples of the alkenyl group include the same alkenyl groups as those described above for the substituent that can be introduced. The substituted alkenyl group is a group in which the substituent is replaced and bonded to the hydrogen atom of the alkenyl group. As the substituent, the substituent in the above-mentioned substituted alkyl group is used, while the alkenyl group uses the above-mentioned alkenyl group. be able to. Examples of preferable substituted alkenyl groups include those represented by the following structures.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

アルキニル基としては、前記導入可能な置換基において説明したアルキニル基と同様のものを挙げることができる。置換アルキニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わり、結合したものであり、この置換基としては、上述の置換アルキル基における置換基が用いられ、一方、アルキニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。   Examples of the alkynyl group include the same alkynyl groups as those described above for the substituent that can be introduced. The substituted alkynyl group is a group in which the substituent is replaced with a hydrogen atom of the alkynyl group, and as the substituent, the substituent in the above-described substituted alkyl group is used, while the alkynyl group is the above-described alkynyl group. Can be used.

ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合してできた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘテロ環の例としては、下記構造で示すものが挙げられる
。 The heterocyclic group is a monovalent group obtained by removing one hydrogen on the heterocyclic ring and a group formed by bonding one substituent to the above-mentioned substituted alkyl group by further removing one hydrogen from the monovalent group. It is a valent group (substituted heterocyclic group). Examples of preferred heterocycles include those represented by the following structures.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
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置換オキシ基（Ｒ5Ｏ−）としては、Ｒ5が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ墓、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基を挙げる事ができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げる事ができる。 The substituted oxy group (R 5 O-), it can be used R 5 is a monovalent nonmetallic atom group exclusive of hydrogen. Preferred substituted oxy groups include alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, carbamoyloxy tombs, N-alkylcarbamoyloxy groups, N-arylcarbamoyloxy groups, N, N-dialkylcarbamoyloxy groups, N, N-diarylcarbamoyloxy groups. Groups, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy groups, alkylsulfoxy groups, arylsulfoxy groups, phosphonooxy groups, and phosphonatoxy groups. Examples of the alkyl group and aryl group in these include the alkyl groups, substituted alkyl groups, aryl groups, and substituted aryl groups described above.

また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ墓、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。 Examples of the acyl group (R 6 CO—) in the acyloxy group include those in which R 6 is the aforementioned alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these substituents, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, and an arylsulfoxy group are more preferable. Specific examples of preferred substituted oxy groups include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy grave, butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, dodecyloxy group, benzyloxy group, allyloxy group, phenethyloxy group, Carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxyethoxy group, Phenoxy, tolyloxy, xylyloxy, mesityloxy, cumenyloxy, methoxyphenyloxy, ethoxyphenyloxy, chlorophenyloxy, bromo Niruokishi group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group, a phenylsulfonyloxy group, a phosphonooxy group, phosphonatoxy and the like.

置換チオ基（Ｒ7Ｓ−）としてはＲ7が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用でき
る。好ましい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシルチオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルチオ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカルボニルチオ基等が挙げられる。 As the substituted thio group (R 7 S—), those in which R 7 is a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen can be used. Examples of preferred substituted thio groups include alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, aryldithio groups, and acylthio groups. Alkyl group in these alkyl groups described above as the aryl group, a substituted alkyl group, and aryl group, those can be cited shown as substituted aryl group, R 6 acyl group in the acylthio group (R 6 CO-) in As described above. Among these, an alkylthio group and an arylthio group are more preferable. Specific examples of preferable substituted thio groups include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, an ethoxyethylthio group, a carboxyethylthio group, and a methoxycarbonylthio group.

置換アミノ基（Ｒ8ＮＨ−，（Ｒ9）（Ｒ10）Ｎ−）としては、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10が水素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド墓、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。 As the substituted amino group (R 8 NH—, (R 9 ) (R 10 ) N—), those in which R 8 , R 9 and R 10 are monovalent nonmetallic atomic groups excluding hydrogen can be used. Preferred examples of the substituted amino group include an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, an N, N-diarylamino group, an N-alkyl-N-arylamino group, an acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido tomb, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N', N'-diarylureido group N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkyl Ureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′- Aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl- N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group can be mentioned.

これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これらのうち、より好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group and aryl group include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group, such as acylamino group, N-alkylacylamino group, and N-arylacylamino. R 6 acyl group (R 6 CO-) in the group is as previously described. Among these, more preferred are N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, and acylamino group. Specific examples of preferred substituted amino groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, morpholino group, piperidino group, pyrrolidino group, phenylamino group, benzoylamino group, acetylamino group and the like.

置換カルボニル基（Ｒ11−ＣＯ−）としては、Ｒ11が一価の非金属原子団のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらのうち、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、があげられ、更により好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。 As the substituted carbonyl group (R 11 —CO—), those in which R 11 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples of the substituted carbonyl group include formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group may be mentioned. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these, more preferred substituted carbonyl groups include formyl, acyl, carboxyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, carbamoyl, N-alkylcarbamoyl, N, N-dialkylcarbamoyl, N-ary. A rucarbamoyl group, and even more preferred are a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group. Specific examples of preferred substituted carbonyl groups include formyl group, acetyl group, benzoyl group, carboxyl group, methoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, N-methylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group. And a morpholinocarbonyl group.

置換スルフィニル基（Ｒ12−ＳＯ−）としてはＲ12が一価の非金属原子団のものを使用できる。好ましい側としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらのうち、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfinyl group (R 12 —SO—), those in which R 12 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples include alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl Group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Of these, more preferred examples include an alkylsulfinyl group and an arylsulfinyl group. Specific examples of such a substituted sulfinyl group include a hexylsulfinyl group, a benzylsulfinyl group, and a tolylsulfinyl group.

置換スルホニル基（Ｒ13−ＳＯ2−）としては、Ｒ13が一価の非金属原子団のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfonyl group (R 13 —SO 2 —), those in which R 13 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. More preferable examples include an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Specific examples of such a substituted sulfonyl group include a butylsulfonyl group and a chlorophenylsulfonyl group.

スルホナト基（−ＳＯ3-）は前述のとおり、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種、のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。 As described above, the sulfonate group (—SO 3 —) means a conjugate base anion group of the sulfo group (—SO 3 H), and is usually preferably used together with a counter cation. Such counter cations include those generally known, ie, species, oniums (ammonium, sulfonium, phosphonium, iodonium, azinium, etc.) and metal ions (Na + , K + , Ca 2+ , Zn 2+ etc.).

カルボキシラート基（−ＣＯ2 -）は前述のとおり、カルボキシル基（ＣＯ2Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム頼（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。 As described above, the carboxylate group (—CO 2 − ) means a conjugate base anion group of the carboxyl group (CO 2 H), and is usually preferably used together with a counter cation. Examples of such counter cations include those generally known, that is, various onium salts (ammonium compounds, sulfonium compounds, phosphonium compounds, iodonium compounds, azinium compounds, etc.) and metal ions (Na + , K + , Ca). 2+ , Zn 2+, etc.).

置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。   The substituted phosphono group means a group in which one or two hydroxyl groups on the phosphono group are substituted with other organic oxo groups, and preferred examples thereof include the above-mentioned dialkylphosphono group, diarylphosphono group, alkylarylphospho group. Group, monoalkylphosphono group and monoarylphosphono group. Of these, dialkylphosphono groups and diarylphosphono groups are more preferred. Specific examples thereof include a diethyl phosphono group, a dibutyl phosphono group, a diphenyl phosphono group, and the like.

ホスホナト基（−ＰＯ3 2-、−ＰＯ3Ｈ-）とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。 As described above, the phosphonate group (—PO 3 2− , —PO 3 H − ) is a conjugated base anion group derived from the acid first dissociation or acid second dissociation of the phosphono group (—PO 3 H 2 ). Means. Usually, it is preferable to use it with a counter cation. Examples of such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium compounds, sulfonium compounds, phosphonium compounds, iodonium compounds: azinium compounds, etc.), and metal ions (Na + , K + , Ca 2+ , Zn 2+ etc.).

置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基のうち、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基を挙げることができる。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）が挙げられる。 The substituted phosphonato group is a conjugated base anion group obtained by substituting one organic oxo group with a hydroxyl group among the above-mentioned substituted phosphono groups. As a specific example, the above-described monoalkylphosphono group (—PO 3 H ( alkyl)), and a conjugate base of a monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)). Usually, it is preferable to use it with a counter cation. Such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium, sulfonium, phosphonium, iodonium, azinium, etc.) and metal ions (Na + , K + , Ca 2+ , Zn 2+ etc.).

前記式（Ｉ）中、Ａ及びＷの各構造における好ましい具体例を挙げれば、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗがポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機基である。   If the preferable specific example in each structure of A and W in said Formula (I) is given, A will be the organic group containing an aromatic, and W will be the nonionic organic group containing a polyoxyalkylene group.

なお、Ａ及びＷの構造を明確にするため、Ａ−ＨおよびＷ−Ｈで表される具体例を以下に示す。   In order to clarify the structures of A and W, specific examples represented by AH and WH are shown below.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
Figure 2007025057

また、前記一般式（VI）で表される非イオン性化合物の具体例（Ｙ−１〜Ｙ−２２）を以下に示す。   Specific examples (Y-1 to Y-22) of the nonionic compound represented by the general formula (VI) are shown below.

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
Figure 2007025057

前記一般式（VI）で表される非イオン性化合物として、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）で示されるものが挙げられる。   More preferable examples of the nonionic compound represented by the general formula (VI) include those represented by the following formula (IA) or (IB).

Figure 2007025057
Figure 2007025057

上記式中、Ｒ10、Ｒ20は、Ｈまたは炭素数１〜１００の炭化水素基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数（ただし、ｎ及びｍは同時に０ではない）である。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、さらにこれらの炭化水素基がエーテル結合、エステル結合またはアミド結合で結合したものも含む。
より好ましいＲ10、Ｒ20としては、Ｈまたは炭素数１〜１００の直鎖または分岐鎖アルキル基が挙げられる。また、Ｒ10、Ｒ20は基：Ｒ30−Ｘ−（Ｒ30は炭素数１〜１００の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、Ｘは−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−
、または−ＣＯＮＨ−を表す）を表してもよい。
より好ましくはＲ10、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖アルキル基または基：Ｒ30−Ｘ−（Ｒ30は炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、Ｘは−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、または−ＣＯＮＨ−）である。 In said formula, R < 10 >, R < 20 > is H or a C1-C100 hydrocarbon group, n and m are integers of 0-100 (however, n and m are not 0 simultaneously). Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group and the like, and further include those in which these hydrocarbon groups are bonded by an ether bond, an ester bond or an amide bond.
More preferable examples of R 10 and R 20 include H or a linear or branched alkyl group having 1 to 100 carbon atoms. R 10 and R 20 are groups: R 30 —X— (R 30 is a linear or branched alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, and X is —O—, —OCO—, —COO—, — NHCO-
Or represents -CONH-).
More preferably, R 10 and R 20 are a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or group having 1 to 10 carbon atoms: R 30 —X— (R 30 is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) And X is —O—, —OCO—, —COO—, —NHCO—, or —CONH—.

一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエ−テル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula (IA) include polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene methyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like.
Examples of the compound represented by the general formula (IB) include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene methyl naphthyl ether, polyoxyethylene octyl naphthyl ether, polyoxyethylene nonyl naphthyl ether and the like.

前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。
前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使用される。 In the compounds of the general formulas (IA) and (IB), the number of repeating units of the polyoxyethylene chain is preferably 3-50, more preferably 5-30. The number of repeating units of the polyoxypropylene chain is preferably 0 to 10, more preferably 0 to 5. The polyoxyethylene part and the polyoxypropylene part may be random or block copolymers.
The nonionic aromatic ether activators represented by the general formulas (IA) and (IB) are used alone or in combination of two or more.

本発明において、前記一般式（Ｖ）で示される非イオン性化合物は、現像液中０．１〜１５質量％、好ましくは１．０〜８．０質量％添加することが効果的である。添加量が少なすぎると、現像性低下および感光層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎると、印刷版の耐刷性を低下させる。   In the present invention, it is effective to add the nonionic compound represented by the general formula (V) in the developing solution in an amount of 0.1 to 15% by mass, preferably 1.0 to 8.0% by mass. If the addition amount is too small, the developability and the solubility of the photosensitive layer components are lowered.

本発明に係る平版印刷版原版の製版プロセスにおいては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上、感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部領域における所望されない硬化反応が生起する等の問題を生じるおそれがある。一方、現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は２００〜５００℃の範囲加熱処理を行なう。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。   In the plate-making process of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. By such heating, the image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to carry out whole surface post-heating or whole surface exposure on the developed image. Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as an undesired curing reaction in the non-image area may occur. On the other hand, very strong conditions can be used for heating after development. Usually, a heat treatment in the range of 200 to 500 ° C. is performed. If the temperature is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur.

本発明に係る走査露光用平版印刷版原版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができる。望ましい、光源の波長は３５０ｎｍから４５０ｎｍであり、具体的にはＩｎＧａＮ系半導体レーザが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。また、本発明の感光層成分は、高い水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、このような構成の平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった方式を行うこともできる。   As a method for exposing the lithographic printing plate precursor for scanning exposure according to the present invention, a known method can be used without limitation. Desirably, the wavelength of the light source is 350 nm to 450 nm, and specifically, an InGaN-based semiconductor laser is suitable. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like. In addition, the photosensitive layer component of the present invention can be made soluble in neutral water or weak alkaline water by using a high water-soluble component. After loading on top, a system such as exposure-development can be performed on the machine.

３５０〜４５０nmの入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１W）、Ｋｒイオンレーザー（３５６nm、３５１nm、１０mW〜１W）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（４４１nm、３２５nm、１mW〜１００mW）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ4）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５nm、５mW〜１W）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０nm、１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ3リング共振器（
４３０nm、３０mW）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０nm〜４５０nm、５mW〜１００mW）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０mW）その他、パルスレーザーとしてＮ2レーザー（３３７nm、パルス０．１〜１０mJ）、ＸｅＦ（３５１nm、パルス１０〜２５０mJ）などが利用できる。
特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０nm、５〜３０mW）が波長特性、コストの面で好適である。 As an available laser light source of 350 to 450 nm, the following can be used.
As a gas laser, Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), He—Cd laser (441 nm, 325 nm, 1 mW to 100 mW), and Nd: Combination of YAG (YVO4) and SHG crystal x 2 times (355 nm, 5 mW to 1 W), combination of Cr: LiSAF and SHG crystal (430 nm, 10 mW), as a semiconductor laser system, KNbO3 ring resonator (
430 nm, 30 mW), a combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs, InGaAs semiconductor (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), a combination of waveguide type wavelength conversion element, AlGaInP, AlGaAs semiconductor (300 nm to 350 nm, 5 mW to 100 mW) AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW) In addition, N2 laser (337 nm, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ), etc. can be used as the pulse laser.
In particular, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN-based semiconductor laser 400 to 410 nm, 5 to 30 mW) is preferable in terms of wavelength characteristics and cost.

また走査露光方式の平版印刷版露光装置としては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源の中でパルスレーザー以外のもの全てを利用することができる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以下の露光装置が特に好ましい。
・内面ドラム方式でガスレーザーあるいは固体レーザー光源を１つ使用するシングルビーム露光装置
・フラットベッド方式で半導体レーザーを多数（１０個以上）使用したマルチビームの露光装置
・外面ドラム方式で半導体レーザーを多数（１０個以上）使用したマルチビームの露光装置 Further, as the lithographic printing plate exposure apparatus of the scanning exposure method, there are an inner drum method, an outer drum method, and a flat bed method as an exposure mechanism, and all of the light sources other than the pulse laser can be used as the light source. . Practically, the following exposure apparatus is particularly preferable in terms of the relationship between the photosensitive material sensitivity and the plate making time.
・ Single beam exposure system that uses one gas laser or solid-state laser light source with internal drum system ・ Multi-beam exposure system that uses many (10 or more) semiconductor lasers with flat bed system ・ Many semiconductor lasers with external drum system Multi-beam exposure equipment used (10 or more)

以上のようなレーザー直描型の平版印刷版においては、一般に感材感度Ｘ（Ｊ／ｃｍ2）、感材の露光面積Ｓ（ｃｍ2）、レーザー光源１個のパワーｑ（Ｗ）、レーザー本数ｎ、全露光時間ｔ（ｓ）との間に式（ｅｑ１）が成立する。
Ｘ・Ｓ＝ｎ・ｑ・ｔ − （ｅｑ１） In the laser direct-drawing lithographic printing plate as described above, the photosensitive material sensitivity X (J / cm 2 ), the photosensitive material exposure area S (cm 2 ), the power q (W) of one laser light source, the laser Equation (eq1) is established between the number n and the total exposure time t (s).
X · S = n · q · t − (eq1)

ｉ）内面ドラム（シングルビーム）方式の場合レーザー回転数ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）の間には一般的に式（ｅｑ２）が成立する。
ｆ・Ｚ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ２）
ｉｉ）外面ドラム（マルチビーム）方式の場合ドラム回転数Ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ３）が成立する。
Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ３）
ｉｉｉ）フラットベッド（マルチビーム）方式の場合ポリゴンミラーの回転数Ｈ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ４）が成立する。
Ｈ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ − （ｅｑ４） i) In the case of the internal drum (single beam) system, the laser rotation speed f (radians / s), the sub-scanning length Lx (cm) of the photosensitive material, the resolution Z (dots / cm), and the total exposure time t (s) In general, equation (eq2) holds.
f · Z · t = Lx − (eq2)
ii) In the case of the external drum (multi-beam) system, the drum rotation speed F (radians / s), the photosensitive material sub-scanning length Lx (cm), the resolution Z (dots / cm), the total exposure time t (s), the number of beams In general, equation (eq3) is established during (n).
F · Z · n · t = Lx − (eq3)
iii) In the case of a flat bed (multi-beam) system, the rotation speed H (radian / s) of the polygon mirror, the sub-scanning length Lx (cm) of the photosensitive material, the resolution Z (dot / cm), the total exposure time t (s), Equation (eq4) is generally established between the number of beams (n).
H · Z · n · t = Lx − (eq4)

実際の印刷版に要求される解像度（２５６０ｄｐｉ）、版サイズ（Ａ１／Ｂ１、副走査長４２ｉｎｃｈ）、２０枚／１時間程度の露光条件と本発明の感光性組成物の感光特性（感光波長、感度：約０．１ｍＪ／ｃｍ2）を上記式に代入することで、本発明の感材においては半導体レーザーのマルチビーム露光方式との組み合わせがより好ましいことが理解できる。さらに操作性、コスト等を掛け合わせることにより外面ドラム方式の半導体レーザーマルチビーム露光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。 Resolution (2560 dpi) required for an actual printing plate, plate size (A1 / B1, sub-scanning length 42 inch), exposure conditions of about 20 sheets / hour and photosensitive characteristics of the photosensitive composition of the present invention (photosensitive wavelength, By substituting (sensitivity: about 0.1 mJ / cm 2 ) into the above formula, it can be understood that a combination with a semiconductor laser multi-beam exposure method is more preferable in the light-sensitive material of the present invention. Further, by combining operability, cost, etc., a combination with an external drum type semiconductor laser multi-beam exposure apparatus is most preferable.

また、本発明の感光性組成物に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。   Further, as other exposure light for the photosensitive composition of the present invention, ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps Fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can also be used.

本発明による感光性組成物の用途としては、先に詳述した走査露光用平版印刷版原版の感光層の他、光硬化樹脂の用途として知られる広範な分野に制限なく適用できる。例えば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の感光性組成物に適用することで、高感度な光造形用材料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイクロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料にも応用できる。   Applications of the photosensitive composition according to the present invention can be applied without limitation to a wide range of fields known as applications of photocurable resins in addition to the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor for scanning exposure described in detail above. For example, a highly sensitive optical modeling material can be obtained by applying to a liquid photosensitive composition used in combination with a cationically polymerizable compound as necessary. Further, a hologram material can be obtained by utilizing a change in refractive index accompanying photopolymerization. It can be applied to various transfer materials (peeling sensitive material, toner developing sensitive material, etc.) by utilizing the change in surface adhesiveness accompanying photopolymerization. It can also be applied to photocuring of microcapsules. It can also be applied to the production of electronic materials such as photoresists, and photocurable resin materials such as inks, paints and adhesives.

本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Examples The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

＜合成例＞
例示化合物２５の合成
Ｎ-メチル-Ｎ-（トリメチルシリル）メチル-p-アミノベンズアルデヒド１ｇと3-シクロヘキシル-2-シクロヘキシルイミノオキサゾリジン-4-オン１.１９ｇをＴＨＦ１０ｍｌに溶解し、カリウムｔ−ブトキシド０.２５ｇを加え、外設温度６０℃で２時間反応させた。反応終了後、室温まで放冷してから水を加えて、反応生成物を酢酸エチルで抽出した。粗生成物をカラムクロマトグラフィーによって精製し、得られた結晶を乾燥することで、例示化合物２５を１.３ｇ得た（収率62%）。
質量分析スペクトル467（M+）。
1H NMR(CDCl3) d 0.10(s, 9H), 1.15-1.87 (m, 18H), 2.22-2.37 (m, 2H), 2.95(s, 2H), 3.00(s, 3H), 3.70-3.80(br, 1H), 4.00-4.10(m, 1H), 6.40(s, 1H), 6.63(d, J=6.8Hz, 2H), 7.53(d, J=6.8Hz, 2H)。
以下の実施例で使用した他の化合物についても、同様にして合成した。 <Synthesis example>
Synthesis of Exemplified Compound 25 1 g of N-methyl-N- (trimethylsilyl) methyl-p-aminobenzaldehyde and 1.19 g of 3-cyclohexyl-2-cyclohexyliminooxazolidin-4-one were dissolved in 10 ml of THF, and 0.1% of potassium t-butoxide was dissolved. 25 g was added and reacted at an external temperature of 60 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the mixture was allowed to cool to room temperature, water was added, and the reaction product was extracted with ethyl acetate. The crude product was purified by column chromatography, and the resulting crystals were dried to obtain 1.3 g of Exemplified Compound 25 (yield 62%).
Mass spectrum 467 (M + ).
1 H NMR (CDCl 3 ) d 0.10 (s, 9H), 1.15-1.87 (m, 18H), 2.22-2.37 (m, 2H), 2.95 (s, 2H), 3.00 (s, 3H), 3.70-3.80 (br, 1H), 4.00-4.10 (m, 1H), 6.40 (s, 1H), 6.63 (d, J = 6.8Hz, 2H), 7.53 (d, J = 6.8Hz, 2H).
Other compounds used in the following examples were synthesized in the same manner.

＜実施例１〜１３、比較例１〜７＞
（支持体の調製）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板を１０質量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後２０質量％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて１質量％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて１質量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬後３０質量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒間デスマット処理した後、２０質量％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄｍ2において、陽極酸化皮膜の厚さが２．７ｇ／ｍ2になるように、２分間陽極酸化処理した。その表面粗さを測定したところ、０．３μｍ （ＪＩＳ Ｂ０６０１によるＲａ表示）であった。
このように処理された基板の裏面に下記のゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍｇ／ｍ2のバックコート層を設けた支持体を作成した。 <Examples 1-13, Comparative Examples 1-7>
(Preparation of support)
An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was etched by being immersed in 10% by mass sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water, neutralized with 20% by mass nitric acid, and then washed with water. This was subjected to an electrolytic surface roughening treatment in a 1% by mass nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode time electricity of 300 coulomb / dm 2 . Subsequently, after dipping in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 5 seconds and then in a 30% by mass sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, the current density in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution was 2A / current density. At dm 2 , the anodization treatment was performed for 2 minutes so that the thickness of the anodized film was 2.7 g / m 2 . When the surface roughness was measured, it was 0.3 μm (Ra display according to JIS B0601).
The following sol-gel reaction liquid was applied to the back surface of the substrate thus treated with a bar coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, and a support provided with a backcoat layer having a coating amount after drying of 70 mg / m 2. It was created.

（ゾル−ゲル反応液）
テトラエチルシリケート ５０質量部
水 ２０質量部
メタノール １５質量部
リン酸 ０．０５質量部 (Sol-gel reaction solution)
Tetraethylsilicate 50 parts by weight Water 20 parts by weight Methanol 15 parts by weight Phosphoric acid 0.05 parts by weight

上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱が開始した。６０分間反応させた後、以下に示す液を加えることによりバックコート塗布液を調製した。   When the above components were mixed and stirred, heat generation started in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, a backcoat coating solution was prepared by adding the following solution.

ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００） ４質量部
ジメチルフタレート ５質量部
フッ素系界面活性剤 ０．７質量部
（Ｎ−ブチルペルフルオロオクタン／スルホンアミドエチルアクリレート／ポリオキシエチレンアクリレート共重合体：分子量２万）
メタノールシリカゾル ５０質量部
（日産化学工業（株）製，メタノール３０質量％）
メタノール ８００質量部 Pyrogallol formaldehyde condensation resin (molecular weight 2000) 4 parts by weight dimethyl phthalate 5 parts by weight fluorinated surfactant 0.7 parts by weight (N-butyl perfluorooctane / sulfonamidoethyl acrylate / polyoxyethylene acrylate copolymer: molecular weight 20,000)
50 parts by mass of methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., 30% by mass of methanol)
800 parts by mass of methanol

（感光層の調製）
このように処理されたアルミニウム支持体上に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布量が１．３ｇ／ｍ2となるように塗布し、８０℃２分間乾燥させ感光層を形成した。 (Preparation of photosensitive layer)
On the thus-treated aluminum support, a photosensitive composition having the following composition was applied such that the dry coating amount was 1.3 g / m 2 and dried at 80 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer.

（感光性組成物）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．５ｇ
アリルメタクリレート／メタクリル酸／Ｎ−イソプロピルアミド共重合体
（共重合モル比７０／１２／１８） ２．０ｇ
光重合開始系 （用いた化合物、含有量は表１中に記載）
・増感色素 Ｘｇ
・開始剤化合物 Ｙｇ
・共増感剤 Ｚｇ
フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） ０．０３ｇ
熱重合禁止剤 ０．０１ｇ
（Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
メチルエチルケトン ２０ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ
顔料分散物 ２．０ｇ (Photosensitive composition)
Pentaerythritol tetraacrylate 1.5g
Allyl methacrylate / methacrylic acid / N-isopropylamide copolymer (copolymerization molar ratio 70/12/18) 2.0 g
Photopolymerization initiation system (compounds used, contents listed in Table 1)
・ Sensitizing dye Xg
・ Initiator compound Yg
・ Co-sensitizer Zg
Fluorine nonionic surfactant (F-177P) 0.03g
Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
20g of methyl ethyl ketone
20g propylene glycol monomethyl ether
2.0 g of pigment dispersion

（顔料分散物の組成）
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６ １５質量部
・アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 １０質量部
（共重合モル比８３／１７）
・シクロヘキサノン １５質量部
・メトキシプロピルアセテート ２０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部 (Composition of pigment dispersion)
Pigment Blue 15: 6 15 parts by mass Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 10 parts by mass (copolymerization molar ratio 83/17)
-Cyclohexanone 15 parts by mass-Methoxypropyl acetate 20 parts by mass-Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by mass

（保護層の形成）
この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の３質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で２分間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。 (Formation of protective layer)
On this photosensitive layer, a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 550) was applied so that the dry coating weight was 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes for protection. A layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

〔感度の評価〕
このように得られた平版印刷版原版上に、富士写真フイルム（株）製の富士ステップガイド（△Ｄ＝０．１５で不連続的に透過光学濃度が変化するグレースケール）を密着させ、光学フィルターを通したキセノンランプにより既知の露光エネルギーとなるように露光を行った。
その後、下記組成の現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像を行い、画像が完全に除去される最高の段数を読み、その露光エネルギー量を求め、感度を算出した（単位、ｍＪ／ｃｍ2）。エネルギー量が小さい程、高感度であると評価する。短波半導体レーザへの露光適性を見積もる目的で、光学フィルターとしてケンコーＢＰ−４０を用い、４００ｎｍ
のモノクロミックな光で露光を行った。結果を表１に示す。 [Evaluation of sensitivity]
A Fuji step guide manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (gray scale whose transmission optical density changes discontinuously at ΔD = 0.15) was brought into close contact with the lithographic printing plate precursor thus obtained. Exposure was performed with a xenon lamp through a filter so as to obtain a known exposure energy.
Thereafter, the film was immersed in a developer having the following composition at 25 ° C. for 10 seconds, developed, the maximum number of steps at which the image was completely removed was read, the exposure energy amount was determined, and the sensitivity was calculated (unit, mJ / cm). 2 ). The smaller the amount of energy, the higher the sensitivity. For the purpose of estimating the suitability of exposure to a short-wave semiconductor laser, Kenko BP-40 is used as an optical filter and 400 nm.
The exposure was performed with monochromatic light. The results are shown in Table 1.

（現像液）
下記組成からなるｐＨ１２．０の水溶液
・水酸化カリウム ０．２ｇ
・１Ｋケイ酸カリウム ２．４ｇ
（ＳｉＯ2／Ｋ2Ｏ＝１．９）
・下記化合物 ５．０ｇ
・エチレンジアミンテトラ酢酸・４Ｎａ塩 ０．１ｇ
・水 ９１．３ｇ (Developer)
PH 12.0 aqueous solution with the following composition: Potassium hydroxide 0.2g
・ 1K potassium silicate 2.4g
(SiO 2 / K 2 O = 1.9)
・ The following compound 5.0 g
・ Ethylenediaminetetraacetic acid ・ 4Na salt 0.1g
・ Water 91.3g

Figure 2007025057
Figure 2007025057

Figure 2007025057
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なお、表１において光重合開始系で用いた本発明に係る増感色素の構造は前記例示化合物と同様である。また、開始剤化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１０）及び共増感剤（Ｃ−１）
〜（Ｃ−３）の構造は以下に示す通りである。比較例に用いた下記増感色素（ＤＲ−１）〜（ＤＲ−３）は本発明の範囲外の色素化合物である。下記式中、Ｔｓはトシル基を表す。 In Table 1, the structure of the sensitizing dye according to the present invention used in the photopolymerization initiation system is the same as that of the exemplified compound. In addition, initiator compounds (A-1) to (A-10) and a co-sensitizer (C-1)
The structure of (C-3) is as follows. The following sensitizing dyes (DR-1) to (DR-3) used in Comparative Examples are dye compounds outside the scope of the present invention. In the following formula, Ts represents a tosyl group.

Figure 2007025057
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Figure 2007025057
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Figure 2007025057
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表１に明らかなように本発明の感光性組成物を感光層に用いた平版印刷版原版はいずれも高感度で画像形成可能であり、この光開始系が実用上十分な感度を示すことがわかった。一方、増感色素のみ、開始剤化合物のみを用いた比較例１〜３は画像形成せず、また、開始剤化合物と本発明の範囲外である増感色素とを組合せた光開始系を用いた比較例４〜７の平版印刷版原版は、実用上充分な感度が得られないことが明らかであった。実施例１〜１３からは本発明の感光性組成物は、その増感機構によらず広い範囲のものが適用できることがわかる。さらに、実施例５、１０および１３と比較例４〜７との比較により、本発明の増感色素が高感度を示す構造上の特徴が、前記一般式（１）または一般式（２）で示される構造にあることが示唆される。   As is apparent from Table 1, all the lithographic printing plate precursors using the photosensitive composition of the present invention for the photosensitive layer can form an image with high sensitivity, and this photoinitiating system shows sufficient sensitivity for practical use. all right. On the other hand, Comparative Examples 1 to 3 using only the sensitizing dye and only the initiator compound do not form an image, and use a photoinitiating system in which the initiator compound and the sensitizing dye that is outside the scope of the present invention are combined. It was clear that the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 4 to 7 could not obtain practically sufficient sensitivity. It can be seen from Examples 1 to 13 that the photosensitive composition of the present invention can be applied in a wide range regardless of the sensitization mechanism. Further, by comparing Examples 5, 10 and 13 with Comparative Examples 4 to 7, the structural characteristics showing the high sensitivity of the sensitizing dye of the present invention are represented by the general formula (1) or the general formula (2). It is suggested to be in the structure shown.

＜実施例１４〜２７及び比較例８＞
実施例１〜１３で用いた支持体に、以下の手順で中間層、感光層、保護層を順次形成し
、平版印刷版原版を作製した。
（中間層の塗設）
支持体表面上に、フェニルホスホン酸の塗布量が２０ｍｇ／ｍ2となるようにように、下記の（Ａ）の組成の塗布液を調製し、ホイラーにて１８０ｒｐｍの条件で塗布後、８０℃で３０秒間乾燥させて中間層を形成した。 <Examples 14 to 27 and Comparative Example 8>
An intermediate layer, a photosensitive layer, and a protective layer were sequentially formed on the support used in Examples 1 to 13 in the following procedure to prepare a lithographic printing plate precursor.
(Coating intermediate layer)
On the surface of the support, a coating solution having the following composition (A) is prepared so that the coating amount of phenylphosphonic acid is 20 mg / m 2, and after coating at 180 rpm with a wheeler, 80 ° C. And dried for 30 seconds to form an intermediate layer.

（中間層塗布液Ａ）
フェニルホスホン酸 ０．０７ｇ〜１．４ｇ
メタノール ２００ｇ (Intermediate layer coating solution A)
Phenylphosphonic acid 0.07g ~ 1.4g
Methanol 200g

（感光層の塗設）
上記中間層を設けた支持体上に、下記組成の感光性組成物を調製し、塗布量が１．３ｇ／ｍ2になるように、ホイラーで塗布し、１００℃で１分間乾燥させて感光層を形成した。 (Coating of photosensitive layer)
A photosensitive composition having the following composition is prepared on a support provided with the above intermediate layer, coated with a wheeler so that the coating amount is 1.3 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute to be photosensitive. A layer was formed.

（感光性組成物）
付加重合性化合物（表２中に記載の化合物） １．６ｇ
バインダーポリマー（表２中に記載の化合物） ２．０ｇ
増感色素（表２中に記載の化合物） ０．１５ｇ
開始剤化合物（表２中に記載の化合物） ０．２ｇ
共増感剤（表２中に記載の化合物） ０．３ｇ
顔料分散物 ２．０ｇ
熱重合禁止剤 ０．０１ｇ
（Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
フッ素系界面活性剤 ０．０２ｇ
（大日本インキ化学工業（株）製、メガファックＦ−１７７）
メチルエチルケトン ２０．０ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０．０ｇ (Photosensitive composition)
Addition polymerizable compound (compound described in Table 2) 1.6 g
Binder polymer (compound described in Table 2) 2.0 g
Sensitizing dye (compound described in Table 2) 0.15 g
Initiator compound (compound described in Table 2) 0.2 g
Co-sensitizer (compound described in Table 2) 0.3 g
2.0 g of pigment dispersion
Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
Fluorosurfactant 0.02g
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd., MegaFuck F-177)
Methyl ethyl ketone 20.0g
Propylene glycol monomethyl ether 20.0g

（顔料分散物の組成）
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６ １５質量部
・アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 １０質量部
（共重合モル比８３／１７）
・シクロヘキサノン １５質量部
・メトキシプロピルアセテート ２０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部 (Composition of pigment dispersion)
Pigment Blue 15: 6 15 parts by mass Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 10 parts by mass (copolymerization molar ratio 83/17)
-Cyclohexanone 15 parts by mass-Methoxypropyl acetate 20 parts by mass-Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by mass

（保護層の形成）
この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の３質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で２分間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。 (Formation of protective layer)
On this photosensitive layer, a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 550) was applied so that the dry coating weight was 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes for protection. A layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

（平版印刷版原版の露光）
上記のようにして得られた平版印刷版原版を、光源として４００ｎｍの単色光を用い、版面露光エネルギー密度２００μＪ／ｃｍ2となるように露光パワーを調節し、ベタ画像露光および１７５線／インチ、１％刻みで１から９９％となる網点画像露光を行った。 (Exposure of planographic printing plate precursor)
Using the lithographic printing plate precursor obtained as described above, 400 nm monochromatic light as a light source, adjusting the exposure power so that the plate surface exposure energy density is 200 μJ / cm 2 , solid image exposure and 175 lines / inch, Halftone image exposure was performed from 1 to 99% in 1% increments.

（現像／製版）
富士写真フイルム（株）製自動現像機ＬＰ−８５０に所定の現像液（表２中に記載）と富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ−２Ｗをそれぞれ仕込み現像液温度３０℃
、現像時間１８秒の条件で露光済みの版を現像／製版し、平版印刷版を得た。 (Development / plate making)
Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic processor LP-850 was charged with a predetermined developer (described in Table 2) and Fuji Photo Film Co., Ltd. finisher FP-2W.
The exposed plate was developed / engraved under the condition of a development time of 18 seconds to obtain a lithographic printing plate.

（耐刷性試験）
印刷機としてローランド社製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本インキ化学工業(株)製ＧＥＯＳ−Ｇ（Ｎ）を使用した。印刷を継続しながらベタ画像部の印刷物を観察し、画像がかすれはじめた枚数によって耐刷性を調べた。数字が多いほど耐刷性がよいと評価する。 (Print durability test)
R201 manufactured by Roland was used as the printing machine, and GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as the ink. While the printing was continued, the printed matter in the solid image portion was observed, and the printing durability was examined based on the number of sheets on which the image began to fade. The larger the number, the better the printing durability.

（網点耐刷性強制試験）
印刷機としてローランド社製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本インキ化学工業(株)製ＧＥＯＳ−Ｇ（Ｎ）を使用した。印刷開始から５０００枚目に富士写真フイルム（株）製ＰＳプレートクリーナーＣＬ−２を印刷用スポンジにしみこませ、網点部を拭き、版面のインキを洗浄した。その後、１０，０００枚印刷を行い、印刷物における網点の版飛びの有無を目視で観察した。 (Forced dot printing test)
R201 manufactured by Roland was used as the printing machine, and GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as the ink. On the 5000th sheet from the start of printing, PS plate cleaner CL-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was soaked in a printing sponge, the halftone dots were wiped, and the ink on the printing plate was washed. Thereafter, 10,000 sheets were printed, and the presence or absence of halftone dots in the printed matter was visually observed.

（汚れ性試験）
印刷機としてローランド社製Ｒ２０１を使用し、インキとして大日本インキ化学工業(株)製ＧＥＯＳ−Ｇ（Ｓ）を使用して印刷を行ない、得られた印刷物を観察し、非画像部（未露光部）の汚れ性の状態を目視で評価した。 (Dirty test)
Printing is performed using R201 manufactured by Roland as a printing machine and GEOS-G (S) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. as an ink. Part) was evaluated visually.

（表２中の付加重合性化合物）
（Ｍ−１）：ペンタエルスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製；ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ）
（Ｍ−２）：グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（共栄社化学（株）製；ＵＡ１０１Ｈ） (Addition polymerizable compound in Table 2)
(M-1): Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; NK ester A-TMMT)
(M-2): Glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; UA101H)

（表２中のバインダーポリマー）
（Ｂ−１）：アリルメタクリレート／メタクリル酸／Ｎ−イソプロピルアクリルアミド
（共重合モル比６７／１３／２０）
ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価１．１５ｍｅｑ／ｇ
ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量１３万
（Ｂ−２）：アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合モル比８３／１７）
ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価１．５５ｍｅｑ／ｇ
ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量１２．５万
（Ｂ−３）：下記ジイソシアネートとジオールの縮重合物であるポリウレタン樹脂
・４、４’−ジフェニルメタンジイソイソシネート（ＭＤＩ）
・ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）
・ポリプロピレングリコール、重量平均分子量１０００（ＰＰＧ１０００）
・２、２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオニックアシッド（ＤＭＰＡ）
〔共重合モル比（ＭＤＩ／ＨＭＤＩ／ＰＰＧ１０００／ＤＭＰＡ）
４０／１０／１５／３５〕
ＮａＯＨ滴定により求めた実測酸価１．０５ｍｅｑ／ｇ
ＧＰＣ測定より求めた重量平均分子量４．５万 (Binder polymer in Table 2)
(B-1): Allyl methacrylate / methacrylic acid / N-isopropylacrylamide
(Molar ratio of copolymerization 67/13/20)
Measured acid value obtained by NaOH titration 1.15 meq / g
Weight average molecular weight 130,000 determined from GPC measurement (B-2): Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer
(Copolymerization molar ratio 83/17)
Measured acid value obtained by NaOH titration 1.55 meq / g
Weight average molecular weight determined by GPC measurement: 125,000 (B-3): polyurethane resin which is a polycondensation product of the following diisocyanate and diol
・ 4,4′-diphenylmethane diisoisocyanate (MDI)
・ Hexamethylene diisocyanate (HMDI)
-Polypropylene glycol, weight average molecular weight 1000 (PPG1000)
・ 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (DMPA)
[Copolymerization molar ratio (MDI / HMDI / PPG1000 / DMPA)
40/10/15/35]
Measured acid value determined by NaOH titration 1.05 meq / g
Weight average molecular weight determined by GPC measurement: 45,000

（表２中の現像液）
（ＤＶ−１）
下記組成からなるｐＨ１０の水溶液
・モノエタノールアミン ０．１ 質量部
・トリエタノールアミン １．５ 質量部
・下記式１の化合物 ４．０ 質量部
・下記式２の化合物 ２．５ 質量部
・下記式３の化合物 ０．２ 質量部
・水 ９１．７ 質量部 (Developer in Table 2)
(DV-1)
Aqueous solution of pH 10 having the following composition: 0.1 parts by mass of monoethanolamine 1.5 parts by mass of triethanolamine 1.5 parts of compound of formula 1 below 4.0 parts by mass of compound of formula 2 below 2.5 parts by mass of formula below 3 compounds 0.2 parts by mass / water 91.7 parts by mass

（ＤＶ−２）
下記組成からなるｐＨ１０の水溶液
・炭酸水素ナトリウム １．２ 質量部
・炭酸ナトリウム ０．８ 質量部
・下記式１の化合物 ３．０ 質量部
・下記式２の化合物 ２．０ 質量部
・下記式３の化合物 ０．２ 質量部
・水 ９２．８ 質量部 (DV-2)
An aqueous solution of pH 10 having the following composition: 1.2 parts by mass of sodium hydrogencarbonate, 0.8 part by mass of sodium carbonate, 3.0 parts by mass of the compound of the following formula 1, 2.0 parts by mass of the compound of the following formula 2, 2.0 parts by mass of the following formula 3 0.2 parts by mass of water 92.8 parts by mass of water

（ＤＶ−３）
下記組成からなるｐＨ１３の水溶液
・１Ｋケイ酸カリウム ３．０ 質量部
・水酸化カリウム １．５ 質量部
・下記式３の化合物 ０．２ 質量部
・水 ９５．３ 質量部 (DV-3)
PH 13 aqueous solution having the following composition: 1K potassium silicate 3.0 parts by mass Potassium hydroxide 1.5 parts by mass Compound of formula 3 below 0.2 parts by mass Water 95.3 parts by mass

（ＤＶ−４）
実施例１〜１３で用いたｐＨ１２の前記現像液 (DV-4)
The developer of pH 12 used in Examples 1-13

Figure 2007025057
Figure 2007025057

（ここでＲはＨまたはＣ4Ｈ9であり、ｎは約４（平均値）である。） (Where R is H or C 4 H 9 and n is about 4 (average value).)

Figure 2007025057
Figure 2007025057

表２から明らかなように、本発明の感光性組成物を感光層として用いた実施例１４〜２７の平版印刷版原版はいずれも、走査露光により高い生産性をもって製版可能な条件、即ち、非常に低エネルギーの露光条件によっても、優れた平版印刷版を提供しうることがわかった。一方、本発明に係る増感色素を用いない、比較例８の平版印刷版原版では、実用可能な平版印刷版は得られなかった。   As is apparent from Table 2, all of the lithographic printing plate precursors of Examples 14 to 27 using the photosensitive composition of the present invention as a photosensitive layer were capable of making a plate with high productivity by scanning exposure, that is, It was also found that an excellent lithographic printing plate can be provided even under low energy exposure conditions. On the other hand, the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 8 that does not use the sensitizing dye according to the present invention could not obtain a practical lithographic printing plate.

（実施例２８）
感光層に用いた感光性組成物において、光開始系を下記のような組成に変え、感光層の膜厚を１．５ｇ／ｍ2に変えた以外は実施例１と同様にして、実施例２８の平版印刷版原版を調製した。
（光開始系）
増感色素（例示化合物２５） ０．１ｇ
開始剤化合物（Ａ−１） ０．０８ｇ
共増感剤（Ｃ−２） ０．２ｇ (Example 28)
In the photosensitive composition used for the photosensitive layer, the photoinitiating system was changed to the following composition, and the film thickness of the photosensitive layer was changed to 1.5 g / m 2. 28 planographic printing plate precursors were prepared.
(Light initiation system)
Sensitizing dye (Exemplary Compound 25) 0.1 g
Initiator compound (A-1) 0.08 g
Co-sensitizer (C-2) 0.2g

（露光／現像）
得られた平版印刷版原版に対し、４００ｎｍの単色光を用い、露光エネルギー密度０．２５ｍＪ／ｃｍ2となる条件で、走査露光を行った。次に、版を１００℃で、１０秒間加熱後、実施例１と同様の条件で現像処理を実施したところ、視認性に優れた、青色の画像を有する平版印刷版が得られた。 (Exposure / Development)
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to scanning exposure using a monochromatic light of 400 nm under the condition of an exposure energy density of 0.25 mJ / cm 2 . Next, after the plate was heated at 100 ° C. for 10 seconds and developed under the same conditions as in Example 1, a lithographic printing plate having a blue image with excellent visibility was obtained.

（平版印刷版の評価）
得られた平版印刷版を用い、ハイデルベルグ社ＫＯＲ−Ｄ機を用い、オフセット印刷を実施したところ、画像濃度優れ、非画像部に汚れのない優れた画質の印刷物を５万枚以上得ることができた。 (Evaluation of planographic printing plate)
Using the resulting lithographic printing plate and performing offset printing using a Heidelberg KOR-D machine, it is possible to obtain 50,000 or more prints with excellent image density and excellent image quality without smearing in non-image areas. It was.

（実施例２９）
実施例２８で得られた平版印刷版原版を露光前に黄色灯下に１時間さらした後、実施例２８と全く同様に製版・印刷を実施した。実施例２８と全く同様の良好な結果が得られた。 (Example 29)
The lithographic printing plate precursor obtained in Example 28 was exposed to a yellow lamp for 1 hour before exposure, and then subjected to plate making and printing in the same manner as in Example 28. Good results exactly the same as in Example 28 were obtained.

（実施例３０）
実施例２９において黄色灯下に１時間さらした平版印刷版原版を、湿度６５％、４５℃の強制保存条件下で３日間保存後、実施例２９と同様に、製版・印刷を実施した。実施例２９と同様の良好な結果が得られた。 (Example 30)
In Example 29, the lithographic printing plate precursor exposed to yellow light for 1 hour was stored for 3 days under a forced storage condition of 65% humidity and 45 ° C., and then plate-making and printing were performed in the same manner as in Example 29. Good results similar to those of Example 29 were obtained.

（実施例３１）
ＰＥＴフイルム上に下記組成からなる感光性組成物を用いた感光層を塗布量１．５ｇ／ｍ2となるように塗設した。
（感光性組成物）
バインダー樹脂（ポリメチルメタクリレート） ９０質量％
増感色素（例示化合物２５） １．５質量％
開始剤化合物Ａ−６ ５．０質量％
酸消色染料 ２．０質量％
（ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩） (Example 31)
A photosensitive layer using a photosensitive composition having the following composition was coated on a PET film so as to have a coating amount of 1.5 g / m 2 .
(Photosensitive composition)
Binder resin (polymethyl methacrylate) 90% by mass
Sensitizing dye (Exemplary Compound 25) 1.5% by mass
Initiator compound A-6 5.0 mass%
Acid decoloring dye 2.0% by mass
(Victoria pure blue naphthalene sulfonate)

得られた青色の感光材料を、メタルハライドランプにて、３０秒間露光を行った。青色が完全に消色し、淡黄色の透明フイルムに変化した。このように、本開始系の酸発生機能を利用して、本発明の感光性組成物を、変色機能を利用した画像形成材料として応用することができた。   The resulting blue photosensitive material was exposed for 30 seconds with a metal halide lamp. The blue color disappeared completely and changed to a pale yellow transparent film. Thus, by utilizing the acid generation function of the present initiation system, the photosensitive composition of the present invention could be applied as an image forming material utilizing the color changing function.

（実施例３２）
開始剤化合物をＡ−７に変えた以外は実施例３１と同様の操作を行った。実施例３１と同様に、露光領域における色素の光消色が認められた。 (Example 32)
The same operation as in Example 31 was carried out except that the initiator compound was changed to A-7. As in Example 31, photodecoloration of the dye in the exposed area was observed.

（実施例３３）
開始剤化合物をＡ−８に変えた以外は実施例３１と同様の操作を行った。実施例３１と同様に、露光領域における色素の光消色が認められた。 (Example 33)
The same operation as in Example 31 was performed except that the initiator compound was changed to A-8. As in Example 31, photodecoloration of the dye in the exposed area was observed.

（実施例３４）
ＰＥＴフイルム上に下記組成からなる感光性組成物を用いた感光層を塗布量１．５ｇ／ｍ2となるように塗設した。
（感光性組成物）
バインダー樹脂（ポリメチルメタクリレート） ９１質量％
増感色素（例示化合物２５） １．３質量％
開始剤化合物Ａ−６ ７．７質量％
酸化発色染料（ロイコクリスタルバイオレット） ２．０質量％ (Example 34)
A photosensitive layer using a photosensitive composition having the following composition was coated on a PET film so as to have a coating amount of 1.5 g / m 2 .
(Photosensitive composition)
Binder resin (polymethyl methacrylate) 91% by mass
Sensitizing dye (Exemplary Compound 25) 1.3% by mass
Initiator compound A-6 7.7 mass%
Oxidative coloring dye (leuco crystal violet) 2.0% by mass

得られた淡黄色透明の感光材料をメタルハライドランプで３０秒間露光を行ったところ、鮮やかな青色に発色した。これは、本開始系のラジカル生成によるロイコ色素の酸化発色と考えられる。このように、本開始系の酸発生能を利用して、本発明の感光性組成物を、変色機能を利用した画像形成材料として応用することができた。   When the obtained light yellow transparent photosensitive material was exposed with a metal halide lamp for 30 seconds, it developed a bright blue color. This is considered to be oxidative coloring of the leuco dye by radical generation of the present initiation system. As described above, the photosensitive composition of the present invention could be applied as an image forming material utilizing a color changing function by utilizing the acid generating ability of the present initiation system.

Claims (4)

（Ａ）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る増感色素、
（Ｂ）ラジカル、酸あるいは塩基を生成しうる開始剤化合物、及び、
（Ｃ）ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか１種によって物理的あるいは化学的特性が不可逆的に変化する化合物、
を含有する感光性組成物。 (A) a sensitizing dye capable of emitting one or more electrons from a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation,
(B) an initiator compound capable of generating radicals, acids or bases, and
(C) a compound whose physical or chemical properties are irreversibly changed by at least one of radicals, acids and bases,
Containing the photosensitive composition. 該増感色素が下記一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表わされる増感色素であることを特徴とする請求項１に記載の感光性組成物。
Figure 2007025057
Figure 2007025057
 式（Ｉ）中、Ｒ1およびＲ2は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｍは０以上の整数を表わす。Ａ1は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
式（ＩＩ）中、Ｒ21およびＲ22は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25及びＲ26は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ21およびＬ22は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｎは０以上の整数を表わす。Ａ21は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
但し、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造を有する。 2. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the sensitizing dye is a sensitizing dye represented by the following general formula (I) or general formula (II).
Figure 2007025057
Figure 2007025057
 In formula (I), R 1 and R 2 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 1 , L 2 and L 3 independently represent a methine group which may have a substituent. m represents an integer of 0 or more. A 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
In the formula (II), R 21 and R 22 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 23 , R 24 , R 25 and R 26 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 21 and L 22 independently represent a methine group which may have a substituent. n represents an integer of 0 or more. A 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
However, the general formula (I) and the general formula (II) have a structure in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more. 一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）において、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造が下記一般式（ＩＩＩ）で表わされることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性組成物。
Figure 2007025057
 ＲａおよびＲｂは、独立に、水素原子、または、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基もしくはヘテロ環基を表わす。Ｘは酸化に伴いＣ−Ｘ結合が開裂してＣラジカルおよび脱離フラグメントＸを生じることができる置換基を表わす。 In the general formula (I) and the general formula (II), a structure in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation can emit one electron or more is represented by the following general formula (III) The photosensitive composition according to claim 1 or 2.
Figure 2007025057
 Ra and Rb independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. X represents a substituent capable of generating a C radical and a leaving fragment X by cleavage of the C—X bond upon oxidation. 一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表わされる化合物。
Figure 2007025057
Figure 2007025057
 式（Ｉ）中、Ｒ1およびＲ2は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｍは０以上の整数を表わす。Ａ1は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
式（ＩＩ）中、Ｒ21およびＲ22は、独立に、置換あるいは無置換の、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表わす。Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25及びＲ26は、各々独立に、水素原子または１価の置換基を表わす。Ｌ21およびＬ22は、独立に、置換基を有していても良いメチン基を表わす。ｎは０以上の整数を表わす。Ａ21は、置換あるいは無置換の、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。
但し、一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る構造を有する。 A compound represented by general formula (I) or general formula (II).
Figure 2007025057
Figure 2007025057
 In formula (I), R 1 and R 2 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 1 , L 2 and L 3 independently represent a methine group which may have a substituent. m represents an integer of 0 or more. A 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
In the formula (II), R 21 and R 22 independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. R 23 , R 24 , R 25 and R 26 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. L 21 and L 22 independently represent a methine group which may have a substituent. n represents an integer of 0 or more. A 21 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or heterocyclic group.
However, the general formula (I) and the general formula (II) have a structure in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more.
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CN113652705A (en) * 2021-06-23 2021-11-16 北京工业大学 Method for synthesizing fluorenone by catalyzing and electrolyzing N-hydroxyphthalimide

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008018272A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Photosensitive lithographic plate material
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