JP2007010964A - Method for manufacturing color filter, and liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for conveniently manufacturing a transflective color filter for a multiply-aligned-division type vertical alignment mode, and a multiple-alignment-division type vertical alignment mode liquid crystal display device with superior display quality. <P>SOLUTION: In a coloring layer forming step, a coloring layer with a plurality of colors, having through holes for light transmission, is formed with a predetermined pixel pattern on the surface of a transparent substrate, in a protrusion layer forming step; transparent protrusion layers are formed so as to cover respective through holes for light transmission of the coloring layer, in an electrode forming step; a common transparent electrode is formed so as to cover the coloring layer and the transparent protrusion layers; and in a spacer/protrusion forming step, a negative photosensitive resin composition is applied to the common transparent electrode, the negative photosensitive resin composition coating is exposed via a mask for forming the spacer/protrusion, and developed so as to form the spacers on the transparent protrusion layers, and the protrusions to control alignment directions of liquid crystal molecules to be in a plurality of directions are formed on the coloring layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、カラーフィルタと液晶表示装置に係り、特に半透過型カラーフィルタの製造方法と、このようなカラーフィルタを用いた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter and a liquid crystal display device, and more particularly to a method for manufacturing a transflective color filter and a liquid crystal display device using such a color filter.

従来の技術Conventional technology

フラットディスプレイとして、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、その薄型、軽量、低消費電力といった特徴により、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、携帯電話、ビデオカメラ等から大画面テレビまで市場が急速に拡大してきた。
また、近年の携帯電話等のモバイル機器の高画質化の要請から、半透過型液晶表示装置の需要が高まっている（特許文献１）。さらに、視野角度によらない高品位画質を達成するために、視野角度改善モードの一つである複数配向分割型垂直配向モード、すなわちMulti-domain Vertical Alignmentモード（ＭＶＡモード）を選択するケースが増えている。このＭＶＡモードは、（１）広視野角、（２）高コントラスト、（３）高速応答といった優位性をもっている。
上記の複数配向分割（液晶分子の配向方向を複数方向とする）、いわゆるマルチドメイン化を実現するために、当初はマスクラビングを複数回繰り返す手法が考えられたが、この方法を用いた場合、ラビング工程に起因する静電気発生、発塵等による歩留まり率の低下、プロセスの複雑化による生産性の低下等、多くの問題があった。 As a flat display, a liquid crystal display (LCD) has rapidly expanded from a personal computer (PC), a mobile phone, a video camera, etc. to a large-screen TV due to its thinness, light weight, and low power consumption.
Further, due to the recent demand for higher image quality of mobile devices such as mobile phones, the demand for transflective liquid crystal display devices is increasing (Patent Document 1). In addition, in order to achieve high-quality image quality that does not depend on viewing angle, there are an increasing number of cases in which the multi-domain vertical alignment mode (MVA mode), which is one of the viewing angle improvement modes, is selected. ing. This MVA mode has advantages such as (1) wide viewing angle, (2) high contrast, and (3) high-speed response.
In order to realize the above-mentioned multiple alignment division (the alignment direction of liquid crystal molecules is a plurality of directions), so-called multi-domaining, a method of repeating mask rubbing a plurality of times at first was considered. There were many problems such as generation of static electricity due to the rubbing process, a decrease in yield due to dust generation, and a decrease in productivity due to complicated processes.

そこで、液晶パネル内に突起を設けることにより、ラビングの手法を用いずに液晶分子の傾斜方向を制御する手法が開発されている（特許文献２）。上記の液晶分子の配向を制御する突起は、例えば、屈曲部を有する４５°のジグザグストライプ状とすることができ、一画素内における配向方向を４分割とし、かつ、その分割面積が等しくなるように設計されている。また、上記の突起は、カラーフィルタ側とＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板側の双方に設けることができ、この場合、両基板を対向させてセル化したときに、双方の突起が交互に配列するように構成される。このような突起は、液晶分子にプレチルト角を付与し、かつ、電気力線を歪ませる役割をもち、この二つの効果により、電圧印加時に液晶分子が複数の異なった方向に配向することになる。さらに、最近では、ＴＦＴ基板側に上記の突起を設ける代わりに、仮想的な配向制御用突起として、透明電極にスリットを設けた構造が開発されている（特許文献３）。
特開２００４−８６１０８号公報 特開平１１−２４２２２５号公報 特開平１０−１０４６４５号公報 In view of this, a technique has been developed in which protrusions are provided in the liquid crystal panel to control the tilt direction of liquid crystal molecules without using a rubbing technique (Patent Document 2). The protrusions for controlling the alignment of the liquid crystal molecules can be formed in, for example, a 45 ° zigzag stripe shape having a bent portion so that the alignment direction in one pixel is divided into four and the divided areas are equal. Designed to. Further, the protrusions can be provided on both the color filter side and the TFT (Thin Film Transistor) substrate side. In this case, when the two substrates are made to face each other, both protrusions are alternately arranged. Configured as follows. Such protrusions have a role of imparting a pretilt angle to the liquid crystal molecules and distorting the lines of electric force. Due to these two effects, the liquid crystal molecules are aligned in a plurality of different directions when a voltage is applied. . Furthermore, recently, a structure in which a slit is provided in a transparent electrode has been developed as a virtual alignment control protrusion instead of providing the protrusion on the TFT substrate side (Patent Document 3).
JP 2004-86108 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-242225 Japanese Patent Laid-Open No. 10-104645

液晶表示装置に用いる従来の半透過型カラーフィルタの製造では、ネガ型の感光性レジストを使用することが一般的であった。一方、ＭＶＡモードの液晶表示装置に用いる半透過型カラーフィルタの製造方法では、突起形成工程においてポジ型の感光性樹脂組成物を使用していた。このため、使用する現像液が他の工程と異なり、現像液の交換が必要で作業が煩雑となり製造効率の向上に限界があった。
また、ポジ型の感光性樹脂組成物を使用して形成した突起は赤味を帯びており、可視光領域に吸収をもつため画面の明度低下が避けられないという問題があった。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、複数配向分割型垂直配向モード用の半透過型カラーフィルタを簡便に製造するための方法と、表示品質に優れた複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置を提供することを目的とする。 In the production of a conventional transflective color filter used for a liquid crystal display device, it is common to use a negative photosensitive resist. On the other hand, in the method for producing a transflective color filter used for an MVA mode liquid crystal display device, a positive photosensitive resin composition is used in the protrusion forming step. For this reason, unlike the other steps, the developer to be used requires replacement of the developer, which complicates the work and limits the improvement in production efficiency.
Further, the projections formed using the positive photosensitive resin composition are reddish and have a problem that the brightness of the screen is inevitably lowered because of absorption in the visible light region.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a method for easily producing a transflective color filter for a multi-orientation division type vertical alignment mode and a multi-orientation division having excellent display quality. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in a vertical alignment mode.

上記のような目的を達成するために、本発明は、複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置に用いる半透過型カラーフィルタの製造方法において、透明基板の表面に、透光用スルーホールを有する着色層を所定の画素パターンで形成する操作を複数色分繰り返す着色層形成工程と、少なくとも前記透光用スルーホールを覆うように前記着色層上に透明凸層を形成する凸層形成工程と、前記着色層および前記透明凸層を覆うように共通透明電極を形成する電極形成工程と、前記共通透明電極上にネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、スペーサ・突起形成用マスクを介して前記ネガ型感光性樹脂組成物塗膜を露光し、現像して、前記透明凸層上にスペーサを形成し、前記着色層上に液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起を形成するスペーサ・突起形成工程と、を有するような構成とした。   In order to achieve the above object, the present invention provides a transflective color filter on a surface of a transparent substrate in a method for producing a transflective color filter used in a multi-orientation-divided vertical alignment mode liquid crystal display device. A colored layer forming step of repeating the operation of forming a colored layer having a predetermined pixel pattern for a plurality of colors, and a convex layer forming step of forming a transparent convex layer on the colored layer so as to cover at least the through hole for light transmission; An electrode forming step of forming a common transparent electrode so as to cover the colored layer and the transparent convex layer, a negative photosensitive resin composition is applied on the common transparent electrode, and a spacer / projection forming mask is interposed therebetween. The negative photosensitive resin composition coating film is exposed and developed to form spacers on the transparent convex layer, and to form protrusions on the colored layer for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules in a plurality of directions. You And spacer protrusions forming step, and the like have configure.

本発明の他の態様として、前記スペーサ・突起形成工程では、現像した後、スペーサ・突起に焼成処理を施すような構成とした。
本発明の他の態様として、前記着色層形成工程の前に、前記透明基板の表面にブラックマトリックスを形成するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記着色層形成工程の後に、各画素の境界部位にブラックマトリックスを形成するような構成とした。 As another aspect of the present invention, the spacer / projection forming step is configured such that after the development, the spacer / projection is baked.
As another aspect of the present invention, a black matrix is formed on the surface of the transparent substrate before the colored layer forming step.
In another aspect of the present invention, a black matrix is formed at the boundary portion of each pixel after the colored layer forming step.

また、本発明は、複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置において、所定の間隔のセルを形成するように対向したＴＦＴ基板と半透過型カラーフィルタと、前記セルに充填された液晶層とを備え、前記半透過型カラーフィルタは上述のいずれかのカラーフィルタの製造方法により製造されたものであり、前記ＴＦＴ基板は各画素毎に透明画素電極と反射用電極を備え、該反射用電極は前記カラーフィルタの透明凸層に対向するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ＴＦＴ基板の透明画素電極は、液晶分子の配向方向を複数方向に制御するためのスリットを備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記ＴＦＴ基板は、液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起を前記透明画素電極上に備えるような構成とした。 According to another aspect of the present invention, there is provided a multi-orientation-divided vertical alignment mode liquid crystal display device, a TFT substrate and a transflective color filter that are opposed to form cells at a predetermined interval, and a liquid crystal layer filled in the cells. The transflective color filter is manufactured by any one of the color filter manufacturing methods described above, and the TFT substrate includes a transparent pixel electrode and a reflective electrode for each pixel, and the reflective electrode Is configured to face the transparent convex layer of the color filter.
As another aspect of the present invention, the transparent pixel electrode of the TFT substrate is configured to include a slit for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules in a plurality of directions.
As another aspect of the present invention, the TFT substrate is configured to have protrusions on the transparent pixel electrode for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules in a plurality of directions.

本発明のカラーフィルタの製造方法では、ネガ型感光性樹脂組成物を使用して、スペーサと突起を同時に形成するので、カラーフィルタの全工程でネガ型感光性材料を使用することが可能となり、かつ、工程数が減少して製造が簡便なものとなる。
また、本発明の液晶表示装置は、可視光領域に吸収をもつポジ型の感光性樹脂組成物を使用して形成した突起をカラーフィルタに備えていないので、画面の明度低下を極力抑えることができ、視野角が広く、明度が高いとともに、色純度も良好な表示画面が可能である。 In the method for producing a color filter of the present invention, the negative photosensitive resin composition is used to form the spacer and the protrusion at the same time. Therefore, it becomes possible to use the negative photosensitive material in all steps of the color filter. In addition, the number of steps is reduced and the production becomes simple.
In addition, since the liquid crystal display device of the present invention does not include a protrusion formed using a positive photosensitive resin composition having absorption in the visible light region in the color filter, it can suppress a decrease in brightness of the screen as much as possible. In addition, a display screen with a wide viewing angle, high brightness, and good color purity is possible.

以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、本発明のカラーフィルタ製造方法により製造されるカラーフィルタの一例を示す平面図であり、図２は図１のＡ−Ａ線における拡大縦断面図であり、図３は図１のＢ−Ｂ線における拡大縦断面図である。図１〜図３において、カラーフィルタ１１は、透明基板１２と、この透明基板１２上に形成されたストライプ状のブラックマトリックス１３および着色層１４を備えている。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
1 is a plan view showing an example of a color filter manufactured by the color filter manufacturing method of the present invention, FIG. 2 is an enlarged longitudinal sectional view taken along line AA of FIG. 1, and FIG. It is an expanded longitudinal cross-sectional view in the BB line. 1 to 3, the color filter 11 includes a transparent substrate 12, a striped black matrix 13 and a colored layer 14 formed on the transparent substrate 12.

着色層１４は、ストライプ形状の赤色パターン１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇおよび青色パターン１４Ｂが配列されたものであり、１画素Ｐ（図１において太線で囲んだ部位）毎に、透光用スルーホール１５を備えている。この透光用スルーホール１５は、ストライプ形状の赤色パターン１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇおよび青色パターン１４Ｂに直交するように配設されたストライプ形状の透明凸層１６で埋められ、かつ、被覆されている。尚、透光用スルーホール１５は、図示例では１個の円形開口であるが、複数個の開口からなるものであってもよく、また、スリット形状であってもよい。   The colored layer 14 is an array of stripe-shaped red patterns 14R, green patterns 14G, and blue patterns 14B. A transparent through hole 15 is formed for each pixel P (portion surrounded by a thick line in FIG. 1). I have. The translucent through hole 15 is filled and covered with a stripe-shaped transparent convex layer 16 disposed so as to be orthogonal to the stripe-shaped red pattern 14R, green pattern 14G, and blue pattern 14B. Note that the light transmitting through hole 15 is a single circular opening in the illustrated example, but may be formed of a plurality of openings or may be a slit shape.

透明凸層１６は、１画素Ｐの一部を占める（面積率で２０〜８０％の範囲）ものである。また、この透明凸層１６と、ブラックマトリックス１３および着色層１４を覆うように共通透明電極１７が配設されている。そして、着色層１４上に位置する共通透明電極１７上には、液晶層の液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起１８が配設され、また、透明凸層１６上に位置する共通透明電極１７上には、スペーサ１９が配設されており、これらの突起１８、スペーサ１９を覆うように配向膜（図示せず）を有している。   The transparent convex layer 16 occupies a part of one pixel P (area ratio is 20 to 80%). Further, a common transparent electrode 17 is disposed so as to cover the transparent convex layer 16, the black matrix 13 and the colored layer 14. On the common transparent electrode 17 located on the colored layer 14, a protrusion 18 for controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer in a plurality of directions is disposed, and located on the transparent convex layer 16. A spacer 19 is disposed on the common transparent electrode 17 and has an alignment film (not shown) so as to cover these protrusions 18 and the spacer 19.

突起１８は、近傍の液晶分子にプレチルト角度を与える作用、および、電気力線を所望の方向に歪ませる作用をなすことにより、例えば、後述する液晶表示装置において、単独で、または、ＴＦＴ基板の透明画素電極が有するスリットあるいは突起と協働して液晶層の液晶分子の配向方向を複数方向に制御することを可能とするものである。
このような突起１８は、図示例では、スポット形状であり、光透過率は、８０％以上、好ましくは８５〜９５％の範囲内とする。突起１８の光透過率が８０％未満であると、突起１８の存在が原因となる画面の明度低下を来たし好ましくない。尚、本発明において、光透過率とは、波長域４００〜７００ｎｍの範囲の光の透過率であり、測定は顕微分光光度計（オリンパス（株）製 ＯＳＰ−ＳＰ２００）を用いて行う。突起１８の大きさは、高さ０．５〜３．０μｍ、幅（透明基板１２に平行な面での断面幅）７０〜２００μｍ程度とすることができる。
また、スペーサ１９は、カラーフィルタ１１とＴＦＴ基板との間隙部分に形成される液晶層の厚みを所望の厚みに設定するものである。 The protrusion 18 has a function of giving a pretilt angle to the liquid crystal molecules in the vicinity and a function of distorting the lines of electric force in a desired direction, so that, for example, in a liquid crystal display device to be described later, The alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer can be controlled in a plurality of directions in cooperation with the slits or protrusions of the transparent pixel electrode.
In the illustrated example, the protrusion 18 has a spot shape, and the light transmittance is 80% or more, preferably 85 to 95%. If the light transmittance of the protrusion 18 is less than 80%, the brightness of the screen is reduced due to the presence of the protrusion 18, which is not preferable. In the present invention, the light transmittance is a light transmittance in a wavelength range of 400 to 700 nm, and the measurement is performed using a microspectrophotometer (OSP-SP200 manufactured by Olympus Corporation). The size of the protrusion 18 can be about 0.5 to 3.0 μm in height and about 70 to 200 μm in width (cross-sectional width in a plane parallel to the transparent substrate 12).
The spacer 19 sets the thickness of the liquid crystal layer formed in the gap between the color filter 11 and the TFT substrate to a desired thickness.

［カラーフィルタの製造方法］
次に、上述のカラーフィルタ１１を例として、本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態を説明する。図４〜図６は本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための工程図であり、図４の各工程は図２相当の断面（図１のＡ−Ａ線断面）を示し、図５および図６の各工程は図３相当の断面（図１のＢ−Ｂ線断面）を示す。
本発明のカラーフィルタの製造方法では、透明基板１２の表面１２ａにブラックマトリックス１３を形成し（図５（Ａ））、さらに、各画素Ｐ毎に透光用スルーホール１５を有する赤色パターン１４Ｒを所定の画素パターンで形成し、同様の操作を繰り返して、各画素毎に透光用スルーホール１５を有する緑色パターン１４Ｇ、青色パターン１４Ｂを所定の画素パターンで形成して、着色層１４を形成する（図４（Ａ）、図５（Ｂ））。 [Color filter manufacturing method]
Next, an embodiment of the method for producing a color filter of the present invention will be described using the above-described color filter 11 as an example. 4 to 6 are process diagrams for explaining the method of manufacturing the color filter of the present invention. Each process in FIG. 4 shows a cross section corresponding to FIG. 2 (cross section taken along line AA in FIG. 1). 6 and 6 show a cross section corresponding to FIG. 3 (a cross section taken along line BB in FIG. 1).
In the method for producing a color filter of the present invention, a black matrix 13 is formed on the surface 12a of the transparent substrate 12 (FIG. 5A), and a red pattern 14R having a light transmitting through hole 15 for each pixel P is formed. A colored layer 14 is formed by forming a predetermined pixel pattern and repeating the same operation to form a green pattern 14G and a blue pattern 14B each having a light-transmitting through hole 15 for each pixel. (FIGS. 4A and 5B).

透明基板１２としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製１７３７ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。   As the transparent substrate 12, a transparent flexible material such as quartz glass, pyrex glass or synthetic quartz plate or a flexible flexible material such as a transparent resin film or an optical resin plate is used. Can do. Among them, 1737 glass manufactured by Corning, in particular, is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the glass. Suitable for color filters for color liquid crystal display devices.

ブラックマトリックス１３の形成は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより行なうことができる。また、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングしてブラックマトリックス１３を形成してもよい。さらに、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングしてブラックマトリックス１３を形成することもできる。   The black matrix 13 can be formed, for example, by forming a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 mm by sputtering, vacuum deposition, or the like, and patterning this thin film. Alternatively, the black matrix 13 may be formed by forming a resin layer such as a polyimide resin, an acrylic resin, or an epoxy resin containing light-shielding particles such as carbon fine particles, and patterning the resin layer. Further, the black matrix 13 can be formed by forming a photosensitive resin layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles and metal oxide, and patterning the photosensitive resin layer.

各画素毎に透光用スルーホール１５を有する赤色パターン１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇおよび青色パターン１４Ｂは、例えば、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成することができる。尚、着色パターン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの形成順序は上述の例に限定されるものではない。また、ブラックマトリックス１３を形成しないものであってもよい。
透光用スルーホール１５の開口面積は、例えば、７０〜４００μｍ2程度とすることができ、図示例では、各画素Ｐに１個の透光用スルーホール１５を形成するが、複数個の透光用スルーホール１５を形成してもよく、また、透光用スルーホール１５としてスリットを形成してもよい。 The red pattern 14R, the green pattern 14G, and the blue pattern 14B each having a light-transmitting through hole 15 for each pixel can be formed by, for example, a pigment dispersion method using a photosensitive resin containing a desired colorant, Furthermore, it can be formed by a known method such as a printing method, an electrodeposition method, or a transfer method. The order of forming the colored patterns 14R, 14G, and 14B is not limited to the above example. Further, the black matrix 13 may not be formed.
The opening area of the light transmitting through hole 15 can be, for example, about 70 to 400 μm 2. In the illustrated example, one light transmitting through hole 15 is formed in each pixel P, but a plurality of light transmitting through holes 15 are formed. The light through hole 15 may be formed, or a slit may be formed as the light transmitting through hole 15.

次に、透光用スルーホール１５を少なくとも充填、被覆するように、着色層１４の所望部位に透明凸層１６を形成する（図４（Ｂ）、図５（Ｃ））。透明凸層１６の形成は、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の透明樹脂組成物を用いてスクリーン印刷法により形成することができる。また、感光性の透明樹脂組成物を全面に塗布し、所望のマスクを介して露光し、現像することにより形成することもできる。この透明凸層１６の厚みは、２〜１０μｍの範囲で設定することができ、後工程で形成するスペーサ１９の高さとともに、透明凸層１６上の液晶層の厚みが、後述するように、着色層１４上の液晶層の厚みの半分となるように設定する。   Next, a transparent convex layer 16 is formed at a desired portion of the colored layer 14 so as to fill and cover at least the light transmitting through holes 15 (FIGS. 4B and 5C). The transparent convex layer 16 can be formed, for example, by a screen printing method using a transparent resin composition such as a polyimide resin, an acrylic resin, or an epoxy resin. Moreover, it can also form by apply | coating the photosensitive transparent resin composition to the whole surface, exposing and developing through a desired mask. The thickness of the transparent convex layer 16 can be set in the range of 2 to 10 μm, and the thickness of the liquid crystal layer on the transparent convex layer 16 together with the height of the spacer 19 to be formed in a later step is as described later. The thickness is set to be half the thickness of the liquid crystal layer on the colored layer 14.

次に、複数色の着色パターン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂからなる着色層１４と、透明凸層１６を覆うように共通透明電極１７を形成する（図４（Ｃ）、図６（Ａ））。共通透明電極１７の形成は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等、および、その合金等を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法により行なうことができる。このような共通透明電極１７の厚みは、例えば、２００〜５０００Å程度とすることができる。   Next, the common transparent electrode 17 is formed so as to cover the colored layer 14 including the colored patterns 14R, 14G, and 14B of a plurality of colors and the transparent convex layer 16 (FIGS. 4C and 6A). The common transparent electrode 17 is generally formed using indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), etc., and alloys thereof, such as sputtering, vacuum deposition, and CVD. It can be performed by a simple film formation method. The thickness of such a common transparent electrode 17 can be about 200 to 5000 mm, for example.

次に、共通透明電極１７上にネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、スペーサ・突起形成用マスクＭを介してネガ型感光性樹脂組成物塗膜２０を露光する（図４（Ｄ）、図６（Ｂ））。使用するネガ型感光性樹脂組成物としては、公知のネガ型感光性樹脂組成物を使用することができる。例えば、アクリル系ネガ型感光性樹脂組成物として、少なくとも紫外線照射によりラジカル成分を発生する光重合開始剤と、分子内にＣ＝Ｃなるアクリル基を有し上記の発生したラジカルにより開裂重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる官能基（例えば、アルカリ溶液による現像の場合は酸価をもつ成分）、とから構成されるものを用いることができる。上記のアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、テトラメチルペンタトリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等が挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン−アクリル酸−ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分にスペーサを介してアクリル基を導入したポリマー等が挙げられる。尚、必要に応じてカーボンブラック、銅−鉄−マンガン複合酸化物、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、アルミニウム、銀、酸化鉄等の導電性粉体等の添加物をネガ型感光性樹脂組成物に含有させてもよい。   Next, a negative photosensitive resin composition is applied onto the common transparent electrode 17, and the negative photosensitive resin composition coating film 20 is exposed through a spacer / projection forming mask M (FIG. 4D). FIG. 6 (B)). As a negative photosensitive resin composition to be used, a publicly known negative photosensitive resin composition can be used. For example, as an acrylic negative photosensitive resin composition, at least a photopolymerization initiator that generates a radical component when irradiated with ultraviolet rays, and a cleavage polymerization reaction by the generated radical having an acrylic group of C═C in the molecule. A component composed of a component that wakes up and hardens and a functional group (for example, a component having an acid value in the case of development with an alkaline solution) that can dissolve the unexposed portion by subsequent development can be used. Among the above-mentioned components having an acrylic group, relatively low molecular weight polyfunctional acrylic molecules include dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), tetramethylpentatriacrylate (TMPTA) and the like. Can be mentioned. Moreover, as a high molecular weight polyfunctional acrylic molecule, the polymer etc. which introduce | transduced the acrylic group through the spacer to the one part carboxylic acid group part of the styrene-acrylic acid-benzyl methacrylate copolymer are mentioned. If necessary, additives such as carbon black, copper-iron-manganese composite oxide, indium tin oxide (ITO), aluminum, silver, iron oxide and other conductive powders can be added to the negative photosensitive resin composition. You may make it contain.

その後、ネガ型感光性樹脂組成物塗膜２０を現像することにより、液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起１８が、複数色の着色パターン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ上に位置する共通透明電極１７上に形成され、透明凸層１６上に位置する共通透明電極１７上には、スペーサ１９が形成される（図４（Ｅ）、図６（Ｃ））。
尚、突起１８、スペーサ１９を形成するための露光、現像が終了した後、突起１８、スペーサ１９に対して焼成処理を施してもよい。この焼成処理は、例えば、温度２００〜２５０℃、処理時間３０〜６０分程度で適宜設定することができる。 Thereafter, by developing the negative photosensitive resin composition coating film 20, the protrusions 18 for controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules in a plurality of directions are located on the plurality of colored patterns 14R, 14G, and 14B. A spacer 19 is formed on the common transparent electrode 17 formed on the transparent electrode 17 and positioned on the transparent convex layer 16 (FIGS. 4E and 6C).
Note that after the exposure and development for forming the protrusions 18 and the spacers 19 are completed, the protrusions 18 and the spacers 19 may be subjected to a baking treatment. This baking treatment can be appropriately set, for example, at a temperature of 200 to 250 ° C. and a treatment time of about 30 to 60 minutes.

また、共通透明電極１７、突起１８、スペーサ１９を覆うように配向膜を形成する場合、例えば、可溶性ポリイミド、ポリアミック酸タイプポリイミド、変性ポリイミド等の有機化合物を、種々の印刷法、公知の塗布方法により塗布し、その後、焼成することにより行なうことができる。配向膜の厚みは５００〜１０００Å程度とすることができる。尚、この配向膜には配向処理（ラビング）は不要である。   Further, when forming an alignment film so as to cover the common transparent electrode 17, the protrusion 18, and the spacer 19, for example, organic compounds such as soluble polyimide, polyamic acid type polyimide, and modified polyimide may be used in various printing methods and known coating methods. It can apply by apply | coating and baking after that. The thickness of the alignment film can be about 500 to 1000 mm. This alignment film does not require alignment treatment (rubbing).

上述のような本発明のカラーフィルタの製造方法では、ネガ型の感光性樹脂組成物を使用して突起１８、スペーサ１９を同時形成するので、工程数が減少して製造が簡便なものとなる。また、カラーフィルタ製造の全工程をネガ型感光性材料を使用したものとすることが可能となり、既存の製造ラインの使用が可能となる。
尚、上述の製造方法は本発明に一例であり、これに限定されるものではない。例えば、上述の例では、突起１８の形状がスポット状であるが、図７に示すように、屈曲部を有するストライプ形状として、１画素Ｐ内における配向方向を複数に分割できるようにしてもよい。 In the manufacturing method of the color filter of the present invention as described above, the negative photosensitive resin composition is used to form the protrusions 18 and the spacers 19 at the same time, so that the number of steps is reduced and the manufacturing becomes simple. . In addition, it is possible to use a negative photosensitive material for all the steps of manufacturing the color filter, and it is possible to use an existing production line.
The above manufacturing method is an example of the present invention, and the present invention is not limited to this. For example, in the above-described example, the shape of the protrusion 18 is a spot shape. However, as shown in FIG. 7, the alignment direction in one pixel P may be divided into a plurality of stripes having a bent portion. .

［液晶表示装置］
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。
図８および図９は、本発明の半透過型の液晶表示装置の一実施形態を示す概略部分断面図であり、図８は図２相当の断面（図１のＡ−Ａ線断面）を示し、図９は図３相当の断面（図１のＢ−Ｂ線断面）を示す。
図８および図９において、液晶表示装置１は、カラーフィルタ１１とＴＦＴ基板２１とを所定の間隔で対向させ、周辺部をシール部材（図示せず）により封止し、間隙部分に液晶層２を備えた半透過型の液晶表示装置である。尚、カラーフィルタ１１とＴＦＴ基板２１の外側には、それぞれ偏光板（図示せず）が配設されている。 [Liquid Crystal Display]
Next, the liquid crystal display device of the present invention will be described.
8 and 9 are schematic partial cross-sectional views showing an embodiment of the transflective liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 8 shows a cross-section corresponding to FIG. 2 (cross-section along line AA in FIG. 1). 9 shows a cross section corresponding to FIG. 3 (cross section taken along line BB in FIG. 1).
8 and 9, the liquid crystal display device 1 has the color filter 11 and the TFT substrate 21 facing each other at a predetermined interval, the peripheral portion is sealed with a seal member (not shown), and the liquid crystal layer 2 in the gap portion. A transflective liquid crystal display device. A polarizing plate (not shown) is provided outside the color filter 11 and the TFT substrate 21.

本発明の液晶表示装置１を構成するカラーフィルタ１１は上述のような本発明のカラーフィルタ製造方法により作製されたものであり、図２および図３に示したものと同様であり、個々の部材についての説明は省略する。
このカラーフィルタ１１では、着色層１４上の液晶層２の厚みＴ、透明凸層１６上の液晶層２の厚みｔは適宜設定することができる。
尚、カラーフィルタ１１は、突起１８、スペーサ１９を覆うように配向膜（図示せず）を有している。
本発明の液晶表示装置１を構成するＴＦＴ基板２１は、各画素に対応するように透明基板２２上に液晶駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２３、透明画素電極２４、および反射用電極２５を備え、透明画素電極２４と反射用電極２５を覆うように配設された配向膜（図示せず）を備えている。 The color filter 11 constituting the liquid crystal display device 1 of the present invention is manufactured by the above-described color filter manufacturing method of the present invention, and is the same as that shown in FIGS. The description about is omitted.
In the color filter 11, the thickness T of the liquid crystal layer 2 on the colored layer 14 and the thickness t of the liquid crystal layer 2 on the transparent convex layer 16 can be set as appropriate.
The color filter 11 has an alignment film (not shown) so as to cover the protrusions 18 and the spacers 19.
A TFT substrate 21 constituting the liquid crystal display device 1 of the present invention includes a thin film transistor (TFT) 23 for driving a liquid crystal, a transparent pixel electrode 24, and a reflection electrode 25 on a transparent substrate 22 so as to correspond to each pixel. An alignment film (not shown) is provided so as to cover the transparent pixel electrode 24 and the reflection electrode 25.

本発明の液晶表示装置１を構成するＴＦＴ基板２１には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２３を開閉するゲート線群（図示せず）、映像信号を供給する信号線群（図示せず）、および、カラーフィルタ１１の共通透明電極１７への電圧供給線（図示せず）が配設されている。これらのリード線は、通常、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２３の製造工程で一括して形成されたアルミニウム等の金属からなるものである。
上記のＴＦＴ基板２１を構成する透明基板２２としては、上述のカラーフィルタ１１の透明基板１２と同じものを使用することができる。 A TFT substrate 21 constituting the liquid crystal display device 1 of the present invention includes a gate line group (not shown) for opening and closing a thin film transistor (TFT) 23, a signal line group (not shown) for supplying a video signal, and a color. A voltage supply line (not shown) to the common transparent electrode 17 of the filter 11 is disposed. These lead wires are usually made of a metal such as aluminum formed in a lump in the manufacturing process of the thin film transistor (TFT) 23.
As the transparent substrate 22 constituting the TFT substrate 21, the same substrate as the transparent substrate 12 of the color filter 11 can be used.

また、透明画素電極２４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等、および、その合金等を用いて、電極形成用のマスクを介したスパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法により形成することができる。もしくは、公知のフォトリソグラフィーの手法とエッチングの手法を組み合わせることにより形成することができる。
また、反射用電極２５は、１画素Ｐの中で、カラーフィルタ１１の透明凸層１６に対向する部位の透明画素電極２４上に設けられている。この反射用電極は、電極材料としてアルミニウム等を用いて、電極形成用のマスクを介したスパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法により形成することができる。 The transparent pixel electrode 24 is made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), etc., and alloys thereof using a sputtering method or vacuum deposition through an electrode forming mask. The film can be formed by a general film forming method such as a CVD method or a CVD method. Alternatively, it can be formed by combining a known photolithography technique and an etching technique.
In addition, the reflection electrode 25 is provided on the transparent pixel electrode 24 in a portion of the pixel P facing the transparent convex layer 16 of the color filter 11. The reflecting electrode can be formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum deposition, or CVD using an electrode forming mask using aluminum or the like as an electrode material.

上述のような本発明の半透過型の液晶表示装置１では、カラーフィルタ１１の透明基板１２、透明凸層１６を透過し、液晶層２を通過した光が、反射用電極２５で反射され、同じ光路を戻って、画像表示（観察者に認識）される。また、この反射領域に透光用スルーホール１５（内部には透明凸層１６の構成樹脂材料が充填されている）が設けられているので、反射光の明度が高いものとなる。一方、ＴＦＴ基板２１の裏面に光源を配設することにより、透明電極２４が配設された領域では、透過光による画像表示がなされる。そして、カラーフィルタ１１は、可視光領域に吸収をもつポジ型の感光性樹脂組成物を使用して形成した突起を備えていないので、画面の明度低下を極力抑えることができ、視野角が広く、明度が高いとともに、色純度も良好な表示画面が可能である。   In the transflective liquid crystal display device 1 of the present invention as described above, the light transmitted through the transparent substrate 12 and the transparent convex layer 16 of the color filter 11 and passed through the liquid crystal layer 2 is reflected by the reflecting electrode 25, After returning along the same optical path, an image is displayed (recognized by the observer). Further, since the light transmitting through-hole 15 (internally filled with the constituent resin material of the transparent convex layer 16) is provided in the reflection region, the brightness of the reflected light is high. On the other hand, by providing a light source on the back surface of the TFT substrate 21, an image display using transmitted light is performed in an area where the transparent electrode 24 is provided. And since the color filter 11 is not provided with the protrusion formed using the positive photosensitive resin composition which has absorption in a visible light region, it can suppress the brightness reduction of a screen as much as possible, and has a wide viewing angle. A display screen with high brightness and good color purity is possible.

上述の液晶表示装置は例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、突起１８の形状を、図１０に示すような屈曲部を有するストライプ形状とし、これに対応して、透明画素電極２４にスリット２６を形成してもよい。この場合、スリット２６は、カラーフィルタ１１の突起１８の配列ピッチに対して半ピッチずれたピッチで形成する。尚、突起１８、スリット２６の形状は、屈曲部を有する不連続ストライプ形状であってもよい。   The liquid crystal display device described above is an example, and the present invention is not limited to this. For example, the shape of the protrusion 18 may be a stripe shape having a bent portion as shown in FIG. 10, and the slit 26 may be formed in the transparent pixel electrode 24 correspondingly. In this case, the slits 26 are formed at a pitch shifted by a half pitch with respect to the arrangement pitch of the protrusions 18 of the color filter 11. The shape of the protrusion 18 and the slit 26 may be a discontinuous stripe shape having a bent portion.

また、上述のスリット２６の代わりに、透明画素電極２４上に配向制御用の突起が形成されたものであってもよい。
尚、図示例では、１画素Ｐを構成する透明画素電極２４上の所望の部位（カラーフィルタ１１の透明凸層１６に対向する部位）に反射用電極２５が設けられているが、反射用電極２５が存在する部位には透明画素電極２４が存在せず、かつ、透明画素電極２４と反射用電極２５が電気的に接続されたものであってもよい。 Further, instead of the above-described slit 26, an alignment control protrusion may be formed on the transparent pixel electrode 24.
In the illustrated example, the reflection electrode 25 is provided at a desired portion (a portion facing the transparent convex layer 16 of the color filter 11) on the transparent pixel electrode 24 constituting one pixel P. The transparent pixel electrode 24 may not be present at the site where the 25 is present, and the transparent pixel electrode 24 and the reflective electrode 25 may be electrically connected.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例］
カラーフィルタ用の透明基板として、３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面に下記組成のブラックマトリックス用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。プリベーク後、所定のフォトマスクを介して露光し、過剰に現像した後、ポストベークを行って、線幅１０μｍのブラックマトリックスをピッチ６０μｍで形成した。
（ブラックマトリックス用のネガ型感光性樹脂組成物）
・カーボンブラック … ６１重量部
・感光性樹脂組成物 … ３９重量部
・メトキシブチルアセテート … ３００重量部 Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[Example]
As a transparent substrate for a color filter, a glass substrate (Corning 1737 glass) having a size of 300 mm × 400 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. After this substrate was washed according to a conventional method, a negative photosensitive resin composition for black matrix having the following composition was applied to the entire surface of one side of the substrate by a spin coating method. After pre-baking, the film was exposed through a predetermined photomask, developed excessively, and post-baked to form a black matrix having a line width of 10 μm at a pitch of 60 μm.
(Negative photosensitive resin composition for black matrix)
Carbon black: 61 parts by weight Photopolymer composition: 39 parts by weight Methoxybutyl acetate: 300 parts by weight

尚、上記の感光性樹脂組成物は、下記組成を有するものである。
（感光性樹脂組成物）
・アクリル樹脂 … ３２重量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … ４２重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（三菱油化シェル（株）製） … １８重量部
・開始剤 … ８重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７） In addition, said photosensitive resin composition has the following composition.
(Photosensitive resin composition)
Acrylic resin: 32 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate: 42 parts by weight Epicoat 180S70 (manufactured by Mitsubishi Yuka Shell Co., Ltd.): 18 parts by weight Initiator: 8 parts by weight (Irgacure, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 907)

次に、下記組成の赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
（赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・赤顔料 … ４．８重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドＡ２Ｂ）
・黄顔料 … １．２重量部
（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９）
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００ … ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） … ４．０重量部
・ポリマーＩ … ５．０重量部
・開始剤 … １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
・開始剤 … ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・界面活性剤 … １．０重量部
（日本油脂（株）製 ノニオンＨＳ−２１０）
・溶剤 … ７９．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） Next, a negative photosensitive resin composition for a red pattern, a negative photosensitive resin composition for a green pattern, and a negative photosensitive resin composition for a blue pattern having the following compositions were prepared.
(Negative photosensitive resin composition for red pattern)
・ Red pigment: 4.8 parts by weight (Chromophthalic Red A2B, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
・ Yellow pigment: 1.2 parts by weight (PASFOL Yellow D1819, manufactured by BASF)
-Dispersant (Arubia Corp. Solpers 24000-3.0 parts by weight-Monomer (Sartomer SR399)-4.0 parts by weight-Polymer I-5.0 parts by weight-Initiator-1.4 parts by weight (Ciba Specialty Chemicals Irgacure 907)
Initiator: 0.6 parts by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-bisimidazole)
-Surfactant: 1.0 part by weight (Nonion HS-210, manufactured by NOF Corporation)
・ Solvent: 79.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

（緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・緑顔料 … ４．２重量部
（アビシア社製 モナストラルグリーン９Ｙ−Ｃ）
・黄顔料 … １．８重量部
（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９）
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００ … ３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） … ４．０重量部
・ポリマーＩ … ５．０重量部
・開始剤 … １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
・開始剤 … ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・溶剤 … ８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） (Negative photosensitive resin composition for green pattern)
Green pigment: 4.2 parts by weight (Avisia Monastral Green 9Y-C)
・ Yellow pigment: 1.8 parts by weight (manufactured by BASF Paliotor Yellow D1819)
-Dispersant (Arubia Corp. Solpers 24000-3.0 parts by weight-Monomer (Sartomer SR399)-4.0 parts by weight-Polymer I-5.0 parts by weight-Initiator-1.4 parts by weight (Ciba Specialty Chemicals Irgacure 907)
Initiator: 0.6 parts by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-bisimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

（青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物）
・青顔料 … ６．０重量部
（ＢＡＳＦ社製 ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ）
・顔料誘導体（アビシア社製 ソルスパース１２０００）… ０．６重量部
・分散剤（アビシア社製ソルパース２４０００ … ２．４重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） … ４．０重量部
・ポリマーＩ … ５．０重量部
・開始剤 … １．４重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
・開始剤 … ０．６重量部
（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４′，５′−
テトラフェニル−１，２′−ビスイミダゾール）
・溶剤 … ８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） (Negative photosensitive resin composition for blue pattern)
・ Blue pigment: 6.0 parts by weight (Heliogen Blue L6700F manufactured by BASF)
Pigment derivative (Solsperse 12000 manufactured by Avicia) ... 0.6 parts by weight Dispersant (Solpers 24000 manufactured by Abyssia) 2.4 parts by weight Monomer (SR399 manufactured by Sartomer) 4.0 parts by weight Polymer I 5 0.0 parts by weight ・ Initiator: 1.4 parts by weight (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Initiator: 0.6 parts by weight (2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-
Tetraphenyl-1,2'-bisimidazole)
・ Solvent: 80.0 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

尚、上記のポリマーＩは、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝１５．６：３７．０：３０．５：１６．９（モル比）の共重合体１００モル％に対して、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１６．９モル％付加したものであり、重量平均分子量は４２５００である。   The polymer I is based on 100 mol% of a copolymer of benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate = 15.6: 37.0: 30.5: 16.9 (molar ratio). 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added at 16.9 mol%, and the weight average molecular weight was 42500.

次いで、ガラス基板上にブラックマトリックスを覆うように赤色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、赤色パターン用のフォトマスクを介して、露光、現像して、赤色パターンを形成した。この赤色パターンは、図１、図３に示されるように、隣り合うブラックマトリックス間に位置するストライプ形状（幅６０μｍ）であり、直径１５μｍの円形の透光用スルーホールを、長手方向に１８０μｍピッチで備えるものであった。したがって、６０μｍ×１８０μｍの大きさの画素が設定され、各画素に１個の透光用スルーホールが存在するものとなった。
その後、緑色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物、青色パターン用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて、同様の操作により、緑色パターン、青色パターンを形成した。これにより、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンが図１〜図３に示されるような画素パターンで配列された着色層を形成した。 Next, a negative photosensitive resin composition for red pattern is applied by spin coating so as to cover the black matrix on the glass substrate, exposed and developed through a photomask for red pattern, and the red pattern is formed. Formed. As shown in FIGS. 1 and 3, the red pattern has a stripe shape (width 60 μm) located between adjacent black matrices, and circular translucent through holes having a diameter of 15 μm are arranged at a pitch of 180 μm in the longitudinal direction. It was something to prepare for. Therefore, a pixel having a size of 60 μm × 180 μm is set, and one through hole for light transmission exists in each pixel.
Then, the green pattern and the blue pattern were formed by the same operation using the negative photosensitive resin composition for the green pattern and the negative photosensitive resin composition for the blue pattern. As a result, a colored layer in which a red pattern, a green pattern, and a blue pattern are arranged in a pixel pattern as shown in FIGS. 1 to 3 was formed.

次に、ブラックマトリックス、着色層を覆うように、下記組成の透明凸層形成用のネガ型感光性樹脂組成物Ａをスピンコート法により塗布し、帯状の開口部（幅６０μｍ）を１８０μｍピッチで備えるマスクを介して露光し、現像した。
（透明凸層形成用のネガ型感光性樹脂組成物Ａ）
・スチレン−メタクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体 … ４２重量部
・エピコート１８０Ｓ７０（三菱油化シェル（株）製） … １８重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート … ３２重量部
・開始剤 … ８重量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア９０７）
・溶剤 … ３００重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） Next, a negative photosensitive resin composition A for forming a transparent convex layer having the following composition is applied by spin coating so as to cover the black matrix and the colored layer, and strip-shaped openings (width 60 μm) are formed at a pitch of 180 μm. It exposed and developed through the mask provided.
(Negative photosensitive resin composition A for forming a transparent convex layer)
Styrene-methacrylic acid-methyl methacrylate copolymer 42 parts by weight Epicoat 180S70 (manufactured by Mitsubishi Yuka Shell Co., Ltd.) 18 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate 32 parts by weight Initiator 8 parts by weight (Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
・ Solvent: 300 parts by weight (propylene glycol monomethyl ether acetate)

これにより、透光用スルーホールを充填、被覆する透明凸層（厚み４．０μｍ）を、ストライプ形状（幅６０μｍ）の赤色パターン、緑色パターン、青色パターンに直交するように形成した。
次に、ブラックマトリックス、着色層および透明凸層を覆うように酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる共通透明電極（厚み１５００Å）をスパッタリング法により形成した。
次に、ネガ型感光性樹脂組成物Ｂとして、ＪＳＲ（株）製 ＮＮ８５０を共通透明電極上にスピンコート法により塗布し、スペーサ・突起形成用のマスクを介して露光し、現像した。 As a result, a transparent convex layer (thickness: 4.0 μm) filling and covering the light-transmitting through holes was formed so as to be orthogonal to the red, green, and blue patterns having a stripe shape (width of 60 μm).
Next, a common transparent electrode (thickness 1500 mm) made of indium tin oxide (ITO) was formed by sputtering so as to cover the black matrix, the colored layer, and the transparent convex layer.
Next, as a negative photosensitive resin composition B, NN850 manufactured by JSR Co., Ltd. was applied onto the common transparent electrode by a spin coating method, exposed through a mask for spacer / projection formation, and developed.

その後、２３０℃、３０分間の焼成処理を施して、スペーサと配向制御用の突起を形成した。スペーサは、透明凸層上に位置し、高さ２．５μｍ、太さ約１３μｍであった。また、突起は、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンの各着色パターンの各画素毎に１個存在し、高さ３．０μｍ、太さ約１３μｍであった。さらに、配向制御用の突起の光透過率を、顕微分光光度計（オリンパス（株）製 ＯＳＰ−ＳＰ２００）を使用し、波長４００〜７００ｎｍの範囲で、照明倍率＝２０倍、ピンホール径＝５０μｍ、基準ガラス＝コーニング社製１７３７ガラスを用いて測定した結果、９０％であった。
次に、共通透明電極と突起を覆うように、配向膜用塗料（日産化学（株）製 ＳＥ−５３００）をスピンコート法で塗布し、２２０℃、６０分間の焼成処理を施して、厚み（共通透明電極上の厚み）２００Åの配向膜を形成し、カラーフィルタを得た。 Thereafter, a baking process was performed at 230 ° C. for 30 minutes to form spacers and alignment control protrusions. The spacer was located on the transparent convex layer and had a height of 2.5 μm and a thickness of about 13 μm. One protrusion was present for each pixel of each colored pattern of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern, and the height was 3.0 μm and the thickness was about 13 μm. Furthermore, the light transmittance of the projection for controlling the orientation was measured using a microspectrophotometer (OSP-SP200 manufactured by Olympus Co., Ltd.). As a result of measurement using 1737 glass manufactured by Corning, reference glass was 90%.
Next, a coating for alignment film (SE-5300 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) is applied by spin coating so as to cover the common transparent electrode and the protrusions, and subjected to a baking treatment at 220 ° C. for 60 minutes to obtain a thickness ( An alignment film having a thickness of 200 mm on the common transparent electrode was formed to obtain a color filter.

一方、ＴＦＴ基板用の透明基板として、３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面にスパッタリング法により酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を１５００Åの厚さに成膜して透明電極とした。
次に、この透明電極上にポジ型感光性レジスト（東京応化工業（株）製 ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像してレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして、透明画素電極をエッチングして透明電極を形成した。 On the other hand, a 300 mm × 400 mm glass substrate (Corning 1737 glass) was prepared as a transparent substrate for the TFT substrate. After this substrate was washed according to a conventional method, indium tin oxide (ITO) was formed to a thickness of 1500 mm by sputtering on the entire surface of one side of the substrate to form a transparent electrode.
Next, a positive type photosensitive resist (OFPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied on the transparent electrode, and exposed and developed through a predetermined mask to form a resist pattern. Next, using the resist pattern as a mask, the transparent pixel electrode was etched to form a transparent electrode.

次いで、６０μｍ×６０μｍの大きさの開口部を、上記の画素のピッチに合せて備えたマスクを介して、透明画素電極上にアルミニウム電極（反射用電極）をスパッタリング法により成膜（厚み１０００Å）して形成した。これにより、６０μｍ×１８０μｍの大きさの画素毎に、６０μｍ×１２０μｍの透明画素電極と、各透明画素電極上に６０μｍ×６０μｍの反射用電極を形成した。その後、上記のカラーフィルタ作製の場合と同様にして、透明画素電極および反射用電極上に厚み２００Åの配向膜を形成し、ＴＦＴ基板を得た。
尚、実際のＴＦＴ基板は、液晶駆動用の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を備えた基板上に、画素形状にパターニングされた透明電極、反射用電極を備えるが、本実施例では、簡略化のためＴＦＴを省略してＴＦＴ基板とした。 Next, an aluminum electrode (reflection electrode) is formed on the transparent pixel electrode by a sputtering method (thickness: 1000 mm) through a mask having openings of 60 μm × 60 μm in accordance with the pixel pitch described above. Formed. Thereby, for each pixel having a size of 60 μm × 180 μm, a transparent pixel electrode of 60 μm × 120 μm and a reflective electrode of 60 μm × 60 μm were formed on each transparent pixel electrode. Thereafter, an alignment film having a thickness of 200 mm was formed on the transparent pixel electrode and the reflective electrode in the same manner as in the production of the color filter, thereby obtaining a TFT substrate.
The actual TFT substrate is provided with a transparent electrode and a reflective electrode patterned in a pixel shape on a substrate provided with a thin film transistor (TFT) for driving liquid crystal. The TFT substrate was omitted.

次に、カラーフィルタとＴＦＴ基板を配向膜形成面側を対向させ、かつ、反射用電極がカラーフィルタの透明凸層と対向するようにして貼り合わせ、次いで、真空注入法を用いて液晶をセル内に注入し、注入口を紫外線硬化樹脂を用いて封止し、その後、アニーリング処理を行って流動配向効果をキャンセルした。これにより、評価用の液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置の液晶層の厚みは、透明凸層が存在する部位で２．５μｍ、透明凸層が存在しない部位で５．０μｍであった。   Next, the color filter and the TFT substrate are bonded so that the alignment film forming surface faces each other, and the reflective electrode faces the transparent convex layer of the color filter, and then the liquid crystal is put into a cell using a vacuum injection method. The injection port was sealed with an ultraviolet curable resin, and then an annealing treatment was performed to cancel the flow alignment effect. Thereby, a liquid crystal display device for evaluation was produced. The thickness of the liquid crystal layer of this liquid crystal display device was 2.5 μm at the site where the transparent convex layer was present, and 5.0 μm at the site where the transparent convex layer was not present.

［比較例］
配向制御用の突起を形成しない他は、スペーサ形成までを実施例と同様に行った。
次に、突起形成用のポジ型感光性樹脂組成物（東京応化工業（株）製 ＯＦＰＲ−８００）を共通透明電極上にスピンコート法により塗布し、突起形成用のマスクを介して露光し、現像した。
その後、２２０℃、６０分間の焼成処理を施して、配向制御用の突起を形成した。形成した突起は、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンの各着色パターンの各画素毎に１個存在し、高さ２．０μｍ、太さ約１６μｍであった。また、配向制御用の突起の透過率を実施例と同様の条件で測定した結果、６７％であった。
次に、実施例と同様に配向膜を形成し、カラーフィルタを得た。
次いで、実施例と同様にＴＦＴ基板を作製し、評価用の液晶表示装置を作製した。 [Comparative example]
The steps up to the formation of the spacer were performed in the same manner as in the example except that the alignment control protrusion was not formed.
Next, a positive photosensitive resin composition for protrusion formation (OFPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied onto the common transparent electrode by a spin coat method, and exposed through a mask for protrusion formation. Developed.
Thereafter, a baking treatment at 220 ° C. for 60 minutes was performed to form alignment control protrusions. One protrusion was formed for each pixel of each colored pattern of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern, and the height was 2.0 μm and the thickness was about 16 μm. In addition, the transmittance of the alignment control protrusion was measured under the same conditions as in the example, and as a result, it was 67%.
Next, an alignment film was formed in the same manner as in Example to obtain a color filter.
Next, a TFT substrate was produced in the same manner as in the example, and a liquid crystal display device for evaluation was produced.

［評 価］
実施例では、ネガ型感光性樹脂組成物を用いることにより、比較例に比べて簡便な工程で半透過型のカラーフィルタが製造できた。また、実施例で製造したカラーフィルタでは、配向制御用の突起が比較例に比べて微小、かつ高透過率であり、作製した液晶表示装置は、白表示での透過率が向上し、コントラストの高い液晶表示装置であった。 [Evaluation]
In the examples, by using the negative photosensitive resin composition, a transflective color filter could be manufactured by a simpler process than in the comparative example. Further, in the color filter manufactured in the example, the alignment control protrusions are finer and have a higher transmittance than in the comparative example, and the manufactured liquid crystal display device has improved white transmittance and contrast. It was a high liquid crystal display device.

複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置等に利用することができる。   It can be used for a liquid crystal display device of a multi-alignment division type vertical alignment mode.

本発明のカラーフィルタ製造方法により製造されるカラーフィルタの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the color filter manufactured by the color filter manufacturing method of this invention. 図１のＡ−Ａ線における拡大縦断面図である。It is an expanded longitudinal cross-sectional view in the AA line of FIG. 図１のＢ−Ｂ線における拡大縦断面図である。It is an expanded longitudinal cross-sectional view in the BB line of FIG. 本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための工程図であり、各工程は図２相当の断面（図１のＡ−Ａ線断面）を示す。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the color filter of this invention, and each process shows the cross section (AA sectional view of FIG. 1) equivalent to FIG. 本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための工程図であり、各工程は図３相当の断面（図１のＢ−Ｂ線断面）を示す。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the color filter of this invention, and each process shows the cross section (BB line cross section of FIG. 1) equivalent to FIG. 本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための工程図であり、各工程は図３相当の断面（図１のＢ−Ｂ線断面）を示す。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the color filter of this invention, and each process shows the cross section (BB line cross section of FIG. 1) equivalent to FIG. 本発明のカラーフィルタ製造方法により製造されるカラーフィルタの他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the color filter manufactured by the color filter manufacturing method of this invention. 本発明の半透過型の液晶表示装置の一実施形態を示す概略部分断面図であり、図２相当の断面（図１のＡ−Ａ線断面）を示す。FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view showing an embodiment of a transflective liquid crystal display device of the present invention, and shows a cross-section corresponding to FIG. 本発明の半透過型の液晶表示装置の一実施形態を示す概略部分断面図であり、図３相当の断面（図１のＢ−Ｂ線断面）を示す。FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view showing an embodiment of a transflective liquid crystal display device of the present invention, and shows a cross-section corresponding to FIG. 本発明の半透過型の液晶表示装置の他の実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows other embodiment of the transflective liquid crystal display device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１…半透過型の液晶表示装置
１１…カラーフィルタ
１２…透明基板
１３…ブラックマトリックス
１４…着色層
１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ…着色パターン
１５…透光用スルーホール
１６…透明凸層
１７…共通透明電極
１８…突起
１９…スペーサ
２１…ＴＦＴ基板
２２…透明基板
２３…ＴＦＴ
２４…透明画素電極
２５…反射用電極
２６…スリット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semi-transmissive liquid crystal display device 11 ... Color filter 12 ... Transparent substrate 13 ... Black matrix 14 ... Colored layer 14R, 14G, 14B ... Colored pattern 15 ... Translucent through hole 16 ... Transparent convex layer 17 ... Common transparent electrode 18 ... Projection 19 ... Spacer 21 ... TFT substrate 22 ... Transparent substrate 23 ... TFT
24 ... Transparent pixel electrode 25 ... Reflective electrode 26 ... Slit

Claims (7)

複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置に用いる半透過型カラーフィルタの製造方法において、
透明基板の表面に、透光用スルーホールを有する着色層を所定の画素パターンで形成する操作を複数色分繰り返す着色層形成工程と、
少なくとも前記透光用スルーホールを覆うように前記着色層上に透明凸層を形成する凸層形成工程と、
前記着色層および前記透明凸層を覆うように共通透明電極を形成する電極形成工程と、
前記共通透明電極上にネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、スペーサ・突起形成用マスクを介して前記ネガ型感光性樹脂組成物塗膜を露光し、現像して、前記透明凸層上にスペーサを形成し、前記着色層上に液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起を形成するスペーサ・突起形成工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 In a method of manufacturing a transflective color filter used for a liquid crystal display device of a multi-alignment division type vertical alignment mode,
A colored layer forming step that repeats the operation for forming a colored layer having a light-transmitting through hole with a predetermined pixel pattern on the surface of the transparent substrate for a plurality of colors,
A convex layer forming step of forming a transparent convex layer on the colored layer so as to cover at least the light transmitting through hole;
An electrode forming step of forming a common transparent electrode so as to cover the colored layer and the transparent convex layer;
A negative photosensitive resin composition is applied onto the common transparent electrode, the negative photosensitive resin composition coating film is exposed through a spacer / projection forming mask, developed, and then on the transparent convex layer. A method for producing a color filter, comprising: forming a spacer and forming a protrusion on the colored layer for controlling a liquid crystal molecule alignment direction in a plurality of directions. 前記スペーサ・突起形成工程では、現像した後、スペーサ・突起に焼成処理を施すことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein, in the spacer / projection forming step, after the development, the spacer / projection is subjected to a baking treatment. 前記着色層形成工程の前に、前記透明基板の表面にブラックマトリックスを形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a black matrix is formed on a surface of the transparent substrate before the colored layer forming step. 前記着色層形成工程の後に、各画素の境界部位にブラックマトリックスを形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein a black matrix is formed at a boundary portion of each pixel after the colored layer forming step. 複数配向分割型垂直配向モードの液晶表示装置において、
所定の間隔のセルを形成するように対向したＴＦＴ基板と半透過型カラーフィルタと、前記セルに充填された液晶層とを備え、前記半透過型カラーフィルタは請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたものであり、前記ＴＦＴ基板は各画素毎に透明画素電極と反射用電極を備え、該反射用電極は前記カラーフィルタの透明凸層に対向するものであることを特徴とする液晶表示装置。 In the liquid crystal display device of the multi-alignment division type vertical alignment mode,
A TFT substrate, a transflective color filter, and a liquid crystal layer filled in the cell, which are opposed to form cells at a predetermined interval, and the transflective color filter is any one of claims 1 to 4. The TFT substrate is provided with a transparent pixel electrode and a reflective electrode for each pixel, and the reflective electrode faces the transparent convex layer of the color filter. A liquid crystal display device characterized by that. 前記ＴＦＴ基板の透明画素電極は、液晶分子の配向方向を複数方向に制御するためのスリットを備えることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the transparent pixel electrode of the TFT substrate includes a slit for controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules in a plurality of directions. 前記ＴＦＴ基板は、液晶分子の配向方向を複数方向に制御するための突起を前記透明画素電極上に備えることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 5, wherein the TFT substrate includes a protrusion on the transparent pixel electrode for controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules in a plurality of directions.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010282049A (en) * 2009-06-05 2010-12-16 Toppan Printing Co Ltd Green photosensitive coloring composition and color filter using the same
TWI391777B (en) * 2007-06-28 2013-04-01 S&S Tech Co Ltd Process method of gray tone blankmask, and photomask using the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000321578A (en) * 1999-05-07 2000-11-24 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2001201750A (en) * 2000-01-14 2001-07-27 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device and method of producing the same
JP2004086108A (en) * 2001-10-02 2004-03-18 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2004151202A (en) * 2002-10-29 2004-05-27 Sharp Corp Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2005055826A (en) * 2003-08-07 2005-03-03 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device, its manufacturing method, and electronic device
JP2005107277A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display element

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000321578A (en) * 1999-05-07 2000-11-24 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2001201750A (en) * 2000-01-14 2001-07-27 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device and method of producing the same
JP2004086108A (en) * 2001-10-02 2004-03-18 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2004151202A (en) * 2002-10-29 2004-05-27 Sharp Corp Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2005055826A (en) * 2003-08-07 2005-03-03 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device, its manufacturing method, and electronic device
JP2005107277A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI391777B (en) * 2007-06-28 2013-04-01 S&S Tech Co Ltd Process method of gray tone blankmask, and photomask using the same
JP2010282049A (en) * 2009-06-05 2010-12-16 Toppan Printing Co Ltd Green photosensitive coloring composition and color filter using the same

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