JP2006525531A - 偏光変換に基づく結合導波路電気光学スイッチ - Google Patents
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Abstract
入射電磁放射を受け取るため第1の導波路(1)を備える方向性結合器(11)を含む光電子デバイス(1)であって、前記第1の導路は電気光学材料からなる導波領域(3)を含む光電子デバイス(1)を提供すること。さらに、方向性結合器は、前記入射放射の少なくとも第1の部分を結合でき、出力される放射用のポートを備える第2の導波路(2)を含む。光電子デバイスは、方向性結合器の前記第1の導路(1)の少なくとも内側にある制御電場(ERF)を発生(12、13)し、前記入射放射の少なくとも一部の偏光変換を前記電気光学材料内に発生させるような構造を備える。この偏光変換を使用することにより、第2の導波路から出力される放射のパワーを制御することが可能であり、変調装置、切り換えスイッチ、アッテネータ、または開閉スイッチを製作できる。
Description
本発明は、例えば、光スイッチおよび変調装置などの光電子デバイスに関する。特に、本発明は、電気光学効果が発生するデバイスを対象とする。
一般に、光スイッチは、電磁放射を導き入れることができる少なくとも1つの入力ポートおよびこの電磁放射を切り換えられる少なくとも2つの出力ポートを備えるデバイスである。スイッチは、2つのポートの間の放射の切り替えをトリガするための制御機器を備える。
知られている技術に言及している米国特許第4,012,113号では、2つのチタン導路が形成されるニオブ酸リチウム基板を使用して製作された2つの導波路を含む方向性結合器により構成される光スイッチ(その文書の図1を参照)について説明している。導波路は、一方の導路から他方の導路へエバネッセントモードを結合できる平行部分を提示する。2つの光導路のうちの一方で伝搬する光は、適当な結合距離の後に第2の導路に伝達することができる。さらに、このデバイスは、トリガ電圧が印加される2つの電極を備える。トリガ電圧は、電気光学効果により、導路の間に存在する方向性結合をキャンセルするためなど、2つの導路の伝搬定数の間の位相差を誘起する電界を発生する。方向性結合をキャンセルすると、光スイッチのクロスオーバー状態とストレートスルーまたはバー状態との間でスイッチングが生じる。本特許では、ニオブ酸リチウムの光軸、軸cは、電極により発生される電界の主成分に平行であると規定されている。
米国特許第4,157,860号では、ニオブ酸リチウムから、トリガ信号が印加されることができる電極を備えた方向性結合器を使って、製作される変調装置/スイッチについて説明している。本特許によれば、変調装置およびスイッチなどのアプリケーションでは、肝心なのは、屈折率nTMおよびnTEの変化に対応する波数の変化である。水晶の光軸にそって1つの成分Ez、および水晶のy軸にそって1つの成分Eyを持つ垂直電界は、使用される方向性結合器の導波路に印加される。成分Ezは、屈折率の楕円の次元の増大を引き起こし、成分Eyはその楕円の回転を引き起こす。これら2つの効果は、TM偏光に関係する屈折率nTMの変化を引き起こす。成分Eyによる屈折率の楕円の回転は、TE偏光に関係する屈折率nTEの不要な変化をキャンセルする。成分Eyと成分Ezとの間の比を適切に選択することにより、TEモードに影響を与えることなくTMモードに作用することが可能である。本明細書では、提案されている変調装置/スイッチは、偏光と無関係であると考えられる。
さらに、第1の種類の偏光を有する入射電磁放射から始まり、異なる種類の偏光を有する電磁放射を出力のところで発生する知られている偏光変換器デバイスがある。
この関連で、米国特許第4,384,760では、光経路が作られるニオブ酸リチウム基板により構成される偏光変換器を説明している。この光経路にそって、入射放射の直交偏光成分の間で相対位相を変化させる第1の移相器、偏光成分の相対振幅を変化させるモード変換器、およびモード変換器から出力される偏光成分の相対位相を変化させる第2の移相器が製作される。モード変換器は、適当な電圧が供給された場合に、TE(横電場)モードをTM(横磁場)モードに、またその逆にTMをTEに変換し、TE方向にそって配向された偏光成分をTM方向にそって配向された成分に変換する一組の電極を備える。この変換は、ニオブ酸リチウムの電気光学テンソルの非対角係数(r51)を伴う電気光学効果に基づく。
この関連で、米国特許第4,384,760では、光経路が作られるニオブ酸リチウム基板により構成される偏光変換器を説明している。この光経路にそって、入射放射の直交偏光成分の間で相対位相を変化させる第1の移相器、偏光成分の相対振幅を変化させるモード変換器、およびモード変換器から出力される偏光成分の相対位相を変化させる第2の移相器が製作される。モード変換器は、適当な電圧が供給された場合に、TE(横電場)モードをTM(横磁場)モードに、またその逆にTMをTEに変換し、TE方向にそって配向された偏光成分をTM方向にそって配向された成分に変換する一組の電極を備える。この変換は、ニオブ酸リチウムの電気光学テンソルの非対角係数(r51)を伴う電気光学効果に基づく。
出願者は、方向性結合器と方向性結合器の導波路の少なくとも1つの内部で偏光変換を引き起こすのに適している電気光学効果とを組み合わせることにより、例えば、スイッチまたは変調装置として使用することができる光電子デバイスを製作することが可能であることを指摘した。特に、本発明の光電子デバイスで使用される方向性結合器は、電気光学物質により作られるセクションを備えた少なくとも1つの導波路を含む。
さらに、出願者は、この種類の光電子デバイスを使用すると、光通信システムに関係するものなどの実用アプリケーションでこのデバイスを使用するのに禁止的ではなく適している値を持つ制御電圧を印加することで結合器の導路の1つに入る放射を切り換え/変調することができることを観察した。
通常、偏光変換は、変換が実行される導路の複屈折(つまり、偏光の2つの直交モードに関係する屈折率間の差)の影響を著しく受けることが指摘される。
この関係で、出願者は、特に導波路の寸法および使用される材料の屈折率に関して、偏光変換が行われる、したがって満足な製作公差を示す導波路の複屈折に決定的に依存することのないように、本発明のデバイスを製作できることを見いだした。
この関係で、出願者は、特に導波路の寸法および使用される材料の屈折率に関して、偏光変換が行われる、したがって満足な製作公差を示す導波路の複屈折に決定的に依存することのないように、本発明のデバイスを製作できることを見いだした。
本発明の対象は、付属の請求項1により定義されているような光電子デバイスである。本発明のデバイスの特定の実施形態は、請求項2から30により定義される。
本発明の対象は、請求項31により定義されているような電磁放射パワーを制御する方法でもある。本発明による方法の好ましい実施形態は、請求項32から35により定義される。
本発明の対象は、請求項31により定義されているような電磁放射パワーを制御する方法でもある。本発明による方法の好ましい実施形態は、請求項32から35により定義される。
本発明の他の特徴および利点は、付属の図面を参照しつつ、純粋に非制限的実施例により実現される、好ましい実施形態の詳細な説明から明らかになるであろう。
図1および図2は、それぞれ、本発明による光電子デバイス10の一実施形態の上から見た概略図と断面図を示している。
この光電子デバイス10は、第1の導波路1および第2の導波路2を備える方向性結合器11を含む。第1の導波路1および第2の導波路2は、2つの導波路のうちの一方に入る放射の少なくとも一部を他方の導波路に結合できるようにするのに適した長さLcを持つ少なくとも1つのそれぞれの結合セクションに合わせて並べて配置される。例えば、2つの導波路1および2は平行である、つまり、結合セクションLc用の平行な伝搬軸を持ち、末端で分岐する。電磁放射用に、第1の導波路1は、第1の入力IN1および第1の出力OUT1を備え、第2の導波路2は、第2の入力IN2および第2の出力OUT2を備える。
この光電子デバイス10は、第1の導波路1および第2の導波路2を備える方向性結合器11を含む。第1の導波路1および第2の導波路2は、2つの導波路のうちの一方に入る放射の少なくとも一部を他方の導波路に結合できるようにするのに適した長さLcを持つ少なくとも1つのそれぞれの結合セクションに合わせて並べて配置される。例えば、2つの導波路1および2は平行である、つまり、結合セクションLc用の平行な伝搬軸を持ち、末端で分岐する。電磁放射用に、第1の導波路1は、第1の入力IN1および第1の出力OUT1を備え、第2の導波路2は、第2の入力IN2および第2の出力OUT2を備える。
都合がよいことに、第1の導波路1および第2の導波路2は、集積光学の分野で知られている技術を使用して製作される。特に、第1の導波路1および/または第2の導波路2は、その断面が矩形であり、例えば、「うね」型の導路である。
さらに、図2により明確に示されているように、第1の導波路1および第2の導波路2は、それぞれ第1のうね4および第2のうね5を備え、両方とも導波層3の上に配置される。導波層3全体、または少なくとも、第1のうね4および第2のうね5の下に配置されたそれの領域のみが、導波路1および2内の電磁放射の伝搬に適した値を持つそれぞれの屈折率を示す。光電子デバイス10は、導波層3の下面3’が配置される下側クラッディング7および導波層3の上面3”の上に配置される上側クラッディング8を備える。上側クラッディング7および下側クラッディング8は、例えば、二酸化ケイ素(SiO2)を使用して、または例えば、酸化マグネシウム(MgO)またはSOI(シリコン・オン・インシュレータ)などの第1のうね4および第2のうね5の下に配置された導波層3の領域の屈折率よりも低い屈折率を持つ他の材料を使用して、製作される。また、上側クラッディングが存在せず、導路の周囲の空気により導路内の伝搬に必要な屈折率ステップが実現されることも可能である。
説明されている実施例によれば、2つの導波路1および2はそれぞれ、単一モード導路である、つまり、波長が所定の間隔内に含まれる光学的放射の基本モードのみをサポートする。
この基本モードと関連するのは、TE(または横電場モード)直線偏光およびTM(または横磁場モード)直線偏光であり、TMはTEに直交する。
以下の考察では、「TE1モード」または「TE1偏光」(「TM1モード」または「TM1偏光」)という表現を使用して、第1の導波路1の基本モードに関連するTE(TM)偏光を示す。同様に、「TE2モード」または「TE2偏光」(「TM2モード」または「TM2偏光」)という表現を使用して、第2の導波路2の基本モードに関連するTE(TM)偏光を示す。
以下の考察では、「TE1モード」または「TE1偏光」(「TM1モード」または「TM1偏光」)という表現を使用して、第1の導波路1の基本モードに関連するTE(TM)偏光を示す。同様に、「TE2モード」または「TE2偏光」(「TM2モード」または「TM2偏光」)という表現を使用して、第2の導波路2の基本モードに関連するTE(TM)偏光を示す。
図2では、それぞれの矢印は、TE1およびTM1モードとTE2またはTM2モードの偏光の方向(つまり、電場の振動方向)を示している。
方向性結合器11は、第1の導波路1の第1の入力IN1内に導き入れられた電磁放射の少なくとも一部(より具体的には、実質的に100%)を第2の導波路2に結合、つまり伝達するようなことを行う。
方向性結合器11は、第1の導波路1の第1の入力IN1内に導き入れられた電磁放射の少なくとも一部(より具体的には、実質的に100%)を第2の導波路2に結合、つまり伝達するようなことを行う。
この実施例によれば、方向性結合器11は、第1の導波路1内に伝搬されるTE1モードを第2の導波路2に結合し、これにより、TE2モードを生じさせるようなことを行う。TE1モードに関連する電力と第2の導波路2に結合されたTE2モードに関連する電力との比は、それら2つの導路間のTEモードの結合の係数kcoup,TEに相関する。
さらに、方向性結合器11は、TMモードに関係するkcouop,TM以上の第1の導波路1から第2の導波路2へのTEモードの結合の係数を示すようなことを行う。
kcoup,TE≧Kcoup,TM (i)
つまり、方向性結合器11は、TEモードに関する第2の導波路2に伝達される電力および第1の導波路1内に導き入れられる電力との比は、TMモードに関する同じ比以上であるように寸法が決められる。特定の実施例によれば、結合器11は、TMモードに対する結合が実質的にゼロになる構成である。
kcoup,TE≧Kcoup,TM (i)
つまり、方向性結合器11は、TEモードに関する第2の導波路2に伝達される電力および第1の導波路1内に導き入れられる電力との比は、TMモードに関する同じ比以上であるように寸法が決められる。特定の実施例によれば、結合器11は、TMモードに対する結合が実質的にゼロになる構成である。
kcoup,TM=0 (ii)
例えば、関係式(ii)は、第2の導波路2に結合されたTM偏光についての電力と第1の導波路1に存在するTM偏光についての電力とのパーセンテージ比が結合セクションLcにそって1%を超えないときに満たされることが考察できる。
例えば、関係式(ii)は、第2の導波路2に結合されたTM偏光についての電力と第1の導波路1に存在するTM偏光についての電力とのパーセンテージ比が結合セクションLcにそって1%を超えないときに満たされることが考察できる。
当業者であれば、導波路1および2の特性パラメータ(例えば、長さ、幅、高さ、2つの集積導波路の間の距離d、屈折率)を決定し、すでに説明した内容に従って電磁放射結合条件を得ることが容易にできる。
光電子デバイス10は、以下の説明から明らかになることだが、方向性結合器11の挙動を調整できるようにする制御電場
を発生するための構造を備える。
例えば、この発生構造は、制御電圧Vcrの発生器G、正電極12、および負電極13(またはアース電極)を含む。図1および2の実施例によれば、正電極12および負電極13は、方向性結合器11と一体になっており、第1および第2の導波路1および2の伝搬の軸に平行な長さLcの結合セクション用に延びている。
例えば、この発生構造は、制御電圧Vcrの発生器G、正電極12、および負電極13(またはアース電極)を含む。図1および2の実施例によれば、正電極12および負電極13は、方向性結合器11と一体になっており、第1および第2の導波路1および2の伝搬の軸に平行な長さLcの結合セクション用に延びている。
正および負の電極12および13は2つの導波路1および2の並んだセクションとともに、電子デバイス10の活性領域100を形成する。
図2からより明確に分かるように、正電極12は、上側クラッディング8の上に、第1の導波路1と第2の導波路2の間に備えられる導波層3の領域に面するように配置されている。負電極13は、第1の導波路1の側面および第2の導波路2が走っている端の反対側の端に配置される。正および負の電極12および13は、例えば、金製にしてよい。
図2からより明確に分かるように、正電極12は、上側クラッディング8の上に、第1の導波路1と第2の導波路2の間に備えられる導波層3の領域に面するように配置されている。負電極13は、第1の導波路1の側面および第2の導波路2が走っている端の反対側の端に配置される。正および負の電極12および13は、例えば、金製にしてよい。
発生器Gは、電圧Vcrを発生するようなものであり、したがって、光電子デバイス10に対し選択された特定のアプリケーションに応じて時間の関数として曲線が描かれる制御電場
である。このデバイス10が振幅変調器の場合、発生器Gは、高周波で動作可能であり、制御電圧Vcrは、例えば、100MHzから100GHzの範囲に含まれる周波数fcrを持つことができる。
デバイス10がスイッチの場合、発生器Gは、スイッチングが発生した場合に値が変化する静止電圧Vcrを発生することができる。
この第1の実施形態に応じて、2つの電極12および13は、第1の導波路1に対応する導波層3の実質的に内側のみに制御電場
この第1の実施形態に応じて、2つの電極12および13は、第1の導波路1に対応する導波層3の実質的に内側のみに制御電場
を発生するが、第2の導波路2の内側では、電場
は無視できる大きさである。
都合のよいことに、第1の導波路1および第2の導波路2の少なくとも一方は、電気光学材料を使用して発生される。例えば、電気光学材料は、第1の導波路1にのみ使用される。
都合のよいことに、第1の導波路1および第2の導波路2の少なくとも一方は、電気光学材料を使用して発生される。例えば、電気光学材料は、第1の導波路1にのみ使用される。
特に、導波路1の製作に使用される電気光学材料は、制御電場
の作用の下で、第1の導路内を伝搬される電磁放射の偏光変換を行えるような材料である。特に、獲得できる変換は、TE1モード(図2の方向TE1にそって配向される偏光が関連付けられる)をTM1モード(図2の方向TM1にそって配向される偏光が関連付けられる)に結合する変換である。
第1の導波路1(特に、導波層3および第1のうね4)の製作に使用される電気光学材料は、例えば、異方性の結晶性物質である。
本発明の実施例によれば、この材料は、一軸でもある、つまり、単一の光軸c(結晶軸ともいう)を示す。光軸cは、結晶内を伝搬すると、異常光屈折率neの影響を受ける電磁放射の偏光のその方向である。
本発明の実施例によれば、この材料は、一軸でもある、つまり、単一の光軸c(結晶軸ともいう)を示す。光軸cは、結晶内を伝搬すると、異常光屈折率neの影響を受ける電磁放射の偏光のその方向である。
第1の導波路1を製作するために使用される電気光学材料は、チタン酸バリウムBaTiO3である。この材料は、例えば、薄膜の形で有利にシリコン基板上に成長させることができる特性を持つ。シリコンでの製作は、本発明のデバイスが、同じシリコン基板上に例えば、フォトダイオード、フィルタなどの他の光電子デバイスと一緒に集積化できるということなので有利である。
例えば、導波路1は、酸化マグネシウムの層上にチタン酸バリウムを成長させることにより、またチタン酸バリウムが方向<001>にそって向き付けられた光軸cを持つように形成される。つまり、光軸cは、チタン酸バリウムの成長の平面に対し垂直である。図2は、導波層3の上側表面3”に直交する光軸cの方向を示す。
チタン酸バリウムのほかに、例えば、方向<001>にそって配向された結晶軸を持つ、他の電気光学材料も使用することができる。チタン酸バリウムの代替え材料としては、ニオブ酸リチウムLiNbO3が考えられる。
さらに、本発明で使用することができる電気光学材料は、非対角電気光学係数が0に等しくない物質である。
電気光学テンソルは、6×3行列で表すことができ、非対角係数(例えば、係数r41、r42、r43、r51)は、階数3よりも上の部分行列の外にある、つまり、テンソルの第4行から第6行に属す係数であることに留意されたい。
電気光学テンソルは、6×3行列で表すことができ、非対角係数(例えば、係数r41、r42、r43、r51)は、階数3よりも上の部分行列の外にある、つまり、テンソルの第4行から第6行に属す係数であることに留意されたい。
特に好ましいのは、静止周波数または低周波(例えば、100kHz未満の周波数)が電場に印加された状態で(バルク水晶に関して)約100pm/Vよりも大きい、またより好ましくは、約500pm/Vよりも大きい非対角係数が可視スペクトルの範囲内の電磁放射の波長(例えば、633nm)について、例えば、周囲温度で、評価される材料である。
本発明によるデバイス10を製作する際に、チタン酸バリウムは、値が約1300pm/Vに等しい非対角係数r42を持つため特に有利である。
正電極12および負電極13は、制御電場
正電極12および負電極13は、制御電場
の力線が第1の導波路1の内側(特に、対応する導波層3の内側)に発生し、この電場が光軸cに垂直に配向されるか、またはこの光軸に垂直に配向された少なくとも1つの成分を持つように配置されることが指摘されている。図2の概略図によれば、電場
は、光軸cに垂直であり、また第1の導波路1の伝搬の方向に垂直であり(図2の平面内に入る方向)、したがって偏光TE1の方向に平行である。当業者であれば知っているように、光軸cに垂直な制御電場
の成分により、第1の導波路1内に、注目する材料の屈折率の楕円体の回転を伴う電気光学効果を発生させることが可能である。
これが振幅変調装置として機能する場合の光電子デバイス10の動作について説明することにする。
これが振幅変調装置として機能する場合の光電子デバイス10の動作について説明することにする。
この場合、光電子デバイス10は、第1の導波路1の第1の入力IN1に接続され、実質的に直線偏光された、TE1モードに対応している、電磁放射を発生するレーザー光源14を備える。例えば、レーザー光源14は、半導体レーザーである。
好都合なことに、この発生した放射の波長は、例えば、800nm〜1700nmの範囲内の波長などの光通信に適した波長を持つ。使用される放射は、1200nm〜1700nmの範囲内、より好ましくは1400〜1700nmの範囲内に含まれる波長を持つのが好ましい。
正電極12および負電極13が給電されず、したがって、電場を発生しない場合、デバイス10は、方向性結合器として動作する。TE1モードは、第1の導波路1内で伝搬し、長さLcの結合領域の内側で、少なくとも一部はTE2モードで伝搬される第2の導波路2に伝達されるエバネッセントモードを発生する。
デバイス10が100%の結合を行う場合、第2の出力OUT2で、実質的に同じ振幅、したがってTE1モードに関連付けられた同じ電力成分を持つ放射を集めることが可能である。
発電機Gが作動された場合、正電極12および負電極13は給電され、周波数fcrの振幅で可変である制御電場
を発生する。
光軸c、および第1の導波路1の伝搬方向に直交する形で配向された、制御電場
光軸c、および第1の導波路1の伝搬方向に直交する形で配向された、制御電場
は、第1の導波路1(0でない係数r42を持つ)のチタン酸バリウム内で導路によりサポートされるモードの偏光変換を発生する。
より詳しくは、制御電場
より詳しくは、制御電場
により、第1の導波路1の電気光学物質に関係する屈折率の楕円体の軸の回転が生じる。
この回転の結果、導波路1によりサポートされるモードの伝搬の条件は変化し、偏光TE1から直交偏光TM1への変換により明らかにされる。
この回転の結果、導波路1によりサポートされるモードの伝搬の条件は変化し、偏光TE1から直交偏光TM1への変換により明らかにされる。
関係式(i)を満たすように、または特定の関係式(ii)において方向性結合器11を構成した後、第2の導波路2に結合できるTM1モードに対応する放射の一部分は、TE1モードとTE2モードとの間の結合と制限付きで比較される。実際、方向性結合器11は、TM1モードに対応する放射が、実質的にゼロである、第2の導波路2との結合の「傾向」を持つか、またはいずれの場合も、TE1およびTE2モードの結合の傾向を超える傾向を持たないような結合器である。
本発明の基礎となる現象の可能な定量的説明によれば、変換から結果として生じるモードの第2の導波路2への結合の制限により(例えば、TM1モード)、方向性結合器11の通常動作に関連するエネルギーの伝達が実質的にキャンセルされるか、または手短に、方向性結合器が「破壊される」まで、全体として第2の導路に結合される放射の部分を減らすことが可能である。
より具体的には、デバイス10において、第2の導波路2との結合による効果および電気光学効果に関連する第1の導波路1内の偏光変換の効果という2つの相反する効果が出現することを考慮することは理にかなっている。
これら2つの効果には、第1の導路1と第2の導路2との間の結合を完全にまたは部分的に抑止するような不一致がありえる。
これら2つの効果は、知られている結合モード理論を基に、以下のような事項を考慮することにより十分な精度で記述することができる。これらの考慮事項に基づいて、ATE1およびATM1は、TE1およびTM1モードの電場の複素振幅を表し、ATE2およびATM2は、TE2およびTM2モードの電場の複素振幅を表す。
これら2つの効果は、知られている結合モード理論を基に、以下のような事項を考慮することにより十分な精度で記述することができる。これらの考慮事項に基づいて、ATE1およびATM1は、TE1およびTM1モードの電場の複素振幅を表し、ATE2およびATM2は、TE2およびTM2モードの電場の複素振幅を表す。
これらの考慮事項において、軸zは、考察されている2つの導波路内の放射の伝搬の軸であり、原点z=0は、図1に示されているように、活性領域100の初期セクションに配置される。
さらに、初期条件は、|ATE1|2 z=0=1、|ATM1|2 z=0=0、|ATE2|2 z=0=0、|ATM2|2 z=0=0、つまり、TE直線偏光で第1の導波路1内に導かれる放射である。
モード方程式は以下の形式である。
これらの方程式において、量Δβeo,1およびΔβcoup,TEは、2つの導波路のモードに関連する伝搬定数βの間の以下の差によって表される。
Δβeo,1=βTE1−βTM1=(nTE1−nTM1)2π/λ
Δβcoup,TE=βTE1−βTE2=(nTE1−nTE2)2π/λ
ただし、nTE1およびnTM1は、第1の導波路1のTEおよびTMモードの実効屈折率であり、nTM2およびnTE2は、それぞれ第2の導波路2のTEおよびTMモードの実効屈折率であり当業者には知られているように、実効屈折率は、製作される導波路の実際の構造を考慮し、未加工またはバルク水晶の正常屈折率および異常屈折率と相関する。
Δβeo,1=βTE1−βTM1=(nTE1−nTM1)2π/λ
Δβcoup,TE=βTE1−βTE2=(nTE1−nTE2)2π/λ
ただし、nTE1およびnTM1は、第1の導波路1のTEおよびTMモードの実効屈折率であり、nTM2およびnTE2は、それぞれ第2の導波路2のTEおよびTMモードの実効屈折率であり当業者には知られているように、実効屈折率は、製作される導波路の実際の構造を考慮し、未加工またはバルク水晶の正常屈折率および異常屈折率と相関する。
係数keo,1は、第1の導波路1のTEモードとTMモードとの間の電気光学結合係数であり、この場合、電気光学係数r42および、光軸cおよび第1の導波路1の伝搬の方向に直交するように配向された制御電場
の振幅Ecrに比例する(または、光軸cおよび第1の導波路1の伝搬の方向に直交する制御電場
の成分に比例する)。
係数kcoup,TEは、2つの導波路1と2の間のTE偏光に対する結合の係数であり、方向性結合器11の幾何学的形状および第1の導波路1内のTEモードに対する実効屈折率nTE1および第2の導波路2内のTEモードに対する実効屈折率nTE2に依存する。
係数kcoup,TEは、2つの導波路1と2の間のTE偏光に対する結合の係数であり、方向性結合器11の幾何学的形状および第1の導波路1内のTEモードに対する実効屈折率nTE1および第2の導波路2内のTEモードに対する実効屈折率nTE2に依存する。
方程式(1)で、第1の項は、制御電場
があるため第1の導波路1内に発生する偏光変換(つまり、変換TE1→TM1)を記述するが、第2の項は、方向性結合器11の構成により、第2の導路2への結合(つまり、結合TE1→TE2)を記述する。
方程式(2)は、偏光変換が電気光学効果から生じたため第1の導路1内に発生するTMモードを参照している(つまり、TM1モード)。方程式(3)は、第1の導路1と第2の導路2の間の結合の結果として第2の導路2内に発生するTEモードに関するものである(つまり、TE2モード)。
上記の方程式は、デバイス10を参照しつつ上で説明されている内容により、第2の導波路2内に電気光学効果がなく、第1の導路1からTMモードの第2の導路2への結合がない場合に関するものであることが指摘される。つまり、方程式(1)、(2)、および(3)は、第2の導路2の電気光学結合係数keo,2が実質的にゼロであり、またTM偏光に対する2つの導路間の結合係数kcoup,TMが実質的にゼロであるように(keo,2=0、kcoup,TM=0)構成されたデバイスに関するものである。
例えば、keo,2は、偏光で変換されたTM放射のパワーと第2の導波路2内に存在するTE放射のパワーとの間のパーセンテージ比は1%以下のときに実質的にゼロであると考えられることに留意されたい。
また、本発明のデバイスは、TMに対する2つの導波路間の結合が0でない、つまりkcoup,TM≠0となるように構成することも可能である。
この場合、方程式(2)において、さらに以下の形式の項を考察する必要があり、
この場合、方程式(2)において、さらに以下の形式の項を考察する必要があり、
これは、TMモードに対するこの結合の存在を表す。結合係数kcoup,TMは、第1の導波路1および第2の導波路2の幾何学的レイアウト、およびその実効屈折率に依存する。
量Δβcoup,TMは、関係式
Δβcoup,TM=βTM1−βTM2=(nTM1−nTM2)2π/λ
によって与えられる。
Δβcoup,TM=βTM1−βTM2=(nTM1−nTM2)2π/λ
によって与えられる。
本発明の第1の実施形態によれば、差Δβeo,1およびΔβcoup,TEは、両方とも、実質的にゼロである、つまり、第1の導波路1の2つのモードTE1とTM1との間に位相はなく、第1の導波路1から第2の導波路2に結合されるモードTE1とTE2との間に位相差はない。
第1の条件(Δβeo,1=0)は、実質的にゼロの複屈折nTE1≒nTM1(例えば、複屈折は5.0・10−5以下)で第1の導波路1を使用することにより達成可能である。これは、例えば、うね4の上および/または導波層3の下に配置された導波層3またはうね4の屈折率と異なる屈折率を持つ物質の層の製造を実現する集積光学系の知られている手法を使用して、デバイス10が製造されるときに、達成可能である。
それとは別に、適当な周期性を持つ指電極を使用して第1の導波路の複屈折率を低くすることが可能である。
第2の条件(Δβcoup,TE=0)は、例えば、第2の導波路2の屈折率nTE2に実質的に等しい実効屈折率nTE1を持つように第1の導路を製作することにより達成することができる(例えば、屈折率nTE1とnTE2の差は1.0・10−5以下)。これは、2つの導波路1および2の材料および寸法の適宜選択することにより製造段階で達成することが可能である。例えば、材料および寸法が実質的に同一の導波路1および2を使用することが可能である。
第2の条件(Δβcoup,TE=0)は、例えば、第2の導波路2の屈折率nTE2に実質的に等しい実効屈折率nTE1を持つように第1の導路を製作することにより達成することができる(例えば、屈折率nTE1とnTE2の差は1.0・10−5以下)。これは、2つの導波路1および2の材料および寸法の適宜選択することにより製造段階で達成することが可能である。例えば、材料および寸法が実質的に同一の導波路1および2を使用することが可能である。
上述の仮定の場合、方程式(1)、(2)、(3)の解は、以下の形式をとる。
ATE1=cos(K z) (4)
ATM1=−i (keo,1/K)sin(Kz) (5)
ATE2=−i (kcoup,TE/K)sin(Kz) (6)
ただし、
ATE1=cos(K z) (4)
ATM1=−i (keo,1/K)sin(Kz) (5)
ATE2=−i (kcoup,TE/K)sin(Kz) (6)
ただし、
光電子デバイス10は、第1の導波路1の内側の偏光変換の効果が方向性結合器11内で明らかにされている結合効果と比較して大きくなるように製作されるのが好ましい。
特に、デバイス10の所定の動作条件では、電気光学結合係数keo,1は導路間の結合係数kcoup,TEよりも大きい。
特に、デバイス10の所定の動作条件では、電気光学結合係数keo,1は導路間の結合係数kcoup,TEよりも大きい。
keo,1>kcoup,TE (iii)
例えば、keo,1はkcoup,TEの少なくとも2倍に等しい。これは、所望の変調により時間で変化する電位差Vcrを適用し、例えば、適当に高い最大振幅を持つ制御電場
例えば、keo,1はkcoup,TEの少なくとも2倍に等しい。これは、所望の変調により時間で変化する電位差Vcrを適用し、例えば、適当に高い最大振幅を持つ制御電場
を発生するようなピークツーピーク値を持つことにより達成することができる。
式(6)は、keo,1>>kcoup,TEの場合、電場ATE2は0になる傾向がある、つまり、この状況では、制御電場
式(6)は、keo,1>>kcoup,TEの場合、電場ATE2は0になる傾向がある、つまり、この状況では、制御電場
を使用することで、2つの導波路1および2の間の結合が減らされる(または、実質的にキャンセルされる)ことを示している。
特に、第2の出力OUT2に存在する電磁放射(TE2モードで伝搬する)は、制御電場
特に、第2の出力OUT2に存在する電磁放射(TE2モードで伝搬する)は、制御電場
が存在しない場合に測定された放射に関して減らされるか、または実質的にキャンセルされるようにできる。
周波数fcrによる制御電圧Vcrが時間で変化することにより、第2の出力OUT2に存在する放射の電場の振幅が変調され、したがって、この出力のところに存在する放射のパワーが変調されうる。
周波数fcrによる制御電圧Vcrが時間で変化することにより、第2の出力OUT2に存在する放射の電場の振幅が変調され、したがって、この出力のところに存在する放射のパワーが変調されうる。
特に、最小値と最大値とを切り換えることにより、制御電圧Vcrの振幅(周波数fcrとともに)、レーザー光源14により放射される放射のオンオフ変調が可能である。この場合、第2の出力OUT2は、変調された放射を利用可能にする有用なポートであるが、第1の出力OUT1は、デバイス10の動作を監視するためのポートとして使用することができる。
出願者は、電気光学材料としてチタン酸バリウムを使用する上述の種類のデバイス(Δβeo,1=Δβcoup,TE=0)を考察してコンピュータシミュレーションを実行した。このシミュレーションでは、活性領域100の長さは、3000pmに等しいものとして選択された。
この第1のシミュレーションは、デバイス10のパラメータに対し、波長λ=1.55μm、係数r42=500pm/V(バルク水晶値と比較してチタン酸バリウムの薄膜の製造により引き起こされるr42の低下を考慮する)、kcoup,TE=5.2 10−4 μm−1、kcoup,TM=0、keo,2=0、nTE1=nTM1=1.9359の値を考慮することにより実行された。
3.9Vにほぼ等しい電位差Vcrを印加することにより、第2の出力OUT2に出力される電磁パワーを実質的にキャンセルことが可能である。
これらの動作条件では、値keo,1は9.2 10−4μm−1に等しい。
これらの動作条件では、値keo,1は9.2 10−4μm−1に等しい。
図3は、dBで表され、電極12および13に印加される制御電圧Vcontrが増大したときに第2の出力OUT2で測定されることが可能な、電磁パワーPout2の曲線を示している。
図3のグラフを見るとわかるように、3.8Vから4Vまでの範囲の電圧の値Vcrについて、40dBを超える電力Pout2の消滅またはノッチが得られる。
このシミュレーションでは、さらに、少なくとも、3.8Vから4Vまでの範囲の電圧の値Vcrについて、電力Pout2の消滅に関するデバイス10の性能は、3000pmに等しい公称値Lcに関する結合領域100の実際の長さの偏差に関して十分な公差を示す。
このシミュレーションでは、さらに、少なくとも、3.8Vから4Vまでの範囲の電圧の値Vcrについて、電力Pout2の消滅に関するデバイス10の性能は、3000pmに等しい公称値Lcに関する結合領域100の実際の長さの偏差に関して十分な公差を示す。
本発明の第2の実施形態によれば、第1の導波路1および第2の導波路2は、TE1およびTM1モードとTE1およびTE2モードとの間の位相不一致条件を示すことなどをする。
つまり、第1の導波路1のTEおよびTMモードに対する伝搬定数間の差は0に等しくなく、Δβeo,1≠0、また第1の導波路1のTEモードと第2の導波路2のTEモードの伝搬定数の差は、0に等しくない、Δβcoup,TE≠0。
この場合、第2の出力OUT2に存在する電力の変調の所望の効果を得るために、上で説明されている場合に印加できる振幅よりも大きな振幅を持つ制御電場
を印加すると都合がよい。例えば、印加される制御電圧Vcrは、ほぼ10Vに等しい値よりも大きく、10Vから30Vの範囲であるのが好ましい。
定性的分析によれば、位相不一致条件Δβeo,1≠0は、方程式(1)、(2)、および(3)の電気光学結合係数に、
定性的分析によれば、位相不一致条件Δβeo,1≠0は、方程式(1)、(2)、および(3)の電気光学結合係数に、
に等しい指数関数係数を掛けることを意味している。この係数は、平均して、偏光変換の作用を完全に妨げることなく、電気光学係数の振幅を減らす。
この場合、偏光変換は、活性領域100の長さについて実行された平均演算から得られ、以下の式に等しい実効電気光学結合係数keo,1−effにより最もよく記述される。
この場合、偏光変換は、活性領域100の長さについて実行された平均演算から得られ、以下の式に等しい実効電気光学結合係数keo,1−effにより最もよく記述される。
同様に、条件Δβcoup,TE≠0は、2つの導波路1および2の間のTEモードの結合について、平均演算からも得られる、実効係数kcoup,TE−effは以下のように定義できる。
さらに、この第2の実施形態では、条件(iii)に類似の条件は、有効とみなされ、それに従って、実効電気光学係数keo,1−effは、いずれの場合も、第1および第2の導波路内のモード間の実効結合の係数kcoup,TE−effよりも大きい。
keo,1−eff>kcoup,TE−eff (iiii)
出願者は、図1および2を参照しつつ説明されているが、この代替え実施形態Δβeo,1≠0、Δβcoup,TE≠0に従って製作されたデバイスと類似のデバイスの動作のシミュレーションを実行した。この第2のシミュレーションでは、1.0・10−3に等しい複屈折率nTE1−nTM1の値および0.5・10−4に等しい差nTE1−nTE2の値を除き、同じ値が第1のシミュレーションについて定義されている値としてみなされた。
出願者は、図1および2を参照しつつ説明されているが、この代替え実施形態Δβeo,1≠0、Δβcoup,TE≠0に従って製作されたデバイスと類似のデバイスの動作のシミュレーションを実行した。この第2のシミュレーションでは、1.0・10−3に等しい複屈折率nTE1−nTM1の値および0.5・10−4に等しい差nTE1−nTE2の値を除き、同じ値が第1のシミュレーションについて定義されている値としてみなされた。
図4は、電圧Vcontrの振幅が増大するときに第2の出力に存在する電力Pout2の曲線を示している。13.5Vから14.5Vまでの範囲の電圧Vcontrの値に対し、20dBよりも大きいノッチが得られる。13.8Vにほぼ等しい値については、25dBから30dBの範囲のノッチが得られる。さらに、シミュレーションによって、この場合も、デバイスが結合領域100の実際の長さに関して良い公差を示すことがわかった。
本発明の第3の実施形態によれば、光学電子デバイス10は、関係式(iii)または(iiii)が満たされないという差を持つ本発明の第1または第2の実施形態に関する仮定の下で製作される。
例えば、この状況では、第1の導波路1と第2の導波路2との間の結合は、第1の導路1内の偏光変換よりも大きい、kcoup,TE>keo,1(「強い結合」条件)。
都合のよいことに、強い結合条件では、短いデバイスを製作できる。さらに、この条件では、印加される電場がゼロである第1の導波路1から第2の導波路2への放射の結合は、製造誤差の影響をあまり受けないことが判明している。
都合のよいことに、強い結合条件では、短いデバイスを製作できる。さらに、この条件では、印加される電場がゼロである第1の導波路1から第2の導波路2への放射の結合は、製造誤差の影響をあまり受けないことが判明している。
この場合、電場ATE2は、正弦関数型の伝搬zの軸にそった周期的挙動を示す(関係式(6)により表される解を観察することにより直観的に理解できるであろう)。
上記の関係式に基づき、(制御電圧Vcr、したがって制御電場
および電気光学係数keo,1の関数として)TE2モードに関連する電力の最小値に対応するデバイス10のセクションの、原点z=0から評価された距離Lnotchを決定することが可能である。
出願者は、本発明のこの第3の実施形態により構成されるデバイス10の動作のシミュレーションを実行した。
この第3のシミュレーションでは、第1および第2のシミュレーションについて示されているパラメータの同じ値が、7.9・10−3μm−1に等しいものとしてみなされたkcoup,TEの値を除き、考慮される。さらに、方向性結合器11は、外部電場
この第3のシミュレーションでは、第1および第2のシミュレーションについて示されているパラメータの同じ値が、7.9・10−3μm−1に等しいものとしてみなされたkcoup,TEの値を除き、考慮される。さらに、方向性結合器11は、外部電場
が存在しない場合、第1の導路1から第2の導路への電力の最大伝達は、(方向性結合器11の周期に対応する)200μmに等しい2つの導路1および2の並んだセクションの長さ分について発生するように構成された。
このシミュレーションから、制御電圧Vcrの特定の値について、第2の導波路2から出力される電力Pout2の実質的キャンセルが、(他の可能な値のうち)方向性結合器11の周期の約13倍に等しい、z’=2600μmに等しい活性領域100の長さに対し、発生することがわかった。
図5に示されているように、距離z’で、12Vから13Vの範囲の制御電圧Vcrの値について、20dBよりも高いノッチが得られ、特に約12.5Vで、25dBよりも高いノッチが得られ、この動作条件では、keo,1は2.9・10−3μm−1に等しい。
本発明の第3の実施形態に関係するこれらの結果から、第1の導路内に誘起される偏光変換(TE1→TM1)が特に効率的でない場合でも、光電子デバイス10によりOUT2ポートで出力電力(したがって、これを変調する可能性)が低下する可能性があることがわかった。
特に、光電子デバイス10は、偏光変換は無視できない大きさになるように、つまり、結果として変換(それが最大であるセクションzで評価される)から生じる、TE偏光に関連する入電力PinとTM偏光に関連する電力Pconvとの間のパーセンテージ比Pconv/Pinが約1%よりも大きくなるように構成することができる。
この比は、好ましくは5%よりも大きく、より好ましくは10%よりも大きい。特定の実施形態によれば、変換比は40%よりも大きい。いずれの場合も、TEからTMへの偏光変換が完全である必要はない。
制御電場
は、第1の導波路1内で、第1の導波路1の実効屈折率nTE1およびnTM1の少なくとも一方の変動を引き起こすような光軸cに直交しない成分を示すことが可能であることに留意されたい。
本発明によれば、実効屈折率nTE1およびnTM1のこれらの変動は、さらに、方向性結合器11の挙動の変調に関わりうるが、いずれの場合も、代わりに偏光変換の作用により実行されるこの変調に対する基本的な役割を実行しない。
さらに、シミュレーションの結果として、光電子デバイス10は、第1の導波路1の複屈折nTE1−nTM1(したがって、差Δβeo,1)の偏差に関して十分な公差を示すことが指摘されている。特に、約40%の複屈折の偏差に対する公差が指摘された。
この関係で、出願者は、方向性結合器の破壊に関するデバイス10の挙動は、0.001よりも小さい差Δβeo,1の値(図5で示されている値)と0.0014に等しい値の両方について実質的に変わらないことを観察した。特に、Δβeo,1=0.0014を考察すると、上記の値にほぼ等しい電圧Vcontrの値(12.5V〜13.5V)に対し、約15dBに等しい消滅が得られた。
図6は、光電子デバイス20として製作される本発明の第4の実施形態を示している。図6および以下の図では、すでに説明されている構成要素と同じまたは類似の構成要素が、同じ参照番号を使用して示されている。
デバイス20は、上述のデバイス10に類似しているが、正電極12の代わりに、負電極13とともに、第2の導波路2の内側にもある電場
を発生するように製作された異なる正電極21を備えるので、それとは異なる。特に、正電極21は、第2の導波路2の上に延びており、実質的にその導波路2に面している。
さらに、第2の導波路2は、オプションにより、例えば、第1の導波路1と同じ材料などの電気光学材料で製作することができる。
さらに、第2の導波路2は、オプションにより、例えば、第1の導波路1と同じ材料などの電気光学材料で製作することができる。
この制御電場
は、第2の導波路2の光軸cに直交する実質的構成要素を示さず、したがって、この導路内に有意な偏光変換を引き起こすことができない。
特に、制御電場
特に、制御電場
は、第2の導波路2の水晶の光軸cに実質的に平行であり、したがって、第2の導波路2が電気光学材料を含む場合、第2の導路内で誘導されるモード間の位相差を引き起こすことはできるが、偏光変換を引き起こすことはできない。
その結果、デバイス20の動作は、デバイス10の可能な3つの実施形態を参照しつつ説明されている動作と類似しており、それよってkeo,2は0であった。
図7は、本発明の第5の実施形態により製作された光電子デバイス30を示している。この第5の実施形態によれば、第2の導波路2(第2のうね5およびその下の導波層3の領域)は、例えば、窒化ケイ素、二酸化ケイ素、またはシリコンなどの実質的に非電気光学な材料により製作される。
図7は、本発明の第5の実施形態により製作された光電子デバイス30を示している。この第5の実施形態によれば、第2の導波路2(第2のうね5およびその下の導波層3の領域)は、例えば、窒化ケイ素、二酸化ケイ素、またはシリコンなどの実質的に非電気光学な材料により製作される。
さらに、デバイス30は、両方の導路1および2が光軸cに直交する形で配向されている制御電場
の影響を受けるように第2の導波路2のサイドに配置された正電極31を含む。ただし、第2の導波路2は電気光学材料を含まないので、制御電場
により誘起される偏光変換はその中では発生しない。
例えば、図7の光電子デバイス30は、上述の関係式(i)(kcoup,TE≧kcoup,TM)を満たすように、ただしTMモードの第1の導波路1と第2の導波路2との間の結合(TM1→TM2)が0でない、つまりkcoup,TM≠0となるように構成される。
例えば、図7の光電子デバイス30は、上述の関係式(i)(kcoup,TE≧kcoup,TM)を満たすように、ただしTMモードの第1の導波路1と第2の導波路2との間の結合(TM1→TM2)が0でない、つまりkcoup,TM≠0となるように構成される。
TMモードに関係する結合が存在している場合でも、出力電力を変調し、上述の方法と類似の方法で方向性結合を実質的に破壊することが可能である。
図8は、本発明の第6の実施形態により製作された光電子デバイス35を示している。この第6の実施形態によれば、第2の導波路2は、第1の導波路の上に延び、例えば、二酸化ケイ素から、または第1の導波路1および第2の導波路2の導波層の屈折率よりも小さい屈折率を持つ他の材料とともに作られた分離層8’上に製作される。第2の導波路2は、第1の導波路1に実質的に揃えられるか、または、言い換えると、第1の導波路1および第2の導波路2は、図8の平面の中に入る伝搬のそれぞれの軸を持つ。
図8は、本発明の第6の実施形態により製作された光電子デバイス35を示している。この第6の実施形態によれば、第2の導波路2は、第1の導波路の上に延び、例えば、二酸化ケイ素から、または第1の導波路1および第2の導波路2の導波層の屈折率よりも小さい屈折率を持つ他の材料とともに作られた分離層8’上に製作される。第2の導波路2は、第1の導波路1に実質的に揃えられるか、または、言い換えると、第1の導波路1および第2の導波路2は、図8の平面の中に入る伝搬のそれぞれの軸を持つ。
デバイス35は、光軸cおよび導路の伝搬の方向に垂直な電場
を発生するように2つの導波路の向かい合う外側に配置された負電極37および正電極36を備える。
この第6の実施形態によれば、第2の導波路2は、例えば、シリコン、二酸化ケイ素、または窒化ケイ素などの実質的に非電気光学な材料により製作される。
この第6の実施形態によれば、第2の導波路2は、例えば、シリコン、二酸化ケイ素、または窒化ケイ素などの実質的に非電気光学な材料により製作される。
この場合も、第2の導波路2の内側に偏光変換は生じない。
図9は、さらに、非電気光学材料から製作され、例えば、矩形の芯を持つ埋め込み型の第2の導路2’を含む図8の実施形態の代替えとなる実施形態を示す。
図9は、さらに、非電気光学材料から製作され、例えば、矩形の芯を持つ埋め込み型の第2の導路2’を含む図8の実施形態の代替えとなる実施形態を示す。
図1および図2のデバイスを参照しつつ説明されている内容と同様に、デバイス20(図6)、30(図7)、および35(図8)に対応する第4、第5、および第6の実施形態は、さらに、第1、第2、および第3の実施形態を参照しつつすでに説明されているすべての関係式が満たされるように製作することもできる。
図10は、本発明の第7の実施形態に対応する光電子デバイス40を示している。
デバイス40の構造およびその動作は、以下に示される相違点を除き、デバイス10のと類似している。
デバイス40の構造およびその動作は、以下に示される相違点を除き、デバイス10のと類似している。
デバイス40では、導波路1および2は両方とも、電気光学材料で製作される。図1のデバイス10を参照しつつ与えた説明とは異なり、図10の実施形態では、負電極13および正電極12は、この第2の導路でも電気光学効果による偏光変換を引き起こすような向きで第2の導波路2内に電場
を発生するような構成をとるように示している。電極12および13は、2つの導路1および2の外およびそれらの反対側に配置される。
さらに、図10の実施形態によれば、結合の係数は、0に等しくない第1の導路1と第2の導路2との間のTMモード、kcoup,TM≠0について考察されている。
さらに、図10の実施形態によれば、結合の係数は、0に等しくない第1の導路1と第2の導路2との間のTMモード、kcoup,TM≠0について考察されている。
これらの方程式は、すでに定義されている方程式(1)、(2)、および(3)の一般化である。実際、方程式の中に現れる特定のパラメータをキャンセルすることによりそれらの方程式に戻るか、またはすでに説明されている実施形態に戻ることが可能である。
これらの方程式の中に示されている数量の一部は、すでに、定義されており、残りの数量は以下のとおりである。
Δβeo,1=βTE1−βTM1=(nTE1−nTM1)2π/λ
Δβeo,2=βTE2−βTM2=(nTE2−nTM2)2π/λ
Δβcoup,TE=βTE1−βTE2=(nTE1−nTE2)2π/λ
keo,2÷r42Ewg−2
これらの数量の物理的重要性は、上記の説明およびそれらを区別する屈折率に基づき当業者には明らかなことである。
Δβeo,1=βTE1−βTM1=(nTE1−nTM1)2π/λ
Δβeo,2=βTE2−βTM2=(nTE2−nTM2)2π/λ
Δβcoup,TE=βTE1−βTE2=(nTE1−nTE2)2π/λ
keo,2÷r42Ewg−2
これらの数量の物理的重要性は、上記の説明およびそれらを区別する屈折率に基づき当業者には明らかなことである。
一般に、2つの導路1および2内で等しい(つまり、nTE1がnTE2に近い)同じモード(例えば、TE)に関係する屈折率が多いほど、一方の導路から他方の導路へのそのモードの結合は大きい。
0に等しくない数量Δβeo,2を考察すると、以下の実効結合係数keo,2−effを定義することが適切である
出願者は、以下の条件を固定することによりそのことを観察した。
keo,1−eff>keo,2−eff (12)
放射の切り換えが対応する方向性結合器11の破壊を得ることが可能である。
keo,1−eff>keo,2−eff (12)
放射の切り換えが対応する方向性結合器11の破壊を得ることが可能である。
関係式(12)は、第1の導波路1(つまり、入射放射が導き入れられる導路)内の電気光学効果にリンクされる偏光変換は、第2の導路2内に発生しうる変換よりも大きいという事実を表している。つまり、本発明のデバイスは、偏光で変換された放射のパワーと導き入れられた放射のパワー(比が最大であるzの値について評価される)との間の比が第2の導波路に関係する比と比較して第1の導波路の方が大きくなるように構成される。
それでも定性的分析によれば、第2の導路2内の偏光変換は、TM2モードが発生することになる(方程式(10)および(11)を参照)、したがってそれを制限するのが適切であるという点で方向性結合器11の破壊とは「反対」の効果を持つ。
すでに説明されている実施形態では(デバイス10、20、30、35)、第2の導路2内の実効電気光学結合係数(keo,2−eff=0)は、さまざまな技術的解決手段においてゼロにされていることが指摘された。その代わりに、図10の実施形態によれば、関係式(12)は、実効係数keo,2−effが0に等しくない状態で満たされている。
例えば、この第7の実施形態の関係式(12)によると、第1の導波路1および第2の導波路2は、
Δβeo,1<<Δβeo,2 (13)
または、それと同等なものとして、
nTE1−nTM1<<nTE2−nTM2 (14)
特に、
nTE1≒nTM1 (15)
という関係式を満たす複屈折率を示すようなものである。
Δβeo,1<<Δβeo,2 (13)
または、それと同等なものとして、
nTE1−nTM1<<nTE2−nTM2 (14)
特に、
nTE1≒nTM1 (15)
という関係式を満たす複屈折率を示すようなものである。
関係式(15)は、第1の導波路1は低い、例えば5.0・10−2以下、好ましくは5.0・10−3以下の複屈折率を持つ、したがって数量Δβeo,1に対し低い値を持つと都合がよいことを主張している。
その代わりに、第2の導波路2内の複屈折はより高い、例えば、第1の導波路1の複屈折の少なくとも5倍に等しいことが適切である。
さらに、TEモードに関係する第1の導路1と第2の導路2との結合がTMモードに関係する結合よりも小さいことを確実にする関係式(i)、kcoup,TE≧kcoup,TMによれば、2つの導路の屈折率は、nTE1をnTE2にほぼ等しくなるように選択することにより調整することができる。
さらに、TEモードに関係する第1の導路1と第2の導路2との結合がTMモードに関係する結合よりも小さいことを確実にする関係式(i)、kcoup,TE≧kcoup,TMによれば、2つの導路の屈折率は、nTE1をnTE2にほぼ等しくなるように選択することにより調整することができる。
nTE1≒nTE2 (16)
実際、関係式(16)および関係式(15)と(14)を適用することにより、TMモードに対する第1の導路1の屈折率、nTM1は、第2の導路2のnTM2と非常に異なるものとなる。特に、以下が得られる。
実際、関係式(16)および関係式(15)と(14)を適用することにより、TMモードに対する第1の導路1の屈折率、nTM1は、第2の導路2のnTM2と非常に異なるものとなる。特に、以下が得られる。
nTM1>>nTM2 (17)
また、これは、条件(i)、kcoup,TE≧kcoup,TMを満たすことを意味する。
また、これは、条件(i)、kcoup,TE≧kcoup,TMを満たすことを意味する。
図11は、製作の詳細を示す、図10の実施形態と類似の本発明の一実施形態を示している。
図11の光電子デバイス45は、二酸化ケイ素SiO2の下側クラッディング7を含み、その上に、例えば、導波層3、したがって2つのうね4および5が成長する酸化マグネシウム(MgO)で製作された中間またはバッファ層46が配置されると都合がよい。導波層3およびうね4と5は、配向<001>を持つ光軸を示すチタン酸バリウムでできている。
図11の光電子デバイス45は、二酸化ケイ素SiO2の下側クラッディング7を含み、その上に、例えば、導波層3、したがって2つのうね4および5が成長する酸化マグネシウム(MgO)で製作された中間またはバッファ層46が配置されると都合がよい。導波層3およびうね4と5は、配向<001>を持つ光軸を示すチタン酸バリウムでできている。
関係式(15)による第1の導波路1の複屈折率を低減することを目的として、それぞれのうね4上に、例えば、窒化ケイ素、Si3N4、または上側クラッディング8の屈折率よりも高い屈折率を持つ他の材料からなる追加層47が形成される。
電極12および13は、好ましくは金(Au)で製作され、光軸c、および伝搬軸zに垂直な制御電場
を発生するような電極である。
λ=1.55μmに等しい入射光学的放射の波長を考えると、チタン酸バリウム(BaTiO3)の正常屈折率nordおよび異常屈折率nextは、nord=2.1810および異常屈折率next=2.166に等しい。
λ=1.55μmに等しい入射光学的放射の波長を考えると、チタン酸バリウム(BaTiO3)の正常屈折率nordおよび異常屈折率nextは、nord=2.1810および異常屈折率next=2.166に等しい。
上側クラッディング8と下側クラッディング7の屈折率nsio2は、1.444に等しく、バッファ6の屈折率nMgoは、1.732であるが、追加層47の屈折率は、2.2に等しい。
チタン酸バリウムは、500pm/Vに等しい非対角電気光学係数r42を持つ。
図11の集積デバイスは以下の寸法を持つ。
−d1>1.5μmおよび、例えば100pm未満である、下側クラッディング7の厚さd1、
−約100nmに等しい、バッファ46の厚さd2、
−約250nmに等しい、導波層3の厚さd3、
−約550nmに等しい、第1の導波路1および第2の導波路2のうね4および5の厚さd4、追加層47の厚さは約200nmに等しい、
−第1の導波路1のうね4の幅w1は、約700nmに等しい、
−第2の導波路のうね5の幅w2は、約775nmに等しい、
−約900nmに等しい、2つの導波路の間の距離d、
−1μmよりも大きく、例えば1mmよりも小さい、電極12および13の高さh、
−8μmよりも大きく、例えば、50μmよりも小さい電極間の距離d6。
図11の集積デバイスは以下の寸法を持つ。
−d1>1.5μmおよび、例えば100pm未満である、下側クラッディング7の厚さd1、
−約100nmに等しい、バッファ46の厚さd2、
−約250nmに等しい、導波層3の厚さd3、
−約550nmに等しい、第1の導波路1および第2の導波路2のうね4および5の厚さd4、追加層47の厚さは約200nmに等しい、
−第1の導波路1のうね4の幅w1は、約700nmに等しい、
−第2の導波路のうね5の幅w2は、約775nmに等しい、
−約900nmに等しい、2つの導波路の間の距離d、
−1μmよりも大きく、例えば1mmよりも小さい、電極12および13の高さh、
−8μmよりも大きく、例えば、50μmよりも小さい電極間の距離d6。
上記のデバイス45の寸法設定から、第1の導路1および第2の導路2の横電場および横磁場モードに対する屈折率の値、nTE1=1.9359、nTM1=1.9354、nTE2=1.9358、nTM2=1.9083が得られる。
第1の導路1については、nTE1−nTM1=5・10−4の複屈折率があり、第2の導路については、複屈折率はnTE2−nTM2=0.0275に等しい。さらに、kcoup,TE=0.0098およびkcoup,TM=0.0045である。
出願者は、上記の寸法値を基にシミュレーションを実行した。その結果から、10μmに等しい電極間の距離d6については、印加電圧Vcrが約1Vに等しい場合、電場
は、平均値が約0.05V/μmに等しい導波路1および2の内側で得られる。この評価では、約1000に等しい、高周波に対するチタン酸バリウムの誘電定数が考慮された。
図11のデバイス45は、電場
図11のデバイス45は、電場
が存在しない場合の、周期が160μmに等しい、第2の導波路2のTEモードの周期曲線を示している。
活性領域100は、長さをz”=5930μmに等しくとることができ、これは上記の周期の約37倍に対応する。
活性領域100は、長さをz”=5930μmに等しくとることができ、これは上記の周期の約37倍に対応する。
図12は、上記の値z”に等しい長さの場合に第2の導波路2の出力に存在する電力Pout2の電極12および13に印加される電圧が変化する場合の曲線を示している。この電力Pout2では、TE2モードおよび、さらに第2の導波路2内で伝搬されるTM2モードの両方を考慮する。
図12のグラフは、さらに、約9.5Vから10.5Vの範囲の電圧値について、20dBを超える電力の消滅が得られることも示している。
特に、10Vにほぼ等しい値については、約35dBの消滅が得られる。
特に、10Vにほぼ等しい値については、約35dBの消滅が得られる。
図12は、さらに、約9.5Vの値を持つ制御電圧Vcrについて、消滅は、15dBに下げられることも示している。
振幅変調装置またはスイッチとして動作させる目的のため、図11のデバイス45の制御電圧Vcrは、特定の値範囲内で変化させることができる。例えば、図12の実験の結果によれば、電圧Vcrは、9.5Vから10.5Vの範囲で変化しうる。
振幅変調装置またはスイッチとして動作させる目的のため、図11のデバイス45の制御電圧Vcrは、特定の値範囲内で変化させることができる。例えば、図12の実験の結果によれば、電圧Vcrは、9.5Vから10.5Vの範囲で変化しうる。
この制御電圧Vcrを、定電場が対応する定バイアス電圧Vbias(例えば、約7V)と可変電圧Vvar(例えば、ピークツーピーク電圧が5V)に分離することにより印加することが可能である。
定電圧Vbiasにより、動作点を出力OUT2に存在する電力の特定の値、例えば、入力OUT1の電力の50%に等しい値に固定することができる。可変電圧Vvarは、出力OUT2の電力を変調できる可変電場を発生させる。
図13は、第2の出力2の出力電力Pout2の曲線、およびさらに、デバイス45について実行されたシミュレーションの後に得られた値Vbias=7VおよびVvar=5Vも、均等目盛で示している。
バイアス電圧Vbiasに対応する定電場および可変電圧Vvarに対応する可変電圧は、デバイス45の活性領域100全体に作用すると都合がよいことに留意されたい。
この関係において、図14は、図11のデバイス45に類似のデバイス55を示しているが、バイアス電場および可変電場の活性領域100全体にわたって実質的に一様な分布を固定するのに特に適している電極の構造を含む。
この関係において、図14は、図11のデバイス45に類似のデバイス55を示しているが、バイアス電場および可変電場の活性領域100全体にわたって実質的に一様な分布を固定するのに特に適している電極の構造を含む。
より詳しく述べると、光電子デバイス55は、上側クラッディング8の上に配置され、第1の導波路1および第2の導波路2の間に延びている導波層3の領域に面しているバイアス電極Belectを含む。
例えばドープされた多結晶シリコンのバイアス電極Belectが製作され、これは高周波では電気絶縁体(つまり、誘電体)となり、静止周波数または低周波数条件の下では導電体となる。
光電子デバイス55は、第1の端子がバイアス電極Belectに接続され、第2の端子が負の電極13に接続されている定電圧発電機DC−Gを備える。可変電圧発電機RF−G(例えば、高周波RFで動作する)は、負電極13および正電極12に接続される。
高周波では絶縁体として振る舞うバイアス電極Belectは、可変電圧発電機RF−Gにより発生し、負電極13に供給される高周波電圧の影響を受けない。
動作すると、定電位(例えば7V)が、バイアス電極Belectに印加されうる。正電極12と負電極30との間で、発振電圧Vvar(例えば、±2.5Vの範囲内で可変)が印加される。したがって、バイアス電極Belectから見て、正電極12には、それに印加される可変電圧Vvarの平均電圧Vmに等しい電圧がかかっている(例えば、Vmは0V)。したがって、正電極12は、平均すると、バイアス電極Vbiasの電位と比べて低い電位(通常はゼロ)である。
動作すると、定電位(例えば7V)が、バイアス電極Belectに印加されうる。正電極12と負電極30との間で、発振電圧Vvar(例えば、±2.5Vの範囲内で可変)が印加される。したがって、バイアス電極Belectから見て、正電極12には、それに印加される可変電圧Vvarの平均電圧Vmに等しい電圧がかかっている(例えば、Vmは0V)。したがって、正電極12は、平均すると、バイアス電極Vbiasの電位と比べて低い電位(通常はゼロ)である。
これは、バイアス電場
の力線および可変電場
の力線は、図14の連続する直線により概略が示されているように配向されることを意味している。
特に第1の導波路1および第2の導波路2において、2つの電場は、光軸cおよび伝搬軸zに直交する。
特に第1の導波路1および第2の導波路2において、2つの電場は、光軸cおよび伝搬軸zに直交する。
それとは別に、バイアス電場
および可変電場
を適切な方法で印加するために、当業で知られている従来のバイアスティーデバイスを使用できる。
上記の説明でTEモードに対応する入力放射に言及していたとしても、本発明の開示は、TM型の直線偏光放射が第1の導波路1に導き入れられる場合にも適用可能であることが指摘されている。
上記の説明でTEモードに対応する入力放射に言及していたとしても、本発明の開示は、TM型の直線偏光放射が第1の導波路1に導き入れられる場合にも適用可能であることが指摘されている。
TM放射が入射される場合、高周波電場は、本発明の前の実施形態を参照しつつ説明されているのと同じ方向にそって配向され、方向性結合器11は、kcoup,TM≧kcoup,TEとなるように構成される。
本発明により製作されたデバイスは、変調装置としてだけでなく、開閉スイッチ、切り換えスイッチ、またはアッテネータとしても動作できるようなデバイスであることが指摘される。
この関係で、図2を参照すると、制御電場が存在しない場合、第1の入力IN1に導き入れられた放射は、第2の導波路2に結合され、第2の出力OUT2で使用可能にされる(スイッチのクロスオーバー状態)。制御電場
が存在する場合、光電子デバイス10をストレートスルーまたはバー状態にすることにより、第2の出力2に存在する放射を低減または実質的にキャンセルすることが可能である。この場合、第1の入力IN1に導き入れられる電力は、(少なくとも一部は)第1の出力OUT1で利用可能にされる。
本発明による光電子デバイスは、十分な性能を持つ光スイッチまたは光変調装置の機能を備える。シミュレーションを実行したことで、この種類のアプリケーションに対し適した振幅の制御電圧Vcontrを適用することにより光通信システムで使用するのに適した出力電力に対する消滅値を得ることが可能であることがわかった。
さらに、すでに示されているように、本発明により開示される解決手段は、使用される導波路の複屈折率に決定的に依存せず、したがって、デバイス内の製造の不正確さにあまり敏感でない出力電力のスイッチング/変調を行えるという利点も有する。
Claims (35)
- 前記偏光変換は、前記第2の導波路から出力される前記放射に関連付けられた電力の制御を行えるような大きさである請求項1に記載のデバイス。
- 前記偏光変換により、前記第2の導波路から出力される前記放射に関連付けられた前記電力を低減できる請求項2に記載のデバイス。
- 前記制御電場を発生するための前記構造は、変換された前記入射放射の前記少なくとも一部は前記入射放射に関連付けられた前記電力の1%を超える値を持つ電力を有するような構造である請求項1に記載のデバイス。
- 前記制御電場を発生するための前記構造は、前記値が前記入射放射に関連付けられた前記電力の5%を超えるような構造である請求項4に記載のデバイス。
- 前記第1の導波路、前記第2の導波路、および前記制御電場を発生するための前記構造は、事前に定義された動作条件の下で、前記第1の導波路内の前記偏光変換が、前記制御電場を発生するための前記構造により引き起こされる電気光学効果を使用して前記第2の導波路内で得ることが可能な偏光変換よりも大きい構成である請求項1に記載のデバイス。
- 前記事前に定義された動作条件の下で、前記第1の光導波路に、前記第1の導波路内の前記偏光変換の効果を表す電気光学結合の第1の係数が関連付けられ、前記第2の導波路に、前記第2の導波路内の偏光変換の前記効果を表す電気光学結合の第2の係数が関連付けることができ、前記第1の係数は前記第2の係数よりも大きい請求項6に記載のデバイス。
- 前記入射放射は、第1の種類の偏光を持ち、前記構造は、前記入射放射の少なくとも一部を第2の種類の偏光に変換することができ、前記方向性結合器は前記第1の種類の偏光に関係する前記第1および前記第2の導路の間の結合の第3の係数を関連付けられ、前記方向性結合器に関連付けられた第4の結合係数以上の値を持ち、前記第2の種類の偏光に関係する前記第1および前記第2の導路の間の結合を表す請求項6に記載のデバイス。
- 前記方向性結合器および前記制御電場を発生するための前記構造は、前記第1の導波路内の前記偏光変換効果が前記第1の導波路から前記第2の導波路への前記入射放射の少なくとも第1の部分を結合する効果よりも大きい構成である請求項6に記載のデバイス。
- 前記第1の結合係数は、前記第3の結合係数の2倍に少なくとも等しい請求項7および8に記載のデバイス。
- 前記方向性結合器および前記制御電場を発生するための前記構造は、前記第1の導波路から前記第2の導波路への前記入射放射の少なくとも第1の部分の結合の前記効果が、前記第1の導波路内の偏光変換と比較して大きい構成である請求項6に記載のデバイス。
- 前記第4の結合係数は実質的にゼロである請求項8に記載のデバイス。
- 前記第1の導波路は、前記第2の導波路に関連付けられた第2の複屈折率よりも小さい第1の複屈折率に関連付けられているような構成である請求項6に記載のデバイス。
- 前記第1の複屈折率は、5.0・10−2に等しい値以下である請求項13に記載のデバイス。
- 前記第1の複屈折率は実質的にゼロである請求項14に記載のデバイス。
- 前記第2の複屈折率は、前記第1の複屈折率の5倍に少なくとも等しい請求項13に記載のデバイス。
- 前記第1の導波路は、前記第2の導波路に関連付けられた、前記第1の種類の偏光に関係する、第2の屈折率に実質的に等しい前記第1の種類の偏光に関係する第1の屈折率に関連付けられる請求項8に記載のデバイス。
- 前記第2の導波路の内側の前記偏光変換効果により、値が前記第1の導波路から前記第2の導波路へ結合された前記入射放射の前記少なくとも一部分の前記パワーの1%未満であるパワーを持つさらに変換された放射を発生させることができる請求項6に記載のデバイス。
- 前記第2の導波路は、電気光学材料を含み、前記制御電場を発生させるための前記構造は、実質的に前記第1の導波路内でのみ変換偏光を引き起こすような構成である請求項6に記載のデバイス。
- 前記第2の導波路は、実質的に電気光学材料で製作される請求項18に記載のデバイス。
- 前記第1および第2の導路は、それぞれ、入射放射の第1の部分の結合を行えるように隣に配置されている第1のセクションおよび第2のセクションを備え、前記構造は前記第1のセクションの少なくとも内側で前記制御電場を発生するような構成である請求項1に記載のデバイス。
- 前記制御電場を発生するための前記構造は、前記第2の導波路の前記第2のセクションにそって前記第1の導波路の前記第1のセクションの少なくとも内側で前記制御電場を発生するために電圧発生器(G)により給電できる第1の電極(12)および第2の電極(13)を備える請求項21に記載のデバイス。
- 前記第1および前記第2の導波路は、それぞれの下側クラッディング(7)上に集積されたそれぞれの導波層(3)をそれぞれ備え、前記導波層は前記下側クラッディングの第2の屈折率よりも大きな第1の屈折率を持ち、実質的に導波層の内側で電磁放射を伝搬させることが可能な請求項1に記載のデバイス。
- 前記第1および第2の導波路は、さらに、前記導波層の上に配置されたそれぞれの上側クラッディング(8)を備え、前記第1の屈折率よりも小さい第3の屈折率を持ち、実質的に前記導波層内で電磁放射を伝搬させることができる請求項23に記載のデバイス。
- 前記第1の導波路の少なくとも前記導波層は、結晶型の前記電気光学材料を備え、関連付けられた光軸を持つ請求項23に記載のデバイス。
- 前記電場を発生するための前記構造は、前記第1の導波路の前記導波層の少なくとも内側で、光軸に垂直になるように向き付けられた電場を発生するような構成である請求項25に記載のデバイス。
- 前記第1および第2の種類の偏光は直線偏光である請求項8に記載のデバイス。
- 前記制御電場は、前記第1の導波路の伝搬の方向に実質的に垂直になるように向き付けられている請求項26に記載のデバイス。
- 前記制御電場は、前記材料に関連する電気光学テンソルの非対角電気光学係数を伴う電気光学効果を引き起こすような構成である請求項1に記載のデバイス。
- 前記電気光学材料は、チタン酸バリウムである請求項1に記載のデバイス。
- 電磁放射に関連する電力を制御する方法であって、
−電気光学材料を含む少なくとも1つのセクションを備える、第1の導波路に入射放射を送り込むステップと、
−第2の導波路内に、前記入射放射の少なくとも第1の部分を結合し、前記第2の導路内に関連付けられたそれぞれのパワーを持つ出力放射を前記第2の導路内に発生させ、前記第2の導波路は、結合セクションに対する前記第1の導波路と並ぶステップと、
−前記第1の導波路内に電気光学効果を誘起して、前記入射放射の少なくとも一部の偏光変換を引き起こし、前記第2の導波路に結合された放射の前記第1の部分を修正し、出力される放射の前記パワーを制御するステップとを含む方法。 - 前記誘起ステップは、前記第1の導波路の前記電気光学材料の少なくとも内側に及ぶ力線を持つ制御電場を発生するステップを含む請求項31に記載の方法。
- 前記発生ステップは、前記出力放射のパワーを変調するために所定の変調周波数に従って時間により変動する制御電場の発生を含む請求項32に記載の方法。
- 前記発生ステップは、前記制御電場を第1の値および第2の値との間で切り換えるステップを含み、前記第1の値には前記出力放射の第1のパワーが対応し、前記第2の値には前記第1のパワーよりも小さい前記出力放射の第2のパワーが対応する請求項32に記載の方法。
- 前記第2の値には、出力される前記放射の実質的にゼロのパワーが対応する請求項34に記載の方法。
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