JP2006514408A - 帯電粒子ビームの角状変位を測定および縮小するための方法 - Google Patents
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Claims (67)
- 帯電粒子ビームの角状変位を判断するための方法であって、
複数の側壁を有する構成要素を備えるテストオブジェクトを提供するステップと、
前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクトの関係を変更するステップと、
前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記測定を処理して、前記帯電粒子ビームの角状変位を判断するステップと、
を備える方法。 - 前記第1の測定ステップで測定された前記少なくとも1つの側壁が、前記第2の測定ステップで測定された前記少なくとも1つの側壁とは異なる、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つの一定の側壁の機能が前記第1および第2の測定ステップで測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記測定済み機能が前記構成要素の側壁の幅である、請求項1に記載の方法。
- 前記構成要素の高さを測定するステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記高さを測定するステップが、複数の場所で前記構成要素の高さを測定して、複数の高さ測定を提供する工程と、前記複数の高さ測定を統計的に処理して前記構成要素の高さを提供する工程とを備える、請求項5に記載の方法。
- 高さ測定の回数が高さ測定精度のしきい値に感応する、請求項6に記載の方法。
- 前記測定が原子力マイクロスコープ測定を備える、請求項5に記載の方法。
- 前記関係を変更するステップが、前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクト間に相対的運動を導入する工程を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記関係を変更するステップが、前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクト間に相対的な回転運動を導入する工程を包含する、請求項1に記載の方法。
- 測定済み側壁の機能の少なくとも1つの測定時に、測定角が前記側壁角を上回り、前記機能の少なくとも別の測定時には前記側壁角が前記測定角を上回り、前記測定角が前記帯電粒子ビームと前記測定済み側壁間で画成される、請求項1に記載の方法。
- 前記角状変位に感応してビームコントロールパラメータ値を判断するステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記ビームコントロールパラメータ値が偏向ユニットの電流および電圧の値を備える、請求項12に記載の方法。
- 前記ビームコントロールパラメータ値が異なる帯電粒子ビームの傾斜状態について計算される、請求項12に記載の方法。
- さらに、少なくとも1つの帯電粒子ビームの係数に感応して帯電粒子ビーム偏向器を較正するステップを備える、請求項12に記載の方法。
- 前記構成要素が、第1の平面角α1によって配向されている2つのラインを備える、請求項1に記載の方法。
- α1が実質的に90度である、請求項16に記載の方法。
- 前記テストオブジェクトが複数の構成要素を備えており、前記方法がさらに、少なくとも2つの構成要素の側壁の機能を測定して複数の測定を提供するステップを備える、請求項1に記載の方法。
- 画像ベース検索によって前記構成要素を検索するステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームが複数の傾斜状態で位置決め可能であり、前記方法がさらに、少なくとも2つの傾斜状態について前記帯電粒子ビームの角状変位を判断するステップを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームが電子ビームである、請求項1に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームがイオンビームである、請求項1に記載の方法。
- 前記角状変位測定が種々の誤差に感応する、請求項1に記載の方法。
- 前記誤差が、検索誤差、回転誤差、テスト構成の角状不均一性および角状変位測定誤差を備える、請求項23に記載の方法。
- 前記測定および変更するステップが、角状変位推定を提供するために処理される複数の角状変位測定を提供するために反復される、請求項1に記載の方法。
- 角状変位測定の回数が種々の誤差に感応する、請求項25に記載の方法。
- 前記角状変位測定が測定場所によって相互に異なる、請求項25に記載の方法。
- 前記測定が、小さな角度変化によって特徴付けられている側壁部分で実行される、請求項1に記載の方法。
- 帯電粒子ビームの角状変位を判断するための方法であって、
複数の側壁を有する構成要素を備えるテストオブジェクトを提供するステップと、
前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクト間に回転運動を導入するステップと、
前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記測定を処理して、前記帯電粒子ビームの角状変位を判断するステップと、
を備える方法。 - 前記測定済み機能が前記構成要素の側壁の幅である、請求項29に記載の方法。
- 前記角状変位に感応してビームコントロールパラメータ値を判断するステップをさらに備える、請求項29に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームが複数の傾斜状態で位置決め可能であり、前記方法がさらに、少なくとも2つの傾斜状態について前記帯電粒子ビームの角状変位を判断する工程を備える、請求項29に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームが電子ビームである、請求項29に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームがイオンビームである、請求項29に記載の方法。
- 前記角状変位測定が種々の誤差に感応する、請求項29に記載の方法。
- 前記回転運動が約180度である、請求項29に記載の方法。
- 前記測定が、小さな角度変化によって特徴付けられている側壁部分で実行される、請求項29に記載の方法。
- 帯電粒子ビームの角状変位を判断するための方法であって、
各構成要素が複数の側壁を備える第1および第2の実質的に等しい構成要素を備えるテストオブジェクトを提供するステップと、
前記第1の構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクトの関係を変更するステップと、
前記第2の構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定するステップと、
前記測定を処理して、前記帯電粒子ビームの角状変位を判断するステップと、
を備える方法。 - 前記測定が、小さな角度変化によって特徴付けられている側壁部分で実行される、請求項38に記載の方法。
- 帯電粒子ビームシステムを較正するための方法であって、
帯電粒子ビームを一定の傾斜状態に設定するステップと、
較正ビームコントロールパラメータ値を判断するステップと、
前記一定の傾斜状態を変更して、前記較正ビームコントロールパラメータを判断するステップを反復するステップと、
を備える方法。 - 前記較正ビームコントロールパラメータを判断するステップが、角状変位とビームコントロールパラメータ値の関係を判断する工程を備える、請求項40に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームシステムが複数の傾斜状態で動作可能であり、前記設定、判断および変更するステップが少なくとも2つの傾斜状態について反復される、請求項40に記載の方法。
- 一定の傾斜状態と関連付けられている較正ビームコントロールパラメータ値が、別の傾斜状態時に前記帯電粒子ビームシステムを較正する際に使用される、請求項42に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームが電子ビームである、請求項40に記載の方法。
- 前記帯電粒子ビームがイオンビームである、請求項40に記載の方法。
- 前記角状変位測定が種々の誤差に感応する、請求項40に記載の方法。
- 前記較正ビームコントロールパラメータ値を判断するステップが角状変位を測定する工程を備える、請求項40に記載の方法。
- 角状変位を測定する工程が、複数の側壁を有する構成要素を備えるテストオブジェクトを提供する段階と、前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定する段階と、前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクトの関係を変更する段階と、前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定する段階と、前記測定を処理して前記帯電粒子ビームの角状変位を判断する段階と、を備える、請求項47に記載の方法。
- 角状変位を測定する工程が、複数の側壁を有する構成要素を備えるテストオブジェクトを提供する段階と、前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定する段階と、前記帯電粒子ビームと前記テストオブジェクト間に回転運動を導入する段階と、前記構成要素の少なくとも1つの側壁の機能を測定する段階と、前記測定を処理して前記帯電粒子ビームの角状変位を判断する段階と、を備える、請求項48に記載の方法。
- 前記測定が、小さな角度変化によって特徴付けられている側壁部分で実行される、請求項48に記載の方法。
- 帯電粒子ビームの角状変位を判断するための方法であって、
第1の平面角α1によって配向されている第1および第2の構成要素を備えるテストオブジェクトを提供するステップであって、前記第1の構成要素が第1の側壁角β1で配向されている第1の側壁を有しており、前記第2の構成要素が第2の側壁角β2で配向されている第2の側壁を有するステップと、
前記第1の側壁を帯電粒子ビームで走査することによって前記第1の側壁の機能を測定するステップであって、前記帯電粒子ビームと前記第1の側壁間の角状配向がβ1よりも大きいステップと、
前記第2の側壁を帯電粒子ビームで走査することによって前記第2の側壁の機能を測定するステップであって、前記帯電粒子ビームと前記第2の側壁間の角状配向がβ2よりも大きいステップと、
前記第1の側壁を帯電粒子ビームで走査することによって前記第1の側壁の機能を測定するステップであって、前記帯電粒子ビームと前記第1の側壁間の角状配向がβ1よりも小さいステップと、
前記第1の側壁を帯電粒子ビームで走査することによって前記第2の側壁の機能を測定するステップであって、前記帯電粒子ビームと前記第2の側壁間の角状配向がβ2よりも小さいステップと、
前記測定に感応して角状変位を判断するステップと、
を備える方法。 - 角状変位に感応してビームコントロールパラメータを判断するステップをさらに備える、請求項51に記載の方法。
- 前記ビームコントロールパラメータ値が偏向器の電流および電圧の値の組み合わせを備える、請求項52に記載の方法。
- 前記ビームコントロールパラメータ値が異なる帯電粒子ビームの傾斜状態について計算される、請求項52に記載の方法。
- 少なくとも1つのビームコントロールパラメータに感応して帯電粒子ビーム偏向器を較正するステップをさらに備える、請求項52に記載の方法。
- 帯電粒子ビームの角状変位を判断するためのシステムであって、
テストオブジェクトの構成要素の機能の少なくとも2つの測定を実行する手段であって、各測定が前記テストオブジェクトと帯電粒子ビーム間の相互作用に関連しており、前記測定が帯電粒子ビームと前記テスト構成の関係によって相互に異なる手段と、
前記少なくとも2つの測定を処理して角状変位を判断するための手段と、を備えるシステム。 - 前記実行手段が、前記帯電粒子ビームをコントロールするための手段と、前記相互作用に起因する粒子を測定するための検出ユニットとを備える、請求項56に記載のシステム。
- 前記テスト構成と前記電子ビーム間に相対的運動を導入することによって関係を変更するステージをさらに備える、請求項56に記載のシステム。
- 前記相対的運動が相対的回転である、請求項56に記載のシステム。
- 前記相対的回転が約180度である、請求項59に記載の方法。
- さらに、少なくとも1つの測定済み角状変位に感応して較正ビームコントロールパラメータ値を判断するように適合されている、請求項56に記載のシステム。
- 前記測定済み機能が前記構成要素の側壁の幅である、請求項56に記載のシステム。
- さらに、前記角状変位に感応してビームコントロールパラメータ値を判断するように適合されている、請求項56に記載のシステム。
- 前記帯電粒子ビームを複数の傾斜状態に位置決めすることができ、少なくとも2つの傾斜状態について前記帯電粒子ビームの角状変位を判断することができる請求項56に記載のシステム。
- 前記帯電粒子ビームが電子ビームである、請求項56に記載のシステム。
- 前記帯電粒子ビームがイオンビームである、請求項56に記載のシステム。
- 前記角状変位測定が種々の誤差に感応する、請求項56に記載のシステム。
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