JP2006510201A - 高密度パッケージ相互接続ワイヤボンドストリップライン及びその方法 - Google Patents

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クリス ウィランド
ワイネ ヌン
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Abstract

実施例において、集積回路(105)がパッケージ(100)内に位置され、前記パッケージは信号パッド接続部、電源接続部、及びグランド接続部を有する。下部ストリップライン(110)は、IC(105)の第一のグランド接続部(110a)を第一のパッケージ基板グランド接続部(110b)に結合することによって接続される。下部ストリップラインが接続された後、パッケージ基板(100)上の信号パッド接続部(125b)に結合されるデバイスダイ(105)上に複数のワイヤ(125)が複数の信号パッド(125a)によって接続され、複数の信号パッド(125a)は第一のグランド接続部(110a)に近接してもたらされ、複数のワイヤ(125)は下部ストリップライン(110)から第一の所定の距離に保持される。複数のワイヤ(125)が接続された後、上部ストリップライン(130)は、IC(105)の第二のグランド接続部(130a)を第二のパッケージ基板グランド接続部(130b)に結合することによって接続され、上部ストリップラインは複数のワイヤ(125)から第二の所定の距離に保持される。

Description

本願は、並行して出願された発明“高密度パッケージ相互接続電源及びグランドストラップ並びにそのための方法(High Density Package Interconnect Power and Ground Strap and Method Therefor)”(代理人整理番号US 02 0511P)に関するものであり、その全文の参照によってここに含まれる。
本発明は、集積回路パッケージングの分野、特に信号接続ワイヤ(signal bond wire)のインピダンスの制御に関する。
BGA(Ball Grid Array)パッケージにおいて、ボンド(接続)ワイヤ(bond wire)はデバイスダイ(die)をパッケージ上のグランドに接続するためにしばしば使用される。多ピンBGA(high pin count BGA)において、グランドリング(ground ring)が通常使用される。これらのボンドワイヤは、コプレーナ導波管構造体(coplanar waveguide structure)を生成することによって信号ボンドワイヤのインピダンスを制御するためにときとして信号ボンドワイヤにほぼ近接して位置される。
米国特許第5,872,403号公報及び米国特許第6,083,772号公報は、パワー半導体ダイを基板上に実装する構造体及び方法に向けられている。それらは通常、パワー電子機器、より具体的にはパワーデバイスのための低インピダンス大電流導体及びその製造方法に向けられている。
米国特許第6,319,775 B1号公報は、集積回路パッケージを製造する方法、特に導電性ストラップを集積回路ダイ及びリードフレームに付けるためのプロセスに関する。当該特許及び先行する二つの引用文献は全文で参照によって含まれている。
集積回路技術により、基板の所与の領域にもたらされ得るデバイスの密度及び複雑さを増大させることが進められているが、これらのデバイスのパッケージングに重大な課題がもたらされている。例えばコンピュータ用途においてデータバスの幅は16、32、及び64から128ビット及びそれより大きなビットに増加してきた。システムにおけるデータの移動の間、バスが同時スイッチング出力部(simultaneously switching outputs (SSO))を有することは珍しいことではない。SSOは多くの場合、SSOの間にもたらされる大きな過渡電流に起因する雑音(ノイズ)を受けるチップの電源及びグランドレールをもたらす。雑音が深刻な場合、グランド及び電源レールは自身の所定の電圧からシフトし、チップにおいて予測不可能な動作をもたらす。
本発明は、多ピンBGAパッケージにおいてインピダンス信号ワイヤを制御することに有用である。パッケージのボンドワイヤを利用すると共にボンドワイヤの上下にグランド面を位置させることによって、ストリップライン構造体が生成される。ストリップラインにおけるボンドワイヤはそれから、グランド面の端部の間で当該ワイヤを接着剤(glue)で密封することによってグランド面の間の空間で封止(シール(seal))される。接着剤はグランド面と信号ワイヤとの間の成形材料(モールディングコンパウンド(molding
compound))の流入(移入)を防止するので、ユーザは、成形材料の誘電率(εr = 4.4)よりも低い空気の誘電率(εr = 1.00)を利用し得る。
実施例において、信号接続部、電源接続部、及びグランド接続部を有する集積回路デバイス(IC)が、制御されたインピダンスを備える相互接続ワイヤボンド部を有する構造体を設けるために使用される。ICは、信号パッド接続部、電源接続部、及びグランド接続部を有するパッケージ基板内に位置される。下部ストリップラインは、ICの第一のグランド接続部を第一のパッケージ基板グランド接続部に結合することによって接続される。下部ストリップラインが接続された後、パッケージ基板上の信号パッド接続部に結合されるデバイスダイ上に複数のワイヤが複数の信号パッドによって接続され、複数の信号パッドは第一のグランド接続部に近接してもたらされ、複数のワイヤは下部ストリップラインから第一の所定の距離に保持される。複数のワイヤが接続された後、上部ストリップラインは、ICの第二のグランド接続部を第二のパッケージ基板グランド接続部に結合することによって接続され、上部ストリップラインは複数のワイヤから第二の所定の距離に保持される。
更なる利点及び新規な特徴が、後続する記載に示され、以下の検討の際に当業者に部分的に明らかになり、又は本発明の実施例によって示されるであろう。
本発明は添付図面を参照して実施例によって更に詳細に記載される。
本発明は、BGAパッケージにおいて信号ワイヤのインピダンスを制御するのに有利である。パッケージのボンドワイヤを利用すると共にグランド面をボンドワイヤの上下に位置させることによってストリップラインが生成される。ストリップラインにおけるボンドワイヤはそれから、グランド面の端部の間で当該ワイヤを接着剤で密封することによってグランド面の間の空間で封止される。接着剤はグランド面と信号ワイヤとの間の成形材料の移入を防止するので、ユーザは、成形材料の誘電率(εr = 4.4)よりも低い空気の誘電率(εr = 1.00)を利用し得る。
図1を参照すると、本発明による実施例において低インピダンス電源又はグランド接続部が、信号ワイヤボンド部にほぼ近接してパッケージとデバイスダイとの間に形成される。このことによりワイヤボンドのインピダンスが低減される。例のパッケージ100においてダイ105が付けられている。ボンドワイヤ125はダイ105上の信号パッド125aを信号パッケージピン125bに接続する。信号パッド125aの近くの第一のグランドパッド110aは、ダイ105上のグランドパッド110aをパッケージグランド110bに接続する第一のストリップライン110を有する。第一のストリップライン110は銅又は他の好適な導電性物質から構成されていてもよい。グランドパッド110a及びパッケージグランド110bにおいて、半田付け性(solderability)を改善すると共により低いインピダンス接続部をもたらすために銅材は金で被覆されていてもよい。パッケージグランドは、デバイスダイ105からパッケージグランドへのグランドワイヤの好都合な接続部をもたらすためにダイを囲うグランドリングであってもよい。短絡を防止するために、ストリップライン110の下部115又は上部120にもたらされる絶縁物質が存在していてもよい。信号パッド125aの近くの第二のグランドパッド130aは、ダイ105上のグランドパッド130aを第二のパッケージグランド130bに接続する第二のストリップライン130を有する。第一のストリップライン110の場合、第二のストリップライン130は絶縁物質下部135及び第二のストリップラインの絶縁物質トップ表面140を有していてもよい。短絡を防止するのに絶縁物質は有用であるが、本発明による様々なコンポーネントが接続された後、後続する処理ステップがボンドワイヤ及びストリップラインを歪ませるのでそれらは互いに接触することが確実にされ得るいくつかの特定の用途において必要とされない。いくつかの好適な絶縁物質は、アルミニウムボンドワイヤ又は銅ストリップラインによく固着する様々な非導通金属酸化物であってもよい。何れの絶縁でも十分である。
実施例においてユーザはアルミニウムボンドワイヤを使用していてもよい。ボンドワイヤの外側表面は非導電性表面もたらすように酸化されていてもよい。他の実施例において銅、金、又は他の好適な金属(メタル)を有するボンドワイヤが使用されてもよい。しかしながらニッケルのようなボンディング層がもたらされてもよい。ニッケルの場合、アルミニウムは電気めっきされ、それから酸化される。他のコーティング(被覆材)はポリイミド(poliimido)、ポリアミド(polyamide)、エポキシ(epoxy)、熱可塑性材料(thermoplastics)のような様々なプラスティックであってもよい。空間(空き領域(スペース))を節減するために金属酸化物は最も薄くなる。
上記実施例はセラミック又は封止型BGAパッケージの何れかにもたらされてもよい。セラミックBGAの場合、信号ボンドワイヤと二つのストリップラインとの間の空間は空気で占められ得る。モールドBGA(molded BGA)において成形材料は空間に流れ込み得る。その結果、図1の構造体の場合の誘電率は、セラミックパッケージに対してモールドパッケージの方が高くなり得る。
モールドパッケージで実現される本発明に対する図1の構造体の場合の誘電率における増加をもたらすために、ストリップラインが使用される領域は接着剤で占められ得る。接着剤は第一及び第二のストリップライン並びに信号ボンドワイヤによって生成される空気空間(領域)へのいかなる成形材料の移動(流入)も防止する。本発明による他の実施例における図2を参照すると、ストリップライン構成体200が、自身の上にもたらされる絶縁分離層210を有する下部ストリップライン205と、ここでも自身の上にもたらされる絶縁分離層220を有する上部ストリップライン225とを有する。空気空間235は下部ストリップライン205と上部ストリップライン225とを分離する。ボンドワイヤ215は空気空間235を占める。接着剤プラグ(栓(plug))230は空気空間235を保護する。接着剤はグランド面と信号ワイヤとの間の成形材料の流入を防止するので、ユーザは、成形材料の誘電率(εr = 4.4)よりも低い空気の誘電率(εr = 1.00)を利用し得る。より低い誘電率を有することによって、より高速な信号伝播が可能になる。実施例において、適切な製造備品(manufacturing equipment)を備えると共に最小限の多孔質を備えるパッケージング材料を使用して、ストリップライン領域の下に内部真空を構成すると共に保持することが可能になる。他の実施例において部分的な真空が保持され得る。部分的な真空の保持であっても誘電率における低減がもたらされる。
必要とされないが、信号パッドに関するパッケージ及びデバイスにグランドパッドを位置するいくつかの高度な手順は、ユーザが本発明によるストリップラインを実現するのに役立つ。この場合図3に参照すると例のデバイスにおいて、一連のステップ300が使用され得る。ユーザは、305においてデバイスダイ上の信号パッド及びグランドパッドの位置を規定する。310において好適なパッケージがデバイスダイのために選択される。315において第一のストリップラインがグランドパッド及びパッケージランディング部(package landing)に接続される。320においてダイ上の信号パッドが、対応するパッケージランディング部に接続される。325において第二のストリップラインが、図1及び2に示されている構成体を構成するために信号ボンドワイヤの下に接続される。接地(グランドする)パッド(grounding pad)が正確に信号パッドの上下にもたらされない場合、実際上可能な限り近くにもたらされる接地パッドが代わりに使用されてもよい。ストリップラインを有さない保持ボンドワイヤ(Remaining
bond wire)はそれから330において接続される。モールドパッケージが使用される場合、信号ワイヤ及びストリップラインストラップの開口部(opening)は335において接着剤で封止されるので、空気誘電体は保持され得る。保持ボンドワイヤの接続は340におけるデバイスダイの封止に先行して340においてなされる。
本発明による他の実施例においてボンドワイヤのインピダンスはストリップラインからのボンドワイヤの距離に対してプロットされている。ワイヤは直径25μmで50μmピッチで接続される。この場合図4を参照して、プロットは、ボンドワイヤからの特定の距離に対してストリップラインを設けることによって得られ得るインピダンス値の範囲を示している。例えば25μmの高さにおいて特性インピダンス(characteristic impedance)Zは約30オーム(ohm)になる。約200μmの他の高さにおいて特性インピダンスは約120オームになる。50、75、及び100オームの通常使用されるインピダンス値に対して、(プロットから見積もられる)高さはそれぞれ約50、87、及び142μmになる。500μmの他の高さにおいてボンドワイヤの特性インピダンスは約170オームになる。この距離からストリップラインは、あたかもストリップラインがもたらされていないような無視され得る効果を有する。
本発明は複数の特定の実施例に関して記載されている一方、当業者は本発明の範囲を逸脱することなく請求項に示される多くの変形がなされてもよいことを認識するであろう。
本発明による実施例の側面図である。 複合材料から構成される本発明の他の実施例の断面図である。 例のプロセスで本発明を実現するステップの概略を示す。 ストリップラインからの高さ対50μmピッチにおける25μmボンドワイヤのインピダンスのプロットである。

Claims (14)

  1. 信号接続部、電源接続部、及びグランド接続部を有し、パッケージ基板に位置されており、前記パッケージ基板は信号パッド接続部、電源接続部、グランド接続部を有する集積回路デバイスにおいて、制御されたインピダンスを有する相互接続ワイヤボンドを有する構造体を設けるための方法がもたらされ、前記方法は、前記集積回路デバイスの第一のグランド接続部を第一のパッケージ基板グランド接続部に結合する下部ストリップラインを接続するステップと、デバイスダイ上の複数の信号パッドを複数のワイヤに接続し、前記複数の信号パッドを前記パッケージ基板上の信号パッド接続部に結合し、前記複数の信号パッドは前記第一のグランド接続部に近接してもたらされ、前記複数のワイヤは前記下部ストリップラインから第一の所定の距離に保持されるステップと、前記集積回路デバイスの第二のグランド接続部を第二のパッケージ基板グランド接続部に結合する上部ストリップラインを接続し、前記上部ストリップラインは前記複数のワイヤから第二の所定の距離に保持されるステップとを有する方法。
  2. 前記上部ストリップライン及び前記下部ストリップラインにおける開口部を誘電物質で封止し、それによって前記構造体内に空気を閉じこめるステップを更に有する請求項1に記載の方法。
  3. 前記誘電物質が接着剤である請求項2に記載の方法。
  4. パッケージに位置される集積回路デバイスにおけるボンドワイヤのインピダンスを制御するストリップライン構造体であって、前記ストリップライン構造体は、前記集積回路における第一のグランド接続部を前記パッケージにおける第一のグランド接続部に結合する下部ストリップラインと、前記集積回路上の第二のグランド接続部を前記パッケージにおける第二のグランド接続部に結合する上部ストリップラインとを有し、前記下部ストリップライン及び上部ストリップラインは互いから所定の距離離れており、ワイヤの直径が前記所定の距離よりも小さな複数のボンドワイヤを収容する空間が形成され、前記ボンドワイヤは前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインに電気的にコンタクトされず、前記ボンドワイヤは前記集積回路上の信号ピンを前記パッケージにおける信号接続部に結合するストリップライン構造体。
  5. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが互いに接着され、前記複数のボンドワイヤを収容する空間が気密封止される請求項4に記載のストリップライン構造体。
  6. 前記空間が、真空、部分的な真空、窒素、酸素、アルゴン、キセノン、ネオン、エアロゲル、発泡材のうちの少なくとも一つから選択される誘電体を含む請求項5に記載のストリップライン構造体。
  7. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが各々、前記複数のボンドワイヤに近接する側にもたらされる絶縁物質を有する請求項4に記載のストリップライン構造体。
  8. 前記絶縁物質が、ポリイミド、ポリアミド、半田マスク、ポリテトラフルオロエチレン、テフロン(R)、及びカプトン(R)のうちの少なくとも一つから選択される請求項7に記載のストリップライン構造体。
  9. 前記複数のボンドワイヤが、アルミニウム酸化物、エポキシ、熱可塑性材料、ポリイミド、及びポリアミドのうちの少なくとも一つから選択される絶縁被覆材でカバーされる請求項4に記載のストリップライン構造体。
  10. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが銅から構成される請求項4に記載のストリップライン構造体。
  11. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが金から構成される請求項4に記載のストリップライン構造体。
  12. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが銀から構成される請求項4に記載のストリップライン構造体。
  13. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインがアルミニウムから構成される請求項4に記載のストリップライン構造体。
  14. 前記上部ストリップライン及び下部ストリップラインが、銅、金、銀、アルミニウム、及びそれらのアロイから選択される高い導電性物質から構成される請求項4に記載のストリップライン構造体。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7303113B2 (en) * 2003-11-28 2007-12-04 International Business Machines Corporation Method and structure for controlled impedance wire bonds using co-dispensing of dielectric spacers
US9006098B2 (en) 2008-08-22 2015-04-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Impedance controlled electrical interconnection employing meta-materials
KR100950511B1 (ko) * 2009-09-22 2010-03-30 테세라 리써치 엘엘씨 와이어 본딩 및 도전성 기준 소자에 의해 제어되는 임피던스를 포함하는 마이크로전자 어셈블리
KR100935854B1 (ko) * 2009-09-22 2010-01-08 테세라 리써치 엘엘씨 와이어 본딩 및 기준 와이어 본딩에 의해 제어되는 임피던스를 가진 마이크로전자 어셈블리
US9136197B2 (en) 2010-09-16 2015-09-15 Tessera, Inc. Impedence controlled packages with metal sheet or 2-layer RDL
US8853708B2 (en) 2010-09-16 2014-10-07 Tessera, Inc. Stacked multi-die packages with impedance control
US8581377B2 (en) 2010-09-16 2013-11-12 Tessera, Inc. TSOP with impedance control
US8222725B2 (en) 2010-09-16 2012-07-17 Tessera, Inc. Metal can impedance control structure
US8786083B2 (en) 2010-09-16 2014-07-22 Tessera, Inc. Impedance controlled packages with metal sheet or 2-layer RDL
KR20150035251A (ko) * 2013-09-27 2015-04-06 삼성전기주식회사 외부접속단자부와 외부접속단자부를 갖는 반도체 패키지 및 그들의 제조방법

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4600907A (en) * 1985-03-07 1986-07-15 Tektronix, Inc. Coplanar microstrap waveguide interconnector and method of interconnection
US4766479A (en) * 1986-10-14 1988-08-23 Hughes Aircraft Company Low resistance electrical interconnection for synchronous rectifiers
DD272945A1 (de) * 1988-06-10 1989-10-25 Robotron Elektronik Multichipmodul fuer hohe schaltgeschwindigkeiten
JPH05175414A (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 Nec Corp 集積回路の実装方法
JP2763445B2 (ja) * 1992-04-03 1998-06-11 三菱電機株式会社 高周波信号用配線及びそのボンディング装置
US5656830A (en) * 1992-12-10 1997-08-12 International Business Machines Corp. Integrated circuit chip composite having a parylene coating
WO1995031826A1 (en) * 1994-05-17 1995-11-23 Olin Corporation Electronic packages with improved electrical performance
US5815427A (en) * 1997-04-02 1998-09-29 Micron Technology, Inc. Modular memory circuit and method for forming same
EP1215724B1 (en) * 2000-11-20 2012-10-31 Texas Instruments Incorporated Wire bonded semiconductor device with low capacitance coupling
TW536765B (en) * 2001-10-19 2003-06-11 Acer Labs Inc Chip package structure for array type bounding pad
TW523894B (en) * 2001-12-24 2003-03-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor device and its manufacturing method

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