JP2006352002A

JP2006352002A - Resist pump

Info

Publication number: JP2006352002A
Application number: JP2005179135A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Inoue; 弘井上
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2005-06-20
Filing date: 2005-06-20
Publication date: 2006-12-28

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist pump capable of preventing an air bubble from being generated in a resist during the delivery of the resist, increasing the discharge of the resist, and quickly confirming the air bubble when the air bubble is generated in the resist. <P>SOLUTION: A diaphragm 4 is arranged in a pump body 2 which is configured to divide the inside of the pump body backward and forward, and is displaced back and forth by an air cylinder 3. Its front is formed as a resist chamber 5, and the back is formed as an air chamber 6. A discharge port 2a to which a discharge pipe 7 is connected is formed in the upper section of the resist chamber 5, a suction port 2b to which an inhalation pipe 9 is connected is formed in the lower section, a non-return valve 8 is arranged in the suction port 2b, and a reverse flow preventing means which opens and closes while being linked with the backward and forward displacement of the diaphragm 4 is formed in the discharge pipe 7. Then, the resist is sucked through the suction port 2b in the resist chamber 5 according to the increase/decrease of the capacity of the resist chamber 5 accompanied by the backward and forward displacement of the diaphragm 4, and the resist is discharged from the resist chamber 5 through the discharge port 2a. The front face of the resist chamber 5 is formed of a transparent board 10 so that the inside of the resist chamber 5 can be viewed. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハの露光工程の前段階において、ウエハ上面にレジストを塗布するためのレジストポンプに関し、特に、気泡を発生させることなくレジストを送液できるレジストポンプに関する。 The present invention relates to a resist pump for applying a resist to the upper surface of a wafer in a pre-stage of an exposure process of a semiconductor wafer, and more particularly to a resist pump capable of feeding a resist without generating bubbles.

半導体ウエハの露光工程の前段階では、ウエハ上面にレジストを塗布する際に、ウエハを高速回転させ、ノズルからウエハの中心にレジストを滴下してウエハ上面に一様にレジストを塗布する方法が採用されている。 In the previous stage of the semiconductor wafer exposure process, when applying the resist on the wafer top surface, the wafer is rotated at high speed, and the resist is dropped from the nozzle to the center of the wafer to uniformly apply the resist on the wafer top surface. Has been.

ノズルにレジストを送液するためのレジストポンプとして、いわゆるベローズポンプを使用したものがある。ベローズポンプのポンプ室には、吐出管が接続される吐出口と、吸入管が接続される吸入口とが設けられ、吸入管はレジスト貯槽部に、吐出管はノズルにそれぞれ連通している。前記吸入口にはレジストのポンプ室への流入のみを許容する逆止弁が、前記吐出口にはレジストのポンプ室からの流出のみを許容する逆止弁がそれぞれ設けられ、ポンプ室には蛇腹状のベローズが設けられている。このベローズポンプでは、べローズを軸方向に伸縮させることにより、レジスト貯槽部からレジストをポンプ室に吸入し、ベローズを軸方向に伸長させることにより、ポンプ室が加圧されてレジストが吐出管から排出されるようになっている（例えば、特許文献１参照。）。
特開平７−１３０６２７号公報 As a resist pump for feeding a resist to a nozzle, there is one using a so-called bellows pump. A pump chamber of the bellows pump is provided with a discharge port to which a discharge pipe is connected and a suction port to which a suction pipe is connected. The suction pipe communicates with the resist storage tank section, and the discharge pipe communicates with the nozzle. The suction port is provided with a check valve that allows only the resist to flow into the pump chamber, and the discharge port is provided with a check valve that allows only the resist to flow out from the pump chamber. A shaped bellows is provided. In this bellows pump, the bellows is expanded and contracted in the axial direction to suck the resist from the resist storage tank into the pump chamber, and the bellows is extended in the axial direction to pressurize the pump chamber and remove the resist from the discharge pipe. It is designed to be discharged (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-7-130627

しかし、上述のものでは、２つの逆止弁やベローズの伸縮などにより、レジストは、流域によって体積が大きく絞られたり膨らみながら送液され、レジスト中に気泡が発生するおそれがあった。また、この気泡の発生を防止するためには、ゆっくりとした一定の流速でレジストを送液しなければならず、ノズルからのレジストの吐出量に制約があった。さらに、送液中に気泡が発生した場合、この気泡は、ウエハ上面に塗布されるまで確認することができず、ウエハの露光工程に大きなロスが生じていた。 However, in the above-described one, the resist is fed while the volume is greatly squeezed or swelled by the basin due to expansion and contraction of the two check valves and the bellows, and there is a possibility that bubbles are generated in the resist. In addition, in order to prevent the generation of bubbles, the resist must be fed at a slow and constant flow rate, and there is a restriction on the amount of resist discharged from the nozzle. Further, when bubbles are generated during liquid feeding, the bubbles cannot be confirmed until they are applied to the upper surface of the wafer, and a large loss occurs in the wafer exposure process.

そこで本発明は、レジストの送液中に、レジストに気泡が発生することを防止するとともに、レジストの吐出量を大きくすることができ、さらに、レジストに気泡が発生した場合には、速やかに気泡の確認ができるレジストポンプを提供することを目的としている。 Therefore, the present invention can prevent bubbles from being generated in the resist during the liquid transfer of the resist, and can increase the discharge amount of the resist. Further, when bubbles are generated in the resist, It is an object to provide a resist pump that can confirm the above.

上記の目的を達成するため本発明は、ポンプ本体に、ポンプ本体内部を前後に仕切り、駆動手段によって往復変位するダイヤフラムを配設し、前方をレジスト室、後方を空気室とし、前記レジスト室の上部に吐出管が接続される吐出口を、下部に吸入管が接続される吸入口をそれぞれ形成し、該吸入口に逆止弁を配設し、前記吐出管に前記ダイヤフラムの往復変位に連動して開閉する逆流防止手段を設け、前記ダイヤフラムの往復変位に伴うレジスト室の容積の増減によって、レジストを前記吸入口を介してレジスト室に吸入し、前記吐出口を介してレジスト室から吐出するとともに、前記レジスト室の前面を透明板で形成し、前記レジスト室の内部を視認できるようにしたことを特徴とし、前記駆動手段がエアシリンダであっても良く、前記逆流防止手段がポペット弁であると好適である。 In order to achieve the above object, the present invention provides the pump body with a diaphragm that divides the inside of the pump body back and forth, and that is reciprocally displaced by the driving means. The front is a resist chamber and the rear is an air chamber. A discharge port to which the discharge pipe is connected is formed at the upper part, and a suction port to which the suction pipe is connected to the lower part is formed, and a check valve is provided at the suction port, and the discharge pipe is linked to the reciprocal displacement of the diaphragm. Thus, a backflow prevention means for opening and closing is provided, and the resist is sucked into the resist chamber through the suction port and discharged from the resist chamber through the discharge port as the volume of the resist chamber increases or decreases with the reciprocal displacement of the diaphragm. In addition, the front surface of the resist chamber is formed of a transparent plate so that the inside of the resist chamber can be visually recognized, and the driving means may be an air cylinder. Backflow prevention means is preferable to be a poppet valve.

本発明は上述のように構成されることにより、レジストは、吸入管から吐出管まで体積が大きく絞られたり膨らんだりすることなく送液され、レジストに気泡が発生するおそれがなく、吐出量も大きくすることができる。さらに、レジスト室の前面を透明板としたことにより、貯槽のレジストに気泡が発生していた場合に、この気泡を速やかに確認し、処置をすることができるのでウエハの露光工程を良好な状態で行うことができる。 Since the present invention is configured as described above, the resist is fed from the suction pipe to the discharge pipe without being squeezed or swelled, and there is no risk of bubbles being generated in the resist, and the discharge amount is also high. Can be bigger. Furthermore, since the front surface of the resist chamber is made of a transparent plate, if bubbles are generated in the resist in the storage tank, the bubbles can be quickly confirmed and treated so that the wafer exposure process is in a good condition. Can be done.

また、駆動手段をエアシリンダとすることにより、空気がクッションとなってダイヤフラムが無理なく動き、レジストをスムーズに送液することができる。 Further, by using an air cylinder as the driving means, air acts as a cushion and the diaphragm moves without difficulty, so that the resist can be fed smoothly.

以下、本発明の一形態例を図面に基づいて詳しく説明する。図１は本発明の一形態例を示すレジストポンプの断面図、図２はポペット弁の一部断面正面図、図３はレジストの供給ラインを示す概略図である。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a resist pump showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partial sectional front view of a poppet valve, and FIG. 3 is a schematic view showing a resist supply line.

本形態例のレジストポンプ１は、ポンプ本体２内に、ポンプ本体内部を前後に仕切り、エアシリンダ３によって往復変位するダイヤフラム４を配設し、前方をレジスト室５、後方を空気室６としている。レジスト室５の上部には吐出管７が接続される吐出口２ａが、下部には逆止弁８を備えるとともに、吸入管９が接続される吸入口２ｂがそれぞれ設けられ、ダイヤフラム４の往復変位に伴うレジスト室５の容積の増減によって、レジストを吸入口２ｂを介してレジスト室５に吸入し、吐出口２ａを介してレジスト室５から吐出するようにしている。また、レジスト室５の前面は透明板１０で形成され、レジスト室５の内部を視認できるようになっている。 In the resist pump 1 of this embodiment, a pump body 2 is divided into a pump body 2 and a diaphragm 4 that is reciprocally displaced by an air cylinder 3 is disposed in the pump body 2. The front is a resist chamber 5 and the rear is an air chamber 6. . A discharge port 2 a to which the discharge pipe 7 is connected is provided at the upper part of the resist chamber 5, and a check valve 8 is provided at the lower part and a suction port 2 b to which the suction pipe 9 is connected. As the volume of the resist chamber 5 increases or decreases, the resist is sucked into the resist chamber 5 through the suction port 2b and discharged from the resist chamber 5 through the discharge port 2a. The front surface of the resist chamber 5 is formed of a transparent plate 10 so that the inside of the resist chamber 5 can be visually recognized.

ポンプ本体２は、円筒状に形成された前方のケース本体２ｃと、有底円筒状に形成された後方のカバー体２ｄとを有し、ケース本体２ｃの周壁上部に前記吐出口２ａが、周壁下部に前記吸入口２ｂがそれぞれ穿設される。また、ケース本体２ｃの前方開口部には、該前方開口部を覆う前記透明板１０を支持した支持枠１１が取り付けられ、後方開口部には、前記カバー体２ｄの前方開口部が、ダイヤフラム４を挟持して連結される。カバー体２ｄは、後部壁２ｅの下部に脚部１２がボルトによって取り付けられ、後部壁２ｅの中心部には、エアシリンダ３のピストン挿通孔２ｆが穿設され、後部壁２ｅの後方に、エアシリンダ３を収容するエアシリンダケース１３が取り付けられている。 The pump body 2 has a front case body 2c formed in a cylindrical shape and a rear cover body 2d formed in a bottomed cylindrical shape, and the discharge port 2a is formed on the peripheral wall upper portion of the case body 2c. The suction ports 2b are formed in the lower part. A support frame 11 that supports the transparent plate 10 covering the front opening is attached to the front opening of the case body 2c, and the front opening of the cover body 2d is attached to the diaphragm 4 at the rear opening. Are connected. The cover body 2d has a leg 12 attached to the lower portion of the rear wall 2e with a bolt, a piston insertion hole 2f of the air cylinder 3 is drilled in the center of the rear wall 2e, and an air is provided behind the rear wall 2e. An air cylinder case 13 that accommodates the cylinder 3 is attached.

ダイヤフラム４は、円盤状に形成され、中央に保持部材挿通孔４ａを備え、外周側が、前記ケース本体２ｃの後方開口部と前記カバー体２ｄの前方開口部との間に挟着されている。ダイヤフラム４の中央部は、両側に、保持部材挿通孔４ａから突出する突部を備えた円盤状の前方保持部材１４ａと、前記突部を嵌合する嵌合孔を備えた円盤状の後方保持部材１４ｂとが配設され、ダイヤフラム４は、前記保持部材挿通孔４ａから突出した前方保持部材１４ａの突部を、後方保持部材１４ｂの嵌合孔に嵌合し、中央部をボルト１５で締結することによって、前方保持部材１４ａと後方保持部材１４ｂとで挟持される。後方保持部材１４ｂの後部中央には、係合突部が突設され、該係合突部に、エアシリンダ３のピストン３ａの先端が連結される。このようにダイヤフラム４を配設することによって、該ダイヤフラム４の前面と、ケース本体２ｃの内周面と、透明板１０とによってレジスト室５が画成され、前記ダイヤフラム４の後面と、カバー体２ｄの内面とによって空気室６が画成される。 The diaphragm 4 is formed in a disc shape and includes a holding member insertion hole 4a at the center, and the outer peripheral side is sandwiched between the rear opening of the case body 2c and the front opening of the cover body 2d. The central portion of the diaphragm 4 has a disc-shaped front holding member 14a having protrusions protruding from the holding member insertion holes 4a on both sides, and a disk-shaped rear holding member having fitting holes for fitting the protrusions. The diaphragm 4 is fitted with the protrusion of the front holding member 14a protruding from the holding member insertion hole 4a into the fitting hole of the rear holding member 14b, and the center portion is fastened with the bolt 15. By doing so, it is clamped by the front holding member 14a and the rear holding member 14b. An engagement protrusion is provided at the rear center of the rear holding member 14b, and the tip of the piston 3a of the air cylinder 3 is connected to the engagement protrusion. By disposing the diaphragm 4 in this way, a resist chamber 5 is defined by the front surface of the diaphragm 4, the inner peripheral surface of the case body 2c, and the transparent plate 10, and the rear surface of the diaphragm 4 and the cover body An air chamber 6 is defined by the inner surface of 2d.

エアシリンダ３は、第１電磁弁１６及びスピードコントローラ１７ａ，１７ｂを備えたエア供給ライン３ｂ，３ｃを介して給排される加圧空気によって、ピストン３ａが前進・後退する周知のもので、エアシリンダ３のシリンダ孔底部側には、エア供給ライン３ｂの接続口３ｄが、シリンダ孔先端側には、エア供給ライン３ｃの接続口３ｅがそれぞれ形成されている。 The air cylinder 3 is a well-known type in which the piston 3a moves forward and backward by pressurized air supplied and discharged via air supply lines 3b and 3c including a first electromagnetic valve 16 and speed controllers 17a and 17b. A connection port 3d of the air supply line 3b is formed on the cylinder hole bottom side of the cylinder 3, and a connection port 3e of the air supply line 3c is formed on the tip side of the cylinder hole.

ピストン３ａは、前記カバー体２ｄのピストン挿通孔２ｆを介して、前記空気室６内に出没可能に設けられ、エア供給ライン３ｂの接続口３ｄからシリンダ孔内に加圧空気が導入されると、エア供給ライン３ｃの接続口３ｅから加圧空気を排出させながらシリンダ孔内を前進し、ダイヤフラム４を前進させる。また、エア供給ライン３ｃの接続口３ｅからシリンダ孔内に加圧空気が導入されると、エア供給ライン３ｂの接続口３ｄから加圧空気を排出させながらシリンダ孔内を後退し、ダイヤフラム４を後退させる。 The piston 3a is provided in the air chamber 6 through the piston insertion hole 2f of the cover body 2d so as to be able to protrude and retract, and when pressurized air is introduced into the cylinder hole from the connection port 3d of the air supply line 3b. Then, while the pressurized air is discharged from the connection port 3e of the air supply line 3c, the inside of the cylinder hole is advanced, and the diaphragm 4 is advanced. When pressurized air is introduced into the cylinder hole from the connection port 3e of the air supply line 3c, the compressed air is discharged from the connection port 3d of the air supply line 3b, and the diaphragm 4 is retracted. Retreat.

逆止弁８は、前記レジスト室５へのレジストの流入を自由とする一方弁で、前記吸入口２ｂに連続する弁室８ａと、該弁室８ａに保持される球弁８ｂと、該球弁８ｂによって開閉される弁座８ｃと、球弁８ｂの上動を規制するストップピン８ｄとから形成されている。 The check valve 8 is a one-way valve that allows the resist to freely flow into the resist chamber 5, and includes a valve chamber 8a that continues to the suction port 2b, a ball valve 8b that is held in the valve chamber 8a, and the ball valve The valve seat 8c is opened and closed by the valve 8b, and a stop pin 8d that restricts the upward movement of the ball valve 8b.

このように形成されたレジストポンプ１は、エアシリンダ３を作動させ、ダイヤフラム４を後退させてレジスト室５の容積を拡大させることにより、前記吸入口２ｂからレジストをレジスト室５内に吸入し、また、ダイヤフラム４を前進させてレジスト室５の容積を縮小させることにより、前記吐出口２ａを介してレジスト室５からレジストを吐出する。 The resist pump 1 formed in this way operates the air cylinder 3, retracts the diaphragm 4, and expands the volume of the resist chamber 5, thereby sucking the resist into the resist chamber 5 from the suction port 2b. Further, by moving the diaphragm 4 forward to reduce the volume of the resist chamber 5, the resist is discharged from the resist chamber 5 through the discharge port 2a.

本形態例では、前記吐出管７にレジストの逆流を防止するポペット弁２０が連結されている。ポペット弁２０は、弁ボディ２１に、弁孔２２が形成され、該弁孔２２に弁バネを介して弁棒２３が摺動自在に挿入されている。弁孔２２は、先端側に大径部２２ａが形成されるとともに、弁ボディ２１の基端側と先端側の側部とに空気配管接続口２１ａ，２１ｂが形成され、先端側の側部に形成されたレジスト流入ポート２１ｃと、先端に形成されたレジスト流出ポート２１ｄとが弁孔２２を介して連通している。弁棒２３には、小径の摺動軸部２３ａの先端に、シール部２３ｂを備えた大径のポペット２３ｃが形成され、該ポペット２３ｃは、前記大径部２２ａに収容され、前記大径部２２ａの基端側がポペット２３ｃの弁座２２ｂとなる。また、空気配管接続口２１ａと空気配管接続口２１ｂとには、第２電磁弁２４とスピードコントローラ２５ａ，２５ｂとを備えた接続チューブ２６ａ，２６ｂが接続され、レジスト出力ポート２１ｄには、ノズルが連結されている。 In this embodiment, a poppet valve 20 for preventing the resist from flowing backward is connected to the discharge pipe 7. In the poppet valve 20, a valve hole 22 is formed in a valve body 21, and a valve rod 23 is slidably inserted into the valve hole 22 via a valve spring. The valve hole 22 has a large-diameter portion 22a on the distal end side, air piping connection ports 21a and 21b formed on the proximal end side and the distal end side portion of the valve body 21, and the distal end side portion. The formed resist inflow port 21 c communicates with the resist outflow port 21 d formed at the tip through the valve hole 22. The valve stem 23 is formed with a large-diameter poppet 23c having a seal portion 23b at the tip of a small-diameter sliding shaft portion 23a. The poppet 23c is accommodated in the large-diameter portion 22a, and the large-diameter portion The base end side of 22a becomes the valve seat 22b of the poppet 23c. Further, connection tubes 26a and 26b each having a second solenoid valve 24 and speed controllers 25a and 25b are connected to the air piping connection port 21a and the air piping connection port 21b, and a nozzle is connected to the resist output port 21d. It is connected.

ポペット弁２０は、空気配管接続口２１ａから加圧空気が導入されると、空気配管接続口２１ｂから加圧空気を排出させながら弁棒２３が前進し、ポペット２３ｃが弁座２２ｂから離れて、レジスト流入ポート２１ｃとレジスト流出ポート２１ｄとが連通する。また、空気配管接続口２１ｂから加圧空気が導入されると、空気配管接続口２１ａから加圧空気を排出させながら弁棒２３が後退し、ポペット２３ｃが弁座２２ｂに着座し、レジスト流入ポート２１ｃとレジスト流出ポート２１ｄとの連通が遮断される。 In the poppet valve 20, when pressurized air is introduced from the air pipe connection port 21a, the valve rod 23 advances while discharging the pressurized air from the air pipe connection port 21b, and the poppet 23c moves away from the valve seat 22b. The resist inflow port 21c and the resist outflow port 21d communicate with each other. Further, when pressurized air is introduced from the air piping connection port 21b, the valve rod 23 moves backward while discharging the pressurized air from the air piping connection port 21a, the poppet 23c is seated on the valve seat 22b, and the resist inflow port. Communication between 21c and resist outflow port 21d is blocked.

また、前記レジストポンプ１側の第１電磁弁１６と、ポペット弁２０側の第２電磁弁２４とは、制御部３０によって、その切り替えが制御されている。 The switching of the first electromagnetic valve 16 on the registration pump 1 side and the second electromagnetic valve 24 on the poppet valve 20 side is controlled by the control unit 30.

次に、図３に基づいて、上述のレジストポンプ１を用いたレジストの供給ラインについて説明する。レジストポンプ１の吸入管９をレジストの貯槽２７に連通させ、制御部３０によって第１電磁弁１６を切り替え、スピードコントローラ１７ａ，１７ｂによって給排動作を調整しながら、エア供給ライン３ｂ，３ｃを介して、エアシリンダ３の接続口３ｄ，３ｅから加圧空気を給排することにより、ピストン３ａを前進または後退させ、ダイヤフラム４を往復変位させる。このダイヤフラム４の往復変位に伴うレジスト室５の容積の増減によって、貯槽２７内のレジストが吸入管９を介してレジスト室５に吸入され、吐出管７を介してレジスト室５からポペット弁２０に吐出される。 Next, a resist supply line using the above-described resist pump 1 will be described with reference to FIG. The suction pipe 9 of the resist pump 1 is communicated with the resist storage tank 27, the first electromagnetic valve 16 is switched by the control unit 30, and the supply / discharge operation is adjusted by the speed controllers 17a and 17b via the air supply lines 3b and 3c. Then, by supplying and discharging pressurized air from the connection ports 3d and 3e of the air cylinder 3, the piston 3a is moved forward or backward, and the diaphragm 4 is reciprocally displaced. As the volume of the resist chamber 5 increases or decreases with the reciprocal displacement of the diaphragm 4, the resist in the storage tank 27 is sucked into the resist chamber 5 through the suction pipe 9, and is transferred from the resist chamber 5 to the poppet valve 20 through the discharge pipe 7. Discharged.

このとき、レジストは、吸入管９から吐出管７まで体積が大きく絞られたり膨らんだりすることなく送液されるので、レジストに気泡が発生するおそれがなく、吐出量も大きくすることができる。さらに、レジスト室５の前面を透明板１０で形成したことにより、送液中にレジストに気泡が発生してしまったり、あるいは貯槽２７内のレジストに、既に気泡が発生していた場合には、この気泡を視認することができ、送液を中止して速やかに気泡の処置をすることができる。このため、ウエハの露光工程をロスなく良好な状態で行うことができる。 At this time, since the resist is fed from the suction pipe 9 to the discharge pipe 7 without the volume being greatly reduced or swelled, there is no possibility that bubbles are generated in the resist, and the discharge amount can be increased. Further, by forming the front surface of the resist chamber 5 with the transparent plate 10, bubbles are generated in the resist during liquid feeding, or when bubbles are already generated in the resist in the storage tank 27, This bubble can be visually recognized, and liquid supply can be stopped and the bubble can be quickly treated. Therefore, the wafer exposure process can be performed in a good state without loss.

ポペット弁２０は、制御部３０によって、ダイヤフラム４の往復変位に応じて第２電磁弁２４を切り替え、スピードコントローラ２５ａ，２５ｂによって給排動作を調整しながら、接続チューブ２６ａ，２６ｂを介して空気配管接続口２１ａ，２１ｂから加圧空気を給排し、弁棒２３を作動させて、レジスト流入ポート２１ｃとレジスト流出ポート２１ｄとを連通させたり連通を遮断させることにより、定量のレジストをノズルからウエハ上面に滴下する。 The poppet valve 20 switches the second electromagnetic valve 24 according to the reciprocal displacement of the diaphragm 4 by the control unit 30, and adjusts the supply / discharge operation by the speed controllers 25a and 25b, and the air piping through the connection tubes 26a and 26b. Pressurized air is supplied / exhausted from the connection ports 21a and 21b, the valve rod 23 is operated, and the resist inflow port 21c and the resist outflow port 21d are connected to each other or the communication is interrupted, whereby a predetermined amount of resist is transferred from the nozzle to the wafer. Drip on top.

制御部３０は、第１電磁弁１６をピストン前進側に切り替えるのと同時に、第２電磁弁２４がポペット弁２０の開方向に切り替わるように制御し、第１電磁弁１６をピストン後退側に切り替えた後、少し遅れて、第２電磁弁２４がポペット弁２０の閉方向に切り替わるように制御している。 The control unit 30 controls the second electromagnetic valve 24 to switch in the opening direction of the poppet valve 20 at the same time as switching the first electromagnetic valve 16 to the piston forward side, and switches the first electromagnetic valve 16 to the piston backward side. After that, the second electromagnetic valve 24 is controlled to switch in the closing direction of the poppet valve 20 with a little delay.

最大吐出量：４０ｃｃ、最大吐出圧力：０．２ＭＰａ、吐出流量：２０ｃｃ／１０秒、繰返し吐出精度：１０ｃｃ±０．１ｃｃ、使用空気圧：０．１５〜０．４ＭＰａのレジストポンプを用いて、９００ｃＰ及び３０００ｃＰのレジストの吐出動作を、表１に示すように吐出時間を変えて行った。 Maximum discharge amount: 40 cc, maximum discharge pressure: 0.2 MPa, discharge flow rate: 20 cc / 10 seconds, repeated discharge accuracy: 10 cc ± 0.1 cc, working air pressure: 900 cP using a resist pump with 0.15-0.4 MPa As shown in Table 1, the discharge operation of the 3000 cP resist was performed by changing the discharge time.

初期設定は、ポンプ動作圧力を０．３５ＭＰａに設定し、レジストを投入せずに空動作にて吐出動作を４秒行い、シリンダ動作を、スピードコントローラによって吸引動作４０秒に調整した。レジスト投入後、ポンプ動作圧力を変更し、各圧力での吐出量を計測した。吐出動作は６０秒毎とした。また、９００ｃＰのレジストは、東京応化工業（株）製ＰＭＥＲＰ−ＬＡ９００ＰＭ、３０００ｃｐのレジストは、東京応化工業（株）製ＰＭＥＲＮ−ＣＡ３０００ＰＭを使用した。

In the initial setting, the pump operating pressure was set to 0.35 MPa, the discharge operation was performed for 4 seconds by the idle operation without introducing the resist, and the cylinder operation was adjusted to 40 seconds by the speed controller. After introducing the resist, the pump operating pressure was changed, and the discharge amount at each pressure was measured. The discharge operation was performed every 60 seconds. Moreover, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. PMER P-LA900 PM was used for the 900 cP resist, and Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. PMER N-CA3000 PM was used for the 3000 cp resist.

表１に示されるように、上述のレジストポンプは、吐出量を大きくすることができるとともに、安定した吐出量を確保することができる。また、上記テスト中に、レジストポンプ内での発泡は見られず、レジスト初期吸入時のエアの抜けも良好であった。 As shown in Table 1, the above-described resist pump can increase the discharge amount and ensure a stable discharge amount. Further, during the above test, no foaming was observed in the resist pump, and air escape during initial resist inhalation was good.

レジストポンプの動作圧を０．３０ＭＰａとし、ポリミドの吐出テストを、表２に示すように吐出時間を変えて行った。ポリミドは、東レ製ＵＲ−３１４０５０００〜１００００ｃＰを使用した。

The operation pressure of the resist pump was 0.30 MPa, and the polyimide discharge test was performed while changing the discharge time as shown in Table 2. As the polyimide, UR-3140 5000-10000 cP manufactured by Toray Industries, Inc. was used.

表２に示されるように、高粘度のポリミドを用いても吐出量を大きくすることができた。また、上記テスト中に、レジストポンプ内での発泡は見られず、レジスト初期吸入時のエアの抜けも良好であった。 As shown in Table 2, the discharge amount could be increased even when a high viscosity polyimide was used. Further, during the above test, no foaming was observed in the resist pump, and air escape during initial resist inhalation was good.

さらに、安定最小吐出量は、ポンプ動作圧：０．２ＭＰａ、吐出時間５秒で、４．２ｇであった。 Furthermore, the stable minimum discharge amount was 4.2 g at a pump operating pressure of 0.2 MPa and a discharge time of 5 seconds.

本発明の一形態例を示すレジストポンプの断面図である。It is sectional drawing of the resist pump which shows one example of this invention. 同じくポペット弁の一部断面正面図である。It is a partial cross section front view of the same poppet valve. 同じくレジストの供給ラインを示す概略図である。It is the schematic which shows the supply line of a resist similarly.

符号の説明Explanation of symbols

１…レジストポンプ、２…ポンプ本体、２ａ…吐出口、２ｂ…吸入口、２ｃ…ケース本体、２ｄ…カバー本体、２ｅ…後部壁、２ｆ…ピストン挿通孔、３…エアシリンダ、３ａ…ピストン、３ｂ，３ｃ…エア供給ライン、３ｄ，３ｅ…接続口、４…ダイヤフラム、４ａ…保持部材挿通孔、５…レジスト室、６…空気室、７…吐出管、８…逆止弁、８ａ…弁室、８ｂ…球弁、８ｃ…弁座、８ｄ…ストップピン、９…吸入管、１０…透明板、１１…支持枠、１２…脚部、１３…エアシリンダケース、１４ａ…前方保持部材、１４ｂ…後方保持部材、１５…ボルト、１６…第１電磁弁、１７ａ，１７ｂ，２５ａ，２５ｂ…スピードコントローラ、２０…ポペット弁、２１…弁ボディ、２１ａ，２１ｂ…空気配管接続口、２１ｃ…レジスト流入ポート、２１ｄ…レジスト流出ポート、２２…弁孔、２２ａ…大径部、２２ｂ…弁座、２３…弁棒、２３ａ…摺動軸部、２３ｂ…シール部、２３ｃ…ポペット、２４…第２電磁弁、２６ａ，２６ｂ…接続チューブ、２７…貯槽 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Registration pump, 2 ... Pump main body, 2a ... Discharge port, 2b ... Suction port, 2c ... Case main body, 2d ... Cover main body, 2e ... Rear wall, 2f ... Piston insertion hole, 3 ... Air cylinder, 3a ... Piston, 3b, 3c ... Air supply line, 3d, 3e ... Connection port, 4 ... Diaphragm, 4a ... Holding member insertion hole, 5 ... Registration chamber, 6 ... Air chamber, 7 ... Discharge pipe, 8 ... Check valve, 8a ... Valve Chamber 8b Ball valve 8c Valve seat 8d Stop pin 9 Suction pipe 10 Transparent plate 11 Support frame 12 Leg 13 Air cylinder case 14a Front holding member 14b ... rear holding member, 15 ... bolt, 16 ... first solenoid valve, 17a, 17b, 25a, 25b ... speed controller, 20 ... poppet valve, 21 ... valve body, 21a, 21b ... air piping connection port, 21c ... resist inflow port 21d ... Registration outflow port, 22 ... Valve hole, 22a ... large diameter part, 22b ... valve seat, 23 ... valve rod, 23a ... sliding shaft part, 23b ... seal part, 23c ... poppet, 24 ... second solenoid valve, 26a, 26b ... connecting tube, 27 ... storage tank

Claims

ポンプ本体に、ポンプ本体内部を前後に仕切り、駆動手段によって往復変位するダイヤフラムを配設し、前方をレジスト室、後方を空気室とし、前記レジスト室の上部に吐出管が接続される吐出口を、下部に吸入管が接続される吸入口をそれぞれ形成し、該吸入口に逆止弁を配設し、前記吐出管に前記ダイヤフラムの往復変位に連動して開閉する逆流防止手段を設け、前記ダイヤフラムの往復変位に伴うレジスト室の容積の増減によって、レジストを前記吸入口を介してレジスト室に吸入し、前記吐出口を介してレジスト室から吐出するとともに、前記レジスト室の前面を透明板で形成し、前記レジスト室の内部を視認できるようにしたことを特徴とするレジストポンプ。 The pump body is provided with a diaphragm that divides the inside of the pump body in the front and back, and that is reciprocally displaced by a driving means. The front is a resist chamber, the rear is an air chamber, and a discharge port to which a discharge pipe is connected to the upper portion of the resist chamber. A suction port to which a suction pipe is connected at the bottom, a check valve is provided at the suction port, and a backflow prevention means that opens and closes in conjunction with the reciprocal displacement of the diaphragm is provided in the discharge pipe, The resist is sucked into the resist chamber through the suction port and discharged from the resist chamber through the discharge port by the increase / decrease of the volume of the resist chamber accompanying the reciprocal displacement of the diaphragm. A resist pump formed and made visible inside the resist chamber.

前記駆動手段がエアシリンダであることを特徴とする請求項１記載のレジストポンプ。 2. The registration pump according to claim 1, wherein the driving means is an air cylinder.

前記逆流防止手段がポペット弁であることを特徴とする請求項１又は２記載のレジストポンプ。 3. The resist pump according to claim 1, wherein the backflow prevention means is a poppet valve.