JP2006339375A - リフロー半田付け装置及びフラックス回収装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 加熱室内に気化して充満したフラックス成分の回収を効率良く容易に行うことができるフラックス回収装置を備えたリフロー半田付け装置を提供する。
【解決手段】 本発明の実施形態に係るリフロー半田付け装置は、リフロー室内の気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置７０を有する。フラックス回収装置７０は、フラックス回収手段としてのラジエータ７２及びメッシュフィルター８３を備えると共に、フラックス回収手段に付着したフラックス成分を洗い流すために、循環ポンプ７７、洗浄液導入管７５、フィルター７６、ラジエータシャワーパイプ７８、フィルターシャワーパイプ８４貯蔵タンク７９，８６等から構成される洗浄システムを備える。
【選択図】 図２

Description

本発明は、電子部品を搭載した回路基板を半田付けするためのリフロー半田付け装置に関し、特に、炉内の不活性ガス中に混在するフラックス成分を除去するための装置を備えたリフロー半田付け装置に関する。

従来から、種々の電子部品を搭載した回路基板を半田付けするためのリフロー半田付け装置が提供されている。従来のリフロー半田付け装置は、予備加熱室、本加熱室（加熱ゾーン）及び冷却室（冷却ゾーン）等の複数の部屋に分離された炉と、半田付けする回路基板を炉内の各室内に搬送するための搬送手段とを備えている。

このような構成において、プリントされた回路基板上に電子部品を搭載し、半田付けする箇所にペースト状のクリーム半田を塗ったものを、搬送手段により炉内を搬送して加熱溶融させることにより、回路基板と電子部品とが半田付けされる。

ところで、クリーム半田は、クリーム状のフラックスと粉末半田をペースト状にしたものである。このフラックスは、半田付けされる金属表面の酸化膜を除去し、半田付け中に加熱で再酸化するのを防止し、半田の表面張力を小さくして濡れを良くする塗布剤の働きをし、松脂、チキソ剤、活性剤等の固形成分を溶剤で溶解させたものである。

よって、従来のリフロー半田付け装置では、加熱室内で加熱されたフラックス成分が気化され、炉内に充満していた。この気化したフラックス成分は、冷却されると液化又は結晶化する性質があり、炉内が気化したフラックス成分で充満してしまうと、基板にフラックス成分が付着した状態で半田付けされてしまうという問題がある。

また、気化したフラックス成分は、装置内の温度の低いところに接触して液化・結晶化したり、装置使用後に炉内が冷えると、炉内に残留していたフラックス成分が液化・結晶化して、炉内の壁面に付着してしまうといった問題がある。

このような問題を解決するために、加熱室内で気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置を備えたリフロー半田付け装置が提供されている。フラックス回収装置を備えたリフロー半田付け装置は、例えば、下記特許文献に開示されている。

特許第２７９４３５２号公報 特許第３２５００７９号公報 特開２００３−３２４２７２号公報 特開２００３−３３２７２６号公報

特許文献１乃至４には、加熱室内又は室外に設置された、気化したフラックス成分を含む不活性ガスを冷やして液化・結晶化させるための外部熱交換機やラジエータ等のフラックス回収装置が開示されている。このようなフラックス回収装置においては、不活性ガスを冷やすことで、ラジエータやフィルターに液化・結晶化したフラックスを付着させて、気化したフラックス成分の回収を行っている。

しかし、近年、環境への配慮からクリーム半田に鉛を使用しないようになってきており、例えば、銀（Ag）、銅（Cu）、スズ（Sn）からなる合金を用いた鉛フリーのクリーム半田が多く使用されている。鉛フリー半田の溶解温度（210〜230℃程度）は、従来の鉛半田の溶解温度（183℃）よりも高いため、加熱室内の温度も高く、フラックス成分が気化し易い。また、鉛フリーのクリーム半田に含まれるアルコール成分がさほど多くないため、アルコール成分が気化すると、回収されるフラックス成分はラジエータやフィルター等に結晶化して付着することが多く、回収が困難となってしまう。

結晶化したフラックス成分がラジエータや外部熱交換機等のフラックス回収装置に付着したままだと、フラックス成分の回収性能が低下し、せっかくフラックス回収装置を設置したのに加熱室内にフラックス成分が充満することになってしまう。また、ラジエータやフィルター等に付着したフラックス成分を除去するにしても、装置を分解してから、ラジエータやフィルターを洗浄する必要があり、手間がかかる。

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、鉛フリーのクリーム半田を用いる場合であっても、加熱室内に気化して充満したフラックス成分の回収を効率良く容易に行うことができるフラックス回収装置を備えたリフロー半田付け装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明に係るリフロー半田付け装置は、加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すための管路と、前記管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係るリフロー半田付け装置は、加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すと共に前記炉内へと戻すための循環管路と、前記循環管路内に設置された冷却手段と、前記冷却手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とする。

また、本発明に係るフラックス回収装置は、電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置に対して、前記炉内で気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置であって、前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出すための管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とする。

また、本発明に係るリフロー半田付け装置におけるフラックス回収方法は、電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内で気化したフラックス成分を、フラックス回収手段を用いて除去するフラックス成分回収方法であって、前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出す工程と、前記フラックス回収手段を用いて前記室外へ取り出した雰囲気ガスからフラックス成分を除去する工程と、前記フラックス回収手段に付着したフラックス成分を、洗浄手段を用いて洗浄液で洗浄する工程と、を備えたことを特徴とする。

本発明に係るリフロー半田付け装置によれば、フラックス回収装置にフラックス成分の結晶等が付着して溜まることを防止できるので、炉内に含まれる気化したフラックス成分を効率良く回収することが可能であり、また、炉内に気化したフラックス成分が充満することを防止できる。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。図１は本実施形態に係るリフロー半田付け装置１の構成を示す概略断面図である。図２は、本実施形態に係るフラックス回収装置７０の構成を示す概略断面図である。図１では、フラックス回収装置の図示を省略しているが、本実施形態に係るリフロー半田付け装置は、図２に示すフラックス回収装置７０を備え、加熱室内で気化したフラックス成分を回収するフラックス回収手段に付着したフラックス成分を洗い流す洗浄システムを設けたことを特徴としている。また、後述するように、本実施形態に係るリフロー半田付け装置は、２つのフラックス回収装置を備えている。

図１に示すように、リフロー半田付け装置１は、装置本体の外枠を形成する金属製の外枠体２、炉３、回路基板を炉内に搬送する搬送手段としてのチェーンコンベア６を有している。チェーンコンベア６は、図中反時計回りに回転するよう構成されており（矢印Ｘ）、したがって、炉３は、図中右側が上流、左側が下流となっている。

炉３は、炉内の各部屋を仕切るための隔壁４を有しており、この隔壁４によって、炉は、上流側から、バッファゾーンＡ２０−１、予備加熱室Ａ３０−１、予備加熱室Ｂ３０−２、予備加熱室Ｃ３０−３、予備加熱室Ｄ３０−４、本加熱室Ａ４０−１、本加熱室Ｂ４０−２、冷却室５０、バッファゾーンＢ２０−２に仕切られている。予備加熱室３０及び本加熱室４０は、加熱ゾーンを構成し、冷却室５０は、冷却ゾーンを構成する。

炉３の入口と出口には、炉内の不活性ガス（窒素ガス）が外部へ漏れるのを防ぐために、ポリイミドフィルム製のラビエンスＡ１０−１，Ｂ１０−２が設けられている。予備加熱室３０、本加熱室４０、冷却室５０には、各室内の不活性ガス（気化したフラックス成分を含む）を対流させるために、ファン８が炉３に設けられている。また、各ファン８を回転させるための動力源としてのモータ９が同じく内炉３に設けられている。また、予備加熱室３０及び本加熱室４０の各室内には、各室内の不活性ガス（雰囲気ガス）を加熱するためのヒータ７がそれぞれ設置されている。

ヒータ７は、部屋毎にそれぞれ独立して温度調整が可能に構成されており、装置稼働時に、予備加熱室３０の室温を１５０〜２００℃、本加熱室の室温を２２０〜２６０℃に保つように制御される。なお、冷却室５０は、加熱された回路基板の温度を下げるために設けられており、加熱装置は設けられておらず、冷却装置としてのファン８が設置されているだけである。また、炉３の室内と室外の緩衝地帯として働く緩衝室としてのバッファゾーン２０内には、ヒータやファンは設置されていない。

本実施形態では、２つのフラックス回収装置が設けられており、第１のフラックス回収装置（加熱ゾーン用）は、予備加熱室Ｄ３０−４から循環往路（管路）６０を介して炉内の雰囲気ガスを取り込み、バッファゾーンＡ２０−１、予備加熱室Ｄ３０−４、冷却室５０に循環復路（管路）６１を介して雰囲気ガスを送り込むように構成されている。この際、フラックス回収装置７０に取り込んだ雰囲気ガスの３〜４割を予備加熱室Ｄ３０−４に送り込み、残りの６〜７割の雰囲気ガスをそれぞれ半分ずつバッファゾーンＡ２０−１及びバッファゾーンＢ２０−２に送り込むように構成されている。このように、室内温度の高い加熱室から雰囲気ガスを取り出せば、相対的に温度の低い冷却室やバッファゾーンから雰囲気ガスを取り出すのと比較して、雰囲気ガス中により多くのフラックス成分が含まれており、効率的に回収することができる。

予備加熱室Ｄ３０−４は、炉のほぼ真ん中に位置する部屋、バッファゾーンＡ２０−１は炉の入口に位置する部屋（図中右端）、バッファゾーンＢ２０−２は炉の出口に位置する部屋であるから、フラックス回収装置においてフラックス成分が除去された雰囲気ガスが炉の各部屋を循環することになり、炉内全体の雰囲気ガス中に含まれるフラックス成分を回収することができる。

すなわち、循環復路Ｂ６１−２からバッファゾーンＡ２０−１に戻された不活性ガスは、予備加熱室Ａ乃至Ｃを通過して予備加熱室Ｄの循環往路６０へと移動し、再度フラックス回収装置へと送られることになる。他方、循環復路Ｃ６１−３からバッファゾーンＢ２０−２に戻された雰囲気ガスは、冷却室、本加熱室Ｂ，Ａを通過して予備加熱室Ｄの循環往路６０へと移動し、再度フラックス回収装置へと送られることになる。

また、図示しない第２のフラックス回収装置（冷却ゾーン用）は、冷却室５０から循環路を介して炉内の雰囲気ガスを取り込み、取り込んだ雰囲気ガスを、循環路を介して冷却室５０に送り込むように構成されている。

このように、フラックス回収装置を２つ設けたのは、炉３内の中央に位置する予備加熱室Ｄ内の循環往路６０から取り出した不活性ガスと、冷却室５０内の循環往路６５から取り出した不活性ガスとの間に大きな温度差があるからである。すなわち、冷却室５０から取り出した不活性ガスの一部を予備加熱室Ｄ３０−４の循環復路Ａ６１−１へも戻すように構成すると、加熱室内の温度が低くなり過ぎてしまい、室内を加熱するための消費電力が高くなってしまうからである。逆に、加熱室内の空気を冷却室５０に戻すように構成すると、冷却室５０内の室温が高くなってしまい、好ましくない。

図１に示すように、第１のフラックス回収装置への循環往路６０の入口が予備加熱室Ｄ３０−４内の下方に設置され、第１のフラックス回収装置からの循環復路Ａ６１−１の出口が予備加熱室Ｄ３０−４の上方に、循環復路Ｂ６１−２の出口がバッファゾーンＡ２０−１の上方に、循環復路Ｃ６１−３の出口がバッファゾーンＢ２０−２の上方に設置されている。また、第２のフラックス回収装置への循環往路６５の入口が冷却室５０の上方に、第２のフラックス回収装置からの循環復路６６の出口が冷却室５０の下方に設置されている。

なお、図中、循環往復路６０，６１，６５，６６の入口及び出口は、各室内の上半分、下半分の中央付近に示されているが、これは、作図上分かり易くするためであり、実際には、各入口及び出口は、各室内の不活性ガスの環流を妨げないように、ファン８の横に設けられている。もちろん、各室内の不活性ガスの環流を妨げない位置であれば、各入口及び出口の設置位置は、適宜変更可能である。

また、循環往復路６０，６１，６５，６６へ不活性ガスを環流させるための動力源としては、ファン８及びモータ９が兼用される。すなわち、炉を構成する各室内に設けられたファン８の回転によって、各室内で不活性ガスが環流しているが、この環流している不活性ガスがそのまま流入する位置に循環往路６０，６５の入口が設置されており、循環往路６０，６５に流入した不活性ガスは、フラックス回収装置へと送られる。もちろん、炉用の動力源とは別に、フラックス回収装置の循環用動力源を設けるようにしても良い。

次に、図２に基づいて、本実施形態に係るフラックス回収装置７０の構成について説明する。第１及び第２のフラックス回収装置７０は、同じ構成であるため、ここでは、第１のフラックス回収装置を例に挙げて説明する。同図に示すように、フラックス回収装置７０は、ラジエータ７２等からなるラジエータ部（冷却式フラックス回収手段）と、メッシュフィルター８３等からなるフィルター部（濾過式フラックス回収手段）と、ラジエータ部及びフィルター部にフラックスを回収するための洗浄液を循環させる洗浄システム（洗浄手段）とから構成される。

ラジエータ部は、金属製の筐体７１内に、空冷式のラジエータ７２が格納されている。筐体７１の上面には、予備加熱室Ｄ３０−４から不活性ガスを取り込む循環往路６０に接続するための接続管８１が設けられている。筐体７１の下部には、洗浄システムの一部として洗浄液を貯蔵するための貯蔵タンク８６が形成され、貯蔵タンク８６の底部には、洗浄液の交換時等に洗浄液を排出するためのドレン排出プラグ８０が設けられている。また、筐体７１の下部右側（図中）には、炉から取り込んだ不活性ガスをフィルター部へと案内するための接続管８１が取り付けられている。

フィルター部は、金属製の管状筐体８２内に、同じく管状のメッシュフィルター８３が筐体８２と同心に格納されている。メッシュフィルター８３は、上面が開放され、側面と底面がメッシュ状に形成された金属製円筒によって構成される。このメッシュフィルター８３により、結晶化したフラックス成分を含む不活性ガスを濾過して、フラックス成分を除去することができる。筐体８２の上部左側（図中）には、接続管８１が接続されており、ラジエータ部から送られてくる炉からの不活性ガスが、筐体８２の管内を下方に向かいながらメッシュフィルター８３を通過するように構成されている。

筐体８２の上部には、メッシュフィルター８３を回転させるためのフィルター回転モータ８５が設置されており、フラックス回収装置の稼働中は、メッシュフィルター８３が回転するように構成されている。また、筐体８２の下部には、洗浄システムの一部として洗浄液を貯蔵するための貯蔵タンク８６が形成され、貯蔵タンク８６の底部には、ドレン排出プラグ８７が設置されている。また、筐体８２の下部右側（図中）には、循環復路Ａ乃至Ｃ６１−１〜３に接続するための接続管８１が取り付けられている。

洗浄システムは、循環ポンプ７７と、フィルター７６、ラジエータシャワーパイプ７８、フィルターシャワーパイプ８４、貯蔵タンク７９，８６、及びこれら洗浄システムを構成する部材を接続して洗浄液を循環させるための洗浄液導入管７５を備えている。循環ポンプ７７は、洗浄液を循環させる動力源であり、図中上方の洗浄液導入管７５に向けて洗浄液を送り出す機能を有する。循環ポンプ７７の下方に配置されたフィルター７６は、洗浄液中に含まれる回収されたフラックス成分の結晶等のゴミを回収する機能を有しており、定期的にフィルターを交換可能に構成されている。

噴射部材としてのラジエータシャワーパイプ７８は、筐体７１内においてラジエータ７２の上方に設置されており、その下面には、循環ポンプ７７により送られてきた洗浄液をラジエータ７２に噴射するための孔（図示せず）が開けられている。貯蔵タンク７９は、シャワーパイプ７８からラジエータ７２にかけられて垂れてくる洗浄液を貯蔵するためのタンクであり、貯蔵タンク７９に貯まっている洗浄液は、洗浄液導入管７５を介して、フィルター７６、循環ポンプ７７へと循環する。貯蔵タンク７９の底面に設けられたドレン排出プラグ８０は、開放することで、貯蔵タンク７９内の洗浄液を排出できるように構成されており、洗浄液を交換する際等に用いられる。

噴射部材としてのフィルターシャワーパイプ８４は、筐体８２内においてメッシュフィルター８３の側面に平行に対向して設置されており、そのメッシュフィルター８３と対向する面には、循環ポンプ７７によって送られてきた洗浄液をメッシュフィルター８３に吹き付けるための孔（図示せず）が開けられている。上述したように、メッシュフィルター８３は、フィルター回転モータ８５によって回転駆動されており、フィルターシャワーパイプ８４から吹き付けられる洗浄液が、メッシュフィルター８３の側面全体にかけられることになる。

貯蔵タンク８６は、シャワーパイプ８４からメッシュフィルター８３に吹き付けられて垂れてくる洗浄液を貯蔵するためのタンクであり、貯蔵タンク８６に貯まっている洗浄液は、洗浄液導入管７５及び貯蔵タンク７９を介して、フィルター７６、循環ポンプ７７へと循環する。貯蔵タンク８６の底面に設けられたドレン排出プラグ８７は、開放することで、貯蔵タンク内の洗浄液を排出できるように構成されており、洗浄液を交換する際等に用いられる。

本実施形態に係るフラックス回収装置７０においては、洗浄液として、グリコール系、炭素系、水素水溶性、またはアルカリ系の溶剤が用いられるが、もちろん、これらに限定されるものではなく、フラックス回収手段に付着したフラックス成分を除去するのに適当な液体であれば、他の液体を用いることができる。フラックス成分に対して高い溶解度を持つ液体であればより好ましい。

以上、本実施形態に係るフラックス回収装置７０を備えたリフロー半田付け装置１の構成について説明したが、続いて、フラックス回収装置７０の動作について詳細に説明する。なお、リフロー半田付け装置１本体の動作については、従来の装置と同様であり、ここでは詳細な説明を省略する。

まず、フラックス回収装置７０の作動タイミングについては、リフロー半田付け装置本体が稼働している最中であれば、炉内のファン８の作動により、フラックス回収装置７０へと不活性ガスが送り込まれて循環することになるから、フラックス回収装置７０も常にフラックスの回収動作を行うことになる。但し、洗浄システムは、周期的な所定のタイミングで所定の時間稼働するように、制御用コンピュータ（図示せず）によって制御される。周期や稼働時間は、リフロー半田付け装置が設置されている環境等、種々の要素に基づいて、現場で適宜設定可能であり、例えば、８時間毎に１０〜２０分間稼働するように設定される。もちろん、洗浄システムを稼働させるタイミングは、これらのタイミングに限定されるものではなく、手動で適宜稼働したり、リフロー半田付け装置本体の稼働が終了する毎に稼働させたりするように構成しても良い。

次に、第１のフラックス回収装置の作用を例に挙げて、図１及び図２を参照しながら説明する。まず、不活性ガス（雰囲気ガス）の流れについて説明する。上述したように、予備加熱室Ｄ３０−４内では、ファン８の回転により、室内で不活性ガスが循環している。この循環している不活性ガスは、循環往路６０へと導入され、フラックス回収装置７０へと送られる。フラックス回収装置７０の接続管８１からラジエータ部の筐体７１へ送り込まれた不活性ガスは、ラジエータ７２を通過することで冷却される。このとき、不活性ガス中に含まれる気化したフラックス成分は、冷却されることにより、液化又は結晶化される。液化したフラックス成分は、ラジエータ７２表面を伝わって貯蔵タンク７９へと落下し、結晶化したフラックス成分は、ラジエータ７２表面に付着する。

ラジエータ７２を通過した不活性ガスは、接続管８１を通ってフィルター部の筐体８２へと送られる。筐体８２内に送り込まれた不活性ガスは、図中下方へ進み、メッシュフィルター８３を通過する。このとき、不活性ガス中に含まれる粒子の大きなフラックス成分がメッシュフィルター８３によって濾されて回収される。筐体８２中を下方へ進んだ不活性ガスは、接続管８１を介して循環復路６１へ送られ、フラックス成分の回収された不活性ガスが、バッファゾーンＡ２０−１、予備加熱室Ｄ３０−４、バッファゾーンＢ２０−２へと戻される。これにより、炉内の気化したフラックス成分を回収して低減することができ、リフロー半田付け装置の性能低下を防止することができる。

次に、フラックス回収装置における洗浄システムの作用について説明する。循環ポンプ７７の作動により、洗浄液は洗浄液導入管７５を通ってラジエータ部及びフィルター部へと圧送される。ラジエータ部に送られた洗浄液は、ラジエータシャワーパイプ７８の孔からラジエータ７２へと噴射される。この噴射により、ラジエータ７２表面に固着している液化・結晶化したフラックス成分を洗い流すことができる。結晶化したフラックス成分が溶解しやすい洗浄液を使用すれば、より効率的にフラックス成分の回収を行うことができる。

溶解したフラックス成分を含む洗浄液は、ラジエータ７２から垂れて貯蔵タンク７９内に貯蔵される。貯蔵タンク７９内の洗浄液は、循環ポンプ７７の圧力により、図２に示す洗浄液導入管７５から循環ポンプ７７へと循環させられる。循環ポンプ７７の手前には、フィルター７６が設置されており、洗浄液中に含まれるフラックス成分の結晶が濾されて回収される。

また、フィルター部に圧送された洗浄液は、フィルターシャワーパイプ８４の孔からメッシュフィルター８３へと噴射される。この噴射により、メッシュフィルター８３に濾し取られて付着しているフラックス成分の結晶・液体が洗い流され、下面のメッシュ等を通って洗浄液と共に貯蔵タンク８６に落下して貯蔵される。上述したように、メッシュフィルター８３は、フィルター回転モータ８５により回転しており、棒状のシャワーパイプ８４であっても、メッシュフィルター８３全体を洗浄することが可能である。

貯蔵タンク８６と貯蔵タンク７９は、図２に示すように、洗浄液導入管７５によって連通しており、貯蔵タンク８６内の洗浄液も貯蔵タンク７９を介して、循環ポンプ７７へと循環される。

このように、本実施形態に係る洗浄システムによれば、結晶化してラジエータ７２やメッシュフィルター８３に付着したフラックス成分は、一部が溶解され、洗浄液中に溶けたり、噴射により剥がされたりして、回収されることになり、ラジエータ７２やメッシュフィルター８３の回収性能の劣化を防ぎ、フラックス回収装置７０による効率的な不活性ガス中のフラックス成分の除去が可能になる。なお、洗浄システムで使用される洗浄液は、ドレン排出プラグ８０，８７を開放して洗浄液を排出させて交換可能であり、洗浄液の性能を保つために定期的に交換することが望ましい。

第２のフラックス回収装置の作用については、ほぼ第１のフラックス回収装置と同様であるため、詳細な説明を省略する。第２のフラックス回収装置では、冷却室５０内の不活性ガスが循環往路６５を介してフラックス回収装置に送られ、フラックス回収装置においてフラックス成分の除去された不活性ガスが、循環復路６６を介して冷却室５０へと送り戻される点が異なるだけである。このように、冷却室５０と接続された第２のフラックス回収装置は、冷却室５０内の不活性ガスの温度を下げるための冷却手段として機能も果たしている。

以上、詳細に説明したように、本実施形態に係るフラックス回収装置は、ラジエータやフィルター部分を洗浄する洗浄システムを備えており、フラックス回収手段にフラックス成分の結晶等が付着して溜まることを防止できるので、炉内に含まれる気化したフラックス成分を効率良く回収することが可能であり、また、炉内に気化したフラックス成分が充満することを防止できる。

以上、第１及び第２の実施形態に基づいて、本発明について詳細に説明したが、本発明の実施形態は、これらに限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々の変形が可能である。

例えば、本実施形態においては、１つのフラックス回収装置内に、ラジエータ部とフィルター部との２つの回収手段を設けたが、どちらか一方だけを設置するようにしても良いし、３つ以上のフラックス回収手段を設けても良い。また、本実施形態では、空冷式のラジエータを用いたが水冷式のラジエータを用いても良い。また、フラックス回収手段としては、（フラックス回収手段としての他の例を挙げる）を用いても良い。

また、本実施形態においては、洗浄システムとして洗浄液を噴射する手段を用いたが、フラックス回収手段を洗浄液中に浸ける洗浄タンクを洗浄システムとして用いても良い。この場合、フラックス回収時には洗浄タンク内を空にしておき、洗浄時に洗浄タンク内に洗浄液で満たすようにしても良いし、洗浄時にフラックス回収手段を機械的に移動させて洗浄タンク内に浸けるように構成しても良い。さらに、洗浄液中に浸したフラックス回収手段を微振動させるように構成すれば、洗浄効率を上げることができる。

また、本実施形態のリフロー半田付け装置は、炉の室内の温度に悪影響を与えないように、加熱室用の第１のフラックス回収装置と、冷却室用の第２のフラックス回収装置を備えるが、室内の温度に悪影響を与えないように構成すれば、単一のフラックス回収装置だけでも良い。

また、本実施形態において、フラックス回収装置は、リフロー半田付け装置本体と別体に設けているが、リフロー半田付け装置本体内に一体に設けるように構成しても良い。本体内に一体に設ける場合には、結晶化してラジエータに付着したフラックス成分の清掃やフィルターの交換が容易に行えるような構造にするのが好ましい。

また、本実施形態においては、炉内を不活性ガスで充満した構成としているが、そのまま空気（大気）を用いても良い。本明細書で雰囲気ガスというときは、不活性ガス及び空気の双方を含む概念である。

図１は本実施形態に係るリフロー半田付け装置の構成を示す概略断面図である。 図２は、本実施形態に係るフラックス回収装置の構成を示す概略断面図である。

符号の説明

１ リフロー半田付け装置
３ 炉
６ チェーンコンベア
７ ヒータ
８ ファン
９ モータ
２０ バッファゾーン
３０ 予備加熱室
４０ 本加熱室
５０ 冷却室
６０，６５ 循環往路
６１，６６ 循環復路
７０ フラックス回収装置
７２ ラジエータ
７５ 洗浄液導入管
７６ フィルター
７７ 循環ポンプ
７８ ラジエータシャワーパイプ
７９，８６ 貯蔵タンク
８０，８７ ドレン排出プラグ
８３ メッシュフィルター
８４ フィルターシャワーパイプ
８５ フィルター回転モータ

Claims (9)

1. 加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、
   前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すための管路と、
   前記管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、
   フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするリフロー半田付け装置。
2. 前記管路は、前記炉内から前記フラックス回収手段へ雰囲気ガスを取り出すための循環往路と、前記フラックス回収手段から前記炉内へと雰囲気ガスを戻すための循環復路とを備えることを特徴とする請求項１記載のリフロー半田付け装置。
3. 前記炉は、前記加熱ゾーンを含む仕切られた複数のゾーンを有し、前記循環復路は、複数のゾーンに接続されていることを特徴とする請求項２記載のリフロー半田付け装置。
4. 前記炉は、入口及び出口に炉内と炉外との緩衝地帯として働くバッファゾーンを備えており、前記循環復路は、前記バッファゾーンに接続されていることを特徴とする請求項３記載のリフロー半田付け装置。
5. 前記炉は、前記加熱ゾーンに加えて冷却ゾーンを備えており、前記管路及び前記フラックス回収手段を、加熱ゾーン用及び冷却ゾーン用にそれぞれ備えていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のリフロー半田付け装置。
6. 前記洗浄手段は、洗浄液を循環させるための動力源と、前記フラックス回収手段に洗浄液を噴射するための噴射部材と、前記フラックス回収手段に噴射されて垂れてくる洗浄液を受け止めるための貯蔵タンクと、前記動力源、噴射部材及び貯蔵タンクを接続する管とを備える循環型の洗浄手段であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のリフロー半田付け装置。
7. 加熱ゾーンを含む炉と搬送手段とを有し、電子部品を搭載した基板を前記搬送手段により搬送しながら前記炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、
   前記炉内の雰囲気ガスを炉外に取り出すと共に前記炉内へと戻すための循環管路と、
   前記循環管路内に設置された冷却手段と、
   前記冷却手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするリフロー半田付け装置。
8. 電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置に対して、前記炉内で気化したフラックス成分を除去するためのフラックス回収装置であって、
   前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出すための管路を介して取り出された雰囲気ガス内に含まれるフラックス成分を除去するフラックス回収手段と、
   フラックス成分が付着した前記フラックス回収手段を洗浄液で洗浄する洗浄手段と、を備えることを特徴とするフラックス回収装置。
9. 電子部品を搭載した基板を搬送手段により搬送しながら炉内で加熱して半田付けするリフロー半田付け装置において、前記炉内で気化したフラックス成分を、フラックス回収手段を用いて除去するフラックス成分回収方法であって、
   前記炉内の雰囲気ガスを炉外へ取り出す工程と、
   前記フラックス回収手段を用いて前記室外へ取り出した雰囲気ガスからフラックス成分を除去する工程と、
   前記フラックス回収手段に付着したフラックス成分を、洗浄手段を用いて洗浄液で洗浄する工程と、を備えたことを特徴とするフラックス成分回収方法。

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