JP2006326760A - 基板の連続製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨液と研磨パッドを用いた基板の連続製造方法であって、標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液Aを用いた予備研磨により研磨パッドを処理し、次いで標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の0.01〜5体積%となる研磨液Bを用いた本研磨により基板の連続研磨を行う工程を有する。
【選択図】なし
Description
[1]研磨液と研磨パッドを用いた基板の連続製造方法であって、標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液Aを用いた予備研磨により研磨パッドを処理し、次いで標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の0.01〜5体積%となる研磨液Bを用いた本研磨により基板の連続研磨を行う工程を有する、基板の連続製造方法、
[2]標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液を研磨パッドに供給して5〜12kPaの研磨圧力で5〜120分間、基板を研磨して研磨パッドを処理する工程を有する研磨パッドの処理方法、及び
[3]標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液を供給して、5〜12kPaの研磨圧力で5〜120分間、基板を研磨処理して得られる研磨パッド
に関する。
本発明は、研磨液と研磨パッドを用いた基板の連続製造方法であって、標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液Aを用いた予備研磨により研磨パッドを処理し、次いで標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の0.01〜5体積%となる研磨液Bを用いた本研磨により基板の連続研磨を行う工程を有する、基板の連続製造方法に関する。かかる構成を有することにより、研磨パッド交換後の研磨速度の立ち上がりが早く、研磨パッドの寿命が長い、即ち研磨基板の生産性が高いという効果が得られる。
本発明における基板の連続製造方法とは、研磨液と研磨パッドを用いて連続的に基板を製造する方法であって、研磨パッド交換後初期の予備研磨に研磨液Aを使用して研磨パッドを研磨に適した状態に処理し、その後、本研磨に研磨液Bを使用して連続的に基板を研磨、製造する方法である。
研磨液Aは、研磨速度を向上させる効果を有する。そのメカニズムは明らかではないが、研磨廃液が沈降し易い、即ち、研磨材や研磨屑が凝集しやすい研磨液を用いることにより研磨パッドが適度に目詰まり、パッドと基板の接触面積が増加することにより研磨速度が向上しやすくなると推定される。
一方、研磨液Bは、被研磨物の表面品質を向上させ、研磨パッドの寿命を延ばす効果を有する。そのメカニズムは明らかではないが、研磨廃液が沈降しにくい、即ち研磨材や研磨屑が凝集しにくい研磨液を用いることにより、研磨パッドの過度の目詰まりが抑えられるため、被研磨基板の表面品質はよく、研磨パッドの寿命も延びると推定される。
したがって、研磨パッド交換後の初期に研磨液Aを用いて予備研磨することにより研磨パッドを処理して効果的に研磨速度を上げ、その後、本研磨に研磨液Bを用いて基板を研磨することにより、研磨パッドの寿命を延ばし、高い生産性で高品質の基板を製造できる。
本発明における予備研磨用の研磨液Aとは、後述の標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%である研磨液をいう。研磨パッド交換後初期の研磨速度向上効果を高める観点及び研磨パッドの極度の変性による弊害(例えば、研磨速度低下起因のパッドの短寿命化や、基板の上面及び下面の平坦度差等)を抑制する観点から、研磨液Aの標準試験による研磨廃液の上澄み層は、研磨廃液全体の10〜60体積%が好ましく、12〜60体積%がより好ましい。
本発明における本研磨用の研磨液Bとは、後述の標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の0.01〜5体積%である研磨液をいう。適度な研磨速度を維持し、研磨パッドの寿命を延ばす観点から、研磨液Bの標準試験による研磨廃液の上澄み層は、研磨廃液全体の0.01〜4体積%が好ましく、0.01〜3体積%がより好ましい。
標準試験は、次の方法で行う。即ち、以下の研磨条件で試験研磨液を研磨に供し、その研磨廃液を250ml容のサンプル管に約150ml採取し、均一になるように十分に振とう後、容量目盛りのついた100mlガラス製比色管(内径 20mm)に約100mlを入れる。これを密栓し、再度振とう後静置させ、2時間静置後、上澄み層と、砥粒及び研磨屑主体の沈降層との境界の目盛りを読み取る。その値から、研磨廃液全体積に対する上澄み層の体積%を算出する。
・研磨加工機:スピードファーム(株)製、9B型両面加工機
・研磨パッド:ポリテックス DG−H(ロデールニッタ社製)
スエードタイプ ポリウレタン系研磨パッド、平均気孔径:30μm
・定盤回転数:45r/min
・研磨圧力: 6.9 kPa
・研磨液供給量:100ml/min
・研磨時間: 4.5min
・被研磨基板:厚さ1.27mm、直径3.5インチのNi−Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板で、基板表面のうねりがZygo NewView5032で短波長うねり4±1nm、長波長うねり1.5±0.5nmである基板
・投入した基板枚数:10枚
・研磨環境温度:25℃
・研磨廃液の採取条件
研磨開始から、2.5分から4分の間の1.5分間の研磨廃液を採取する。
本発明において使用される研磨液は、少なくとも研磨材及び水を含む。
中間アルミナの場合、BET 法で測定された比表面積としては、好ましくは30〜300m2/g、より好ましくは50〜200m2/gである。
(態様1)研磨液A:凝集剤使用、研磨液B:凝集剤不使用。
かかる態様のように、本研磨に使用する研磨液Bに凝集剤を添加して予備研磨用の研磨液Aとして使用することにより、研磨パッド交換後初期の研磨速度の立ち上がり性を向上させることができ、本研磨では凝集剤を添加しないので表面品質を向上させると同時にパッドの長寿命化を実現できる。
(態様2)研磨液A:分散剤不使用、研磨液B:分散剤使用。
かかる態様のように、予備研磨用の研磨液Aに分散剤を添加して本研磨用の研磨液Bとして使用することにより、分散剤を使用しない予備研磨では研磨パッド交換後初期の研磨速度の立ち上がり性を向上させることができ、本研磨で表面品質を向上させると同時にパッドの長寿命化を実現できる。
(態様3)研磨液A:凝集剤使用、研磨液B:分散剤使用。
かかる態様のように、研磨液Aに凝集剤を使用し、研磨液Bに分散剤を用いる態様も可能である。
(態様4)研磨液A:凝集剤使用、研磨液B:凝集剤使用。
(態様5)研磨液A:分散剤使用、研磨液B:分散剤使用。
態様4又は5のように、ある研磨液に凝集剤(又は分散剤)を、濃度を異なるように添加して、研磨液A及び研磨液Bを調製することも可能である。
凝集剤の含有量は、下限はパッド使用初期の研磨速度向上の観点から、上限は研磨パッドの極度の変性による弊害(例えば、研磨速度低下起因のパッドの短寿命化や、基板の上面及び下面の平坦度差等)を抑制する観点及び経済性の観点から、0.01〜10重量%が好ましく、0.05〜7重量%がより好ましく、0.1〜5重量%がさらに好ましい。
分散剤の含有量は、下限は研磨パッドの極度の変性による弊害(例えば、研磨速度低下起因のパッドの短寿命化や、基板の上面及び下面の平坦度差等)の観点から、上限は研磨速度及び経済性の観点から、0.01〜5重量%が好ましく、0.01〜4重量%がより好ましく、0.02〜3重量%がさらに好ましい。
本発明に使用される研磨パッドとしては、研磨速度の向上及びうねり低減の観点から、スエードタイプが好ましい。ここで、スエードタイプとは少なくともベース層と発泡した表面層とを有する構造の研磨パッドをいう。ベース層の材質としてはポリエチレンテレフタレート等の高硬度樹脂が好ましい。また、表面層の材質としてはポリウレタン系樹脂が好ましい。更に、研磨パッドの平均気孔径は、研磨速度に関わる研磨液の保持性、排出性やうねり等の観点から、5〜70μmが好ましく、10〜60μmがより好ましく、15〜50μmがさらに好ましい。スエードパッドタイプの研磨パッドの例としては、例えば、特開平11−335979号公報、特開2001−62704号公報に記載のものなどが挙げられる。
本発明における被研磨基板としては、ハードディスク用基板が好適に用いられる。ハードディスク用基板としては、通常公知のものであれば特に限定はなく、例えば、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板、Ni−Pメッキされたガラス基板、アルミニウムディスク等の表面層に金属層を有する基板、カーボンディスク、ガラス基板等のガラス状の物質又はセラミック材料を有する基板、またそれらが複合された基板等を挙げることができる。その中でも、本製造方法の効果は、Ni−Pメッキされたアルミニウム合金基板、Ni−Pメッキされたガラス基板、アルミニウムディスク等の表面層に金属層を有する基板でより顕著に奏される。
本発明の基板の製造方法は、前記研磨液を用いて研磨する工程を有する。ここで研磨とは、研磨パッドを貼り付けた研磨定盤で基板を挟み込み、本発明に用いる研磨液を研磨面に供給し、圧力を加えながら研磨定盤や基板を動かすことにより行う。
予備研磨工程の研磨条件としては、上記の他には特に限定は無い。
前記の予備研磨条件で基板を研磨して研磨パッドを処理することにより、研磨パッドは研磨速度を向上しやすいように変性され得る。
従って、本発明はまた、研磨パッドの処理方法にも関する。
前記の研磨パッドの処理方法により、研磨速度を向上しやすいように変性された研磨パッドが提供される。従って本発明はまた、かかる処理をしてなる研磨パッドにも関する。
以下の方法及び条件に従って研磨及び評価を行った。結果を表2に示す。
1.研磨液の調製方法
表1に示す所定量の、α−アルミナ(一次粒子の平均粒径 0.23μm、2次粒子の平均粒径0.65μm、純度 約99.9%)、θ−アルミナ(2次粒子の平均粒径0.22μm、比表面積 110m2/g、純度 約99.9%、)、酸、添加剤、及びイオン交換水(残部)を混合、攪拌し、研磨液を得た。
特に述べない限り、予備研磨と本研磨は共通の条件である。
研磨加工機:スピードファーム(株)製、9B型両面加工機
研磨パッド:ポリテックス DG−H(ロデールニッタ社製)
スエードタイプ ポリウレタン系研磨パッド、平均気孔径:30μm
定盤回転数:45r/min
研磨圧力:予備研磨時 表2記載の通り
本研磨時 6.9kPa
研磨液供給量:100ml/min
基板1枚当りの研磨時間:5min
被研磨基板:厚さ1.27mm、直径3.5インチのNi−Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板で、基板表面のうねりがZygo NewView5032で短波長うねり3.4nm、長波長うねり1.3nmである基板
5分ごとに投入した基板枚数:10枚
研磨パッドの表面をKEYENCE社製「デジタルマイクロスコープVH−D8000(高倍率ズームレンズ「VH−Z450」)で450倍に拡大して観察し、深度合成処理を行い、画像をファイルに取り込む。次に、取り込んだ画像を用いてPCにて画像解析ソフト「WinROOF」(三谷商事)で気孔径を計測する。1つの気孔を楕円とみなした場合の長径と短径の平均値を気孔径とし、これを100個以上の気孔に対して行い、それらの平均値を平均気孔径とする。
研磨前の基板表面のうねりは下記の条件に従い測定した。
機器:Zygo NewView5032
レンズ:2.5倍 Micheison
ズーム比:0.5
リムーブ:Cylinder
フィルター:FFT Fixed Band Pass
短波長うねり:50〜500μm
長波長うねり:0.5〜5mm
エリア:4.33mm×5.77mm
一回に投入した10枚の基板について、研磨前後の各基板の重さを「BP-210S」(Sartorius 社製)を用いて量り、得られた各基板の重量変化を研磨時間で割って重量減少速度(g/min)とした。
重量減少速度(g/min)={研磨前の重量(g)−研磨後の重量(g)}/研磨時間(min)
前記10枚の平均値として求めた該重量減少速度を下記式に代入し、研磨速度(μm/min)に変換した。
研磨速度(μm/min)=重量減少速度(g/min)/基板片面面積(mm2)
/Ni-Pメッキ密度(g/cm3)×1000000
図1のように、研磨時間に対して研磨速度を経時で追跡し、安定研磨速度を100として、パッド交換初期から研磨速度が安定研磨速度の90%に到達した時点までの時間を立ち上げ時間とした。また、研磨速度が安定研磨速度の90%に到達した時点から、安定研磨速度期間を経て、研磨速度が安定研磨速度の90%を下回るまでの時間をパッド寿命とした。尚、研磨時間には基板取替え等の研磨以外の時間は含まない。
Claims (5)
- 研磨液と研磨パッドを用いた基板の連続製造方法であって、標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液Aを用いた予備研磨により研磨パッドを処理し、次いで標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の0.01〜5体積%となる研磨液Bを用いた本研磨により基板の連続研磨を行う工程を有する、基板の連続製造方法。
- 予備研磨を、5〜12kPaの研磨圧力で5〜120分間行う請求項1記載の基板の連続製造方法。
- 研磨液A及び研磨液Bが、その少なくとも一方に凝集剤又は分散剤を含有し、互いに凝集剤又は分散剤の濃度又は種類が異なる研磨液である請求項1又は2記載の基板の連続製造方法。
- 標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液を研磨パッドに供給して5〜12kPaの研磨圧力で5〜120分間、基板を研磨して研磨パッドを処理する工程を有する研磨パッドの処理方法。
- 標準試験による研磨廃液の上澄み層が研磨廃液全体の8〜60体積%となる研磨液を供給して、5〜12kPaの研磨圧力で5〜120分間、基板を研磨処理して得られる研磨パッド。
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