JP2006273803A

JP2006273803A - Method for producing conjugated unsaturated carbonyl compound

Info

Publication number: JP2006273803A
Application number: JP2005099369A
Authority: JP
Inventors: Yasutaka Ishii; 康敬石井; Kenji Kitayama; 健司北山; Hiroyoshi Yamaguchi; 博敬山口
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 2005-03-30
Filing date: 2005-03-30
Publication date: 2006-10-12

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound, with which the used amount of an imide compound catalyst having a phthalic acid-based skeleton is reduced without lowering the yield of the conjugated unsaturated carbonyl compound. <P>SOLUTION: An unsaturated compound containing a methylene group at the adjacent position of a carbon-carbon double bond is reacted with oxygen in the presence of a catalyst composed of an imide compound A represented by formula (1) [R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>, R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each a hydrogen atom, an alkyl group or the like; X is an oxygen atom or an -OR group (R is a hydrogen atom or a hydroxy-protecting group)] and an imide compound B condensed with an aromatic ring to give a conjugated unsaturated carbonyl compound in which an oxo group is introduced into the carbon atom of the methylene group. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は共役不飽和カルボニル化合物の製造法、より詳細には、複数種のイミド化合物の組み合わせからなる触媒の存在下で炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素により酸化して対応する共役不飽和カルボニル化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a process for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound, more specifically, an unsaturated compound having a methylene group adjacent to a carbon-carbon double bond in the presence of a catalyst comprising a combination of a plurality of imide compounds. The present invention relates to a method for producing a corresponding conjugated unsaturated carbonyl compound by oxidation.

共役不飽和カルボニル化合物は香料、医薬、農薬その他の精密化学品又はそれらの原料などとして有用である。例えば、セスキテルペンケトンの１種であるヌートカトンは、グレープフルーツの特徴的な香味を有する天然香料物質として知られている。しかしながら、この化合物は天然にはグレープフルーツ油成分中に１％以下しか含有されておらず入手が極めて困難である。 The conjugated unsaturated carbonyl compound is useful as a perfume, medicine, agricultural chemical, other fine chemicals, or raw materials thereof. For example, nootkaton, a kind of sesquiterpene ketone, is known as a natural fragrance material having the characteristic flavor of grapefruit. However, this compound is naturally difficult to obtain because it is contained in the grapefruit oil component in an amount of only 1% or less.

上記ヌートカトンの製造法として、柑橘精製油より単離した（＋）−バレンセンを四塩化炭素、酢酸及び無水酢酸の混合溶媒中、クロム酸ソーダやクロム酸ｔ−ブチルで酸化する方法が知られている。しかし、この方法は、毒性の高いクロム化合物を酸化剤として多量に用いる必要があるだけでなく、反応時間が長く生産効率が低いという問題がある。 As a method for producing the above Nootkaton, a method is known in which (+)-valencene isolated from citrus refined oil is oxidized with sodium chromate or t-butyl chromate in a mixed solvent of carbon tetrachloride, acetic acid and acetic anhydride. Yes. However, this method has a problem that not only a highly toxic chromium compound needs to be used in a large amount as an oxidizing agent, but also the reaction time is long and the production efficiency is low.

特公平２−１６７３９号公報には、バレンセンを、不活性有機溶媒中、周期律表第VIII族金属の有機酸塩又は錯体の存在下に、酸素又は酸素含有ガスで酸化することを特徴とするヌートカトンの製造法が開示されている。この方法は、酸素を酸化剤として用いるため工業的に有利であるが、反応に長時間を要するため、生産性が低い。 Japanese Examined Patent Publication No. 2-16739 discloses that valencene is oxidized with oxygen or an oxygen-containing gas in an inert organic solvent in the presence of an organic acid salt or complex of a group VIII metal of the periodic table. A method for producing Nootkaton is disclosed. This method is industrially advantageous because oxygen is used as an oxidizing agent, but the productivity is low because the reaction takes a long time.

特開昭６１−２３８７３３号公報には、バレンセンなどの少なくとも１個のアリル性水素原子を有するイソプレノイドを、不活性ケトン又はエステル中で、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物触媒の存在下、酸素により酸化してヒドロペルオキシドを生成させ、次いでこのヒドロペルオキシドを脱水させることによりヌートカトンなどの共役不飽和カルボニル化合物を製造する方法が提案されている。しかし、この方法は、２段階の反応を行わなければならず、しかも上記と同様、反応に長時間を要するという問題を有する。 JP-A-61-238733 discloses an isoprenoid having at least one allylic hydrogen atom, such as valencene, in an inert ketone or ester by oxygen in the presence of an imide compound catalyst such as N-hydroxyphthalimide. There has been proposed a method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound such as Nootkatone by oxidizing to form a hydroperoxide and then dehydrating the hydroperoxide. However, this method has a problem that a two-step reaction must be performed, and the reaction takes a long time as described above.

特開２００１−３５４６１１号公報には、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどのイミド化合物とｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素と反応させて、対応する共役不飽和カルボニル化合物を生成させる方法が開示されている。この文献の実施例では、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドとｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩とで構成された触媒の存在下、バレンセンと酸素とを反応させることにより、ヌートカトンを得ている。炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物はイミド化合物と反応して、イミド骨格を有する副生物が生成する。この副生成物は目的物の製品に混入しやすい。該副生成物の混入した目的物を加熱処理すれば、分解して目的物中から取り除くことが可能となる。しかし、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドを触媒として用いた場合には、フタル酸骨格を有する副生物が目的物の製品中に混入するおそれがあり、分解してもフタル酸骨格を有する化合物を廃棄することになる。フタル酸骨格を有する化合物を多量に廃棄することは自然環境の保護や安全性等の点から好ましくないため、さらに別の分解処理設備が必要となる。従って、共役不飽和カルボニル化合物を工業的に製造するに際し、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のフタル酸骨格を有する化合物の使用量を低減できる方法が求められていた。 JP 2001-354611 discloses a position adjacent to a carbon-carbon double bond in the presence of a catalyst composed of an imide compound such as N-hydroxyphthalimide and a cobalt (II) salt of an acid having a pKa of 8.0 or less. Discloses a method of reacting an unsaturated compound having a methylene group with oxygen to produce a corresponding conjugated unsaturated carbonyl compound. In the examples of this document, nootkatone is obtained by reacting valencene and oxygen in the presence of a catalyst composed of N-hydroxyphthalimide and a cobalt (II) salt of an acid having a pKa of 8.0 or less. The unsaturated compound having a carbon-carbon double bond reacts with the imide compound to produce a by-product having an imide skeleton. This by-product is likely to be mixed into the target product. If the target object mixed with the by-product is heat-treated, it can be decomposed and removed from the target object. However, when N-hydroxyphthalimide is used as a catalyst, a by-product having a phthalic acid skeleton may be mixed into the target product, and the compound having the phthalic acid skeleton is discarded even if decomposed. Become. Since it is not preferable to discard a large amount of the compound having a phthalic acid skeleton from the viewpoint of protection of the natural environment, safety, and the like, a separate decomposition treatment facility is required. Therefore, when manufacturing a conjugated unsaturated carbonyl compound industrially, the method which can reduce the usage-amount of the compound which has phthalic acid frame | skeletons, such as N-hydroxy phthalimide, was calculated | required.

特公平２−１６７３９号公報Japanese Patent Publication No. 2-16739 特開昭６１−２３８７３３号公報JP 61-238733 A 特開２００１−３５４６１１号公報JP 2001-354611 A

従って、本発明の目的は、共役不飽和カルボニル化合物の収率を低下させることなく、フタル酸系骨格を有するイミド化合物触媒の使用量を低減できる共役不飽和カルボニル化合物の製造法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound that can reduce the amount of an imide compound catalyst having a phthalic acid-based skeleton without reducing the yield of the conjugated unsaturated carbonyl compound. is there.

本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物と酸素とから共役不飽和カルボニル化合物を製造する方法において、触媒としてフタル酸系骨格を有するイミド化合物とコハク酸系骨格を有するイミド化合物とを組み合わせて用いると、目的物の収率を低下させることなく、フタル酸系骨格を有するイミド化合物触媒の使用量を低減できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventors have found that in a method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound from an unsaturated compound having a methylene group adjacent to a carbon-carbon double bond and oxygen, a catalyst When used in combination with an imide compound having a phthalic acid skeleton and an imide compound having a succinic acid skeleton, the amount of the imide compound catalyst having a phthalic acid skeleton is reduced without reducing the yield of the target product. The present invention has been completed by finding out what can be done.

すなわち、本発明は、下記式（１）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基又はハロゲン原子を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁴は、隣接する基同士が結合して式中に示されるＮ−置換環状イミド骨格を形成していてもよい。Ｘは酸素原子、又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］
で表されるイミド化合物Ａと、下記式（２）

［式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基又はハロゲン原子を示す。Ｒ⁵及びＲ⁷は、互いに結合して、隣接する２つの炭素原子とともに二重結合を形成していてもよい。また、Ｒ⁵〜Ｒ⁸のうち少なくとも２つが互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに非芳香族性の環を形成していてもよい。Ｘは酸素原子、又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］
で表されるイミド化合物Ｂとで構成された触媒の存在下、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造法を提供する。 That is, the present invention provides the following formula (1):

[Wherein, R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, a substituted oxycarbonyl group, an acyl group, or an acyloxy group. , A nitro group, a cyano group, an amino group or a halogen atom. R ^{1 to} R ⁴ may be bonded to each other to form an N-substituted cyclic imide skeleton represented by the formula. X represents an oxygen atom or -OR group (R represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group)]
Imide compound A represented by the following formula (2)

[Wherein R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R ⁸ are the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl group, haloalkyl group, cycloalkyl group, hydroxyl group, alkoxy group, carboxyl group, substituted oxycarbonyl group, acyl A group, an acyloxy group or a halogen atom; R ⁵ and R ⁷ may be bonded to each other to form a double bond with two adjacent carbon atoms. Further, at least two of R ^{5 to} R ⁸ may be bonded to each other to form a non-aromatic ring with adjacent one or two carbon atoms. X represents an oxygen atom or -OR group (R represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group)]
An unsaturated compound having a methylene group at the adjacent position of the carbon-carbon double bond is reacted with oxygen in the presence of a catalyst composed of an imide compound B represented by the formula: The present invention provides a process for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound that produces a corresponding conjugated unsaturated carbonyl compound into which is introduced.

前記イミド化合物Ａとイミド化合物Ｂとの割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝５／９５〜９５／５の範囲である。 The ratio of the imide compound A and the imide compound B is, for example, in the range of the former / the latter (molar ratio) = 5/95 to 95/5.

上記製造法において、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物には、環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物が含まれる。また、この製造法の１つの態様では、バレンセンを酸素と反応させてヌートカトンを生成させる。 In the above production method, the unsaturated compound having a methylene group adjacent to the carbon-carbon double bond includes a monocyclic or polycyclic compound having a carbon-carbon double bond in the ring. In one embodiment of this production method, valencene is reacted with oxygen to produce nootkatone.

この製造法では、さらに金属化合物の存在下で、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物と酸素との反応を行うのが好ましい。 In this production method, it is preferable that the unsaturated compound having a methylene group adjacent to the carbon-carbon double bond is reacted with oxygen in the presence of a metal compound.

なお、本明細書において、「炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物」を単に「基質」と称する場合がある。 In this specification, “an unsaturated compound having a methylene group adjacent to a carbon-carbon double bond” may be simply referred to as “substrate”.

本発明の方法によれば、目的物である共役不飽和カルボニル化合物の収率を低下させることなく、フタル酸系骨格を有するイミド化合物触媒の使用量を低減できる。 According to the method of the present invention, the amount of the imide compound catalyst having a phthalic acid skeleton can be reduced without reducing the yield of the target conjugated unsaturated carbonyl compound.

［基質］
本発明では、基質として炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を用いる。このような化合物には、環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は多環式不飽和化合物及び鎖状不飽和化合物が含まれる。なお、前記メチレン基は、炭素原子に少なくとも２つの水素原子が結合した基を意味し、メチル基も含まれるものとする。 [Substrate]
In the present invention, an unsaturated compound having a methylene group adjacent to the carbon-carbon double bond is used as a substrate. Such compounds include monocyclic or polycyclic unsaturated compounds and chain unsaturated compounds having a carbon-carbon double bond in the ring. The methylene group means a group in which at least two hydrogen atoms are bonded to a carbon atom, and includes a methyl group.

環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は多環式不飽和化合物には、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロヘキセン、イソホロン、シクロヘプテン、シクロドデカエン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン等のシクロアルケン類のほか、リモネン、α−テルピネン、β−テルピネン、γ−テルピネン、テルピノレン、１−ｐ−メンテン、３−ｐ−メンテン、ｃｉｓ−カルベオール、ｔｒａｎｓ−カルベオール、ジヒドロミルセン等のテルペン類などの単環式化合物；α−ピネン、α−セドレン、バレンセン、イソロンギホレン等のテルペン類、コレステロール、コレステロールエステル等のステロイド類などの多環式化合物が含まれる。 Examples of monocyclic or polycyclic unsaturated compounds having a carbon-carbon double bond in the ring include, for example, cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclooctene, cyclohexene, isophorone, cycloheptene, cyclododecaene, cyclopentadiene, 1,3 In addition to cycloalkenes such as cyclohexadiene and 1,5-cyclooctadiene, limonene, α-terpinene, β-terpinene, γ-terpinene, terpinolene, 1-p-mentene, 3-p-mentene, cis-carbeool , Terpenes such as terpenes such as trans-carveol and dihydromyrcene; terpenes such as α-pinene, α-cedrene, valencene and isolongifolene, and polycyclic compounds such as steroids such as cholesterol and cholesterol ester included.

前記鎖状不飽和化合物としては、例えば、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、イソプレン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、１，５−ヘキサジエン、１−オクテン、２−オクテン、３−オクテン、１−ノネン、２−ノネン、デカエン、ドデカエン、ウンデカトリエン等のアルケン類のほか、ゲラニオール、ゲラニオールエステル、シトロネロール、シトロネロールエステル、ネロール、ネロールエステル、リナロオール、リナロオールエステル、シトラール、シトラールエステル、シトロネラール、シトロネラールエステル等のテルペン類などが例示できる。 Examples of the chain unsaturated compound include propylene, 1-butene, 2-butene, 1-pentene, isoprene, 1-hexene, 2-hexene, 1,5-hexadiene, 1-octene, 2-octene, 3 -Alkenes such as octene, 1-nonene, 2-nonene, decaene, dodecaene, undecatriene, geraniol, geraniol ester, citronellol, citronellol ester, nerol, nerol ester, linarool, linarool ester, citral, citral Examples include terpenes such as esters, citronellal esters, and citronellal esters.

これらの化合物は、種々の置換基、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チオ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基など）、アラルキル基、複素環基などを有していてもよい。また、上記化合物において光学異性体等の異性体が存在する場合、原料として何れか１つの異性体を用いてもよく、複数の異性体の混合物を用いてもよい。 These compounds have various substituents such as halogen atoms, oxo groups, hydroxyl groups, mercapto groups, substituted oxy groups (eg, alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups), substituted thio groups, carboxyl groups, substituted Oxycarbonyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted amino group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group (for example, phenyl, naphthyl group) Etc.), an aralkyl group, a heterocyclic group, and the like. Further, when an isomer such as an optical isomer exists in the above compound, any one isomer may be used as a raw material, or a mixture of a plurality of isomers may be used.

上記の化合物の中でも環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物が好ましい。また、反応生成物の有用性等の点からはバレンセンなどのテルペン類やステロイド類等のイソプレノイドに属する化合物が好ましい。 Among the above compounds, monocyclic or polycyclic compounds having a carbon-carbon double bond in the ring are preferable. From the viewpoint of the usefulness of the reaction product, terpenes such as valencene and compounds belonging to isoprenoids such as steroids are preferred.

なお、イミド化合物を触媒として用いる反応では、反応原料中に酸化阻害物質が含まれていると、該酸化阻害物質がイミド化合物の触媒能を低下させることがある。これを防止するため、反応原料（基質）を酸化処理、カラムクロマトグラフィー処理等の前処理を施した後に反応に付すのが好ましい。酸化処理及び／又はカラムクロマトグラフィー処理と、蒸留、吸着等の他の前処理とを組み合わせてもよい。 In the reaction using an imide compound as a catalyst, if the oxidation inhibitor is contained in the reaction raw material, the oxidation inhibitor may reduce the catalytic ability of the imide compound. In order to prevent this, it is preferable to subject the reaction raw material (substrate) to a reaction after pretreatment such as oxidation treatment and column chromatography treatment. The oxidation treatment and / or column chromatography treatment may be combined with other pretreatment such as distillation and adsorption.

酸化阻害物質の代表的な例として、例えば、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエン、ミルセン、１−エチリデン−２−メチル−２−（４−メチル−１，３−ペンタジエニル）シクロヘキサン、１−エチリデン−３−メチル−３−（４−メチル−１，３−ペンタジエニル）シクロヘキサン、１−エチリデン−４−メチル−４−（４−メチル−１，３−ペンタジエニル）シクロヘキサンなどの共役ジエン類；ビタミンＤ₂、ビタミンＤ₃、α−カロチン、ビタミンＡなどの共役ポリエン；系中で共役ジエンに異性化可能な化合物（１，４−ジエンなど）；チモール、ハイドロキノン、レゾルシノールなどのフェノール類；ビタミンＣなどのジエンやフェノール類以外の還元性物質などが挙げられる。このような酸化阻害物質は、天然由来の化合物、例えばテルペン類などに多く含まれていることが多い。 Representative examples of the oxidation inhibitor include, for example, butadiene, isoprene, cyclopentadiene, myrcene, 1-ethylidene-2-methyl-2- (4-methyl-1,3-pentadienyl) cyclohexane, 1-ethylidene-3- Conjugated dienes such as methyl-3- (4-methyl-1,3-pentadienyl) cyclohexane and 1-ethylidene-4-methyl-4- (4-methyl-1,3-pentadienyl) cyclohexane; vitamin D ₂ , vitamin Conjugated polyenes such as D ₃ , α-carotene and vitamin A; compounds isomerizable to conjugated dienes in the system (such as 1,4-diene); phenols such as thymol, hydroquinone and resorcinol; Examples include reducing substances other than phenols. Such oxidation inhibitors are often contained in naturally occurring compounds such as terpenes.

酸化処理及びカラムクロマトグラフィー処理については、特開２００３−３２１４１３号公報に記載の方法を参照できる。前処理を施した基質は、そのまま特に分離精製することなく、又は必要に応じて濾過等の適宜な処理（分離精製処理等）を施した後、イミド化合物を触媒として用いる反応に供される。基質中の酸化阻害物質（例えば、ジエン類、フェノール類）の含有量は、その種類によっても異なるが、１０００重量ｐｐｍ以下が好ましく、特に５００重量ｐｐｍ以下が好ましい。 For the oxidation treatment and the column chromatography treatment, the method described in JP-A No. 2003-321413 can be referred to. The pretreated substrate is subjected to a reaction using the imide compound as a catalyst without being subjected to separation / purification as it is or after being subjected to an appropriate treatment (separation / purification treatment, etc.) such as filtration as necessary. The content of oxidation-inhibiting substances (for example, dienes and phenols) in the substrate varies depending on the type, but is preferably 1000 ppm by weight or less, and particularly preferably 500 ppm by weight or less.

［イミド化合物］
本発明の重要な特徴は、触媒として、前記式（１）で表されるイミド化合物Ａ（フタル酸系骨格を有するイミド化合物）と、前記式（２）で表されるイミド化合物Ｂ（コハク酸系骨格を有するイミド化合物）とを組み合わせて用いる点にある。 [Imide compound]
An important feature of the present invention is that, as a catalyst, an imide compound A represented by the above formula (1) (an imide compound having a phthalic acid skeleton) and an imide compound B represented by the above formula (2) (succinic acid). And an imide compound having a system skeleton).

式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基又はハロゲン原子を示す。Ｒ¹〜Ｒ⁴は、隣接する基同士が結合して式中に示されるＮ−置換環状イミド骨格を形成していてもよい。Ｘは酸素原子、又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。式（１）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二重結合である。前記イミド化合物Ａは、Ｘが−ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護基である場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合していてもよい。 In the formula (1), R ¹ , R ² , R ³ and R ⁴ are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, a substituted oxycarbonyl group, an acyl group, An acyloxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group or a halogen atom is shown. R ^{1 to} R ⁴ may be bonded to each other to form an N-substituted cyclic imide skeleton represented by the formula. X represents an oxygen atom or —OR group (R represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group). In the formula (1), the bond between the nitrogen atom and X is a single bond or a double bond. In the imide compound A, when X is an —OR group and R is a hydroxyl protecting group, a plurality of N-substituted cyclic imide skeletons excluding R (N-oxycyclic imide skeleton) It may be connected via.

式（１）中、Ｒで示されるヒドロキシル基の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシル基の保護基を用いることができる。このような保護基として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブチル基などのＣ_1-4アルキル基など）、アルケニル基（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロモベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基など）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエチル、２，２，２−トリクロロエチル、２−メトキシエチル基など）、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒドロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニルメチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイル、ステアロイル基などのＣ_1-20脂肪族アシル基等の脂肪族飽和又は不飽和アシル基；アセトアセチル基；シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル基などのシクロアルカンカルボニル基等の脂環式アシル基；ベンゾイル、ナフトイル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ_1-4アルコキシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノチオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。 In the formula (1), as the hydroxyl-protecting group represented by R, a hydroxyl-protecting group commonly used in the field of organic synthesis can be used. Examples of such protecting groups include alkyl groups (eg, C _1-4 alkyl groups such as methyl and t-butyl groups), alkenyl groups (eg, allyl groups), cycloalkyl groups (eg, cyclohexyl groups, etc.) ), Aryl groups (eg, 2,4-dinitrophenyl group, etc.), aralkyl groups (eg, benzyl, 2,6-dichlorobenzyl, 3-bromobenzyl, 2-nitrobenzyl, triphenylmethyl groups, etc.); substituted methyl Groups such as methoxymethyl, methylthiomethyl, benzyloxymethyl, t-butoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, 2,2,2-trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxy Methyl group), substituted ethyl group (for example, 1-ethoxyethyl, 1-methyl) -1-methoxyethyl, 1-isopropoxyethyl, 2,2,2-trichloroethyl, 2-methoxyethyl group, etc.), tetrahydropyranyl group, tetrahydrofuranyl group, 1-hydroxyalkyl group (for example, 1-hydroxyethyl group) A group capable of forming an acetal or hemiacetal group with a hydroxyl group such as 1-hydroxyhexyl, 1-hydroxydecyl, 1-hydroxyhexadecyl, 1-hydroxy-1-phenylmethyl group, etc .; an acyl group (for example, Aliphatic saturated or unsaturated such as C _1-20 aliphatic acyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl, hexanoyl, heptanoyl, octanoyl, nonanoyl, decanoyl, lauroyl, myristoyl, palmitoyl, stearoyl groups A Acetoacetyl group; alicyclic acyl group such as cycloalkanecarbonyl group such as cyclopentanecarbonyl and cyclohexanecarbonyl group; aromatic acyl group such as benzoyl and naphthoyl group), sulfonyl group (methanesulfonyl, ethanesulfonyl, Trifluoromethanesulfonyl, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, naphthalenesulfonyl groups, etc.), alkoxycarbonyl groups (for example, C _1-4 alkoxy-carbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl groups, etc.), aralkyloxy Carbonyl group (for example, benzyloxycarbonyl group, p-methoxybenzyloxycarbonyl group, etc.), substituted or unsubstituted carbamoyl group (for example, carbamoyl, methylcarbamoyl, phenyl) Rubamoyl group), inorganic acid (sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, boric acid, etc.), OH group removed, dialkylphosphinothioyl group (for example, dimethylphosphinothioyl group, etc.), diarylphosphinothioyl Group (for example, diphenylphosphinothioyl group), substituted silyl group (for example, trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, tribenzylsilyl, triphenylsilyl group, etc.) and the like.

また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スクシニル、グルタリル、アジポイル、フタロイル、イソフタロイル、テレフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。 In the case where X is an —OR group, when a plurality of N-substituted cyclic imide skeletons excluding R (N-oxycyclic imide skeleton) are bonded via R, as R, for example, Polycarboxylic acid acyl groups such as oxalyl, malonyl, succinyl, glutaryl, adipoyl, phthaloyl, isophthaloyl, terephthaloyl groups; carbonyl groups; polyvalent carbons such as methylene, ethylidene, isopropylidene, cyclopentylidene, cyclohexylidene, benzylidene groups Examples thereof include a hydrogen group (particularly, a group that forms an acetal bond with two hydroxyl groups).

好ましいＲには、例えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水分解により脱離可能な加水分解性保護基などが含まれる。 Preferable R includes, for example, a hydrogen atom; a group capable of forming an acetal or hemiacetal group with a hydroxyl group; an OH group is removed from an acid such as carboxylic acid, sulfonic acid, carbonic acid, carbamic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or boric acid. Hydrolyzable protecting groups that can be removed by hydrolysis of the group (acyl group, sulfonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, etc.).

前記式（１）において、Ｒ¹〜Ｒ⁴におけるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル基などの炭素数１〜１０（好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４）程度の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。ハロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜６（好ましくは１〜４）程度のハロアルキル基が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜１０（好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４）程度のアルコキシ基が挙げられる。 In the formula (1), examples of the alkyl group in R ^{1 to} R ⁴ include ^{1 to} C carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, hexyl, and decyl groups. A linear or branched alkyl group of about 10 (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4) may be mentioned. Examples of the haloalkyl group include haloalkyl groups having about 1 to 6 (preferably 1 to 4) carbon atoms such as a trifluoromethyl group. Examples of the alkoxy group include alkoxy groups having about 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4) such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, and hexyloxy groups. It is done.

置換オキシカルボニル基には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル基などのＣ_1-30アルコキシ−カルボニル基（特に、Ｃ_1-20アルコキシ−カルボニル基）；シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル基などのシクロアルキルオキシカルボニル基（特に、３〜２０員シクロアルキルオキシカルボニル基）；フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル基などのアリールオキシカルボニル基（特に、Ｃ_6-20アリールオキシ−カルボニル基）；ベンジルオキシカルボニル基などのアラルキルオキシカルボニル基（特に、Ｃ_7-21アラルキルオキシ−カルボニル基）などが挙げられる。 Substituted oxycarbonyl groups include, for example, C _1-30 alkoxy-carbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, decyloxycarbonyl, hexadecyloxycarbonyl groups, etc. (Especially C _1-20 alkoxy-carbonyl group); cycloalkyloxycarbonyl group such as cyclopentyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl group (especially 3-20 membered cycloalkyloxycarbonyl group); phenyloxycarbonyl, naphthyloxycarbonyl group aryloxycarbonyl group such as (in particular, C _6-20 aryloxy - carbonyl group); aralkyloxycarbonyl group such as benzyloxycarbonyl group (particularly, C _7-21 Ala Kiruokishi - carbonyl group).

アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイル、ステアロイル基などのＣ_1-30脂肪族アシル基（特に、Ｃ_1-20脂肪族アシル基）等の脂肪族飽和又は不飽和アシル基；アセトアセチル基；シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル基などのシクロアルカンカルボニル基等の脂環式アシル基；ベンゾイル、ナフトイル基などの芳香族アシル基などが例示できる。 Examples of the acyl group include C _1-30 aliphatic acyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl, hexanoyl, octanoyl, decanoyl, lauroyl, myristoyl, palmitoyl, stearoyl groups (particularly, C ₁ Aliphatic saturated or unsaturated acyl groups such as _-20 aliphatic acyl groups; acetoacetyl groups; alicyclic acyl groups such as cycloalkanecarbonyl groups such as cyclopentanecarbonyl and cyclohexanecarbonyl groups; aromatics such as benzoyl and naphthoyl groups Group acyl groups and the like.

アシルオキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、デカノイルオキシ、ラウロイルオキシ、ミリストイルオキシ、パルミトイルオキシ、ステアロイルオキシ基などのＣ_1-30脂肪族アシルオキシ基（特に、Ｃ_1-20脂肪族アシルオキシ基）等の脂肪族飽和又は不飽和アシルオキシ基；アセトアセチルオキシ基；シクロペンタンカルボニルオキシ、シクロヘキサンカルボニルオキシ基などのシクロアルカンカルボニルオキシ基等の脂環式アシルオキシ基；ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ基などの芳香族アシルオキシ基などが例示できる。ハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素およびフッ素原子が含まれる。 Examples of the acyloxy group include formyloxy, acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, valeryloxy, pivaloyloxy, hexanoyloxy, octanoyloxy, decanoyloxy, lauroyloxy, myristoyloxy, palmitoyloxy, stearoyloxy Aliphatic saturated or unsaturated acyloxy groups such as C _1-30 aliphatic acyloxy groups (particularly C _1-20 aliphatic acyloxy groups); acetoacetyloxy groups; cyclopentanecarbonyloxy, cyclohexanecarbonyloxy groups, etc. Examples thereof include alicyclic acyloxy groups such as cycloalkanecarbonyloxy group; aromatic acyloxy groups such as benzoyloxy and naphthoyloxy groups. Halogen atoms include iodine, bromine, chlorine and fluorine atoms.

式（１）で表されるイミド化合物Ａの代表的な例として、例えば、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド（Ｎ−ヒドロキシフタルイミド）、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸ジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−メトキシカルボニルフタル酸イミド、４−エトキシカルボニル−Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−ペンチルオキシカルボニルフタル酸イミド、４−ドデシルオキシ−Ｎ−ヒドロキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−フェノキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４，５−ビス（メトキシカルボニル）フタル酸イミド、４，５−ビス（エトキシカルボニル）−Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４，５−ビス（ペンチルオキシカルボニル）フタル酸イミド、４，５−ビス（ドデシルオキシカルボニル）−Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４，５−ビス（フェノキシカルボニル）フタル酸イミドなどの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；これらの化合物に対応する、Ｒがアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオキシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチルオキシ）フタル酸イミド、Ｎ−テトラヒドロピラニルオキシフタル酸イミドなどの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオキシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）フタル酸イミドなどの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲがスルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又はホウ酸エステルなどの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸からＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。 As typical examples of the imide compound A represented by the formula (1), for example, N-hydroxyphthalimide (N-hydroxyphthalimide), N-hydroxytetrabromophthalimide, N-hydroxytetrachlorophthalimide N-hydroxytrimellitic acid imide, N, N′-dihydroxypyromellitic acid diimide, N, N′-dihydroxynaphthalenetetracarboxylic acid diimide, N-hydroxy-4-methoxycarbonylphthalic acid imide, 4-ethoxycarbonyl-N -Hydroxyphthalimide, N-hydroxy-4-pentyloxycarbonylphthalimide, 4-dodecyloxy-N-hydroxycarbonylphthalimide, N-hydroxy-4-phenoxycarbonylphthalimide, N-hydroxy-4, 5-bis (methoxy Rubonyl) phthalimide, 4,5-bis (ethoxycarbonyl) -N-hydroxyphthalimide, N-hydroxy-4,5-bis (pentyloxycarbonyl) phthalimide, 4,5-bis (dodecyloxycarbonyl) ) -N-hydroxyphthalimide, N-hydroxy-4,5-bis (phenoxycarbonyl) phthalimide, etc., wherein X is an -OR group and R is a hydrogen atom; these compounds R is an acyl group such as acetyl, propionyl, benzoyl, etc .; N-methoxymethyloxyphthalimide, N- (2-methoxyethoxymethyloxy) phthalimide, N-tetrahydropyranyl X in the formula (1) such as oxyphthalimide is an —OR group and R is a hydroxyl group A compound which is a group capable of forming a settal or hemiacetal bond; X in the formula (1) such as N-methanesulfonyloxyphthalimide, N- (p-toluenesulfonyloxy) phthalimide and the like is an -OR group and R Is a sulfonyl group; N-hydroxyphthalimide sulfate, nitrate, phosphate, borate, etc., in formula (1), X is an —OR group and R is an inorganic acid from which an OH group is removed. A compound which is a selected group.

前記式（２）中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基又はハロゲン原子を示す。Ｒ⁵及びＲ⁷は、互いに結合して、隣接する２つの炭素原子とともに二重結合を形成していてもよい。また、Ｒ⁵〜Ｒ⁸のうち少なくとも２つが互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに非芳香族性の環を形成していてもよい。Ｘは酸素原子、又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。式（２）において、窒素原子とＸとの結合は単結合又は二重結合である。前記イミド化合物Ｂは、Ｘが−ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護基である場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合していてもよい。 In the above formula (2), R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R ⁸ are the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, or a substituted oxycarbonyl. A group, an acyl group, an acyloxy group or a halogen atom; R ⁵ and R ⁷ may be bonded to each other to form a double bond with two adjacent carbon atoms. Further, at least two of R ^{5 to} R ⁸ may be bonded to each other to form a non-aromatic ring with adjacent one or two carbon atoms. X represents an oxygen atom or —OR group (R represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group). In the formula (2), the bond between the nitrogen atom and X is a single bond or a double bond. In the imide compound B, when X is an —OR group and R is a hydroxyl protecting group, a plurality of N-substituted cyclic imide skeletons excluding R (N-oxycyclic imide skeleton) It may be connected via.

式（２）中、Ｒで示されるヒドロキシル基の保護基としては前記と同様である。また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場合のＲも前記と同様である。さらに、好ましいＲも式（１）の場合と同じである。 In formula (2), the protecting group for the hydroxyl group represented by R is the same as described above. In the case where X is an —OR group, R in the case where a plurality of N-substituted cyclic imide skeletons excluding R (N-oxycyclic imide skeleton) are bonded via R is the same as described above. is there. Furthermore, preferable R is also the same as in the case of the formula (1).

Ｒ⁵〜Ｒ⁸におけるアルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子は、Ｒ¹〜Ｒ⁴におけるアルキル基等と同様である。Ｒ⁵〜Ｒ⁸におけるシクロアルキル基には、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが含まれる。Ｒ⁵〜Ｒ⁸のうち少なくとも２つが互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに形成する非芳香族性の環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環などのシクロアルカン環；シクロヘキセン環などのシクロアルケン環；ノルボルナン環、ノルボルネン環、７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプタン環などの橋架け環などが挙げられる。 The alkyl group, haloalkyl group, alkoxy group, substituted oxycarbonyl group, acyl group, acyloxy group, and halogen atom in R ^{5 to} R ⁸ are the same as the alkyl group in R ^{1 to} R ⁴ . The cycloalkyl group in R ^{5 to} R ⁸ includes cyclopentyl, cyclohexyl group and the like. Non-aromatic rings formed by combining at least two of R ^{5 to} R ⁸ together with adjacent one or two carbon atoms include, for example, cycloalkane rings such as cyclopentane ring and cyclohexane ring; cyclohexene A cycloalkene ring such as a ring; a bridged ring such as a norbornane ring, a norbornene ring, and a 7-oxabicyclo [2.2.1] heptane ring.

式（２）で表されるイミド化合物Ｂの代表的な例として、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（Ｎ−ヒドロキシコハクイミド）、Ｎ−ヒドロキシ−α−メチルコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，α−ジメチルコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，β−ジメチルコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，α，β，β−テトラメチルコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキサンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−ヒドロキシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミド、α，β−ジアセトキシ−Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，β−ビス（プロピオニルオキシ）コハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，β−ビス（バレリルオキシ）コハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，β−ビス（ラウロイルオキシ）コハク酸イミド、α，β−ビス（ベンゾイルオキシ）−Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドなどの式（２）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；これらの化合物に対応する、Ｒがアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオキシコハク酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチルオキシ）コハク酸イミド、Ｎ−テトラヒドロピラニルオキシコハク酸イミドなどの式（２）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオキシコハク酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）コハク酸イミドなどの式（２）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲがスルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又はホウ酸エステルなどの式（２）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸からＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。 As typical examples of the imide compound B represented by the formula (2), for example, N-hydroxysuccinimide (N-hydroxysuccinimide), N-hydroxy-α-methylsuccinimide, N-hydroxy-α, α-dimethyl succinimide, N-hydroxy-α, β-dimethyl succinimide, N-hydroxy-α, α, β, β-tetramethyl succinimide, N-hydroxymaleimide, N-hydroxyhexahydro Phthalic acid imide, N, N′-dihydroxycyclohexanetetracarboxylic acid diimide, N-hydroxyhetic acid imide, N-hydroxyhymic acid imide, α, β-diacetoxy-N-hydroxysuccinimide, N-hydroxy-α, β-bis (propionyloxy) succinimide, N-hydroxy-α, β-bis (valeryl ester) X) in formula (2) such as succinimide, N-hydroxy-α, β-bis (lauroyloxy) succinimide, α, β-bis (benzoyloxy) -N-hydroxysuccinimide is —OR Compounds wherein R is a hydrogen atom; compounds corresponding to these compounds, wherein R is an acyl group such as an acetyl group, a propionyl group or a benzoyl group; N-methoxymethyloxysuccinimide, N- (2- Methoxyethoxymethyloxy) succinimide, N-tetrahydropyranyloxysuccinimide, etc., wherein X is an —OR group and R is a group capable of forming an acetal or hemiacetal bond with a hydroxyl group Formulas such as N-methanesulfonyloxysuccinimide, N- (p-toluenesulfonyloxy) succinimide, etc. Compound in which X in (2) is an —OR group and R is a sulfonyl group; X in Formula (2) such as sulfate, nitrate, phosphate or borate of N-hydroxysuccinimide is —OR And a compound in which R is a group obtained by removing an OH group from an inorganic acid.

前記イミド化合物Ａ、イミド化合物Ｂのうち、Ｘが−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イミド化合物）は、慣用のイミド化反応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経てイミド化する方法により得ることができる。また、前記イミド化合物Ａ、イミド化合物Ｂのうち、Ｘが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所望の保護基を導入することにより調製することができる。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより得ることができる。また、これ以外の方法で製造することも可能である。 Among the imide compound A and imide compound B, a compound in which X is an —OR group and R is a hydrogen atom (N-hydroxy cyclic imide compound) is a conventional imidization reaction, for example, a corresponding acid anhydride and hydroxyl group. It can be obtained by a method of reacting with an amine and imidizing via ring opening and ring closing of an acid anhydride group. Of the imide compound A and the imide compound B, a compound in which X is an —OR group and R is a hydroxyl-protecting group is a compound in which the corresponding R is a hydrogen atom (N-hydroxy cyclic imide compound). It can be prepared by introducing a desired protecting group using a conventional protecting group introduction reaction. For example, N-acetoxyphthalimide can be obtained by reacting N-hydroxyphthalimide with acetic anhydride or reacting acetyl halide in the presence of a base. It is also possible to manufacture by other methods.

前記イミド化合物は反応系内で生成させてもよい。また、イミド化合物は担体に担持した形態で用いてもよい。担体としては、活性炭、ゼオライト、シリカ、シリカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質担体を用い場合が多い。 The imide compound may be generated in the reaction system. The imide compound may be used in a form supported on a carrier. As the carrier, porous carriers such as activated carbon, zeolite, silica, silica-alumina and bentonite are often used.

イミド化合物Ａとイミド化合物Ｂとの割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝５／９５〜９５／５、好ましくは１０／９０〜９０／１０、さらに好ましくは２０／８０〜８０／２０であり、特に好ましいのは３０／７０〜７０／３０の範囲である。イミド化合物Ａとイミド化合物Ｂとを組み合わせることにより、触媒活性を低下させることなく、フタル酸骨格を有するイミド化合物Ａの使用量を低減できる。なお、イミド化合物Ｂのみを触媒として用いた場合には目的の共役不飽和カルボニル化合物の収率が著しく低下する。また、イミド化合物Ａと、６員の環状イミド系化合物であるＮ−ヒドロキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドや、環状アシルウレア系化合物であるＮ，Ｎ′，Ｎ″−トリヒドロキシシアヌル酸とを組み合わせた場合には、触媒活性が著しく低下する。 The ratio of the imide compound A and the imide compound B is, for example, the former / the latter (molar ratio) = 5/95 to 95/5, preferably 10/90 to 90/10, more preferably 20/80 to 80/20. Particularly preferred is a range of 30/70 to 70/30. By combining the imide compound A and the imide compound B, the amount of the imide compound A having a phthalic acid skeleton can be reduced without reducing the catalytic activity. In addition, when only the imide compound B is used as a catalyst, the yield of the target conjugated unsaturated carbonyl compound falls remarkably. Further, imide compound A, N-hydroxy-1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide that is a 6-membered cyclic imide compound, and N, N ′, N ″ -trihydroxycyanuric acid that is a cyclic acylurea compound are used. When combined, the catalytic activity is significantly reduced.

前記イミド化合物Ａ及びＢの総使用量は、広い範囲で選択でき、例えば、基質１モルに対して０．００００００１〜１モル、好ましくは０．０００００１〜０．５モル、さらに好ましくは０．００００１〜０．４モル程度であり、０．０００１〜０．３５モル程度である場合が多い。 The total amount of the imide compounds A and B can be selected within a wide range. For example, 0.0000001 to 1 mol, preferably 0.000001 to 0.5 mol, more preferably 0.00001, relative to 1 mol of the substrate. It is about -0.4 mol, and is often about 0.0001-0.35 mol.

［助触媒］
反応においては、前記イミド化合物Ａ及びＢとともに助触媒を用いることもできる。助触媒として金属化合物が挙げられる。前記イミド化合物Ａ及びＢと金属化合物とを併用することにより反応速度や反応の選択性を向上させることができる。 [Cocatalyst]
In the reaction, a co-catalyst can be used together with the imide compounds A and B. Examples of the cocatalyst include metal compounds. By using the imide compounds A and B in combination with a metal compound, the reaction rate and the selectivity of the reaction can be improved.

金属化合物を構成する金属元素としては、特に限定されないが、周期表１〜１５族の金属元素を用いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属元素に含まれるものとする。好ましい金属元素には、遷移金属元素（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、とりわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。また、遷移金属元素と周期表１族又は２族元素との併用により活性が向上する場合がある。金属元素の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度である。 Although it does not specifically limit as a metal element which comprises a metal compound, The periodic table 1-15 group metal element is used in many cases. In this specification, boron B is also included in the metal element. Preferred metal elements include transition metal elements (periodic group 3-12 elements). Among them, periodic table group 5-11 elements, particularly group 5-9 elements are preferable, and V, Mo, Mn, Co and the like are particularly preferable. Moreover, activity may be improved by using a transition metal element in combination with a periodic table group 1 or group 2 element. The valence of the metal element is not particularly limited, and is about 0 to 6, for example.

金属化合物としては、前記金属元素の単体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、炭酸塩など）、イソポリ酸又はその塩、ヘテロポリ酸又はその塩などの無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成する配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原子、Ｈ₂Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合物、ＮＨ₃（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ₂（ニトロ）、ＮＯ₃（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合物などが挙げられる。 Examples of the metal compound include simple substances, hydroxides, oxides (including composite oxides), halides (fluorides, chlorides, bromides, iodides), oxo acid salts (eg, nitrates, sulfates) of the above metal elements. , Phosphates, borates, carbonates, etc.), inorganic compounds such as isopolyacids or salts thereof, heteropolyacids or salts thereof; organic acid salts (eg acetates, propionates, cyanates, naphthenates, Stearates and the like) and organic compounds such as complexes. The ligands constituting the complex include OH (hydroxo), alkoxy (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), acyl (acetyl, propionyl, etc.), alkoxycarbonyl (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), acetylacetonato , Cyclopentadienyl group, halogen atom (chlorine, bromine, etc.), CO, CN, oxygen atom, H ₂ O (aquo), phosphine (triarylphosphine such as triphenylphosphine), phosphorus compound, NH ₃ (ammine) ), NO, NO ₂ (nitro), NO ₃ (nitrato), nitrogen-containing compounds such as ethylenediamine, diethylenetriamine, pyridine and phenanthroline.

金属化合物の具体例としては、例えば、コバルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コバルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトなどの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウムなどの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合物としては、前記コバルト化合物、バナジウム化合物に対応する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。特に、コバルト化合物とマンガン化合物とを組み合わせると反応速度が著しく向上することが多い。また、価数の異なる複数の金属化合物（例えば、２価の金属化合物と３価の金属化合物）を組み合わせて用いるのも好ましい。 Specific examples of the metal compound include, for example, a cobalt compound, inorganic compounds such as cobalt hydroxide, cobalt oxide, cobalt chloride, cobalt bromide, cobalt nitrate, cobalt sulfate, and cobalt phosphate; cobalt acetate, naphthene Examples thereof include organic acid salts such as cobalt acid and cobalt stearate; divalent or trivalent cobalt compounds such as complexes such as cobalt acetylacetonate. Examples of vanadium compounds include inorganic compounds such as vanadium hydroxide, vanadium oxide, vanadium chloride, vanadyl chloride, vanadium sulfate, vanadyl sulfate, and sodium vanadate; complexes such as vanadium acetylacetonate and vanadylacetylacetonate Examples thereof include divalent to pentavalent vanadium compounds. Examples of other metal element compounds include compounds corresponding to the cobalt compounds and vanadium compounds. A metal compound can be used individually or in combination of 2 or more types. In particular, when a cobalt compound and a manganese compound are combined, the reaction rate is often significantly improved. It is also preferable to use a combination of a plurality of metal compounds having different valences (for example, a divalent metal compound and a trivalent metal compound).

特に、金属化合物として、ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩を少なくとも用いると、温和な条件で目的の共役不飽和カルボニル化合物を高い収率及び選択率で得ることができる。ｐＫａ８．０以下の酸には、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、２−エチルヘキサン酸、ステアリン酸、ナフテン酸、乳酸、シュウ酸、安息香酸などのカルボン酸や、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸；塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、リン酸、ホウ酸や、リンモリブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸等のヘテロポリ酸などの無機酸が含まれる。 In particular, when at least a cobalt (II) salt of an acid having a pKa of 8.0 or less is used as the metal compound, the target conjugated unsaturated carbonyl compound can be obtained in high yield and selectivity under mild conditions. Acids having a pKa of 8.0 or less include, for example, formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, chloroacetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, hexanoic acid, 2-ethylhexanoic acid, stearic acid, naphthenic acid, lactic acid, oxalic acid, Organic acids such as carboxylic acids such as benzoic acid, sulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid; hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, carbonic acid Inorganic acids such as phosphoric acid, boric acid, and heteropolyacids such as phosphomolybdic acid, phosphotungstic acid, and silicotungstic acid.

代表的なｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩として、例えば、酢酸コバルト（II）、プロピオン酸コバルト（II）、ステアリン酸コバルト（II）、ナフテン酸コバルト（II）、メタンスルホン酸コバルト（II）、ｐ−トルエンスルホン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの有機酸塩；塩化コバルト（II）、硫酸コバルト（II）、硝酸コバルト（II）、リン酸コバルト（II）、リンモリブデン酸コバルト（II）などの２価のコバルトの無機酸塩などが挙げられる。これらのコバルト（II）塩の中でも、２価のコバルトの有機酸塩が好ましく、特に酢酸コバルト（II）などの２価のコバルトのカルボン酸塩が好ましい。前記コバルト（II）塩のｐＫａは、好ましくは６．０以下（例えば、−１２〜６．０）、さらに好ましくは０〜６．０程度である。前記ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。 Typical cobalt (II) salts of acids with a pKa of 8.0 or less include, for example, cobalt (II) acetate, cobalt (II) propionate, cobalt (II) stearate, cobalt (II) naphthenate, cobalt methanesulfonate (II), an organic acid salt of divalent cobalt such as cobalt (II) p-toluenesulfonate; cobalt (II) chloride, cobalt (II) sulfate, cobalt (II) nitrate, cobalt (II) phosphate, phosphorus Examples thereof include inorganic salts of divalent cobalt such as cobalt (II) molybdate. Among these cobalt (II) salts, a divalent cobalt organic acid salt is preferable, and a divalent cobalt carboxylate such as cobalt (II) acetate is particularly preferable. The pKa of the cobalt (II) salt is preferably 6.0 or less (for example, -12 to 6.0), more preferably about 0 to 6.0. The cobalt (II) salts of acids having a pKa of 8.0 or less can be used alone or in combination of two or more.

ｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩は、必ずしもそのものを系内に添加する必要はなく、系内で生成させて使用してもよい。例えば、ｐＫａが８．０を超える酸のコバルト（II）塩（若しくは錯体）［例えば、コバルト（II）アセチルアセトナトなど］や、その他の２価のコバルト化合物［例えば、酸化コバルト（II）など］と、ｐＫａ８．０以下の酸（例えば、酢酸など）とを系内で共存させることによりｐＫａ８．０以下の酸のコバルト（II）塩を生成させることができる。 The cobalt (II) salt of an acid having a pKa of 8.0 or less is not necessarily added to the system, and may be used after being generated in the system. For example, a cobalt (II) salt (or complex) of an acid having a pKa of greater than 8.0 [for example, cobalt (II) acetylacetonate, etc.] or other divalent cobalt compounds [for example, cobalt (II) oxide, etc. ] And an acid having a pKa of 8.0 or less (for example, acetic acid or the like) can coexist in the system to produce a cobalt (II) salt of an acid having a pKa of 8.0 or less.

前記金属化合物の使用量は、例えば、前記イミド化合物Ａ及びＢの総量１モルに対して、０．０００１〜１０モル、好ましくは０．００５〜３モル程度である。また、金属化合物の使用量は、基質１モルに対して、例えば０．００００１モル％〜７０モル％、好ましくは０．０１モル％〜５０モル％程度である。 The usage-amount of the said metal compound is 0.0001-10 mol with respect to 1 mol of total amounts of the said imide compounds A and B, for example, Preferably it is about 0.005-3 mol. Moreover, the usage-amount of a metal compound is 0.00001 mol%-70 mol% with respect to 1 mol of substrates, Preferably it is about 0.01 mol%-50 mol%.

また、助触媒として、少なくとも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンターイオンとで構成された有機塩が用いられることもある。助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度や反応の選択性を向上させることができる。 In addition, an organic salt composed of a polyatomic cation or polyatomic anion containing a group 15 or 16 element of the periodic table to which at least one organic group is bonded may be used as a cocatalyst and a counter ion. By using the organic salt as a cocatalyst, the reaction rate and the selectivity of the reaction can be improved.

前記有機塩において、周期表１５族元素には、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ましい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げられ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。前記元素の原子に結合する有機基には、置換基を有していてもよい炭化水素基（脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基など）、置換オキシ基（アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など）などが含まれる。 In the organic salt, Group 15 elements of the periodic table include N, P, As, Sb, and Bi. Periodic table group 16 elements include O, S, Se, Te and the like. Preferable elements include N, P, As, Sb, and S, and N, P, and S are particularly preferable. The organic group bonded to the atom of the element includes an optionally substituted hydrocarbon group (an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, etc.), a substituted oxy group ( Alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, etc.).

前記有機塩の代表的な例として、有機アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩などの有機オニウム塩が挙げられる。また、前記有機塩には、メタンスルホン酸塩、ドデカンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例えば、Ｃ_6-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよいアリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ_6-18アルキル−アリールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イオン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交換体）なども含まれる。 Representative examples of the organic salt include organic onium salts such as organic ammonium salts, organic phosphonium salts, and organic sulfonium salts. Examples of the organic salt include alkyl sulfonates such as methanesulfonate and dodecanesulfonate (for example, C _6-18 alkylsulfonate); benzenesulfonate, p-toluenesulfonate, naphthalenesulfone. Aryl sulfonates (eg, C _6-18 alkyl-aryl sulfonates) _optionally substituted with alkyl groups such as acid salts; sulfonic acid type ion exchange resins (ion exchangers); phosphonic acid type ion exchange resins (Ion exchanger) and the like are also included.

前記有機塩の使用量は、例えば、前記イミド化合物Ａ及びＢの総量１モルに対して、０．００１〜０．１モル程度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度である。 The amount of the organic salt used is, for example, about 0.001 to 0.1 mol, preferably about 0.005 to 0.08 mol, per 1 mol of the total amount of the imide compounds A and B.

また、助触媒として、強酸（例えば、ｐＫａ２（２５℃）以下の化合物）が使用されることもある。好ましい強酸には、例えば、ハロゲン化水素、ハロゲン化水素酸、硫酸、ヘテロポリ酸などが含まれる。強酸の使用量は、前記イミド化合物Ａ及びＢの総量１モルに対して、例えば０．００１〜３モル程度である。 A strong acid (for example, a compound having a pKa2 (25 ° C.) or lower) may be used as a cocatalyst. Preferred strong acids include, for example, hydrogen halides, hydrohalic acids, sulfuric acids, heteropoly acids and the like. The amount of the strong acid used is, for example, about 0.001 to 3 mol with respect to 1 mol of the total amount of the imide compounds A and B.

さらに、助触媒として、電子吸引基が結合したカルボニル基を有する化合物が用いられる場合もある。電子吸引基が結合したカルボニル基を有する化合物の代表的な例として、ヘキサフルオロアセトン、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロフェニルケトン、ペンタフルオロフェニルケトン、安息香酸などが挙げられる。この化合物の使用量は、基質１モルに対して、例えば０．０００１〜３モル程度である。 Furthermore, a compound having a carbonyl group to which an electron withdrawing group is bonded may be used as a cocatalyst. Typical examples of the compound having a carbonyl group to which an electron withdrawing group is bonded include hexafluoroacetone, trifluoroacetic acid, pentafluorophenyl ketone, pentafluorophenyl ketone, and benzoic acid. The amount of the compound used is, for example, about 0.0001 to 3 mol with respect to 1 mol of the substrate.

また、反応系内にラジカル発生剤やラジカル反応促進剤を存在させることもある。このような成分として、例えば、ハロゲン（塩素、臭素など）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸など）、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシドなど）、硝酸又は亜硝酸若しくはそれらの塩、二酸化窒素、ベンズアルデヒド等のアルデヒドなどが挙げられる。これらの成分を系内に存在させると、反応が促進される場合がある。前記成分の使用量は、前記イミド化合物Ａ及びＢの総量１モルに対して、例えば０．００１〜３モル程度である。 In addition, a radical generator or a radical reaction accelerator may be present in the reaction system. Examples of such components include hydrous such as halogen (chlorine, bromine, etc.), peracid (peracetic acid, m-chloroperbenzoic acid, etc.), peroxide (hydrogen peroxide, t-butyl hydroperoxide (TBHP), etc. Peroxide), nitric acid or nitrous acid or salts thereof, nitrogen dioxide, aldehydes such as benzaldehyde, and the like. When these components are present in the system, the reaction may be accelerated. The usage-amount of the said component is about 0.001-3 mol with respect to 1 mol of total amounts of the said imide compounds A and B, for example.

［酸素］
酸化に利用される酸素としては分子状酸素を使用できる。分子状酸素は純粋な酸素を用いてもよく、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈した酸素や空気を用いることもできる。酸素の使用量は、基質１モルに対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、好ましくは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０モル程度である。基質に対して過剰モルの酸素を使用する場合が多い。 [oxygen]
Molecular oxygen can be used as oxygen utilized for oxidation. As molecular oxygen, pure oxygen may be used, or oxygen or air diluted with an inert gas such as nitrogen, helium, argon, carbon dioxide, or the like may be used. The amount of oxygen used is 0.5 mol or more (for example, 1 mol or more), preferably 1 to 100 mol, more preferably about 2 to 50 mol, relative to 1 mol of the substrate. Often an excess of oxygen is used relative to the substrate.

［反応］
反応は溶媒の存在下又は非存在下で行われる。溶媒としては、基質の種類等に応じて適宜選択でき、例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールなどのアルコール類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；ベンゼンなどの芳香族炭化水素；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；水；及びこれらの混合溶媒などを使用できる。溶媒として、酢酸などの有機酸、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリル類、クロロベンゼンやトリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素等を用いる場合が多い。 [reaction]
The reaction is carried out in the presence or absence of a solvent. The solvent can be appropriately selected depending on the type of substrate, for example, organic acids such as acetic acid and propionic acid; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; formamide, acetamide, dimethylformamide (DMF), dimethyl Amides such as acetamide; alcohols such as t-butanol and t-amyl alcohol; aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane; aromatic hydrocarbons such as benzene; chloroform, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene, di Halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and trifluoromethylbenzene; nitro compounds such as nitrobenzene, nitromethane and nitroethane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; diethyl ether and diisopropyl ether Ethers; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; water; and and mixtures of these solvents can be used. As the solvent, organic acids such as acetic acid, nitriles such as acetonitrile and benzonitrile, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and trifluoromethylbenzene are often used.

反応温度は、基質の種類等に応じて、例えば０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃、さらに好ましくは１０〜８０℃程度の範囲から適宜選択できる。本発明の方法では、１０〜６０℃程度の室温に近い温度であっても、反応が円滑に進行し、短時間で目的化合物を得ることができる。反応圧力は、常圧、加圧下の何れであってもよい。 The reaction temperature can be appropriately selected from the range of, for example, 0 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C., and more preferably about 10 to 80 ° C., depending on the type of substrate. In the method of the present invention, the reaction proceeds smoothly even at a temperature close to room temperature of about 10 to 60 ° C., and the target compound can be obtained in a short time. The reaction pressure may be normal pressure or under pressure.

反応は、酸素の存在下又は酸素の流通下、回分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行うことができる。なお、前記イミド化合物Ａ及びＢを、反応開始時に一括して添加するのではなく、逐次的に（連続的又は間欠的に）系内に添加すると、原料不飽和化合物のメチレン基の炭素原子にヒドロキシル基が導入されたアルコール（反応中間体）の副生が抑制され、より高い収率で目的の共役不飽和カルボニル化合物を得ることができる。 The reaction can be carried out by a conventional method such as a batch system, a semi-batch system, or a continuous system in the presence of oxygen or in the circulation of oxygen. When the imide compounds A and B are not added all at once at the start of the reaction but sequentially (continuously or intermittently) in the system, the imide compounds A and B are added to the carbon atom of the methylene group of the raw material unsaturated compound. By-production of alcohol (reaction intermediate) into which a hydroxyl group has been introduced is suppressed, and the desired conjugated unsaturated carbonyl compound can be obtained in higher yield.

なお、基質や目的化合物が末端二重結合等の非芳香族性炭素−炭素二重結合を有していると、前記イミド化合物Ａ、Ｂが、基質や目的化合物の非芳香族性炭素−炭素二重結合と反応する副反応が生じて、イミド化合物触媒と基質や目的化合物とが結合することにより、反応系の触媒や基質の有効量が減少し、また生成した目的化合物も前記触媒との反応により減少し、目的化合物の収率が低下する場合がある。このような場合には、安価でイミド化合物触媒との反応性が相対的に高いオレフィン系化合物を反応系に添加して反応するのが好ましい。例えば、基質としてバレンセンを用いてヌートカトンを製造する場合、前記オレフィン系化合物としてリモネンなどの末端に炭素−炭素二重結合を有する脂肪族オレフィン系化合物等を用いると、イミド化合物触媒はバレンセンやヌートカトンよりも上記オレフィン系化合物と反応しやすく、バレンセンの有効量の低下を抑制するとともに、生成したヌートカトンとイミド化合物触媒との反応を抑制することができ、ヌートカトンの収率を高めることができる。 In addition, when the substrate or the target compound has a non-aromatic carbon-carbon double bond such as a terminal double bond, the imide compounds A and B are non-aromatic carbon-carbon of the substrate or the target compound. A side reaction that reacts with the double bond occurs, and the imide compound catalyst and the substrate or target compound bind to each other, so that the effective amount of the catalyst or substrate in the reaction system decreases, and the generated target compound also interacts with the catalyst. It may decrease due to the reaction, and the yield of the target compound may decrease. In such a case, it is preferable to react by adding an olefin compound that is inexpensive and has a relatively high reactivity with the imide compound catalyst to the reaction system. For example, when producing nootkatone using valencene as a substrate, if an aliphatic olefinic compound having a carbon-carbon double bond at the end, such as limonene, is used as the olefinic compound, the imide compound catalyst is obtained from valencene or nootkatone. It is easy to react with the said olefinic compound, and while suppressing the fall of the effective amount of valencene, it can suppress the reaction with the produced nootkatone and an imide compound catalyst, and can raise the yield of nootkatone.

反応終了後、反応生成物は、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組み合わせにより分離精製できる。 After completion of the reaction, the reaction product can be separated and purified by separation means such as filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, adsorption, column chromatography, or a combination thereof.

基質及び／又は目的化合物が、触媒として用いたイミド化合物と反応した副生物が生成する場合には、該副生成物を加熱により分解させた後、適当な分離手段により目的化合物を反応系から分離してもよい。前記副生成物の加熱分解の方法については、特開２００４−３５４６０号公報に記載されている事項を参照できる。また、ヌートカトンを製造する場合において、前記副生成物の加熱分解後の分離精製法については、特開２００４−１２３５６１号公報に記載されている事項を参照できる。 When a by-product is produced in which the substrate and / or the target compound reacts with the imide compound used as the catalyst, the by-product is decomposed by heating, and then the target compound is separated from the reaction system by an appropriate separation means. May be. Regarding the method of thermal decomposition of the by-product, reference can be made to the matters described in JP-A-2004-35460. Moreover, when manufacturing a nootkaton, the matter described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-123561 can be referred to for the separation and purification method after the thermal decomposition of the by-product.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

参考例１
フラスコに、下記式（３）で表されるバレンセン１０ミリモル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモル、コバルト（III）アセチルアセトナト０．２ミリモル、酢酸コバルト（II）４水塩０．１ミリモル、硝酸コバルト（II）６水塩０．１ミリモル、及びアセトニトリル１０ｍｌを入れ、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、３５℃で３時間撹拌した。反応混合物をガスクロマトグラフィー（ＧＣ）で分析したところ、下記式（４）で表されるヌートカトンが収率５５％、下記式（５）で表されるヌートカトールが収率１６％で生成していた。バレンセンの転化率は８８％であった。

Reference example 1
In the flask, 10 mmol of valencene represented by the following formula (3), 1 mmol of N-hydroxyphthalimide, 0.2 mmol of cobalt (III) acetylacetonate, 0.1 mmol of cobalt acetate (II) tetrahydrate, cobalt nitrate (II) 0.1 mmol of hexahydrate and 10 ml of acetonitrile were added and stirred at 35 ° C. for 3 hours in an oxygen atmosphere (1 atm = 0.101 MPa). When the reaction mixture was analyzed by gas chromatography (GC), it was found that nootkatone represented by the following formula (4) was produced at a yield of 55% and nootkatole represented by the following formula (5) was produced at a yield of 16%. It was. The conversion of valencene was 88%.

参考例２
Ｎ−ヒドロキシフタルイミドの使用量を０．５ミリモルとした以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンが収率４１％、ヌートカトールが収率１３％で生成していた。バレンセンの転化率は８０％であった。 Reference example 2
The reaction was performed in the same manner as in Reference Example 1 except that the amount of N-hydroxyphthalimide used was 0.5 mmol. The reaction mixture was analyzed by GC. As a result, nootkatone was produced in a yield of 41% and nootkatol was produced in a yield of 13%. The conversion rate of valencene was 80%.

実施例１
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．５ミリモルとＮ−ヒドロキシコハクイミド０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンが収率５２％、ヌートカトールが収率１５％で生成していた。バレンセンの転化率は９０％であった。Ｎ−ヒドロキシコハクイミドを用いることにより、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドの量を半分にしても同等の反応成績が得られた。 Example 1
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N-hydroxyphthalimide and 0.5 mmol of N-hydroxysuccinimide were used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. The reaction mixture was analyzed by GC. As a result, nootkatone was produced in a yield of 52% and nootkatol was produced in a yield of 15%. The conversion rate of valencene was 90%. By using N-hydroxysuccinimide, equivalent reaction results were obtained even if the amount of N-hydroxyphthalimide was halved.

実施例２
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．５ミリモル及びＮ−ヒドロキシコハクイミド０．５ミリモルのうち、その半量（Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．２５ミリモル、Ｎ−ヒドロキシコハクイミド０．２５ミリモル）は反応開始時に系内に添加し、残りの半量（Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．２５ミリモル、Ｎ−ヒドロキシコハクイミド０．２５ミリモル）は反応開始１時間後に系内に添加したこと以外は実施例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンが収率５６％、ヌートカトールが収率１４％で生成していた。バレンセンの転化率は９３％であった。 Example 2
Of 0.5 mmol of N-hydroxyphthalimide and 0.5 mmol of N-hydroxysuccinimide, half of the amount (0.25 mmol of N-hydroxyphthalimide, 0.25 mmol of N-hydroxysuccinimide) was introduced into the system at the start of the reaction. The other half amount (N-hydroxyphthalimide 0.25 mmol, N-hydroxysuccinimide 0.25 mmol) was added to the system 1 hour after the start of the reaction, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1. . The reaction mixture was analyzed by GC. As a result, nootkatone was produced in a yield of 56% and nootkatol was produced in a yield of 14%. The conversion of valencene was 93%.

実施例３
酢酸コバルト（II）４水塩の使用量を０．２ミリモルとしたこと以外は実施例２と同様に反応を行った。その結果、ヌートカトンが収率５８％、ヌートカトールが収率１３％で生成していた。バレンセンの転化率は９４％であった。 Example 3
The reaction was carried out in the same manner as in Example 2 except that the amount of cobalt acetate (II) tetrahydrate used was 0.2 mmol. As a result, nootkaton was produced at a yield of 58% and nootkatol was produced at a yield of 13%. The conversion rate of valencene was 94%.

比較例１
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ−ヒドロキシコハクイミド０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンの収率は０％であり、ヌートカトールが収率１％で生成していた。バレンセンの転化率は３％であった。 Comparative Example 1
The reaction was performed in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N-hydroxysuccinimide was used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. When the reaction mixture was analyzed by GC, the yield of nootkatone was 0%, and nootkatol was formed in a yield of 1%. The conversion of valencene was 3%.

比較例２
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトン及びヌートカトールの収率は何れも０％であった。バレンセンの転化率は１％であった。 Comparative Example 2
The reaction was conducted in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N-hydroxy-1,8-naphthalenedicarboxylic imide was used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. When the reaction mixture was analyzed by GC, the yields of nootkatone and nootkatol were both 0%. The conversion rate of valencene was 1%.

比較例３
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．５ミリモルとＮ−ヒドロキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンが収率１％、ヌートカトールが収率２％で生成していた。バレンセンの転化率は３％であった。 Comparative Example 3
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N-hydroxyphthalimide and 0.5 mmol of N-hydroxy-1,8-naphthalenedicarboxylic imide were used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. . When the reaction mixture was analyzed by GC, it was found that nootkatone was produced in a yield of 1% and nootkatol was produced in a yield of 2%. The conversion of valencene was 3%.

比較例４
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″−トリヒドロキシシアヌル酸０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンの収率は０％であり、ヌートカトールが収率１％で生成していた。バレンセンの転化率は２％であった。 Comparative Example 4
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N, N ′, N ″ -trihydroxycyanuric acid was used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. The reaction mixture was analyzed by GC. The yield of nootkaton was 0%, and nootkatol was produced in a yield of 1%, and the conversion of valencene was 2%.

比較例５
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１ミリモルの代わりに、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．５ミリモルとＮ，Ｎ′，Ｎ″−トリヒドロキシシアヌル酸０．５ミリモルを用いた以外は参考例１と同様に反応を行った。反応混合物をＧＣで分析したところ、ヌートカトンの収率は０％であり、ヌートカトールが収率１％で生成していた。バレンセンの転化率は２％であった。
Comparative Example 5
The reaction was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that 0.5 mmol of N-hydroxyphthalimide and 0.5 mmol of N, N ′, N ″ -trihydroxycyanuric acid were used instead of 1 mmol of N-hydroxyphthalimide. When the reaction mixture was analyzed by GC, the yield of nootkatone was 0%, and nootkatol was produced in a yield of 1%, and the conversion of valencene was 2%.

Claims

下記式（１）

［式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基又はハロゲン原子を示す。Ｒ⁵及びＲ⁷は、互いに結合して、隣接する２つの炭素原子とともに二重結合を形成していてもよい。また、Ｒ⁵〜Ｒ⁸のうち少なくとも２つが互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに非芳香族性の環を形成していてもよい。Ｘは酸素原子、又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］
で表されるイミド化合物Ｂとで構成された触媒の存在下、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物を酸素と反応させて、該メチレン基の炭素原子にオキソ基が導入された対応する共役不飽和カルボニル化合物を生成させる共役不飽和カルボニル化合物の製造法。 Following formula (1)

[Wherein R ⁵ , R ⁶ , R ⁷ and R ⁸ are the same or different and each represents a hydrogen atom, alkyl group, haloalkyl group, cycloalkyl group, hydroxyl group, alkoxy group, carboxyl group, substituted oxycarbonyl group, acyl A group, an acyloxy group or a halogen atom; R ⁵ and R ⁷ may be bonded to each other to form a double bond with two adjacent carbon atoms. Further, at least two of R ^{5 to} R ⁸ may be bonded to each other to form a non-aromatic ring with adjacent one or two carbon atoms. X represents an oxygen atom or -OR group (R represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group)]
An unsaturated compound having a methylene group at the adjacent position of the carbon-carbon double bond is reacted with oxygen in the presence of a catalyst composed of an imide compound B represented by the formula: A process for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound in which a corresponding conjugated unsaturated carbonyl compound is introduced.

イミド化合物Ａとイミド化合物Ｂとの割合が、前者／後者（モル比）＝５／９５〜９５／５の範囲である請求項１記載の共役不飽和カルボニル化合物の製造法。 The method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound according to claim 1, wherein the ratio of the imide compound A to the imide compound B is in the range of the former / the latter (molar ratio) = 5/95 to 95/5.

炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物が、環に炭素−炭素二重結合を有する単環又は多環式化合物である請求項１記載の共役不飽和カルボニル化合物の製造法。 The conjugated unsaturated carbonyl compound according to claim 1, wherein the unsaturated compound having a methylene group adjacent to the carbon-carbon double bond is a monocyclic or polycyclic compound having a carbon-carbon double bond in the ring. Law.

バレンセンを酸素と反応させてヌートカトンを生成させる請求項１記載の共役不飽和カルボニル化合物の製造法。 The method for producing a conjugated unsaturated carbonyl compound according to claim 1, wherein valencene is reacted with oxygen to produce nootkatone.

さらに金属化合物の存在下で、炭素−炭素二重結合の隣接位にメチレン基を有する不飽和化合物と酸素との反応を行う請求項１〜４の何れかの項に記載の共役不飽和カルボニル化合物の製造法。
The conjugated unsaturated carbonyl compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the unsaturated compound having a methylene group at the position adjacent to the carbon-carbon double bond is further reacted with oxygen in the presence of a metal compound. Manufacturing method.