JP2006253320A - コイル部品 - Google Patents
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Abstract
【課題】 磁性構造体とコイル部との接着性を向上させることができるコイル部品を提供する。
【解決手段】 コイル部品1は、上フェライトコア2及び下フェライトコア3からなるコア構造体4と、コア構造体4の内部に配設されたコイル部10とを備えている。コイル部10は、絶縁基板11の両面に形成されたコイル導体12を有している。コイル部10は、エポキシ系樹脂等の接着樹脂18により上フェライトコア2及び下フェライトコア3と接着一体化されている。上フェライトコア2の内面には酸化膜19が形成され、下フェライトコア3の内面には酸化膜20が形成されている。これにより、コイル部10とフェライトコア2,3とは、酸化膜19,20を介して接着されることになる。酸化膜19,20は、アルミナまたはSiO2等の酸化シリコンからなっている。
【選択図】 図5
【解決手段】 コイル部品1は、上フェライトコア2及び下フェライトコア3からなるコア構造体4と、コア構造体4の内部に配設されたコイル部10とを備えている。コイル部10は、絶縁基板11の両面に形成されたコイル導体12を有している。コイル部10は、エポキシ系樹脂等の接着樹脂18により上フェライトコア2及び下フェライトコア3と接着一体化されている。上フェライトコア2の内面には酸化膜19が形成され、下フェライトコア3の内面には酸化膜20が形成されている。これにより、コイル部10とフェライトコア2,3とは、酸化膜19,20を介して接着されることになる。酸化膜19,20は、アルミナまたはSiO2等の酸化シリコンからなっている。
【選択図】 図5
Description
本発明は、例えば民生用機器や産業用機器等の電気製品に幅広く利用されるコイル部品に関するものである。
従来のコイル部品としては、例えば特許文献1に記載されているように、T型フェライトコアとコの字型T型フェライトコアとからなるコア構造体と、このコア構造体の内部に配設されたコイル部とを有し、エポキシ系樹脂等によりコア構造体とコイル部とを接着したものが知られている。
特開2004−349468号公報
上記従来技術のコイル部品のように、コア構造体(磁性構造体)とコイル部とが接着一体化される構造においては、磁性構造体とコイル部との接着力が十分に高いことが要求される。
本発明の目的は、磁性構造体とコイル部との接着性を向上させることができるコイル部品を提供することである。
本発明は、第1磁性体及び第2磁性体からなる磁性構造体と、磁性構造体の内部に配置されたコイル部とを備えたコイル部品であって、第1磁性体及び第2磁性体の内面には酸化膜がそれぞれ形成されており、第1磁性体及び第2磁性体とコイル部とが酸化膜を介して接着されていることを特徴とするものである。
このように第1磁性体及び第2磁性体の内面に酸化膜をそれぞれ形成することにより、エポキシ系樹脂等の接着樹脂を用いて第1磁性体及び第2磁性体とコイル部とを接着する際に、第1磁性体及び第2磁性体の表面に含まれる粒子が接着樹脂によって脱落してしまうことが防止されるため、第1磁性体及び第2磁性体と接着樹脂との密着性が良くなる。また、第1磁性体及び第2磁性体の内面に形成する膜は、酸化膜であるため容易に割れることは無い。これにより、第1磁性体及び第2磁性体とコイル部との接着性を高めることができる。
好ましくは、酸化膜は、スパッタリングにより第1磁性体及び第2磁性体の内面にそれぞれ形成されている。スパッタリング法を採用すると、酸化膜の厚みの大小にかかわらず、酸化膜を厚み寸法精度良くしかも短時間で形成することができる。
また、好ましくは、酸化膜は、アルミナまたは酸化シリコンからなっている。これにより、第1磁性体及び第2磁性体の表面に含まれる粒子の脱落防止に好適な酸化膜を容易に形成することができる。このとき、酸化膜に対してプラズマ処理やフッ酸処理を施すと、酸化膜と接着樹脂との間で脱水反応が起きるため、第1磁性体及び第2磁性体と接着樹脂との密着性を更に良好にすることができる。また、酸化膜が酸化シリコンからなる場合には、酸化膜に対してシラン処理を施すと、酸化膜と接着樹脂との間で脱水反応が十分に起きるため、第1磁性体及び第2磁性体と接着樹脂との密着性向上にとって更に有利となる。
さらに、好ましくは、酸化膜の膜厚が1μm〜10μmである。これにより、酸化膜を必要以上に厚くすることなく、第1磁性体及び第2磁性体の表面に含まれる粒子の脱落を確実に防止することができる。
本発明によれば、磁性構造体とコイル部との接着性を向上させることができる。これにより、例えば安価な磁性構造体を使用しても特に支障は無く、低コスト化を図ることが可能となる。
以下、本発明に係わるコイル部品の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明に係わるコイル部品の一実施形態を示す斜視図である。同図において、本実施形態のコイル部品1は、上フェライトコア2及び下フェライトコア3からなる直方体状のコア構造体4と、このコア構造体4の両端部に設けられた断面U字状の外部端子電極5A,5Bとを備えている。
上フェライトコア2は、図2に示すように、矩形状の平板部6と、この平板部6の両側縁部に沿って延在するように設けられた1対の直方体状の脚部7とを有している。下フェライトコア3は、矩形状の平板部8と、この平板部8の中央部に設けられた直方体状の突起部9とを有している。このような上フェライトコア2及び下フェライトコア3からなるコア構造体4において、下フェライトコア3の平板部8に上フェライトコア2の各脚部7が突き合わされることで、実質的に閉磁路が形成されることになる。
コア構造体4の内部には、図3に示すようにコイル部10が配設されている。コイル部10は、図3〜図5に示すように、矩形状の絶縁基板11と、この絶縁基板11の両面に形成されたコイル導体12とを有している。絶縁基板11は、薄型で十分な強度をもたせるべく、例えばガラスクロスにBTレジン、ポリイミド、アミラド等の樹脂を含浸させたものからなっている。コイル導体12を形成する金属材料としては、導電率及びコストの点でCuが望ましいが、AgやNi等であっても良い。
絶縁基板11の中央部には、下フェライトコア3の突起部9を通すための円形の孔部11aが設けられている。コイル導体12は、孔部11aを取り囲むようにスパイラル状に形成されている。絶縁基板11の両面に形成されたコイル導体12は、孔部11aを通して接続されている。また、コイル導体12は、絶縁基板11全体を覆うように形成された保護樹脂層13によって被覆保護されている。
絶縁基板11の一端部には、コイル導体12の一端と接続された導出端電極部14Aが設けられ、絶縁基板11の他端部には、コイル導体12の他端と接続された導出端電極部14Bが設けられている。上記の外部端子電極5A,5Bは、導出端電極部14A,14Bにそれぞれ電気的に接続されている。これにより、外部端子電極部14A,14B間に電圧が印加されると、絶縁基板11の一面に形成されたコイル導体12の一端から絶縁基板11の他面に形成されたコイル導体12の他端に電流が流れるようになる。
このようなコイル部10の製造工程を図6に示す。同図において、まず図6(A)に示すように、無電解めっきにより絶縁基板11の両面にCuの下地導体層(シード層)15を形成する。続いて、下地導体層15上にフォトレジスト16を電着成膜し、フォトリソグラフィ法によりコイル導体形成パターンに対応した選択めっき用マスクレジストを形成する。続いて、フォトレジスト16をめっきマスクとして下地導体層15が露出する部分に、電気(電解)めっき法により選択的にコイル導体用電気めっき層17を形成する。
続いて、図6(B)に示すように、めっきマスクとしてのフォトレジスト16を取り除いた上で、コイル導体用電気めっき層17が形成されている部分以外の下地導体層15をエッチングして除去する。続いて、図6(C)に示すように、電気めっき法によりコイル導体用電気めっき層17を更に成長形成させる。これにより、十分な肉厚を有するコイル導体12が得られる。その後、図6(D)に示すように、絶縁基板11の両面に保護樹脂層13を印刷することにより、コイル部10が完成する。
このようにして作製されるコイル部10は、図3及び図5に示すように、エポキシ系樹脂等の接着樹脂18により上フェライトコア2及び下フェライトコア3と接着一体化されている。上フェライトコア2の内面には酸化膜19が形成され、下フェライトコア3の内面には酸化膜20が形成されている。具体的には、酸化膜19は、上フェライトコア2の内面における各脚部7の先端面を除く領域全体に形成されている。酸化膜20は、下フェライトコア3の内面において、上フェライトコア2の各脚部7が突き当たる平板部8の両側縁部を除く領域全体(突起部9の先端面を含む)に形成されている。これにより、コイル部10と上フェライトコア2及び下フェライトコア3とは、酸化膜19,20を介して接着されることになる。
酸化膜19,20は、アルミナ(Al2O3)またはSiO2等の酸化シリコン(SiOx)からなっている。このような酸化膜19,20は、スパッタリングで形成するのが好ましい。スパッタリング法による成膜は、イオンをターゲットに衝突させることで、ターゲットから放出される原子・分子を膜として堆積させる手法であるが、1回の衝突によってターゲットから放出される原子・分子の量は微量である。このため、スパッタリング法を採用すると、酸化膜19,20の厚みを高精度に制御することが可能である。また、所望厚みの酸化膜19,20を容易に形成することができる。
また、下フェライトコア3の平板部8に上フェライトコア2の各脚部7が突き合わされた状態では、コア構造体4の中央部において酸化膜19,20同士が突き合わされる。つまり、上フェライトコア2の平板部6と下フェライトコア3の突起部9との間には、酸化膜19,20からなる微小ギャップGが形成されることになる。このギャップGを設けることによって、コイル部10のコイル導体12に流れる電流により上フェライトコア2及び下フェライトコア3が磁気飽和することが防止される。ギャップGの寸法としては、2μm〜50μmであるのが好ましい。酸化膜19,20を必要以上に厚くすることなく、それを満足させるためには、酸化膜19,20の膜厚としては、1μm〜10μmであるのが好ましい。
次に、上記のように構成したコイル部品1を作る手順について説明する。まず、下フェライトコア3の平板部8に上フェライトコア2の各脚部7とを突き合わせたときに、上フェライトコア2の平板部6の内面(酸化膜19)と下フェライトコア3の突起部9の先端面(酸化膜20)との間に空間が生じないように、酸化膜19,20の膜厚に応じて脚部7を高精度スライサー等で切削加工する。これにより、高精度で且つ製品間ばらつきの少ないギャップG及び閉磁路構造を容易に得ることができる。
続いて、コイル部10の絶縁基板11に設けられた孔部11aに下フェライトコア3の突起部9を通すようにコイル部10を配置し、下フェライトコア3の平板部8に上フェライトコア2の各脚部7とを突き合わせた状態で、接着樹脂18によりフェライトコア2,3とコイル部10とを接着する。フェライトコア2,3とコイル部10との接着は、例えば150℃雰囲気の中で加圧しながら行う。
続いて、フェライトコア2,3からなるコア構造体4におけるコイル部10の露出部分を覆うように、コア構造体4の両端部に外部端子電極5A,5Bを形成する。外部端子電極5A,5Bは、例えばCr層及びCu層をマスクスパッタで順次形成した後、バレルめっきによりCu、Ni、Snの順に電気めっき層を形成することにより得られる。なお、外部端子電極5A,5Bを形成する金属材料としては、AgやCu等であっても良い。これにより、図1に示すようなコイル部品1が完成する。
ところで、上フェライトコア2及び下フェライトコア3として、強度があまり高くない安価なフェライトコアを使用する場合には、接着樹脂18を用いてフェライトコア2,3とコイル部10とを直接接着すると、フェライトコア2,3の表面部に含まれるフェライト粒子が接着樹脂18に引っ張られて脱落することがある。この場合には、フェライトコア2,3と接着樹脂18との密着性が悪くなるため、フェライトコア2,3とコイル部10との接着力の低下につながる。
しかし、フェライトコア2,3とコイル部10とは酸化膜19,20を介して接着されるので、フェライトコア2,3の表面部に存在する隣り合うフェライト粒子同士が酸化膜19,20を介して十分密着するようになり、フェライト粒子が接着樹脂18に引っ張られて脱落することは無い。これにより、フェライトコア2,3と接着樹脂18との密着性が高くなる。
このとき、酸化膜19,20に対してプラズマ処理やフッ酸処理を施すことで、酸化膜19,20の表面を水素終端させると、酸化膜19,20と接着樹脂18との間で脱水反応が起きるため、酸化膜19,20と接着樹脂18とがくっつきやすくなる。なお、プラズマ処理では、ガスとしてAr、O2等を用い、フッ酸処理では、例えば濃度1〜5%のHFを用いる。また、特に酸化膜19,20がSiOx膜である場合には、SiOx膜に対してシラン処理を施すと、SiOx膜と接着樹脂18のOH基との間で十分な脱水反応が起きるため、酸化膜19,20と接着樹脂18とが一層くっつきやすくなる。
このようなシラン処理、プラズマ処理及びフッ酸処理のいずれかを行った場合とこれらの処理を全く行わない場合とで、実際に接着性の比較を行ってみた。
図7に示すように、まず2つのフェライト基板(3×3×3mm)21を用意し、各フェライト基板21の一面に酸化膜22を形成し、各フェライト基板21の酸化膜22を対向させた状態で、各フェライト基板21をエポキシ樹脂23で接着した。なお、酸化膜はSiO2膜とした。このとき、酸化膜22に対して何の処理を施さずに接着を行ったものと、酸化膜22に対してシラン処理を施して接着を行ったものと、酸化膜22に対してプラズマ処理を施して接着を行ったものと、酸化膜22に対して別のプラズマ処理を施して接着を行ったものと、酸化膜22に対してフッ酸処理を施して接着を行ったものとを得た。
シラン処理としては、3−メタクリロキシプロピル トリメトキシシラン等のシランカップリング剤を用いた。一方のプラズマ処理の条件としては、使用するガスをAr、ガス流量を4sccm、RF電力を600W、処理時間を3分とした。また、もう一方のプラズマ処理の条件としては、使用するガスをO2、ガス流量を4sccm、RF電力を300W、処理時間を3分とした。フッ酸処理では、1%HFを塗布してN2雰囲気で乾燥させた後に、エポキシ樹脂23を塗布した。
このようにして各フェライト基板21同士の接着を行ったときの接着強度を図8に示す。なお、表中のプラズマ処理Aは、Arガスを使用した時の接着強度であり、表中のプラズマ処理Bは、O2ガスを使用した時の接着強度である。この表から明らかなように、酸化膜22に対してシラン処理、プラズマ処理やフッ酸処理のいずれかを施した場合には、それらの処理を施さない場合に比べて、各フェライト基板21同士の接着強度が高くなる。
以上のように本実施形態によれば、上フェライトコア2の内面に酸化膜19を形成し、下フェライトコア3の内面に酸化膜20を形成したので、上述したようにフェライトコア2,3と接着樹脂18との密着性が良好になる。また、酸化膜19,20は、酸素成分を含んだ比較的割れにくい膜である。従って、フェライトコア2,3(コア構造体4)とコイル部10との接着性が向上する。これにより、上フェライトコア2及び下フェライトコア3として、高強度で高価なフェライトコアを使用しなくて済むので、コイル部品1の品質を確保しつつ、部品コストの削減を図ることが可能となる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、コア構造体4を、脚部7を有する上フェライトコア2と突起部9を有する下フェライトコア3とで構成したが、上フェライトコア及び下フェライトコアの構造としては、特にこれには限られない。
また、上記実施形態では、スパッタリング法を用いて、フェライトコア2,3の内面に酸化膜19,20をそれぞれ形成したが、所望の膜厚の酸化膜が得られるのであれば、イオン蒸着法やイオンプレーティング法等を用いて酸化膜を形成しても良い。
1…コイル部品、2…上フェライトコア(第1磁性体)、3…下フェライトコア(第2磁性体)、4…コア構造体(磁性構造体)、10…コイル部、19…酸化膜、20…酸化膜。
Claims (4)
- 第1磁性体及び第2磁性体からなる磁性構造体と、前記磁性構造体の内部に配置されたコイル部とを備えたコイル部品であって、
前記第1磁性体及び前記第2磁性体の内面には酸化膜がそれぞれ形成されており、
前記第1磁性体及び前記第2磁性体と前記コイル部とが前記酸化膜を介して接着されていることを特徴とするコイル部品。 - 前記酸化膜は、スパッタリングにより前記第1磁性体及び前記第2磁性体の内面にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項1記載のコイル部品。
- 前記酸化膜は、アルミナまたは酸化シリコンからなっていることを特徴とする請求項1または2記載のコイル部品。
- 前記酸化膜の膜厚が1μm〜10μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のコイル部品。
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