JP2006236626A - 電極層付き可撓性樹脂フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 表面が平滑な仮支持板の前記表面に気相堆積法により電極層が形成されている電極層付き仮支持板、そして仮支持板の表面よりも平滑性が劣る可撓性樹脂フィルムの表面に熱硬化性もしくは紫外線硬化性の樹脂層が形成されている樹脂層付き可撓性樹脂フィルムを用意する工程、電極層付き仮支持板と樹脂層付き可撓性樹脂フィルムとを電極層と樹脂層とが対面するように重ね合わせて積層体を形成する工程、この積層体に熱エネルギー又は紫外線を付与して樹脂層を硬化させ、同時に電極層を硬化樹脂層に接合する工程、そして可撓性樹脂フィルムをその表面に接合されている硬化樹脂層と電極層と共に仮支持板より引き剥がす工程からなる方法で製造された電極層付き可撓性樹脂フィルム。
【選択図】 図1
Description
筒井哲夫監修,「有機ELハンドブック」,リアライズ社,2004,p65−66
(1)仮支持板がガラス板、シリコン板もしくは金属板である。
(2)仮支持板の電極層の側の表面に下地層が備えられている。
(3)下地層のガラス転移点が150℃以上である。
(4)下地層がトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウムからなる。
(b)陽電極層/正孔輸送層/有機発光材料層/陰電極層
(c)陽電極層/有機発光材料層/電子輸送層/陰電極層
(d)陽電極層/正孔輸送層/有機発光材料層/電子輸送層/陰電極層
(陽電極層付き仮支持板の作製)
ガラス板(仮支持板)を中性洗剤、純水、そして有機溶剤を用いて洗浄したのち、その表面を酸素プラズマ処理した。このガラス板を真空蒸着法とスパッタ法とによる成膜を続けて行なえる真空成膜装置(SCM−202、トッキ(株)製)の成膜室内に配置し、そして成膜室内を0.001Pa以下の圧力まで減圧した。一方、上記と同様にして洗浄、そして酸素プラズマ処理したガラス板の表面粗さを、原子間力顕微鏡(JSPM-4300、日本電子(株)製)を用いて測定したところ、最大高さ(Ry)は0.3nmであった。
厚みが200μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの表面に、バーコーターを用いて紫外線硬化性樹脂(UVPOTミディアム0、帝国インキ(株)製)を約30μmの厚みに塗布して樹脂層付きPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。一方、使用したPETフィルムの表面粗さを上記と同様にして原子間力顕微鏡で測定したところ、最大高さ(Ry)は136nmであった。
作製した陽電極層付きガラス板と樹脂層付きPETフィルムとを、電極層と樹脂層とが対面するように重ね合わせて積層体を形成した。次いでPETフィルムの側から紫外線を照射して樹脂層を硬化させ、この硬化樹脂層と陽電極層とを接合した。そしてPETフィルムの上に直径が80mmのローラーを置き、PETフィルムをローラーの外周に沿わせながら垂直方向に引き剥がした。これによりPETフィルムを硬化樹脂層及び陽電極層と共にガラス板(仮支持板)から引き剥がした。このようにして陽電極層付きPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。
作製した陽電極層付きPETフィルムを真空蒸着装置の成膜室内に配置し、そして成膜室を0.001Pa以下の圧力まで減圧した。そして陽電極層の表面に、正孔輸送層として厚みが50nmのNPD(N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニルベンジジン)薄膜を、蒸着速度が6nm/分の条件にて真空蒸着法により形成した。この正孔輸送層の表面に、有機発光材料層兼電子輸送層として厚みが50nmのAlq3 (トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム)の薄膜を、蒸着速度が6nm/分の条件にて真空蒸着法により形成した。このAlq3 薄膜の上に幅が2mmの線状の透孔が形成されたマスクを、透孔の長さ方向が陽電極層の長さ方向と直交するようにして配置した。このマスクの透孔を介してAlq3 薄膜の表面に、陰電極層として厚みが200nm、そして幅が2mmの線状のMg−Ag薄膜(組成比10:1)を共蒸着法により形成したのち、Alq3 薄膜の上からマスクを取り除いた。このようにして有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
(陽電極層付き可撓性樹脂フィルムへの正孔輸送層及び有機発光材料層の形成)
実施例1と同様にして陽電極層付きPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。この陽電極層の表面にPEDOT/PSS(ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸)水溶液(H.C.Stark社製)をスピンコートして塗布膜を形成し、この塗布膜を200℃で10分間乾燥して厚みが約60nmのPEDOT/PSS薄膜(正孔輸送層)を形成した。そして正孔輸送層の表面に、MEH−PPV(ポリ2−メトキシ,5−(2’−エチル−ヘキシルオキシ−1,4−フェニレンビニレン))(H.W.Sands社製)の1%テトラハイドロフラン溶液をスピンコートして塗布膜を形成し、この塗布膜を130℃で1時間乾燥して厚みが約60nmのMEH−PPV薄膜(有機発光材料層)を形成した。
実施例1と同様にして、ガラス板の表面に、下地層として厚みが10nmのトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウムの薄膜を形成した。この下地層の上に実施例1で用いたマスクを配置し、マスクの透孔を介して下地層の表面に厚みが10nmの線状のMg−Ag薄膜(陰電極層)、そして厚みが150nmの線状のIZO薄膜(陰電極補助層)を積層したのち、下地層の上からマスクを取り除いた。このようにして陰電極層付きガラス板(仮支持板)を作製した。
次いで、陰電極層付きガラス板と、実施例1と同様にして作製した紫外線硬化性樹脂を塗布したPETフィルムとを、電極層と樹脂層とが対面するように重ね合わせて積層体を形成した。そして実施例1と同様にして紫外線を照射して樹脂層を硬化させ、この硬化樹脂層と、陰電極補助層付きの陰電極層とを接合し、次いでPETフィルムを硬化樹脂層、陰電極補助層及び陰電極層と共にガラス板(仮支持板)から引き剥がすことにより、陰電極層付きのPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。
上記のようにして作製した陽電極層付きPETフィルムと陰電極層付きPETフィルムとを、有機発光材料層と陰電極層とが接触するようにして、かつ陽電極層と陰電極層とが直交するようにして重ね合わせ、これらを150℃に加熱した二本の加熱ロールの間を通過させて互いに加熱圧着した。このようにして有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
(陰電極層付き仮支持板の作製)
実施例1と同様にして、ガラス板の表面に、下地層として厚みが100nmのトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム薄膜を形成した。この下地層の表面に、実施例1で陰電極層を形成する場合と同様にして厚みが200nm、そして幅が2mmの線状のMg−Ag薄膜(陰電極層)を形成して陰電極層付きガラス板(仮支持板)を作製した。
次に、陰電極層付きガラス板と、実施例1と同様にして作製した紫外線硬化性樹脂を塗布したPETフィルムとを、電極層と樹脂層とが対面するように重ね合わせて積層体を形成した。そして実施例1と同様にして紫外線を照射して樹脂層を硬化させ、この硬化樹脂層と陰電極層とを接合し、次いでPETフィルムを硬化樹脂層及び陰電極層と共にガラス板(仮支持板)から引き剥がすことにより、陰電極層付きのPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。
厚みが150nm、そして幅が2mmの線状のITO薄膜(陽電極層)が形成されたガラス基板(剛性基板)を実施例1と同様にして洗浄した。このITO薄膜の表面に実施例2と同様にして厚みが60nmのPEDOT/PSS薄膜(正孔輸送層)、そして厚みが60nmのMEH−PPV薄膜(有機発光材料層)を形成した。
上記のようにして作製した陽電極層付きガラス基板と陰電極層付きPETフィルムとを、実施例2と同様にして重ね合わせ、これらを180℃に加熱した二本の加熱ロールの間を通過させて互いに加熱圧着した。このようにして有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
(陰電極層付き可撓性樹脂フィルムへの電子輸送層の形成)
実施例3と同様にして、陰電極層付きのPETフィルム(可撓性樹脂フィルム)を作製した。この陰電極層の表面に、厚みが60nmの1,3−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾル−5−イル]ベンゼン薄膜(電子輸送層)を形成した。
次に、実施例3と同様にして、厚みが150nmの線状のITO薄膜(陽電極層)が形成されたガラス基板(剛性基板)の表面に、厚みが60nmのPEDOT/PSS薄膜(正孔輸送層)、そして厚みが60nmのMEH−PPV薄膜(有機発光材料層)を形成した。
上記のようにして作製した陽電極層付きガラス基板と陰電極層付きPETフィルムとを実施例2と同様にして重ね合わせ、これらを150℃に加熱した二本の加熱ロールの間を通過させて互いに加熱圧着した。このようにして有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
11 仮支持板
12 下地層
13 陽電極層
14 紫外線
20 樹脂層付き可撓性樹脂フィルム
21 可撓性樹脂フィルム
22a 樹脂層
22b 硬化樹脂層
23 陰電極層
30 陽電極層付き可撓性樹脂フィルム
31 可撓性樹脂フィルム
32b 硬化樹脂層
33 陰電極層
34 陰電極補助層
40、50 陰電極層付き可撓性樹脂フィルム
41 剛性基板
51 正孔輸送層
52 有機発光材料層
60 陽電極層付き剛性基板
70、80、90 有機エレクトロルミネッセンス素子
71 有機エレクトロルミネッセンス素子の発光の取り出し方向を示す矢印
Claims (9)
- 表面が平滑な仮支持板の該表面に気相堆積法により電極層が形成されてなる電極層付き仮支持板、そして該仮支持板の表面よりも平滑性が劣る可撓性樹脂フィルムの表面に熱硬化性もしくは紫外線硬化性の樹脂層が形成されてなる樹脂層付き可撓性樹脂フィルムを用意する工程、該電極層付き仮支持板と樹脂層付き可撓性樹脂フィルムとを、電極層と樹脂層とが対面するように重ね合わせて積層体を形成する工程、該積層体に熱エネルギーもしくは紫外線を付与することにより樹脂層を硬化させ、同時に電極層を該硬化樹脂層に接合する工程、そして該可撓性樹脂フィルムをその表面に接合されている硬化樹脂層と電極層と共に仮支持板より引き剥がす工程からなる電極層付き可撓性樹脂フィルムの製造方法。
- 仮支持板がガラス板、シリコン板もしくは金属板である請求項1に記載の製造方法。
- 仮支持板の電極層の側の表面に下地層が備えられている請求項1もしくは2に記載の製造方法。
- 下地層のガラス転移点が150℃以上である請求項3に記載の製造方法。
- 下地層がトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウムからなる請求項3に記載の製造方法。
- 可撓性樹脂フィルムの表面に、硬化樹脂層、そして電極層がこの順に積層された構成の電極層付き可撓性樹脂フィルム。
- 可撓性樹脂フィルムの表面に、硬化樹脂層、電極層、少なくとも有機発光材料層を含む有機材料層、そして電極層がこの順に積層された構成の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 可撓性樹脂フィルムの表面に、硬化樹脂層、電極層、少なくとも有機発光材料層を含む有機材料層、電極層、硬化樹脂層、そして可撓性樹脂フィルムがこの順に積層された構成の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 剛性基板の表面に、電極層、少なくとも有機発光材料層を含む有機材料層、電極層、硬化樹脂層、そして可撓性樹脂フィルムがこの順に積層された構成の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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