JP2006201782A - ワイヤグリッド偏光フィルム、偏光フィルムの製造方法、これを用いた液晶ディスプレイ及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、ワイヤグリッド偏光フィルム及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法に関する。
【解決手段】本発明によるワイヤグリッド偏光フィルムは、基板層と、前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含む。又、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法は、基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含む。本発明によると、大面積ワイヤグリッド偏光フィルムの大量高速製造工程を可能にすることによって、液晶ディスプレイの輝度増大用フィルム及びその他の分野での使用を容易にする。
【選択図】図3
【解決手段】本発明によるワイヤグリッド偏光フィルムは、基板層と、前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含む。又、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法は、基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含む。本発明によると、大面積ワイヤグリッド偏光フィルムの大量高速製造工程を可能にすることによって、液晶ディスプレイの輝度増大用フィルム及びその他の分野での使用を容易にする。
【選択図】図3
Description
本発明は、ワイヤグリッド偏光フィルム及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法に関する。
液晶ディスプレイ(LCD)は、現在、携帯電話、ノートブック、モニター及びTVに至るまで広範囲に使用される平板ディスプレイである。LCDは、二つの偏光板の間に位置した液晶パネルにて各ピクセルに電気信号を印加して液晶の配列を変更させることによって、光を透過させるか、遮断する素子である。
従って、LCDを動作させるためには、別途の光源が必要であり、光源の使用方式に従って反射型と透過型に分けられる。反射型LCDは、日光や室内光などのような外部光源を使用し、光がLCDパネルの前面に入射され、LCDパネルの後面に位置する反射板(Reflector)から反射された光を見ることになる構造である。一方、透過型LCDは、バックライトユニット(Backlight Unit:BLU)という別途の光源を設けてLCDパネルの後面から光を均一に送り、透過された光を見ることになる構造である。
図1は、従来の一般的透過型LCDパネルの構造を示す概略図である。ここで外部の周辺に存在する光源やバックライト光源の両方を使用して見ることができるLCDを半透過型(Transreflective LCD)と呼ぶ。従来一般のBLUは、蛍光灯、LEDなどの光源と、光をLCDパネル前面の全体面に均等に送るための導光板(Light Guide Plate)103、拡散フィルム104、プリズムシート105などから構成される。従って、光源から出発した光は、BLUを経る間にかなりの部分が損失される。しかも、LCDパネルの前後面に位置されている偏光板は吸収型であるため、パネルに向かう光の50%を吸収する。
従って、ディスプレイで観察者が見る実際の光は、光源から出発した光の10%以下のみを見ることになる。これは、LCDの光の利用効率が低いことを意味し、光の利用効率を向上させることは、携帯用機器におけるバッテリー使用時間の増加と、大画面LCDのTVにおいて電力の消耗を減少させることを可能にする。
LCDの光利用効率を向上させて輝度を増加させることができる技術としては、アメリカ3M社のDBEF(Dual Brightness Enhancement Film)が唯一である。このDBEFは、多層の高分子薄膜形態の反射型偏光板であって、透過型LCDの場合に、BLUとLCDパネルの間に位置して輝度を60%まで増加させることができる。即ち、反射型偏光板で反射された特定の偏光は、下部BLUを経てさらに反射される過程において偏光が変化し、一部の偏光がさらに偏光板を透過して光を再活用することになる。しかし、前記偏光板は、光学的に異方性である高分子膜と、等方性である高分子膜を交差させることによって多層構造に製造されるのでそのコストが高く、製造工程が煩雑である。
反射型偏光板の他の形態は、ワイヤグリッド偏光子(Wire Grid Polarizer)がある。並列で配列された金属ワイヤが、電磁波を偏光に沿って選択的に透過させるか、反射させるという事実は既によく知られている。
入射される電磁波の半波長より金属ワイヤ配列の周期が短い場合、金属線と平行する偏光成分(s波)は反射され、垂直の偏光成分(p波)は透過する。このような現象を利用することによって、偏光効率が優秀で透過率が高く、視野角が広い平板偏光子(Planar polarizer)を製造することができる。
図2は、従来のワイヤグリッド偏光子の構造とその原理を示す概略図である。
ワイヤグリッド偏光子の性能は、偏光消光比(Polarization extinction ratio)と透過率で表すことができる。ワイヤグリッド偏光子に高い偏光消光比を有せしめるためには、金属グリッドの周期が入射光の波長と比べてその波長がかなり短くなければならないという前提条件がある。しかし、周期が短いほど製作が難しくなるため、今までワイヤグリッド偏光子は主にマイクロ波又は赤外線領域で製作され使用されている。しかし、半導体製造装備と露光技術の発達に伴い、微細パターンの製作が可能となるに従って、可視光線によって動作するワイヤグリッド偏光子の製作が可能になっている。
人の目で感知することができる可視光線領域は、普通400nmから700nmまでの波長帯である。従って、可視光線領域で動作するワイヤグリッド偏光子は、金属グリッドの周期が少なくとも200nm以下であるときに、ある程度の偏光特性を期待することができ、既存の偏光器と同一、或いは、より優秀な性能を得るためには、100nm帯の周期を有する金属グリッドを製造することが好ましい。
既存の可視光線領域で使用されるワイヤグリッド偏光子は、透明なガラス基板に使用され、ドライエッチングなど半導体工程を利用するため、10インチ以上の中大型ディスプレイに使用されるためには、製作可能の面積が制限されるとともに、価格も非常に高くなる。なお、ガラス基板を使用することによって大面積のものを製造することができるとしても、その重量や厚さが大きくなる問題がある。
本発明は、前記のような問題を解決するべく案出された発明であって、その目的は、低コストで大面積のワイヤグリッド偏光子を大量生産するための方法及び前記生産のためのモールドの製造方法を提供することにある。
本発明は、前記のような問題を解決するために、基板層と、前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含むワイヤグリッド偏光 フィルムを提供する。
又、本発明による前記基板層は、光透過性に優れる高分子プラスチック基板からなり、前記高分子プラスチック基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を用いることが好ましい。
又、本発明による前記グリッド構造層は、成形が容易な熱硬化性又は紫外線硬化性高分子薄膜を用い、前記高分子薄膜は、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンの中から選択される1種以上の物質を用いることが好ましい。
又、本発明による前記グリッド構造層のグリッド周期は、220nm以下であることが好ましい。
又、本発明による前記グリッド構造層の断面は、三角形、四角形、梯形、半円、半楕円形の中から選択される1種の形状をなすことが好ましい。
又、本発明による前記金属膜は、前記基板の長手方向に少なくとも一つ以上が形成されることが好ましい。
又、本発明による前記金属膜及び上部に金属膜が形成されていない前記グリッド構造層の上部には、保護膜がコーティングされることが好ましい。
本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置は、基板の上部にグリッドパターンを形成するグリッド形成部と、前記グリッドパターンの一面に金属膜を堆積させる金属堆積部と、及び前記金属膜の上部面と前記グリッドパターンの中、金属膜が形成されていない上部面に保護膜をコーティングする保護膜コーティング部とを含む。
又、本発明による前記グリッド形成部は、製造しようとするグリッドパターンの断面形状を有するモールドローラーを含むことが好ましい。
本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法は、基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含む。
又、本発明による前記グリッドパターンの上部に保護膜をコーティングする段階をさらに含むことが好ましい。
又、本発明による前記金属は、前記グリッドパターンの一方の面にのみ堆積されることが好ましい。
又、本発明による前記グリッドパターンは、モールドローラーによって形成されることが好ましい。。
又、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法は、基板の上部にフォトレジストを塗布し、レーザーによる干渉縞を利用してフォトレジストをパターニングする段階と、前記フォトレジストを現像し、前記フォトレジストの上部にワイヤグリッド偏光フィルムのグリッドパターンを形成するための物質を積層する段階と、及び基板及びフォトレジストを除去する段階とを含む。
又、本発明による前記グリッドパターンを形成するための物質は、金属、高分子プラスチック、シリコン、水晶の中から選択される1種以上の物質を用いることが好ましい。
上記目的を達成するために、本発明は、例えば、以下の手段を提供する。
(項目1)
基板層と、
前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び
前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含むワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目2)
前記基板層は、光透過性に優れる高分子プラスチック基板からなることをことを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目3)
前記高分子プラスチック基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を用いることを特徴とする項目2に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目4)
前記グリッド構造層は、成形が容易な熱硬化性又は紫外線硬化性高分子 薄膜を用いることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目5)
前記高分子薄膜は、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンの中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする項目4に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目6)
前記グリッド構造層のグリッド周期は、220nm以下であることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目7)
前記グリッド構造層の断面は、三角形、四角形、梯形、半円、半楕円形の中から選択される1種の形状をなすことを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目8)
前記金属膜は、前記基板の長手方向に少なくとも一つ以上が形成されることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目9)
前記金属膜及び上部に金属膜が形成されていない前記グリッド構造層の上部には、保護膜がコーティングされることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目10)
項目1によって形成されるワイヤグリッド偏光フィルムを含む液晶ディスプレイ。
(項目11)
基板の上部にグリッドパターンを形成するグリッド形成部と、
前記グリッドパターンの一面に金属膜を堆積させる金属堆積部と、及び
前記金属膜の上部面と前記グリッドパターンの中、金属膜が形成されていない上部面に保護膜をコーティングする保護膜コーティング部とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。
(項目12)
前記グリッド形成部は、製造しようとするグリッドパターンの断面形状を有するモールドローラーを含むことを特徴とする項目11に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。
(項目13)
基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、
前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び
前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目14)
前記グリッドパターンの上部に保護膜をコーティングする段階をさらに含むことを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目15)
前記金属は、前記グリッドパターンの一方の面にのみ、堆積されることを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目16)
前記グリッドパターンは、モールドローラーによって形成されることを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目17)
基板の上部にフォトレジストを塗布し、レーザーによる干渉縞を利用してフォトレジストをパターニングする段階と、
前記フォトレジストを現像し、前記フォトレジストの上部にワイヤグリッド偏光フィルムのグリッドパターンを形成するための物質を積層する段階と、及び
基板及びフォトレジストを除去する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。
(項目18)
前記グリッドパターンを形成するための物質は、金属、高分子プラスチック、シリコン、水晶の中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする項目17に記載のワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。
(項目1)
基板層と、
前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び
前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含むワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目2)
前記基板層は、光透過性に優れる高分子プラスチック基板からなることをことを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目3)
前記高分子プラスチック基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を用いることを特徴とする項目2に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目4)
前記グリッド構造層は、成形が容易な熱硬化性又は紫外線硬化性高分子 薄膜を用いることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目5)
前記高分子薄膜は、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンの中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする項目4に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目6)
前記グリッド構造層のグリッド周期は、220nm以下であることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目7)
前記グリッド構造層の断面は、三角形、四角形、梯形、半円、半楕円形の中から選択される1種の形状をなすことを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目8)
前記金属膜は、前記基板の長手方向に少なくとも一つ以上が形成されることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目9)
前記金属膜及び上部に金属膜が形成されていない前記グリッド構造層の上部には、保護膜がコーティングされることを特徴とする項目1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
(項目10)
項目1によって形成されるワイヤグリッド偏光フィルムを含む液晶ディスプレイ。
(項目11)
基板の上部にグリッドパターンを形成するグリッド形成部と、
前記グリッドパターンの一面に金属膜を堆積させる金属堆積部と、及び
前記金属膜の上部面と前記グリッドパターンの中、金属膜が形成されていない上部面に保護膜をコーティングする保護膜コーティング部とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。
(項目12)
前記グリッド形成部は、製造しようとするグリッドパターンの断面形状を有するモールドローラーを含むことを特徴とする項目11に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。
(項目13)
基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、
前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び
前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目14)
前記グリッドパターンの上部に保護膜をコーティングする段階をさらに含むことを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目15)
前記金属は、前記グリッドパターンの一方の面にのみ、堆積されることを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目16)
前記グリッドパターンは、モールドローラーによって形成されることを特徴とする項目13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
(項目17)
基板の上部にフォトレジストを塗布し、レーザーによる干渉縞を利用してフォトレジストをパターニングする段階と、
前記フォトレジストを現像し、前記フォトレジストの上部にワイヤグリッド偏光フィルムのグリッドパターンを形成するための物質を積層する段階と、及び
基板及びフォトレジストを除去する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。
(項目18)
前記グリッドパターンを形成するための物質は、金属、高分子プラスチック、シリコン、水晶の中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする項目17に記載のワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。
本発明によると、ワイヤグリッド偏光フィルムの大面積の大量高速製造工程を実現することによって、液晶ディスプレイの輝度増加用フィルム及びその他の分野における使用を容易にすることができる。
以下、本発明の好適な実施形態を添付の図面を参照しながら説明する。
なお、下記の各構成要素等に与える符号は、同一の構成要素に対しては他の図面に表示される場合にもなるべく同一の符号を与えるようにし、本発明の要旨を混同させると判断される公知技術や構成に対する詳細な説明は省略する。
なお、下記の各構成要素等に与える符号は、同一の構成要素に対しては他の図面に表示される場合にもなるべく同一の符号を与えるようにし、本発明の要旨を混同させると判断される公知技術や構成に対する詳細な説明は省略する。
先ず、図3は、本発明の1実施形態によるLCD輝度向上のためのワイヤグリッド偏光フィルムを適用したLCDパネルの積層順序を示した断面図である。
前記実施形態において、LCDパネルは、光源101、反射板102、導光板103、拡散板104、プリズムシート105、ワイヤグリッド偏光フィルム300及び液晶パネル106を含む。
前記実施形態では、前記ワイヤグリッド偏光フィルム300の積層される位置を概略的に示す。
図3を参照すると、前記LCDパネルの最下部には反射板102が位置し、前記反射板102の上部には導光板103、拡散板104、プリズムシート105の順に積層される。前記導光板103の一側には光源101の存在を示す。前記プリズムシート105の上部には本発明のワイヤグリッド偏光フィルム300が積層され、前記ワイヤグリッド偏光フィルム300の上部には液晶パネル106が積層される。
前記ワイヤグリッド偏光フィルム300は、従来のバックライトユニットと、LCDパネルとの間に位置する。図3のプリズムシート105は、選択的に使用されるが、ワイヤグリッド偏光フィルム300の上部に位置することもできる。即ち、多様な形態の光学フィルムの構成が可能である。ワイヤグリッド偏光フィルム300で反射される偏光の光は、下部バックライトユニットを経てさらに反射されてリターンする過程において、一部偏光の方向が変化され、これがさらにワイヤグリッド偏光フィルム300を透過しながら輝度を増加させることになる。
図4は、本発明の1実施形態によるワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド構造を示す斜視断面図である。
前記実施形態において、ワイヤグリッド偏光フィルムは高分子基板301の上部に高分子薄膜302が積層され、前記高分子薄膜302の上部には金属膜303が積層される。
前記図4の実施形態では、グリッド形成方法を概略的に示している。
図4を参照すると、フィルムは、光透過性がよく、機械的性質が優秀な高分子プラスチックフィルム基板301の上に、成形が容易で光透過性がよいグリッド構造層が形成される。前記グリッド構造層は、高分子薄膜302からなるグリッド構造とそのグリッド構造の一方の面に形成された金属膜303からなる。グリッドの周期は220nmであるときにのみ、可視光線の全領域に亘って優れた偏光効率を有し、グリッドの周期が短いほど高い偏光消光比を有する。
プラスチックフィルム基板301としては、PETなどの高分子物質が使用されることが好ましい。グリッド構造が形成される高分子薄膜302としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンなどが挙げられる。金属膜303としては、アルミニウム、銀などの可視光線の全領域に亘って反射率の優れる金属膜を使用することが好ましい。
高分子薄膜に成形されたグリッドの断面構造は、図4に示めす三角形構造のみならず、四角形、梯形、半楕円形など様々な形態が可能であるが、重要な点は、金属がグリッド形状をなす図形の一方の面にのみ堆積されていることである。即ち、四角形や梯形の場合、上部に向かって突出される三面のうち、両側面の中一方の面と上面に金属が堆積されることになる。また、金属が堆積される角度に従って堆積された金属の形態は変わることになる。さらに、ここで重要な点は、側面の一方とトレンチ部分(凹部)は金属が堆積されないようにする。従って、以下で詳述するように、グリッドを形成した後、約45度方向から金属を噴射して塗布する方法を使用する。
このような方法によって、金属膜303はグリッドの一側面及び場合によってはグリッドの上端に、グリッドの方向に沿って1次元に長く伸びる形態を有する。一般的には、透過率を向上させると偏光消光比は劣る。従って、用途に応じて決定されるが、凡そ金属膜を厚くすると偏光消光比はよくなるが、透過率は劣る。即ち、ワイヤグリッド偏光フィルムの偏光消光比は金属膜の厚さ及び線幅に従って大きく変化するので、透過率を考慮して製作されることが好ましい。
図5a乃至図5fは、本発明の1実施形態によるワイヤグリッド偏光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
図5a乃至図5bを参照すると、プラスチックフィルムの基板301と(図5a)、その上部に成形される高分子薄膜302を塗布する(図5b)(図5f S501)。前記薄膜302は熱硬化性或は紫外線硬化性であり、微細パターンの成形が可能であることが好ましい。次の段階は、微細パターンが形成されたモールドでグリッド構造層である高分子薄膜302を成形する(図5c)(図5f S502)。高分子薄膜302の特性に従って、熱硬化性である場合には、温度を上げるが、紫外線硬化性である場合には、紫外線を露光するとともに適当な圧力を加えて成形する。次は、金属を斜め方向から堆積させて金属膜303を形成する(図5d)(図5f S503)。前記グリッド構造層である高分子薄膜302の一定の方向で金属膜303を噴射する方式によって金属面を堆積する。これは成形された高分子薄膜302パターンの一方の面にのみ金属膜303が堆積されるようにするためである。最終の段階で保護膜304をコーティングする(図5e)(図5f S504)。なお、前記保護膜304は、アルミニウムの腐食防止とフィルム使用時の表面損傷を防ぐ役割をする。
図6は、本発明の1実施形態によるワイヤグリッド偏光フィルムの大量生産装置の概略を示す。
前記実施形態で、ワイヤグリッド偏光フィルムの大量生産装置は、グリッド形成部601、金属堆積部603及び保護膜コーティング部604とを含む。
前記図6の実施形態では、モールドローラー600を利用してワイヤグリッドを連続的に形成する方法を概略的に示す。
図6を参照すると、基板はローラー602aに沿って移動し、グリッド形成部601のモールドローラー600によってグリッドパターンが形成され、前記グリッドパターンが形成された基板は、ローラー602bに沿って金属堆積部603へ移動する。金属堆積部603では前記グリッドパターンの一面に金属膜を形成し、金属膜が形成された基板は保護膜コーティング部へ移動して最上層に保護膜を形成する。
前記各工程段階を別々の装備で個別のプラスチック基板を使用して進行することもできるが、高速生産を可能にするためにはロール方式(Roll−to−Roll type)が好ましい。図6にはこのロール方式の製造方法が図示されている。
本発明のモールドは、ニッケルのような金属、高分子プラスチック、シリコンや水晶のような多様な物質で形成することが可能である。大面積偏光フィルムの製造工程を可能にするためには、ニッケルや高分子プラスチックなどが好ましい。なお、モールドマスタの製造は、多様なリソグラフィ工程を使用することができるが、レーザー干渉リソグラフィ法が最も効率的である。
図7a乃至図7eは、本発明の1実施形態による図6のモールドローラーの製造方法を示す。
前記実施形態では、レーザー干渉リソグラフィ方法を利用してワイヤグリッド偏光フィルム製造用モールドマスタの製造方法を概略的に示す。
図7を参照すると、レーザー干渉リソグラフィは基板701上にフォトレジスト(Photoresist)702を塗布した後(図7e S701)、レーザーから出る光を二方向から照射して(図7a)干渉縞を形成することによって、フォトレジストをパターニングする方法である(図7e S702)。製作可能の最小周期は、使用するレーザー波長の半分になる。露光工程及び現像工程(図7b)を経た後(図7e S703)、製造されたフォトレジスト(702)パターンの上にニッケル電鋳メッキ(Electroforming)(703)を行う(図7c)(図7e S704)。最後に基板(701)及びフォトレジストパターン(702)を分離してニッケルモールドマスタ(700)を完成する(図7d)(図7e S705)。ニッケルモールド(700)は直接高分子薄膜パターンに使用することができ、他のプラスチックフィルムにインプリント工程を行い、そのフィルムをモールドとして使用することができる。
以上、本発明の好適な実施形態を図面を参照して説明したが、当該分野の当業者であれば、別添特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び要旨の領域範囲内で多様に修正・変更が可能であることは言うまでもない。
以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。
本発明は、ワイヤグリッド偏光フィルム及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法に関する。
本発明によるワイヤグリッド偏光フィルムは、基板層と、前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含む。
又、本発明のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法は、基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含む。
本発明によると、大面積ワイヤグリッド偏光フィルムの大量高速製造工程を可能にすることによって、液晶ディスプレイの輝度増大用フィルム及びその他の分野での使用を容易にする。
101;光源
102;反射板
103;導光板
104;拡散板
105;プリズムシート
106;液晶パネル
107;偏光フィルム(図1)
300;ワイヤグリッド偏光フィルム
301;高分子基板
302;高分子薄膜
303;金属膜
304;保護膜コーティング
600;モールドローラー
604;保護膜コーティング部
700;モールドマスタ
701;基板
702;フォトレジスト
703;ニッケル電鋳メッキ
102;反射板
103;導光板
104;拡散板
105;プリズムシート
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303;金属膜
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604;保護膜コーティング部
700;モールドマスタ
701;基板
702;フォトレジスト
703;ニッケル電鋳メッキ
Claims (18)
- 基板層と、
前記基板層の上部に積層されるグリッド構造層と、及び
前記グリッド構造層の一側面に形成される金属膜とを含むワイヤグリッド偏光フィルム。 - 前記基板層は、光透過性に優れる高分子プラスチック基板からなることをことを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記高分子プラスチック基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を用いることを特徴とする請求項2に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記グリッド構造層は、成形が容易な熱硬化性又は紫外線硬化性高分子薄膜を用いることを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記高分子薄膜は、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタンの中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする請求項4に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記グリッド構造層のグリッド周期は、220nm以下であることを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記グリッド構造層の断面は、三角形、四角形、梯形、半円、半楕円形の中から選択される1種の形状をなすことを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記金属膜は、前記基板の長手方向に少なくとも一つ以上が形成されることを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 前記金属膜及び上部に金属膜が形成されていない前記グリッド構造層の上部には、保護膜がコーティングされることを特徴とする請求項1に記載のワイヤグリッド偏光フィルム。
- 請求項1によって形成されるワイヤグリッド偏光フィルムを含む液晶ディスプレイ。
- 基板の上部にグリッドパターンを形成するグリッド形成部と、
前記グリッドパターンの一面に金属膜を堆積させる金属堆積部と、及び
前記金属膜の上部面と前記グリッドパターンの中、金属膜が形成されていない上部面に保護膜をコーティングする保護膜コーティング部とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。 - 前記グリッド形成部は、製造しようとするグリッドパターンの断面形状を有するモールドローラーを含むことを特徴とする請求項11に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造装置。
- 基板を設け、前記基板の上部に微細パターンが形成されるグリッド構造層を塗布する段階と、
前記グリッド構造層の上部にグリッドパターンを形成する段階と、及び
前記グリッドパターンの上部に金属を堆積する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。 - 前記グリッドパターンの上部に保護膜をコーティングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
- 前記金属は、前記グリッドパターンの一方の面にのみ、堆積されることを特徴とする請求項13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
- 前記グリッドパターンは、モールドローラーによって形成されることを特徴とする請求項13に記載のワイヤグリッド偏光フィルムの製造方法。
- 基板の上部にフォトレジストを塗布し、レーザーによる干渉縞を利用してフォトレジストをパターニングする段階と、
前記フォトレジストを現像し、前記フォトレジストの上部にワイヤグリッド偏光フィルムのグリッドパターンを形成するための物質を積層する段階と、及び
基板及びフォトレジストを除去する段階とを含むワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。 - 前記グリッドパターンを形成するための物質は、金属、高分子プラスチック、シリコン、水晶の中から選択される1種以上の物質を用いることを特徴とする請求項17に記載のワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法。
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Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100793176B1 (ko) | 2007-02-23 | 2008-01-14 | (주)나노비전 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
WO2008026374A1 (fr) * | 2006-08-29 | 2008-03-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Plaque de polarisation, procédé de fabrication de plaque de polarisation, panneau d'affichage et élément d'affichage |
JP2009053574A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光照明装置 |
JP2009211873A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | バックライト装置 |
JP2010039183A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板の製造方法 |
JP2011007875A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
JP2012523582A (ja) * | 2009-04-10 | 2012-10-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | ワイヤグリッド偏光子、これを含む液晶表示装置、3次元立体映像ディスプレイ装置およびワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
WO2014112525A1 (ja) | 2013-01-16 | 2014-07-24 | シャープ株式会社 | ミラーディスプレイ、ハーフミラープレート及び電子機器 |
US10012866B2 (en) | 2014-03-19 | 2018-07-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display and electronic device |
US10146086B2 (en) | 2013-08-05 | 2018-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display, half mirror plate, and electronic device |
US10148942B2 (en) | 2014-06-05 | 2018-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display system |
US10254455B2 (en) | 2014-06-05 | 2019-04-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display and mirror display unit |
US10921638B2 (en) | 2016-07-06 | 2021-02-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device, electronic apparatus, semi-transmissive reflection plate, and electrical apparatus |
US11561439B2 (en) | 2020-12-22 | 2023-01-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7351346B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-04-01 | Agoura Technologies, Inc. | Non-photolithographic method for forming a wire grid polarizer for optical and infrared wavelengths |
JP2008522226A (ja) | 2004-11-30 | 2008-06-26 | アグーラ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 大規模ワイヤ・グリッド偏光子の応用および作製技術 |
KR20070074787A (ko) * | 2005-06-13 | 2007-07-18 | 삼성전자주식회사 | 계조 전압 발생 장치 및 액정 표시 장치 |
US20070217008A1 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-20 | Wang Jian J | Polarizer films and methods of making the same |
CN101416083A (zh) * | 2006-04-07 | 2009-04-22 | 旭硝子株式会社 | 线栅型偏振器及其制造方法 |
WO2008042658A2 (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-10 | Agoura Technologies, Inc. | Display having integrated functions in one or more layers |
US20080129930A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Agoura Technologies | Reflective polarizer configuration for liquid crystal displays |
US8027086B2 (en) * | 2007-04-10 | 2011-09-27 | The Regents Of The University Of Michigan | Roll to roll nanoimprint lithography |
US7821110B2 (en) * | 2007-05-11 | 2010-10-26 | International Business Machines Corporation | Circuit structures and methods with BEOL layer(s) configured to block electromagnetic interference |
JP5010527B2 (ja) * | 2007-06-04 | 2012-08-29 | 住友化学株式会社 | 導光板ユニット、面光源装置及び液晶表示装置 |
US20100136233A1 (en) * | 2007-08-02 | 2010-06-03 | Little Michael J | Oblique vacuum deposition for roll-roll coating of wire grid polarizer lines oriented in a down-web direction |
WO2009018109A1 (en) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Agoura Technologies, Inc. | A wire grid polarizer with combined functionality for liquid crystal displays |
US20090195729A1 (en) * | 2007-09-25 | 2009-08-06 | Agoura Technologies, Inc. | Display having integrated functions in one or more layers |
TW200928462A (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-01 | Ind Tech Res Inst | Wire grid polarizer and method of fabrication |
JP4972015B2 (ja) | 2008-03-10 | 2012-07-11 | 富士フイルム株式会社 | 金型の加工方法および製造方法 |
JP4609525B2 (ja) * | 2008-05-14 | 2011-01-12 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置 |
US8138563B2 (en) | 2008-08-08 | 2012-03-20 | International Business Machines Corporation | Circuit structures and methods with BEOL layers configured to block electromagnetic edge interference |
KR101064424B1 (ko) * | 2009-10-01 | 2011-09-14 | 김장규 | 유기발광다이오드용 봉지 필름 및 그 제조방법 |
CN102713697A (zh) * | 2009-10-08 | 2012-10-03 | 旭硝子株式会社 | 线栅型偏振片及其制造方法 |
US20110244187A1 (en) * | 2010-04-06 | 2011-10-06 | Modilis Holdings Llc | Internal Cavity Optics |
US8611007B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-12-17 | Moxtek, Inc. | Fine pitch wire grid polarizer |
KR20120075877A (ko) * | 2010-12-29 | 2012-07-09 | 삼성전자주식회사 | 액정 디스플레이 패널 및 이를 포함하는 장치 |
CN104133264A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 罗伯特·彼得科维奇 | 制备偏光片的方法 |
CN104133263A (zh) * | 2013-05-02 | 2014-11-05 | 罗伯特·彼得科维奇 | 偏光片的制备方法 |
EP3161857B1 (en) | 2014-06-26 | 2021-09-08 | Wostec, Inc. | Method of forming a wavelike hard nanomask on a topographic feature |
CN104516164B (zh) | 2015-01-05 | 2018-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制作方法和显示装置 |
KR20160143443A (ko) * | 2015-06-05 | 2016-12-14 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 와이어 그리드 편광판 및 이를 포함한 액정표시장치 |
CN107708744B (zh) * | 2015-07-08 | 2021-09-07 | 卡丽·马特兹 | 用于对复杂装置进行储存和消毒的*** |
WO2017151291A1 (en) * | 2016-03-04 | 2017-09-08 | Applied Materials, Inc. | Wire grid polarizer manufacturing method |
CN105700058A (zh) * | 2016-04-05 | 2016-06-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示背光用金属线栅增亮膜及其制备方法 |
US10672427B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-06-02 | Wostec, Inc. | Optical memory devices using a silicon wire grid polarizer and methods of making and using |
WO2018156042A1 (en) | 2017-02-27 | 2018-08-30 | Wostec, Inc. | Nanowire grid polarizer on a curved surface and methods of making and using |
US11592740B2 (en) | 2017-05-16 | 2023-02-28 | Applied Materials, Inc. | Wire grid polarizer manufacturing methods using frequency doubling interference lithography |
CN107121719B (zh) * | 2017-07-03 | 2019-06-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振片、显示装置及线栅偏振片的制备方法 |
US20200241188A1 (en) * | 2017-09-27 | 2020-07-30 | Wostec, Inc. | Optical devices with nanowire grid polarizer on a curved surface and methods of making and using |
US11002955B2 (en) | 2018-06-07 | 2021-05-11 | Facebook Technologies, Llc | Reverse-order crossed pancake lens with index gradient structure |
CN109212898A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-01-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种纳米压印模板及其制作方法 |
WO2022231825A1 (en) * | 2021-04-29 | 2022-11-03 | Meta Platforms Technologies, Llc | High surface quality optical film |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3291871A (en) * | 1962-11-13 | 1966-12-13 | Little Inc A | Method of forming fine wire grids |
CA2019046C (en) * | 1989-06-16 | 1998-05-12 | Satoshi Okazaki | Method of printing fine patterns |
EP1003078A3 (en) * | 1998-11-17 | 2001-11-07 | Corning Incorporated | Replicating a nanoscale pattern |
US8054416B2 (en) * | 2000-08-15 | 2011-11-08 | Reflexite Corporation | Light polarizer |
GB0106050D0 (en) * | 2001-03-12 | 2001-05-02 | Suisse Electronique Microtech | Polarisers and mass-production method and apparatus for polarisers |
KR20040092139A (ko) * | 2003-04-25 | 2004-11-03 | 엘지전자 주식회사 | 격자 제조 방법 |
-
2005
- 2005-01-19 KR KR1020050005123A patent/KR100656999B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2006
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026374A1 (fr) * | 2006-08-29 | 2008-03-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Plaque de polarisation, procédé de fabrication de plaque de polarisation, panneau d'affichage et élément d'affichage |
KR100793176B1 (ko) | 2007-02-23 | 2008-01-14 | (주)나노비전 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
JP2009053574A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光照明装置 |
JP2009211873A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | バックライト装置 |
JP2010039183A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板の製造方法 |
US9599762B2 (en) | 2009-04-10 | 2017-03-21 | Lg Innotek Co., Ltd. | Wire grid polarizer, liquid crystal device including the wire grid polarizer, 3-D stereoscopic image display device including the wire grid polarizer, and method of manufacturing the wire grid polarizer |
JP2012523582A (ja) * | 2009-04-10 | 2012-10-04 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | ワイヤグリッド偏光子、これを含む液晶表示装置、3次元立体映像ディスプレイ装置およびワイヤグリッド偏光子の製造方法 |
JP2011007875A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ワイヤグリッド偏光板 |
WO2014112525A1 (ja) | 2013-01-16 | 2014-07-24 | シャープ株式会社 | ミラーディスプレイ、ハーフミラープレート及び電子機器 |
EP3370112A1 (en) | 2013-01-16 | 2018-09-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display |
US10146086B2 (en) | 2013-08-05 | 2018-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display, half mirror plate, and electronic device |
US10012866B2 (en) | 2014-03-19 | 2018-07-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display and electronic device |
US10148942B2 (en) | 2014-06-05 | 2018-12-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display system |
US10254455B2 (en) | 2014-06-05 | 2019-04-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display and mirror display unit |
US10921638B2 (en) | 2016-07-06 | 2021-02-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device, electronic apparatus, semi-transmissive reflection plate, and electrical apparatus |
US11561439B2 (en) | 2020-12-22 | 2023-01-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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---|---|---|
JP2006201782A (ja) | ワイヤグリッド偏光フィルム、偏光フィルムの製造方法、これを用いた液晶ディスプレイ及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法 | |
US8054417B2 (en) | Mirror effect liquid crystal display device using reflection polarizer | |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080422 |