JP2006186263A - 被加工物保持装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 レーザ光の照射によるアブレーション現象の発生を抑制し,被加工物に貼り付けられたテープの溶融を防止可能な,高い平坦度を有する被加工物保持装置を提供する。
【解決手段】 テープが貼り付けられた被加工物にレーザ光を照射して被加工物を加工するレーザ加工装置の被加工物保持装置36は,被加工物のテープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部361を備えている。この被加工物保持部361は,平面加工精度の高いPCTFEから形成されたPCTFE層361bの上に,PCTFE層361bと比べて厚さの薄いPTFE層361cを積層した積層体からなる。PTFE層361cを形成するPTFEはビームエネルギーの吸収率が小さいため,レーザ光の照射を受けてもアブレーション現象が発生しにくく,被加工物に貼り付けられたテープが溶融することもない。さらに,チャックテーブルの平坦度を維持することもできる。
【選択図】 図5
【解決手段】 テープが貼り付けられた被加工物にレーザ光を照射して被加工物を加工するレーザ加工装置の被加工物保持装置36は,被加工物のテープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部361を備えている。この被加工物保持部361は,平面加工精度の高いPCTFEから形成されたPCTFE層361bの上に,PCTFE層361bと比べて厚さの薄いPTFE層361cを積層した積層体からなる。PTFE層361cを形成するPTFEはビームエネルギーの吸収率が小さいため,レーザ光の照射を受けてもアブレーション現象が発生しにくく,被加工物に貼り付けられたテープが溶融することもない。さらに,チャックテーブルの平坦度を維持することもできる。
【選択図】 図5
Description
本発明は,レーザ光を照射することにより被加工物をレーザ加工するレーザ加工装置に設けられる被加工物保持装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては,略円板形状の半導体ウェハの表面に格子状に配列された切断予定ライン(ストリート)によって複数の領域が区画されている。そして,半導体ウェハを切断予定ラインに沿って切断することにより,IC,LSI等の回路が形成された領域を分割して,個々の半導体チップを製造している。また,サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウェハも,切断予定ラインに沿って切断することにより,個々の発光ダイオード,レーザダイオード等の光デバイスに分割され,電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウェハや光デバイスウェハ等の切断加工(即ち,ダイシング加工)は,通常,ダイサーと称される切削装置によって行われている。この切削装置は,上記半導体ウェハや光デバイスウェハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと,該チャックテーブルに保持された被加工物を切削する切削手段と,チャックテーブルと切削手段とを相対的に移動せしめる切削送り手段と,を具備している。この切削手段は,スピンドルと,スピンドルに装着された切削ブレードと,スピンドルを回転駆動する駆動機構とを備える。切削ブレードは,円盤状の基台と,該基台の外周部に装着された環状の切刃からなっており,切刃は例えば粒径3μm程度のダイヤモンド等の砥粒を電鋳によって基台に固定されている。
しかし,サファイヤ基板,炭化珪素基板等はモース硬度が高いため,上記切削ブレードによる切断は必ずしも容易ではない。さらに,切削ブレードは,例えば20μm程度の厚さを有しているため,切断予定ラインの幅は,50μm程度必要となる。このため,例えば大きさが300μm×300μm程度の基板の場合には,切断予定ラインの占める面積比率が14%にもなり,生産性が低いという問題がある。
そこで,近年,半導体ウェハ等の板状の被加工物を切断する方法として,被加工物の分割すべき領域の内部に集光点を合わせてパルスレーザ光線を照射するレーザ加工方法が試みられている。このレーザ加工方法を用いた切断方法は,被加工物の一方の面側から内部に集光点を合わせて,被加工物に対して透過性を有する赤外光領域のパルスレーザ光を照射する。こうして,被加工物の内部に切断予定ラインに沿って変質層が連続的に形成され,強度が低下した切断予定ラインに沿って外力を加えることにより,被加工物を分割するものである(例えば,特許文献1参照)。
また,近年においては,サファイヤ基板,炭化珪素基板だけではなく,IC,LSI等の回路の処理能力を向上するために,シリコンウェハの如き半導体ウェハの表面に,SiOF,BSG(SiOB)等の無機物系の膜やポリイミド系,パリレン系等のポリマー膜である有機物系の膜からなる低誘電率絶縁体被膜(Low−k膜)を積層した形態の半導体ウェハが実用化されている。このLow−k膜は,雲母のように多層(例えば5〜15層)に積層されており,非常に脆いことから,切削ブレードにより切断予定ラインに沿って切削すると,Low−k膜が剥離し,この剥離が回路にまで達し,半導体チップに致命的な損傷を与えてしまうという問題があった。
この問題を解消するために,半導体ウェハの切断予定ラインに形成されているLow−k膜に対し,レーザ光を照射してLow−k膜を除去し,Low−k膜が除去された切断予定ラインを切削ブレードにより切削する加工装置も提案されている。(例えば,特許文献2参照。)
しかしながら,上記従来のレーザ加工装置を用いて,半導体ウェハ等の被加工物を切断する際には,以下のような問題があった。
レーザ加工装置で半導体ウェハを切断するためには,被加工物保持手装置である例えばチャックテーブル上に半導体ウェハを保持した状態で,レーザ光照射手段からレーザ光を照射しつつ,チャックテーブルとレーザ光照射手段を加工送り方向に相対移動させる。半導体ウェハをダイシングする際には,ダイシングテープに貼着した状態の半導体ウェハに対し,切断予定ラインに沿ってレーザ光を照射する。
このとき,半導体ウェハの外周縁を越えてレーザ光が照射されると,半導体ウェハを保持しているチャックテーブルにレーザ光が照射される。この結果,チャックテーブルの表面にアブレーション現象が生じるため,チャックテーブルの表面が損傷して表面精度が低下したり,チャックテーブルが加熱されてダイシングテープが溶融したりするという問題があった。このアブレーション現象は,高エネルギー密度を有するレーザ光を個体物質表面に照射した際,レーザ光のエネルギーを吸収した物質が,大きなエネルギーを有するフラグメントとして爆発的に飛散する現象である。
さらに,レーザ光照射手段によるレーザ光の出力や波長にもよるが,切断予定ラインを切断したレーザ光が,ダイシングテープを透過した結果,チャックテーブルの表面でアブレーション現象が発生する場合もある。チャックテーブルの表面はダイシングテープで密閉されているため,上記アブレーション現象によって,チャックテーブルは一層高熱に加熱され,その熱がダイシングテープに伝導して,ダイシングテープを溶融させてしまう。加えて,半導体ウェハがシリコンウェハである場合には,シリコンに入射したレーザ光がシリコンのレンズ効果によって屈折し,レーザ光の一部がシリコンを透過してチャックテーブルで集光されてしまうことも,アブレーション現象を助長させていると考えられる。特に,半導体ウェハの縦方向と横方向の切断予定ラインの交点直下にある部分のダイシングテープは,溶融しやすい。
ダイシングテープが溶融すると,チャックテーブルが真空吸着により被加工物を保持する真空チャックである場合には,溶融したダイシングテープがチャックテーブルの吸着チャック表面に付着して,吸着チャックに形成された吸引孔に目詰まりを生じさせてしまう。このため,吸着チャックに付着したダイシングテープを砥石によって削ぎ落とす作業が必要となり,場合によっては,チャックテーブルを交換せざるを得ない場合すらあった。
また,ダイシングテープがチャックテーブルに溶着すると,切断されたチップをチャックテーブルから剥離する際に,チップにダメージを与えてしまうというだけでなく,チャックテーブル表面で発生するアブレーション現象によって,チップが衝撃を受ける。このため,チップの抗折強度が著しく低下してしまうという問題もあった。
上記の問題を解決するために,本願発明者は,チャックテーブルの表面においてアブレーション現象を生じさせないことが必要であると考えた。そのために,チャックテーブルの素材として一般的に使用されるセラミックではなく,ビームエネルギーを吸収しにくい物質,例えば,PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)を使用することを検討した。
PTFEは,レーザ光のビームエネルギーの吸収率が小さい。そのため,PTFEから形成されたチャックテーブルの表面では,レーザ光の照射を受けたとしてもアブレーション現象が発生しにくい。ところが,サファイヤ基板のように非常に高い切削精度を要求される被加工物の場合,チャックテーブルに高い平坦度が必要とされる(例えば,厚さ5mm,直径200mmのチャックテーブルを使用する場合,平坦度が5μm以下であることが必要とされる)。PTFEから形成されたチャックテーブルでは,このように精度の高い平坦度を実現することは材質的に難しく,平坦度を20μm以下にするのが加工精度の限界であった。
したがって,高い切削精度を要求される被加工物の加工では,PTFEから形成されたチャックテーブルを使用することができないという問題があった。
そこで,本発明は,上記問題に鑑みてなされたものであり,その目的は,被加工物保持装置の表面の平坦度を維持しつつ,レーザ光が照射されたとしてもアブレーション現象の発生を抑制し,被加工物に貼り付けられたテープの溶融を防止可能な,新規かつ改良された被加工物保持装置を提供することにある。
上記課題を解決するために,本発明のある観点によれば,テープが貼り付けられた被加工物に対し,パルス幅30ナノ秒以下のレーザ光を照射して被加工物を加工するレーザ加工装置に使用される被加工物保持装置において,被加工物のテープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部を備え,被加工物保持部の少なくとも保持面側の材質は,PCTFE(ポリクロロテトラフルオロエチレン)であることを特徴とする。
かかる構成により,レーザ光照射を受ける可能性のある被加工物保持部の保持面側は,レーザ光のビームエネルギーの吸収率が小さいPCTFEで形成されるので,レーザ光の照射を受けたとしても,アブレーション現象の発生を抑制できる。このため,被加工物保持部の保持面が,レーザ光の照射により,破損,変形することがないので,被加工物保持部の破損,変形によって被加工物に衝撃を与えることがない。また,被加工物保持部の保持面が過度に加熱されないので,被加工物に貼り付けられたテープが溶融することがなく,テープを被加工物保持部から剥離するときに,被加工物を分割したチップに衝撃を与えることがない。したがって,チップの抗折強度の低下を防止できる。さらに,PCTFEは,平坦度が約3μm以下の精度で加工することができるため,PCTFEで形成される被加工物保持部を備える被加工物保持装置は,十分な平坦度を有する。したがって,サファイヤ基板のような非常に高いレベルの切削精度を要求される被加工物においても,高精度の加工を行うことができる。
また,上記被加工物保持部は,多孔質材料のPCTFEで形成され,被加工物を真空吸着により保持するようにしてもよい。これにより,多孔質の被加工物保持部の内部を通して真空引きして,被加工物を好適に真空吸着して保持できる。このとき,テープを介して被加工物と被加工物保持部とを密着させて保持できるので,レーザ加工時におけるレーザ光の焦点制御を高精度で行うことができる。このため,被加工物保持部の保持面にレーザ光が照射される頻度を低下させることができる。
また,上記課題を解決するために,本発明の別の観点によれば,テープが貼り付けられた被加工物にレーザ光を照射して被加工物を加工するレーザ加工装置に使用される被加工物保持装置において,被加工物のテープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部を備える。この被加工物保持部は,PCTFE層の上に,このPCTFE層と比べて厚さの薄いPTFE層を積層させた積層体によって形成されていることを特徴とする。
かかる構成では,被加工物保持部の少なくとも保持面側を,PCTFE層と,このPCTFE層の上に積層されたPTFE層とからなる積層体により形成する。積層体の下層側に使用されるPCTFEは,被加工物保持装置の高い平坦度を実現することの可能な,平面加工精度の高い材質である。一方,保持面側(上面側)の層に使用されるPTFEは,ビームエネルギーの吸収率の低い材質であり,被加工物保持部の上面でアブレーション現象が発生するのを防止できる。このとき,PTFEは,ビームエネルギーの吸収率は低いが,その平面加工精度は許容値を超える。このため,PCTFEにより実現した被加工物保持部の平坦度を維持するためには,PTFE層の厚さをPCTFE層と比べて極めて薄くする必要がある。なお,「極めて薄く」積層させるとは,被加工物保持装置の平坦度に影響しない程度の厚さに積層させることをいい,具体的には,被加工物保持装置の,例えば約500分の1前後の厚さで積層させることである。
一方,被加工物保持部の保持面におけるアブレーション現象の発生を抑制するために,PTFE層を極めて薄くすると,積層体の下層側へビームエネルギーを透過させてしまう場合がある。そうすると,積層体の下層側でビームエネルギーを吸収してしまい,アブレーション反応を起こしてしまう。このような理由からも,積層体の下層側の材質は,ビームエネルギーを吸収しにくい材質であるPCTFEにして,アブレーション反応を防止することが望ましい。
このような積層体により形成される被加工物保持部を加工するには,PCTFEのみから形成される被加工物保持部の加工時と比べて時間や費用がかかる。しかし,レーザ加工装置で使用するレーザ光がパルス幅30ns(ナノ秒)以下のレーザ光に制限されることなく,アブレーション現象の発生を抑制することができ,チャックテーブルの平坦度も維持できるようになるという利点がある。
また,上記被加工物保持部において,PCTFE層を多孔質材料のPCTFEで形成し,PTFE層も多孔質材料のPTFEで形成して,被加工物を真空吸着により保持してもよい。このように,被加工物保持部を形成する積層体を多孔質の材質にすることで,多孔質の被加工物保持部の内部を通して真空引きして,被加工物を好適に真空吸着して保持できる。このとき,テープを介して被加工物と被加工物保持部とを密着させて保持できるので,レーザ加工時におけるレーザ光の焦点制御を高精度で行うことができる。このため,被加工物保持部の保持面にレーザ光が照射される頻度を低下させることができる。
以上説明したように,PCTFEで形成される被加工物保持部を備える被加工物保持装置は,十分な平坦度を有する。したがって,サファイヤ基板のような非常に高いレベルの切削精度を要求される被加工物においても,高精度の加工を行うことができると同時に,レーザ光のビームエネルギーの吸収率が小さいPCTFEで形成されるので,レーザ光の照射を受けたとしても,アブレーション現象の発生を抑制し,テープの溶融を防止できる。さらに,被加工物保持部の少なくとも保持面側を,PCTFE層の上に,PCTFE層と比べて厚さの薄いPTFE層を積層させた積層体から形成することにより,レーザ光のパルス幅の大きさに関係なく,アブレーション現象の発生を抑制し,テープの溶融を防止することができる。
したがって,本発明によれば,被加工物保持装置の平坦度を維持しつつ,レーザ光が照射されたとしてもアブレーション現象の発生を抑制し,被加工物保持装置の焦げ付きや被加工物に貼り付けられたテープの溶融を防止することが可能である。
以下に添付図面を参照しながら,本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構成を有する構成要素については,同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
まず,図1に基づいて,第1の実施形態にかかるレーザ加工装置の全体構成について説明する。なお,図1は,本実施形態にかかるレーザ加工装置1の全体構成を示す斜視図である。
(第1の実施形態)
図1に示すように,レーザ加工装置1は,例えば,静止基台2と,この静止基台2に水平方向(矢印Xで示す方向。以下「X方向」という。)に移動可能に配設され,被加工物を保持する被加工物保持機構3と,静止基台2に上記X方向と垂直な水平方向(矢印Yで示す方向。以下「Y方向」という。)に移動可能に配設されたレーザ光照射ユニット支持機構4と,レーザ光ユニット支持機構4に対して鉛直方向(矢印Zで示す方向。以下「Z方向」という。)に移動可能に配設されたレーザ光照射ユニット5と,撮像手段6とから構成される。
図1に示すように,レーザ加工装置1は,例えば,静止基台2と,この静止基台2に水平方向(矢印Xで示す方向。以下「X方向」という。)に移動可能に配設され,被加工物を保持する被加工物保持機構3と,静止基台2に上記X方向と垂直な水平方向(矢印Yで示す方向。以下「Y方向」という。)に移動可能に配設されたレーザ光照射ユニット支持機構4と,レーザ光ユニット支持機構4に対して鉛直方向(矢印Zで示す方向。以下「Z方向」という。)に移動可能に配設されたレーザ光照射ユニット5と,撮像手段6とから構成される。
上記被加工物保持機構3は,例えば,静止基台2上にX方向に沿って略平行に配設された一対の案内レール31,31と,この案内レール31,31上にX方向に移動可能に配設された第1の滑動ブロック32と,第1の滑動ブロック32上にY方向に移動可能に配設された第2の滑動ブロック33と,第2の滑動ブロック33上に円筒部材34によって支持された支持テーブル35と,被加工物を保持する被加工物保持装置の一例であるチャックテーブル36と,を備える。
チャックテーブル36は,本実施形態における被加工物保持装置として構成されており,本発明の特徴的部分である。このチャックテーブル36は,例えば,本実施形態における被加工物保持部である吸着チャック(吸着用プレート)361と,この吸着チャック361を支持するチャック基台部362とを具備しており,吸着チャック361上に載置された被加工物を真空吸着して保持する。また,チャックテーブル36は,円筒部材34内に配設されたパルスモータ(図示せず)によって,水平方向に回転可能である。なお,かかるチャックテーブル36の詳細については後述する。
このようなチャックテーブル36上には,被加工物の一例である半導体ウェハWが載置される。この半導体ウェハWとしては,例えば,8,12または16インチの略円板状のシリコンウェハや,低誘電率絶縁体被膜(Low−k膜)を積層された半導体ウェハ,CSP(Chip Size Package)基板等のパッケージ基板など,各種の半導体基板を採用できる。
かかる半導体ウェハWは,一側の面に,粘着テープである例えばダイシングテープ14が貼り付けられている。このダイシングテープ14により,半導体ウェハWの表面を保護できるとともに,半導体ウェハWを分割して形成された複数のチップがバラバラにならないようにできる。また,このダイシングテープ14の外周は,ウェハリング(フレーム)16に貼り付けられている。このように,半導体ウェハWは,ダイシングテープ14を介してウェハリング16に支持された状態で,チャックテーブル36の吸着チャック361上に載置される。この際,半導体ウェハWのダイシングテープ14が貼り付けられた側の面を下向きにして載置される。よって,半導体ウェハWと吸着チャック361との間には,ダイシングテープ14が介在することとなる。
上記第1の滑動ブロック32は,その下面に上記一対の案内レール31,31と嵌合する一対の被案内溝321,321が設けられているとともに,その上面にY方向に沿って平行に形成された一対の案内レール322,322が設けられている。かかる構成の第1の滑動ブロック32は,被案内溝321,321が一対の案内レール31,31に嵌合することにより,一対の案内レール31,31に沿ってX方向に移動可能に構成される。
さらに,被加工物保持機構3は,第1の滑動ブロック32を一対の案内レール31,31に沿ってX方向に移動させるための移動手段37を具備している。この移動手段37は,上記一対の案内レール31,31の間に平行に配設された雄ねじロッド371と,雄ねじロッド371を回転駆動するためのパルスモータ372等の駆動源を備えている。雄ねじロッド371は,その一端が上記静止基台2に固定された軸受ブロック373に回転自在に支持されており,その他端が上記パルスモータ372の出力軸に減速装置(図示せず)を介して伝動連結されている。なお,雄ねじロッド371は,第1の滑動ブロック32の中央部下面に突出して設けられた雌ねじブロック(図示せず)に形成された貫通雌ねじ穴に螺合されている。したがって,パルスモータ372によって雄ねじロッド371を正転および逆転駆動することにより,第1の滑動ブロック32は案内レール31,31に沿ってX方向に移動せしめられる。
上記第2の滑動ブロック33は,その下面に上記第1の滑動ブロック32の上面に設けられた一対の案内レール322,322と嵌合する一対の被案内溝331,331が設けられており,この被案内溝331,331を一対の案内レール322,322に嵌合することにより,Y方向に移動可能に構成される。
さらに,被加工物保持機構3は,第2の滑動ブロック33を第1の滑動ブロック32に設けられた一対の案内レール322,322に沿ってY方向に移動させるための移動手段38を具備している。移動手段38は,上記一対の案内レール322と322の間に平行に配設された雄ねじロッド381と,雄ねじロッド381を回転駆動するためのパルスモータ382等の駆動源を備えている。雄ねじロッド381は,その一端が上記第1の滑動ブロック32の上面に固定された軸受ブロック383に回転自在に支持されており,その他端が上記パルスモータ382の出力軸に減速装置(図示せず)を介して伝動連結されている。なお,雄ねじロッド381は,第2の滑動ブロック33の中央部下面に突出して設けられた雌ねじブロック(図示せず)に形成された貫通雌ねじ穴に螺合されている。したがって,パルスモータ382によって雄ねじロッド381を正転および逆転駆動することにより,第2の滑動ブロック33は案内レール322,322に沿ってY方向に移動せしめられる。
かかる構成の被加工物保持機構3は,移動手段37および移動手段38を動作させて,被加工物を保持するチャックテーブル36をX方向およびY方向に自在に移動させることができる。これにより,レーザ加工装置1は,後述するレーザ光照射手段52のレーザ加工ヘッド100に対して,被加工物をX方向またはY方向に所定の送り速度(例えば50〜80mm/s)で相対移動させることができる。かかる被加工物の相対移動により,被加工物に対するレーザ光の照射位置を変えることができるので,被加工物を所定の直線或いは曲線の切断ラインで切断加工することができる。
また,上記レーザ光照射ユニット支持機構4は,静止基台2上に割り出し送り方向(Y方向)に沿って平行に配設された一対の案内レール41,41と,案内レール41,41上にY方向に移動可能に配設された可動支持基台42を具備している。この可動支持基台42は,案内レール41,41上に移動可能に配設された移動支持部421と,移動支持部421に取り付けられた装着部422とからなる。装着部422は,一側面にZ方向に延びる一対の案内レール423,423が平行に設けられている。
さらに,レーザ光照射ユニット支持機構4は,可動支持基台42を一対の案内レール41,41に沿ってY方向に移動させるための移動手段43を具備している。移動手段43は,上記一対の案内レール41,41の間に平行に配設された雄ねじロッド431と,雄ねじロッド431を回転駆動するためのパルスモータ432等の駆動源を備えている。雄ねじロッド431は,その一端が上記静止基台2に固定された軸受ブロック(図示せず)に回転自在に支持されており,その他端が上記パルスモータ432の出力軸に減速装置(図示せず)を介して伝動連結されている。なお,雄ねじロッド431は,可動支持基台42を構成する移動支持部421の中央部下面に突出して設けられた雌ねじブロック(図示せず)に形成された雌ねじ穴に螺合されている。このため,パルスモータ432によって雄ねじロッド431を正転および逆転駆動することにより,可動支持基台42は案内レール41,41に沿って,Y方向に移動せしめられる。
レーザ光照射ユニット5は,例えば,ユニットホルダ51と,ユニットホルダ51に取り付けられたレーザ光照射手段52と,移動手段53と,を具備している。
ユニットホルダ51は,例えば,上記装着部422に設けられた一対の案内レール423,423に摺動可能に嵌合する一対の被案内溝511,511が設けられており,この被案内溝511,511を上記案内レール423,423に嵌合することにより,Z方向に移動可能に支持される。
レーザ光照射手段52は,例えば,上記ユニットホルダ51に固定され,略水平に延出する略円筒形状のケーシング521と,このケーシング521内に配設されたレーザ光発振装置522およびレーザ光変調装置523と,レーザ加工ヘッド100と,を備える。
レーザ光発振装置522は,例えば,YAGレーザ発振器などで構成されており,例えばNd:YAGレーザ光を発振することができる。このレーザ光発振装置522が発振する例えばNd:YAGレーザ光の出力は,ピークパワーで例えば0.5〜5kW(MAX)であり,アベレージパワーで例えば20〜180mWである。かかるレーザ光発振手段522が発振したレーザ光は,レーザ光変調装置523を介してレーザ加工ヘッド100に導かれる。
レーザ光変調装置523は,例えば,繰り返し周波数設定部,レーザ光パルス幅設定部およびレーザ光波長設定部(いずれも図示せず)などを備えており,上記レーザ光発振装置522が発振したレーザ光を変調することができる。具体的には,上記繰り返し周波数設定部は,例えば,レーザ光を所定の繰り返し周波数(例えば,1kHz)のパルスレーザ光にすることができる。また,レーザ光パルス幅設定部は,例えば,パルスレーザ光のパルス幅を所定幅(例えば30nsec)に設定することができる。さらに,レーザ光波長設定部は,例えば,パルスレーザ光の波長を所定値(例えば355nm〜1064nm)に設定することができる。
レーザ加工ヘッド100は,被加工物の直上に近接して配置され,被加工物に対して上方よりレーザ光を照射するヘッドである。このレーザ加工ヘッド100は,例えば,上記レーザ光発振装置522およびレーザ光変調装置523から発振されたパルスレーザ光(以下では,単にレーザ光という。)を集光し,被加工物である半導体ウェハWに向けて出射する。
移動手段53は,ユニットホルダ51を一対の案内レール423,423に沿ってZ方向に移動させることができる。この移動手段53は,上記各移動手段と同様に一対の案内レール423,423の間に配設された雄ねじロッド(図示せず)と,雄ねじロッドを回転駆動するためのパルスモータ532等の駆動源を含んでおり,パルスモータ532によって雄ねじロッド(図示せず)を正転および逆転駆動することにより,ユニットホルダ51およびレーザビーム照射手段52を案内レール423,423に沿ってZ方向に移動せしめる。
また,撮像手段6は,例えば,上記レーザ光照射手段52を構成するケーシング521の前端部に配設されている。この撮像手段6は,可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)の外に,被加工物に赤外線を照射する赤外線照明手段と,この赤外線照明手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と,この光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)と(いずれも図示せず)から構成されている。この撮像手段6によって撮像された画像信号は,例えば,制御手段(図示せず)に出力され,モニタ上に表示処理等される。
以上,レーザ加工装置1の全体構成について説明した。かかるレーザ加工装置1で,半導体ウェハWを切断する場合,上述したように,レーザ光照射によってチャックテーブル36の表面にアブレーション現象が生じ,各種の問題が生じていた。このような問題に対し,チャックテーブル36の材質を,一般的に使用されるセラミックではなく,レーザ光のビームエネルギーを吸収し難い材質であるPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)により形成することを検討した。しかし,PTFEから形成されたチャックテーブルにおいて高い平坦度を実現することは材質的に難しく,サファイヤ基板のように非常に高い切削精度を要求される被加工物の加工には使用できなかった。そこで,本願発明者らは,これらの問題を解決するために,チャックテーブル36の材質を,平面加工精度が高く,かつレーザ光のビームエネルギーを吸収し難い材質であるPCTFE(ポリクロロテトラフルオロエチレン)とすることに想到した。以下に,かかるチャックテーブル36の構成について詳細に説明する。
次に,図2に基づいて,本実施形態にかかる被加工物保持装置であるチャックテーブル36の構成について詳細に説明する。なお,図2は,本実施形態にかかるチャックテーブル36の構成を示す一部切り欠き断面図である。
図2に示すように,チャックテーブル36は,例えば,本実施形態における被加工物保持部である吸着チャック361と,この吸着チャック361を支持するチャック基台部362とから構成される。このチャックテーブル36は,被加工物である半導体ウェハWを真空吸着する真空チャックとして構成されている。
吸着チャック361は,例えば,半導体ウェハWを真空吸着するための略円板状の保持板(吸着用プレート)である。この吸着チャック361は,被加工物の形状に応じた形状及び大きさを有しており,本実施形態では,例えば略円板状の半導体ウェハWに応じて,吸着チャック361もまた円板形状を有しており,吸着チャック361の直径は,ダイシングテープ14の直径よりも大きい。この円板形状の吸着チャック361の厚さは例えば約5mmであり,直径は例えば約200mmである。このときのチャックテーブルの平坦度を測定したところ,約3μmであった。なお,吸着チャック361の形状は,かかる例に限定されず,被加工物の形状に応じて,略矩形状,多角形状,略楕円状など,任意の形状の平板であってよい。
また,この吸着チャック361の上面361aは,被加工物を保持する保持面(吸着面)であり,高精度に平坦化されている。このため,吸着チャック361の上面361aは,載置された半導体ウェハWの下面に貼り付けられたダイシングテープ14と,隙間なく密接する。
かかる吸着チャック361は,全体が,通気性を有する多孔質のPCTFEで形成されている点が特徴である。本実施形態にかかる吸着チャック361を構成する多孔質のPCTFEの孔径は,平均で例えば約10μmであるが,かかる例に限定されない。
このような多孔質材料のPCTFEで吸着チャック361を形成し,吸着チャック361の下面側から真空引きすることで,その吸引力が吸着チャック361の内部を通って吸着チャック361の上面361a側に伝わり,当該上面361aに載置された半導体ウェハWを真空吸着できるようになる。
また,吸着チャック361をPCTFEで形成することにより,従来のセラミック製の吸着チャックと比べて,レーザ光のエネルギー吸収率を大幅に低減し,吸着チャック361の表面において,レーザ光照射に伴う上記アブレーション現象の発生を抑制できる。この詳細については後述する。
チャック基台部362は,例えば,アルミニウムまたはステンレス等の金属材料で形成された略円盤状の支持部材であり,上記吸着チャック361を下方より支持する。このチャック基台部362の上面362aの外周部には,上記吸着チャック361の外形に応じた環状突出部362bが形成されている。この環状突出部362bは,チャック基台部362上に設置された吸着チャック361の外周面を保持して,横ずれしないようにできる。また,吸着チャック361の下面と,チャック基台部362の上面362aとを,例えばアクリル系接着剤などにより接着することで,吸着チャック361をチャック基台部362上により安定して固定できる。
また,チャック基台部362の中央部には,吸引孔362cが垂直方向に貫通形成されている。かかる吸引孔362cの下端は,真空ポンプ363に連通している。一方,吸引孔362cの上端は,チャック基台部362の上面362aに形成された溝362dと連通している。この溝362dは,チャック基台部362の上面362aを溝加工して形成される。具体的には,かかる溝362dは,例えば,上記吸引孔326aを中心として同心円状に形成された複数の環状溝と,上記吸引孔362aから上記各環状溝を横切って放射状に延びる複数の直線溝と,からなる。図2の溝362dは,直線溝のうちの一つを示している。かかる溝362dは,真空ポンプ363による負圧(吸引力)を,吸着チャック361の下面全体に略均等に伝える機能を有する。
ここで,以上のような構成のチャックテーブル36が半導体ウェハWを保持する動作について説明する。まず,チャックテーブル36の上面(即ち,吸着チャック361の上面361a)に,半導体ウェハWが載置される。次いで,真空ポンプ363を動作させて,チャック基台部362の内部の雰囲気を吸引する。すると,この吸引力は,チャック基台部362の貫通孔362cおよび溝362dを介して,多孔質PCTFEで形成され通気性を有する吸着チャック361の内部に伝わり,この結果,半導体ウェハWが吸着チャック361の上面361aに真空吸着される。
次に,図3に基づいて,上記チャックテーブル36によって保持された半導体ウェハWを切断加工する態様について説明する。なお,図3は,本実施形態にかかるチャックテーブル36によって保持された半導体ウェハWを切断加工する態様を示す側面図である。
図3に示すように,チャックテーブル36は,半導体ウェハWのダイシングテープ14が貼り付けられた側を,上記のように真空吸着して保持する。切断加工時には,このように半導体ウェハWを保持したチャックテーブル36が,上記レーザ光照射手段52のレーザ加工ヘッド100の下方に位置付けられる。そして,レーザ加工ヘッド100からレーザ光101を半導体ウェハWに向けて出射しながら,チャックテーブル36を水平移動させることにより,半導体ウェハWの切断予定ライン(ストリート)に沿ってレーザ光101を照射して,アブレーション作用により半導体ウェハWを切断する。
この際,レーザ光101は,その集光点が半導体ウェハWの内部に合うように照射されるが,半導体ウェハWがシリコンウェハ等である場合には,図3に示すように,レーザ光101がシリコンにより屈折するなどして,ダイシングテープ14を透過し,チャックテーブル36の吸着チャック361内で集光されてしまうことがある。また,半導体ウェハWの切断予定ラインの両端部では,レーザ光101が,半導体ウェハWの外周緑を越えて照射され,吸着チャック361の上面361aに直接照射されてしまうこともある。
このような場合,従来のセラミック製の吸着チャック361を使用したチャックテーブルは,ビームエネルギーの吸収率が高いので,レーザ光101の照射を受けて吸着チャック361上面にアブレーション現象が生じてしまうという問題があった。
これに対し,本実施形態にかかるチャックテーブル36は,被加工物保持部である吸着チャック361が,レーザ光101のビームエネルギーを吸収しにくい材質であるPCTFEで形成されている。このため,吸着チャック361の上面361aにレーザ光101が照射されたとしても,アブレーション現象が非常に起こりにくい。このようにアブレーションを抑制できるのは,PCTFEの物性に依るものである。
PCTFEは,レーザ耐性に優れるという物性があり,レーザ加工装置1における被加工物保持部の材質として好適である。即ち,PCTFEは,レーザ光101のビームエネルギーの吸収率が低いので,レーザ光101の照射を受けたとしても,アブレーション現象が生じにくい。このため,かかるPCTFEで形成された吸着チャック361は,その上面(保持面)361aでアブレーション現象が発生しないので,レーザ加工時に損傷しにくく,ダイシングテープ14を溶融させるほど高温に加熱されることがない。
そこで,吸着チャック361を形成する材質に,セラミック,PTFE,およびPCTFEを使用した場合について,チャックテーブル36の上面にダイシングテープ14で保持したサファイヤ基板を,レーザ加工装置1でチップ状に切削する実験をそれぞれ行った。このとき,レーザ光101の波長は,一般的なレーザ加工に使用される波長を使用し,本実験では,355nm,532nm,および1064nmの場合について,吸着チャック361の表面における焦げの発生の有無およびテープの溶融の有無を確認する実験を行った。なお,本実験ではレーザ光源としてYAGレーザを使用した。このときのレーザ光の平均出力は4W,周波数は30kHz,パルス幅は10nsであった。また,サファイヤ基板とレーザとの相対的な送り速度は,100mm/sであった。
この実験の結果,セラミックから形成された吸着チャックでは,レーザ光の波長が355nm,532nm,および1064nmの場合すべてにおいて,吸着チャック361の表面に焦げが生じたり,溶融したテープが吸着チャック361に付着していた。一方,PTFEおよびPCTFEから形成された吸着チャック361では,レーザ光の波長が355nm,532nm,および1064nmの場合すべてにおいて,吸着チャック361の表面に焦げが生じたり,溶融したテープが吸着チャック361に付着することはなかった。
このように,PCTFEおよびPTFEから形成された吸着チャック361では,一般的なレーザ加工に使用される波長の領域において,アブレーション現象が発生しないことがわかる。これは,PCTFEおよびPTFEのビームエネルギーの吸収率が低いために,チャックテーブル36の表面に焦げを発生させることがなく,また,テープを溶融させるほど加熱されないためと考えられる。しかし,PCTFEおよびPTFEから形成された吸着チャック361を使用して切削されたサファイヤ基板の切削精度を比較すると,PCTFE製の吸着チャック361を使用して切削されたサファイヤ基板は,問題なく正確に切削されていたが,PTFE製の吸着チャック361を使用して切削されたサファイヤ基板は,一部正確に切削されない部分が見受けられた。
本実施形態にかかるPCTFEから形成された吸着チャック361が,従来のセラミック製の吸着チャックよりビームエネルギーの吸収率が低いことは,図4に示すグラフにより説明することができる。なお,図4は,照射されるレーザ光の波長(nm)と吸収係数αとの関係を,PCTFE,PTFEおよびセラミックとで比較して示すグラフである。
一般的に,物質のエネルギー吸収率Eは,次の数式1で表すことができる。
この数式1から明らかなように,同じ物質であってその厚さが変わらなければ,吸収係数αが大きいほど,そのエネルギーの吸収率Eが大きいことになる。したがって,PCTFE,PTFEおよびセラミックに関し吸収係数αを比較すれば,それらのビームエネルギーの吸収率を比較できることになる。そこで,PCTFE,PTFEおよびセラミックに関して吸収係数αを測定した実験結果を図4のグラフに示す。また,この図4の実験結果の具体的数値を,表1にも示す。
図4および表1に示すように,例えば,レーザ光の波長が355nm(三倍波)のとき,セラミックの吸収係数αは約0.00727であるのに対し,PCTFEの吸収係数αは約0.00210,PTFEの吸収係数αは約0.00088である。また,レーザ光の波長が532nm(二倍波)のとき,セラミックの吸収係数αは約0.01338であるのに対し,PCTFEの吸収係数αは約0.00190,PTFEの吸収係数αは約0.00091である。さらに,レーザ光の波長が1064nm(基本波)のとき,セラミックの吸収係数αは約0.01425であるのに対し,PCTFEの吸収係数αは約0.00103,PTFEの吸収係数αは約0.00070である。このように,PCTFEの吸収係数αは,セラミックの吸収係数αと比較して,著しく低いことが分かる。よって,PCTFEは,セラミックと比較して,ビームエネルギーの吸収率が著しく低いことが明らかである。
以上,第1の実施形態にかかるレーザ加工装置1におけるチャックテーブル36について詳細に説明した。本実施形態にかかるチャックテーブル36は,被加工物保持部である吸着チャック361の材質をPCTFE(ポリクロロテトラフルオロエチレン)にしたことを特徴とする。これにより,吸着チャック361が平面加工精度のよいPCTFEから形成されるため,チャックテーブル36は十分な平坦度を実現することができる。さらに,チャックテーブル36の表面(即ち,チャック361の保持面361a)にレーザ光が照射されたとしても,吸着チャック361が,ビームエネルギーの吸収率が低いPCTFEが使用されているため,その保持面361aにおいてアブレーション現象が発生しない。よって,吸着チャック361の損傷を抑制してその表面精度の低下を防止でき,被加工物に貼り付けられたダイシングテープ14が溶融して吸着チャック361に溶着することを防止でき,さらに,ダイシングテープ14の溶着および吸着チャックテーブルの変形を原因とする,チップの抗折強度の低下をも防止できる。
さらに,本実施形態では,吸着チャック361全体を多孔質のPCTFEで形成し,これを使用して真空吸着により被加工物を保持している。これにより,被加工物と吸着チャック361とを密着させて保持できるので,レーザ加工時におけるレーザ光の焦点制御を行い易く,吸着チャック361の表面361aにレーザ光が照射される頻度を低下させることができる。
(第2の実施形態)
ところで,図4および表1に示すように,PCTFEのビームエネルギーの吸収率はPTFEに比べて僅かに高い。この影響を調査すべく実験を重ねた結果,レーザ光のパルス幅を変化させてチャックテーブル36にレーザ光を照射させる実験において,レーザ光のパルス幅を30nsより大きくした場合,PTFEから形成される吸着チャック361では発生しなかったアブレーション現象が,PCTFEから形成される吸着チャック361の表面では発生することが明らかになった。つまり,このパルス幅が30nsより大きい領域においては,PCTFEから形成される吸着チャック361は,レーザ光の照射により吸着チャック361の表面が焦げたり,溶融したテープが吸着チャック361に付着してしまうことが判明した。
ところで,図4および表1に示すように,PCTFEのビームエネルギーの吸収率はPTFEに比べて僅かに高い。この影響を調査すべく実験を重ねた結果,レーザ光のパルス幅を変化させてチャックテーブル36にレーザ光を照射させる実験において,レーザ光のパルス幅を30nsより大きくした場合,PTFEから形成される吸着チャック361では発生しなかったアブレーション現象が,PCTFEから形成される吸着チャック361の表面では発生することが明らかになった。つまり,このパルス幅が30nsより大きい領域においては,PCTFEから形成される吸着チャック361は,レーザ光の照射により吸着チャック361の表面が焦げたり,溶融したテープが吸着チャック361に付着してしまうことが判明した。
上記レーザ光のパルス幅を変化させてチャックテーブル36にレーザ光を照射させる実験は,上述したビームエネルギーの吸収率を調べるために使用したレーザ光源を用いて,レーザ光のパルス幅を5nsから5ns単位で上昇させて行った。このとき,レーザ光のパルス幅が5ns〜25nsの領域では,チャックテーブル36の表面には変化が生じなかった。さらにパルス幅を上昇させていくと,パルス幅が30nsのとき,問題のないレベルではあるが,僅かにチャックテーブル36の表面に薄い焦げが発生した。そして,レーザ光のパルス幅を35nsに上昇させると,チャックテーブル36の表面が完全に焦げたり,溶融したテープがチャックテーブル36に付着してしまうという現象が発生した。これは,レーザ光源の波長や出力を変えた場合でも同様の現象が確認された。つまり,レーザ光源の波長や出力には関係なく,パルス幅が30nsより大きくなると,チャックテーブル36の表面でアブレーション現象が発生することがわかった。
これは,PCTFEのビームエネルギーの吸収率がPTFEに比べて高いために発生したと考えられる。つまり,レーザ光のパルス幅が大きくなると,一度にレーザ光が照射される時間が長くなる。そのため,PCTFEはビームエネルギーを吸収してしまい,チャックテーブル36の表面でアブレーション現象が発生したと考えられる。
以上のことから,チャックテーブル36をPCTFEのみで形成した場合,レーザ光のパルス幅が0nsより大きく30ns以下の領域では,チャックテーブル36上でアブレーション反応は発生せず,チャックテーブル36が破損したり,テープが溶融することはない。しかし,レーザ光のパルス幅が30ns以上の領域では,チャックテーブル36上でアブレーション反応が発生してしまい,チャックテーブル36の破損やテープの溶融を防止できないことがわかった。
そこで,この問題を解決するために,PCTFEよりビームエネルギーの吸収率の低い材質であるPTFEを,PCTFEからなる基層の上に,薄く積層させて形成された積層体を用いてチャックテーブル36を形成する。かかる構成により,チャックテーブル36は,高い平坦度を有しつつ,チャックテーブル36で生じるアブレーション反応を,照射されるレーザ光のパルス幅によらず,防止することができる。
以下に,図5に基づいて,第2の実施形態にかかる被加工物保持装置であるチャックテーブル36の構成について詳細に説明する。なお,図5は,本実施形態にかかるチャックテーブル36の構成を示す一部切り欠き断面図である。
図5に示すチャックテーブル36は,図2に示すチャックテーブル36の吸着チャック361の少なくとも保持面側を,PCTFE層361bとPTFE層361cとからなる積層体で形成したものである。この積層体の下層部を形成するPCTFE層361bは,平面加工精度の高い材質であるPCTFEからなる。下層部の材質をPCTFEにすることにより,平坦度の高いチャックテーブルを形成することができ,高い切削精度を要求される被加工物の加工が可能となる。一方,積層体の上層部を形成するPTFE層361cは,ビームエネルギーを吸収率しにくい材質であるPTFEからなる。上述のビームエネルギーの吸収率を調べた実験の結果より,PTFEは,PCTFEと比べてビームエネルギーの吸収率が低い材質であることがわかる。つまり,積層体の上層部をPTFE層361cにすることにより,吸着チャック361の保持面361aにPCTFEが現れている(例えば,PCTFEのみから形成される)チャックテーブル36と比べて,チャックテーブル36の表面でアブレーション現象が発生しにくくなる。
ここで,PTFE層361cは,PCTFE層361bの厚さよりも薄く形成される。このとき,PCTFE層361bを形成して実現したチャックテーブル36の平坦度を確保するため,PTFE層361cは,チャックテーブル36本体の厚さに対して約500分の1前後の,極薄の層に形成されることが望ましい。例えば,PCTFE層361bの厚さが約5mmのとき,好適なPTFE層361cの厚さは約10μmである。このように,PTFE層361cの厚さがチャックテーブル36の平坦度に影響しないよう,PTFE層361cの厚さは,PCTFE層361bの厚さと比べて極めて薄くする必要がある。
次に,このような積層体より形成されたチャックテーブル36が,レーザ耐性に優れ,アブレーション現象が発生しにくいことを実証するための実験結果について説明する。
実験で使用した積層体の吸着チャック361は,まず,平均孔径が約10μmの多孔質PCTFEを用いて,厚さ5mm,直径200mmの円板状に加工し,PCTFE層361bを形成した。そして,形成されたPCTFE層361b上に,平均孔径が約10μmの多孔質PTFEを用いて,厚さ10μm,直径200mmの円板状に加工したPTFE層361cを積層させて形成した。
この実験は,前述した各材質のビームエネルギーの吸収率を調べる実験と同じ機材を用いて行った。そして,レーザ光の波長を532nmにして,他は同様の条件で行い,レーザ光のパルス幅のみを10ns,30ns,60ns,90nsと切り替えた。このとき,チャックテーブル36の上面361aにおいてアブレーション現象が発生するか否かついて,PCTFE層のみから形成された吸着チャック361と,PCTFE層361bとPTFE層361cとの積層体から形成された吸着チャック361との比較を行った。かかる実験の結果を表2に示す。
表2に示すように,レーザ光のパルス幅を10nsまたは30nsに設定した場合には,PCTFE層のみから形成された吸着チャック361,およびPCTFE層361bとPTFE層361cとの積層体から形成された吸着チャック361の両方ともアブレーション現象は発生せず,チャックテーブル36が焦げたり,溶融したテープがチャックテーブル36の表面に付着することはなかった。しかし,レーザ光のパルス幅を60nsおよび90nsに設定した場合には,PCTFE層のみから形成される吸着チャック361では,吸着チャック361の表面に焦げが生じ,溶融したテープが吸着チャック361に付着していた。一方,PCTFE層361bとPTFE層361cとの積層体から形成された吸着チャック361では,吸着チャック361の表面に焦げが生じることもなく,溶融したテープが吸着チャック361に付着することもなかった。ただし,サファイヤ基板の切削精度については,双方とも目立った差異はなかった。
以上の結果より,PCTFE層のみから形成された吸着チャック361では,レーザ光のパルス幅が30nsを超えるとアブレーション現象が発生した。しかし,本実施形態にかかるPCTFE層361bとPTFE層361cとの積層体から形成された吸着チャック361は,レーザ光のパルス幅を制限することなく,アブレーション現象の発生を防ぐことができる。つまり,PCTFE層361bとPTFE層361cとの積層体から形成された吸着チャック361は,PCTFE層のみからなる吸着チャック361と比べて,よりレーザ耐性が強いことが分かる。
以上説明したように,第2の実施形態では,被加工物保持部である吸着チャック361を,PCTFE(ポリクロロテトラフルオロエチレン)から形成されたPCTFE層の上に,PCTFE層と比較して厚さの薄いPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)層を積層させた積層体より形成したことを特徴とする。これにより,チャックテーブル36の表面にレーザ光が照射されたとしても,吸着チャック361の上層部にはビームエネルギーの吸収率が低いPTFEが使用されているため,その保持面361aにおいてアブレーション現象が発生しない。また,吸着チャック361の下層部に使用するPCTFEも,第1の実施形態にて示したように,ビームエネルギーの吸収率が低いので,下層部でアブレーション反応が起きるのを防止できる。このような積層体を吸着チャック361に用いることで,レーザ光のパルス幅を制限することなく,アブレーション現象の発生を抑制できる。また,PTFE層は極めて薄く積層されているため,PCTFE層の高い平面加工精度により実現されている被加工物保持装置の平坦度も維持できる。
さらに,第1の実施形態と同様,PCTFE層を多孔質のPCTFEで形成し,PTFE層を多孔質のPTFEで形成した吸着チャック361を使用して真空吸着により被加工物を保持している。これにより,被加工物と吸着チャック361とを密接させて保持できるので,レーザ加工時におけるレーザ光の焦点制御を行いやすく,吸着チャック361の上面361aにレーザ光が照射される頻度を低下させることができる。
以上,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された範疇内において,各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば,上記実施形態では,レーザ光として,YAGレーザを用いたが,本発明はかかる例に限定されず,例えば,He−Neレーザ,CO2レーザ(横型励起大気圧CO2レーザ等),半導体レーザ,エキシマレーザ,イオンレーザなどを用いてもよい。
また,上記実施形態では,被加工物として,半導体ウェハWを切断加工する例について説明したが,本発明はかかる例に限定されない。例えば,被加工物は,その他の化合物半導体材(ガリウムヒ素,インジウムリン等),合成樹脂材(GPS基板,BGA基板,ガラスエポキシ樹脂,アクリル樹脂等),ガラス材(石英板,液晶,サファイヤ基板,光ファイバ等),セラミックス材,金属材(銅,ニッケル,SUS鋼,超硬材等)などであってもよい。
また,上記実施形態では,基板状の被加工物の一面に貼り付けられるテープとして,ダイシングテープ14の例を挙げて説明したが,本発明は,かかる例に限定されない。例えば,テープは,上記各種の被加工物に貼り付けられるテープであれば,グライディングテープ,表面保護テープ,各種の粘着テープなど,如何なるテープであってもよい。
また,上記実施形態では,被加工物保持装置であるチャックテーブル36は,被加工物を真空吸着する真空チャックとして構成されたが,本発明は,かかる例に限定されない。例えば,被加工物保持装置は,被加工物を静電吸着する静電チャックとして構成されてもよい。
また,上記実施形態では,被加工物保持部である吸着チャック361は,多孔質PCTFEまたは多孔質PTFEより形成されていたが,本発明は,かかる例に限定されない。例えば,被加工物保持部の保持面側は,多孔質でないPCTFEまたはPCTFEで形成されてもよい。この場合には,真空吸着を行うために,被加工物保持装置(例えばチャックテーブル)の被加工物保持部(例えば吸着チャック)に,真空ポンプと連通する複数の微細な吸引孔を貫通形成し,かかる吸引孔を介して真空引きすることによって,被加工物を真空吸着するようにしてもよい。このように,被加工物保持部に複数の吸引孔を設けたとしても,上記のように,PCTFEまたはPTFEで形成された被加工物保持部の表面ではアブレーション現象が生じにくいので,被加工物に貼り付けられたテープが溶融しない。このため,溶融したテープが上記吸引孔を目詰まりさせることがない。
本発明は,レーザ加工装置における被加工物保持装置に適用可能であり,特に,レーザ光の照射を受けてもアブレーションが生じにくい被加工物保持部を要する被加工物保持装置に適用可能である。
1 レーザ加工装置
3 被加工物保持機構
36 チャックテーブル
100 レーザ加工ヘッド
361 吸着チャック
361a 吸着チャックの上面(保持面)
361b PCTFE層(下層部)
361c PTFE層(上層部)
362 チャック基台部
362a チャック基台部の上面
362b 環状突出部
362c 吸引孔
362d 溝
363 真空ポンプ
W 半導体ウェハ
3 被加工物保持機構
36 チャックテーブル
100 レーザ加工ヘッド
361 吸着チャック
361a 吸着チャックの上面(保持面)
361b PCTFE層(下層部)
361c PTFE層(上層部)
362 チャック基台部
362a チャック基台部の上面
362b 環状突出部
362c 吸引孔
362d 溝
363 真空ポンプ
W 半導体ウェハ
Claims (4)
- テープが貼り付けられた被加工物に対し,パルス幅が30ナノ秒以下のレーザ光を照射して前記被加工物を加工するレーザ加工装置に使用される被加工物保持装置において:
前記被加工物の前記テープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部を備え,
前記被加工物保持部の少なくとも保持面側の材質は,PCTFE(ポリクロロテトラフルオロエチレン)であることを特徴とする,被加工物保持装置。 - 前記PCTFEは,多孔質材料であり,
前記被加工物保持部は,前記被加工物を真空吸着により保持することを特徴とする,請求項1に記載の被加工物保持装置。 - テープが貼り付けられた被加工物に対し,レーザ光を照射して前記被加工物を加工するレーザ加工装置に使用される被加工物保持装置において:
前記被加工物の前記テープが貼り付けられた面を保持する被加工物保持部を備え,
前記被加工物保持部は,PCTFE層の上に,前記PCTFE層と比べて厚さの薄いPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)層を積層した積層体からなることを特徴とする,被加工物保持装置。 - 前記PCTFE層および前記PTFE層は,多孔質材料であり,
前記被加工物保持部は,前記被加工物を真空吸着により保持することを特徴とする,請求項3に記載の被加工物保持装置。
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