JP2006172940A - Display and its manufacturing method - Google Patents

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Ikuo Matsunaga
郁夫 松永
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Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display and its manufacturing method which improve the display performance. <P>SOLUTION: The display is equipped in its display area 102 constituted of matrix-shaped pixels with partition walls 70 separating each pixel PX and having a projection 71 on their upper surface 70T, a first electrode 60 disposed independent island-likely in each pixel PX, an organic active layer 64 disposed on the first electrode 60, and a second electrode 66 which covers the organic active layer 64 on each pixel PX, and is disposed on the upper surface 70T of the partition wall 70 around each pixel PX such that at least a part of the projection 71 is exposed therefrom. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に係り、特に、複数の自発光性素子によって構成された表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a display device and a method for manufacturing the display device, and more particularly to a method for manufacturing a display device including a plurality of self-luminous elements.

近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。   In recent years, organic electroluminescence (EL) display devices have attracted attention as flat display devices. Since this organic EL display device is a self-luminous element, it has a wide viewing angle, can be thinned without requiring a backlight, has low power consumption, and has a high response speed. ing.

これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、アレイ基板として陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を保持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成される。   Because of these characteristics, organic EL display devices are attracting attention as potential candidates for next-generation flat display devices that can replace liquid crystal display devices. Such an organic EL display device is configured by arranging organic EL elements holding an organic active layer containing an organic compound having a light emitting function between an anode and a cathode as an array substrate in a matrix.

有機EL表示装置においては、その駆動方式としてパッシブマトリクス型とアクティブマトリクス型が知られている。パッシブマトリクス型においては、両側の電極をストライプ状にパターニングさせる必要から、上側電極に沿って素子分離用スペーサおよびオーバーハング体を配置させる技術が提案されている（例えば、特許文献１）。
特開平９−３３０７９２号公報 In an organic EL display device, a passive matrix type and an active matrix type are known as driving methods. In the passive matrix type, since it is necessary to pattern the electrodes on both sides in a stripe shape, a technique of arranging an element isolation spacer and an overhang body along the upper electrode has been proposed (for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 9-330792

上部電極は、通常、表示エリアにおいて、有機活性層及び隔壁の全体を覆うように配置されている。つまり、上部電極より先の工程で形成した各部は、上部電極によって覆われている。このような構成において、上部電極の一部が損傷を受けると、損傷箇所付近と他の箇所とで有機ＥＬ素子の特性が異なり、発光輝度にムラが生ずることがある。   The upper electrode is usually arranged so as to cover the entire organic active layer and partition walls in the display area. That is, each part formed in the process before the upper electrode is covered with the upper electrode. In such a configuration, when a part of the upper electrode is damaged, the characteristics of the organic EL element are different between the damaged portion and other portions, and the light emission luminance may be uneven.

この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示性能を向上することができる表示装置及び表示装置の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object thereof is to provide a display device and a display device manufacturing method capable of improving display performance.

この発明の第１の様態による表示装置は、
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアにおいて、
各画素を分離するとともにその上面に突起を有する隔壁と、
画素毎に配置された画素回路と、
画素回路によって駆動制御される表示素子と、を備え、
前記表示素子は、
画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
前記第１電極上に配置された光活性層と、
各画素の前記光活性層を覆うとともに各画素周辺における前記隔壁の上面において少なくとも前記突起の一部を露出するように配置された第２電極と、
を備えたことを特徴とする。 A display device according to a first aspect of the present invention includes:
In a display area composed of matrix-like pixels,
A partition that separates each pixel and has a protrusion on its upper surface;
A pixel circuit arranged for each pixel;
A display element that is driven and controlled by a pixel circuit,
The display element is
A first electrode arranged in an independent island shape for each pixel;
A photoactive layer disposed on the first electrode;
A second electrode arranged to cover the photoactive layer of each pixel and to expose at least a part of the protrusion on the upper surface of the partition wall around each pixel;
It is provided with.

この発明の第２の様態による表示装置の製造方法は、
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアを備えた表示装置の製造方法であって、
画素毎に独立島状の第１電極を形成する工程と、
各画素を分離するとともにその上面に突起を有する隔壁を形成する工程と、
前記第１電極上に光活性層を形成する工程と、
表示エリアにおいて各画素の前記光活性層を覆うとともに各画素周辺における前記隔壁の上面において少なくとも前記突起の一部を露出するように第２電極を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。 The manufacturing method of the display device according to the second aspect of the present invention is as follows:
A method of manufacturing a display device having a display area constituted by matrix-like pixels,
Forming an independent island-shaped first electrode for each pixel;
Separating each pixel and forming a partition having a protrusion on its upper surface;
Forming a photoactive layer on the first electrode;
Forming a second electrode so as to cover the photoactive layer of each pixel in the display area and to expose at least a part of the protrusion on the upper surface of the partition wall around each pixel;
It is provided with.

この発明によれば、表示性能を向上することができる表示装置及び表示装置の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a display device and a display device manufacturing method capable of improving display performance.

以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置及び表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。   Hereinafter, a display device and a method of manufacturing the display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, a self-luminous display device such as an organic EL (electroluminescence) display device will be described as an example of the display device.

有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００を備えている。アレイ基板１００の表示エリア１０２は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。   As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes an array substrate 100 having a display area 102 for displaying an image. The display area 102 of the array substrate 100 is composed of a plurality of pixels PX (R, G, B) arranged in a matrix.

また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと略直交する方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。   Further, the array substrate 100 has a plurality of scanning lines Ym (m = 1, 2,...) Arranged along the row direction of the pixels PX (that is, the Y direction in FIG. 1) and a direction substantially orthogonal to the scanning lines Ym. In other words, a plurality of signal lines Xn (n = 1, 2,...) Arranged along (the X direction in FIG. 1) and a power supply line for supplying power to the first electrode 60 side of the organic EL element 40. P.

さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７と、信号線Ｘｎのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８と、を備えている。すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。   Furthermore, the array substrate 100 has a scanning line driving circuit 107 that supplies a scanning signal to each of the scanning lines Ym and a signal that supplies a video signal to each of the signal lines Xn in the peripheral area 104 along the outer periphery of the display area 102. A line driving circuit 108. All the scanning lines Ym are connected to the scanning line driving circuit 107. All signal lines Xn are connected to the signal line driving circuit 108.

各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、画素回路及び画素回路によって駆動制御される表示素子を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき表示素子へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを有している。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。   Each pixel PX (R, G, B) includes a pixel circuit and a display element that is driven and controlled by the pixel circuit. The pixel circuit electrically separates an on pixel and an off pixel and has a function of holding a video signal to the on pixel, and a display element based on a video signal supplied via the pixel switch 10. The driving transistor 20 supplies a desired driving current, and the storage capacitor element 30 holds the gate-source potential of the driving transistor 20 for a predetermined period. The pixel switch 10 and the driving transistor 20 are constituted by, for example, thin film transistors, and here, polysilicon is used for a semiconductor layer.

表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。   The display element is composed of organic EL elements 40 (R, G, B) which are self-luminous elements. That is, the red pixel PXR includes an organic EL element 40R that mainly emits light corresponding to the red wavelength. The green pixel PXG includes an organic EL element 40G that mainly emits light corresponding to the green wavelength. The blue pixel PXB includes an organic EL element 40B that mainly emits light corresponding to the blue wavelength.

各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、図２に示すように、画素毎ＰＸに独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された光活性層、ここでは有機活性層６４と、によって構成されている。   The various organic EL elements 40 (R, G, B) have basically the same configuration. As shown in FIG. 2, the first electrode 60 and the first electrode 60 are formed in an independent island shape for each pixel PX. A second electrode 66 disposed opposite to the pixel PX and formed in common to all the pixels PX, a photoactive layer held between the first electrode 60 and the second electrode 66, here an organic active layer 64, It is constituted by.

画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ２０のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極は蓄積容量素子３０を構成する他方の電極及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極は有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。   Here, the pixel switch 10 is disposed in the vicinity of the intersection between the scanning line Ym and the signal line Xn. The pixel switch 10 has a gate electrode connected to the scanning line Ym, a source electrode connected to the signal line Xn, and a drain electrode connected to one electrode constituting the storage capacitor 30 and the gate electrode of the drive transistor 20. The source electrode of the driving transistor 20 is connected to the other electrode constituting the storage capacitor element 30 and the power supply line P, and the drain electrode is connected to the first electrode 60 of the organic EL element 40.

図２に示すように、アレイ基板１００は、配線基板１２０上に配置された複数の有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。   As shown in FIG. 2, the array substrate 100 includes a plurality of organic EL elements 40 disposed on the wiring substrate 120. Note that the wiring substrate 120 is formed on an insulating support substrate such as a glass substrate or a plastic sheet, the pixel switch 10, the driving transistor 20, the storage capacitor element 30, the scanning line driving circuit 107, the signal line driving circuit 108, and various wirings (scanning). Line, signal line, power supply line, etc.).

有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜（例えば平坦化層）上に配置され、陽極として機能する。   The first electrode 60 constituting the organic EL element 40 is disposed on an insulating film (for example, a planarizing layer) on the surface of the wiring substrate 120 and functions as an anode.

有機活性層６２は、少なくとも発光層を含んでいる。この有機活性層６２は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各色画素に形成される発光層と積層した２層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。有機活性層６２においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。   The organic active layer 62 includes at least a light emitting layer. The organic active layer 62 may include a hole transport layer formed in common for each color as a layer other than the light emitting layer, and may have a two-layer structure laminated with a light emitting layer formed in each color pixel. , A hole injection layer, a blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a buffer layer, and the like, or a layer in which these are functionally combined may be included. In the organic active layer 62, the light emitting layer may be an organic material, and layers other than the light emitting layer may be an inorganic material or an organic material. The light-emitting layer is formed of an organic compound having a light-emitting function that emits red, green, or blue light.

第２電極６６は、有機活性層６４上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、ここでは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：インジウム・ティン・オキサイド）やＩＺＯ（インジウム・ジンク・オキサイド）などの光透過性を有する導電材料や、バリウム（Ｂａ）などの金属材料を用いて形成され、陰極として機能している。   The second electrode 66 is disposed on the organic active layer 64 in common with each organic EL element 40. The second electrode 66 is formed of a metal material having an electron injection function. Here, the second electrode 66 has optical transparency such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). It is formed using a conductive material or a metal material such as barium (Ba) and functions as a cathode.

また、アレイ基板１００は、表示エリア１０２において、少なくとも隣接する色毎に画素ＲＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）間を区画する隔壁７０を備えている。隔壁７０は、各色画素を分離するよう形成することが望ましく、ここでは、隔壁７０は、各第１電極６０の周縁に沿って格子状に配置され、第１電極６０を露出する隔壁の開口形状が矩形となるよう形成されている。この隔壁７０は、樹脂材料によって形成される。   In addition, the array substrate 100 includes a partition wall 70 that partitions the pixels RX (R, G, B) for each adjacent color in the display area 102. The partition wall 70 is preferably formed so as to separate each color pixel. Here, the partition wall 70 is arranged in a lattice shape along the periphery of each first electrode 60, and the opening shape of the partition wall exposing the first electrode 60 is used. Is formed in a rectangular shape. The partition wall 70 is made of a resin material.

このように構成された有機ＥＬ素子４０では、第１電極６０と第２電極６６との間に挟持された有機活性層６４にホール及び電子を注入し、これらを再結合させることにより励起子を生成し、この励起子の失活時に生じる所定波長の光放出により発光する。ここでは、このＥＬ発光は、アレイ基板１００の上面側すなわち第２電極６６側から出射され、表示画面を構成する。   In the organic EL element 40 configured in this way, holes and electrons are injected into the organic active layer 64 sandwiched between the first electrode 60 and the second electrode 66, and these are recombined to generate excitons. It emits light by light emission having a predetermined wavelength that is generated when the exciton is deactivated. Here, the EL light emission is emitted from the upper surface side of the array substrate 100, that is, the second electrode 66 side, and constitutes a display screen.

ところで、有機ＥＬ素子４０は、水分に対して弱い一面を有しているが、その水分を十分に排除することは困難である。このため、有機ＥＬ素子内の水分の分布を制御し、偏りをなくす必要があり、一般的には、有機ＥＬ素子４０を気密に封止するとともに内部に吸湿剤を封入している。   Incidentally, the organic EL element 40 has one surface that is weak against moisture, but it is difficult to sufficiently remove the moisture. For this reason, it is necessary to control the distribution of moisture in the organic EL element to eliminate the bias. In general, the organic EL element 40 is hermetically sealed and a hygroscopic agent is sealed inside.

一方、隔壁７０によって分離された各画素の有機ＥＬ素子４０は、画素毎に配置された第１電極６０及び有機活性層６４、及び、全画素に共通の第２電極６６を備えている。この第２電極６６は、通常、表示エリア１０２内の全域にわたって形成されたベタ膜であり、ある程度の気密性をもって画素間に配置された隔壁７０の全体を覆う。   On the other hand, the organic EL element 40 of each pixel separated by the partition wall 70 includes a first electrode 60 and an organic active layer 64 disposed for each pixel, and a second electrode 66 common to all pixels. The second electrode 66 is normally a solid film formed over the entire area of the display area 102 and covers the entire partition 70 disposed between the pixels with a certain degree of airtightness.

しかしながら、第２電極６６の一部が損傷すると、損傷箇所付近の気密性が低下し、隔壁７０に残存していた水分が発散しやすくなる。このため、損傷箇所付近では、隔壁７０の残存水分が低減し、付近の有機ＥＬ素子４０の劣化を抑制できる。これに対して、第２電極６６によって覆われた付近では、隔壁７０に残存する水分が発散しにくく、付近の有機ＥＬ素子４０を劣化させる原因となる。したがって、第２電極６６の損傷箇所付近と他の箇所とでは、有機ＥＬ素子４０の特性に差が生じてしまい、同一の駆動電流を供給した際に発光輝度に差が生じてしまうことになる。   However, if a part of the second electrode 66 is damaged, the airtightness in the vicinity of the damaged portion is lowered, and the moisture remaining in the partition wall 70 is likely to diverge. For this reason, in the vicinity of the damaged portion, the residual moisture in the partition wall 70 is reduced, and the deterioration of the nearby organic EL element 40 can be suppressed. On the other hand, in the vicinity covered with the second electrode 66, the moisture remaining in the partition wall 70 is unlikely to diverge, causing deterioration of the organic EL element 40 in the vicinity. Therefore, there is a difference in the characteristics of the organic EL element 40 between the vicinity of the damaged portion of the second electrode 66 and another portion, and a difference in emission luminance occurs when the same drive current is supplied. .

そこで、この実施の形態では、図２に示したように、隔壁７０の上面７０Ｔに突起７１を設け、各有機ＥＬ素子４０の第２電極６６は、各画素の有機活性層６４を覆うとともに各画素周辺における隔壁７０の上面７０Ｔにおいて少なくとも突起７１の一部を露出するように配置されている。このように、積極的に隔壁７０と一体の突起７１に露出部分を形成したことにより、各画素を囲む隔壁７０に残存していた水分が発散しやすくなる。   Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 2, the protrusion 71 is provided on the upper surface 70T of the partition wall 70, and the second electrode 66 of each organic EL element 40 covers the organic active layer 64 of each pixel and each In the upper surface 70T of the partition wall 70 around the pixel, at least a part of the protrusion 71 is disposed. As described above, since the exposed portion is positively formed on the protrusion 71 integral with the partition wall 70, moisture remaining on the partition wall 70 surrounding each pixel is easily diffused.

このような発散現象は、表示エリア内の全画素で発生し得るため、局部的に有機ＥＬ素子の特性が変異することを抑制できる。発散した水分は、有機ＥＬ素子４０とともに封入された吸湿剤により吸収される。つまり、全画素について、常に同程度の発散現象を発生し得る構造を備えたことにより、全画素での有機ＥＬ素子の特性差を低減することができ（発光輝度の差を低減することができ）、表示性能を向上することが可能となる。   Such a divergence phenomenon can occur in all the pixels in the display area, so that local variations in the characteristics of the organic EL element can be suppressed. The diffused water is absorbed by the hygroscopic agent enclosed with the organic EL element 40. That is, by providing a structure that can always generate the same degree of divergence for all pixels, it is possible to reduce the difference in characteristics of the organic EL elements in all the pixels (to reduce the difference in emission luminance). ) And display performance can be improved.

隔壁７０及び第２電極６６のより詳細な構造について説明する。すなわち、図２及び図５に示したように、隔壁７０は、上面７０Ｔから突出した柱状の突起７１を有している。なお、図５では、簡略化のために第２電極など詳細な構成要素については省略している。隔壁７０は、略台形上の断面を有しており、突起７１が配置される上面７０Ｔの幅Ｗ１は、例えば３０乃至４０μｍである。このとき、突起７１の底面の幅Ｗ２は、上面７０Ｔの幅Ｗ１より小さく設定され、例えば５乃至６μｍである。このような構成により、隔壁７０の上面７０Ｔ側に段差が形成される。   A more detailed structure of the partition wall 70 and the second electrode 66 will be described. That is, as shown in FIGS. 2 and 5, the partition wall 70 has a columnar protrusion 71 protruding from the upper surface 70T. In FIG. 5, detailed components such as the second electrode are omitted for simplification. The partition wall 70 has a substantially trapezoidal cross section, and the width W1 of the upper surface 70T on which the protrusion 71 is disposed is, for example, 30 to 40 μm. At this time, the width W2 of the bottom surface of the protrusion 71 is set smaller than the width W1 of the upper surface 70T, and is, for example, 5 to 6 μm. With such a configuration, a step is formed on the upper surface 70T side of the partition wall 70.

第２電極６６は、隔壁７０の上面７０Ｔを含む表示エリア１０２内の全体にわたって形成されるが、その一部が上面７０Ｔにおいて突起７１により途切れる。つまり、突起７１の一部（図２に示した例では突起７１の側面７１Ｓの一部）は、第２電極６６によって覆われることなく露出する。このように、少なくとも隔壁７０とつながった突起７１の一部が露出することにより、隔壁７０に残存していた水分を突起７１を介して間接的に発散させることが可能となる。   The second electrode 66 is formed over the entire display area 102 including the upper surface 70T of the partition wall 70, but a part of the second electrode 66 is interrupted by the protrusion 71 on the upper surface 70T. That is, a part of the protrusion 71 (in the example illustrated in FIG. 2, a part of the side surface 71S of the protrusion 71) is exposed without being covered by the second electrode 66. As described above, at least a part of the protrusion 71 connected to the partition wall 70 is exposed, so that moisture remaining in the partition wall 70 can be indirectly diffused through the protrusion 71.

また、図３に示すように、突起７１は、隔壁７０の上面７０Ｔに向かって先細る逆テーパ形状であっても良い。つまり、この突起７１は、その底面の幅Ｗ２がその上面７１Ｔの幅Ｗ３より小さく設定された形状を有している。このような構成により、第２電極６６は、隔壁７０の上面７０Ｔを含む表示エリア１０２内の全体にわたって形成されるが、その一部が上面７０Ｔにおいて途切れる。つまり、突起７１の一部（図３に示した例では突起７１の側面７１Ｓ）及び隔壁７０の一部（図３に示した例では上面７０Ｔの一部）は、第２電極６６によって覆われることなく露出する。   As shown in FIG. 3, the protrusion 71 may have a reverse taper shape that tapers toward the upper surface 70 </ b> T of the partition wall 70. That is, the protrusion 71 has a shape in which the width W2 of the bottom surface is set smaller than the width W3 of the upper surface 71T. With such a configuration, the second electrode 66 is formed over the entire display area 102 including the upper surface 70T of the partition wall 70, but a part of the second electrode 66 is interrupted at the upper surface 70T. That is, a part of the protrusion 71 (side surface 71S of the protrusion 71 in the example shown in FIG. 3) and a part of the partition wall 70 (a part of the upper surface 70T in the example shown in FIG. 3) are covered with the second electrode 66. It exposes without.

このような逆テーパ形状の突起７１を採用した場合、図２に示したような形状の突起７１を採用した場合と比較して、第２電極６６をより途切れやすくすることができ、しかも、第２電極６６から露出する露出面積を拡大できる。特に、突起７１のみならず隔壁７０の一部を露出することができるため、隔壁７０に残存していた水分を直接的に発散させることが可能となる。   When such a reverse-tapered projection 71 is employed, the second electrode 66 can be more easily interrupted than when the projection 71 having the shape shown in FIG. The exposed area exposed from the two electrodes 66 can be enlarged. In particular, since not only the protrusion 71 but a part of the partition wall 70 can be exposed, the water remaining on the partition wall 70 can be directly diffused.

隔壁７０と突起７１とは、同一の樹脂材料を用いて一括して形成してもよいが、隔壁７０の上面７０Ｔに部分的に突起７１を形成することが困難な場合には、突起７１は、隔壁７０を形成する工程より後の別工程で形成しても良い。このとき、隔壁７０と突起７１とは異なる材料を用いて形成しても良い。   The partition wall 70 and the protrusion 71 may be collectively formed using the same resin material. However, when it is difficult to partially form the protrusion 71 on the upper surface 70T of the partition wall 70, the protrusion 71 is Alternatively, it may be formed in a separate step after the step of forming the partition wall 70. At this time, the partition wall 70 and the protrusion 71 may be formed using different materials.

また突起７１は柱状に限らず、画素の各行または各列に沿った長さよりも短い帯状に形成されてもよい。つまり、行方向または列方向で第２電極を分断するものでなければよく、要は、行方向または列方向で連続する箇所を有していればよい。   Further, the protrusion 71 is not limited to the columnar shape, and may be formed in a strip shape shorter than the length along each row or each column of pixels. In other words, the second electrode is not necessarily divided in the row direction or the column direction, and it is essential that the second electrode has a portion that is continuous in the row direction or the column direction.

次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the display device having the above-described configuration will be described.

まず、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦４８０画素、横６４０×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）画素の合計９２万画素からなる表示エリア１０２を有した配線基板１２０を用意する。そして、図４Ａに示すように、配線基板１２０上の表示エリア１０２において画素毎に第１電極６０を形成する。この第１電極６０の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第１電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。   First, a process of forming a metal film and an insulating film, patterning, and the like are repeated, and a wiring board 120 having a display area 102 having a total of 920,000 pixels of 480 vertical pixels and 640 × 3 (R, G, B) pixels. Prepare. Then, as shown in FIG. 4A, the first electrode 60 is formed for each pixel in the display area 102 on the wiring substrate 120. About the formation method of this 1st electrode 60, generally you may form by the photolithography process and may form by the mask sputtering method through the mask which has the pattern of a 1st electrode.

続いて、図４Ｂに示すように、各画素を分離する隔壁７０を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、２２０℃で３０分間の焼成処理を行う。これにより、各画素を囲むような格子状の隔壁７０を形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 4B, a partition wall 70 for separating each pixel is formed. That is, after a photosensitive resin material such as an acrylic type positive tone resist is formed and patterned by a general photolithography process, a baking process is performed at 220 ° C. for 30 minutes. Thereby, a grid-like partition wall 70 surrounding each pixel is formed.

続いて、図４Ｃに示すように、隔壁７０の上面７０Ｔに突起７１を形成する。すなわち、隔壁７０を形成した配線基板１２０の主面に感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に用いて一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングすることにより、突起７１を形成する。   Subsequently, as illustrated in FIG. 4C, a protrusion 71 is formed on the upper surface 70 </ b> T of the partition wall 70. In other words, a photosensitive resin material such as an acrylic type positive tone resist is formed on the main surface of the wiring board 120 on which the partition wall 70 is formed, and is then patterned by a general photolithography process to form the projection 71. To do.

続いて、図４Ｄに示すように、各画素内において、第１電極６０上に発光層の他にホールバッファ層などを含む有機活性層６４を形成する。この有機活性層６４として、高分子系材料を選択する場合には、インクジェット方式で塗布することが可能である。また、有機活性層６４として、低分子系材料を選択する場合には、画素パターンを有するマスクを介した蒸着法で成膜することが可能である。   4D, an organic active layer 64 including a hole buffer layer and the like in addition to the light emitting layer is formed on the first electrode 60 in each pixel. As the organic active layer 64, when a polymer material is selected, it can be applied by an ink jet method. Further, when a low molecular material is selected as the organic active layer 64, it can be formed by a vapor deposition method through a mask having a pixel pattern.

このように、先に説明した隔壁７０及び突起７１の形成工程がフォトリソグラフィプロセスなどのウエット処理を含む場合には、有機活性層６４が水分の影響によりダメージを受けないように、隔壁７０及び突起７１を有機活性層６４より先に形成することが望ましい。なお、隔壁７０及び突起７１の形成工程がマスクスパッタ法などドライ処理のみの場合には、特に形成順序は問わない。   As described above, when the formation process of the partition wall 70 and the protrusion 71 described above includes a wet process such as a photolithography process, the partition wall 70 and the protrusion 70 are prevented from being damaged by the influence of moisture. It is desirable to form 71 before the organic active layer 64. In addition, when the formation process of the partition 70 and the protrusion 71 is only a dry process such as a mask sputtering method, the formation order is not particularly limited.

続いて、図４Ｅに示すように、表示エリア１０２において各画素の有機活性層６４を覆うとともに各画素周辺における隔壁７１の上面７０Ｔにおいて少なくとも突起７１の一部を露出する第２電極６６を形成する。すなわち、陰極として機能する金属膜としてバリウム（Ｂａ）を１０−７Ｐａの真空度において表示エリア１０２の全域に６００オングストロームの膜厚に蒸着し、続けて、カバーメタルとして機能する金属膜としてアルミニウム（Ａｌ）を１５００乃至３０００オングストロームの膜厚で蒸着する。これら第２電極６６及びカバーメタルＣＭは、隔壁７０の上面７０Ｔにおいて突起７１によって途切れ、突起７１の一部を露出する。 4E, a second electrode 66 that covers the organic active layer 64 of each pixel in the display area 102 and exposes at least a part of the protrusion 71 on the upper surface 70T of the partition wall 71 around each pixel is formed. . That is, barium (Ba) is deposited as a metal film functioning as a cathode to a thickness of 600 angstroms over the entire display area 102 at a vacuum degree of 10 −7 Pa, and subsequently aluminum ( Al) is deposited with a film thickness of 1500 to 3000 angstroms. The second electrode 66 and the cover metal CM are interrupted by the protrusion 71 on the upper surface 70T of the partition wall 70, and a part of the protrusion 71 is exposed.

一方で、アレイ基板１００上の表示エリア１０２を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板１００と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機ＥＬ素子４０は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。   On the other hand, in order to seal the display area 102 on the array substrate 100, an ultraviolet curable sealant is applied along the outer periphery of the sealing body, and in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas, The array substrate 100 and the sealing body are bonded together. Thereby, the organic EL element 40 is enclosed in the sealed space of an inert gas atmosphere. Thereafter, the sealing material is cured by irradiating with ultraviolet rays.

このようにして形成したカラー表示型アクティブマトリクス有機ＥＬ表示装置では、同一駆動電流に対して均一な発光輝度が得られ、良好な表示性能が実現できた。しかも、従来方式と比較して輝度半減時間が延び、長期間にわたって製品として十分な性能を維持できることが確認できた。   In the color display type active matrix organic EL display device thus formed, uniform light emission luminance was obtained with respect to the same drive current, and good display performance was realized. In addition, it was confirmed that the luminance half time was extended compared with the conventional method, and that sufficient performance as a product could be maintained over a long period of time.

なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the components without departing from the gist of the invention in the stage of implementation. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

例えば、上述した実施の形態では、突起７１は、隔壁７０とは別の工程で形成したが、これに限らず、突起７１は隔壁７０の一部であって、同一材料を用いて同時に形成しても良い。   For example, in the above-described embodiment, the protrusion 71 is formed in a process separate from the partition wall 70. However, the present invention is not limited to this, and the protrusion 71 is a part of the partition wall 70 and is formed simultaneously using the same material. May be.

図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention. 図２は、図１に示したアレイ基板を表示エリアで切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure when the array substrate shown in FIG. 1 is cut at the display area. 図３は、図１に示したアレイ基板を表示エリアで切断したときの他の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another structure when the array substrate shown in FIG. 1 is cut at the display area. 図４Ａは、有機ＥＬ表示装置を形成するための製造工程を説明するための図であり、第１電極を形成する工程を示す図である。FIG. 4A is a diagram for explaining a manufacturing process for forming the organic EL display device, and shows a process of forming the first electrode. 図４Ｂは、有機ＥＬ表示装置を形成するための製造工程を説明するための図であり、隔壁を形成する工程を示す図である。FIG. 4B is a diagram for explaining a manufacturing process for forming the organic EL display device, and shows a process of forming a partition. 図４Ｃは、有機ＥＬ表示装置を形成するための製造工程を説明するための図であり、突起を形成する工程を示す図である。FIG. 4C is a diagram for explaining a manufacturing process for forming the organic EL display device, and shows a process of forming a protrusion. 図４Ｄは、有機ＥＬ表示装置を形成するための製造工程を説明するための図であり、有機活性層を形成する工程を示す図である。FIG. 4D is a diagram for explaining a manufacturing process for forming the organic EL display device, and shows a process for forming the organic active layer. 図４Ｅは、有機ＥＬ表示装置を形成するための製造工程を説明するための図であり、第２電極及びカバーメタルを形成する工程を示す図である。FIG. 4E is a diagram for explaining a manufacturing process for forming the organic EL display device, and is a diagram illustrating a process of forming a second electrode and a cover metal. 図５は、隔壁上に配置された突起の構造を概略的に示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view schematically showing the structure of the protrusion arranged on the partition wall.

符号の説明Explanation of symbols

１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４…有機活性層、６６…第２電極、７０…隔壁、７１…突起、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、ＰＸ…画素、ＣＭ…カバーメタル   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display apparatus, 10 ... Pixel switch, 20 ... Drive transistor, 30 ... Storage capacitor element, 40 ... Organic EL element, 60 ... 1st electrode, 64 ... Organic active layer, 66 ... 2nd electrode, 70 ... Partition 71 ... Projection, 100 ... Array substrate, 102 ... Display area, 120 ... Wiring substrate, PX ... Pixel, CM ... Cover metal

Claims (8)

マトリクス状の画素によって構成された表示エリアにおいて、
各画素を分離するとともにその上面に突起を有する隔壁と、
画素毎に配置された画素回路と、
画素回路によって駆動制御される表示素子と、を備え、
前記表示素子は、
画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
前記第１電極上に配置された光活性層と、
各画素の前記光活性層を覆うとともに各画素周辺における前記隔壁の上面において少なくとも前記突起の一部を露出するように配置された第２電極と、
を備えたことを特徴とする表示装置。 In a display area composed of matrix-like pixels,
A partition that separates each pixel and has a protrusion on its upper surface;
A pixel circuit arranged for each pixel;
A display element that is driven and controlled by a pixel circuit,
The display element is
A first electrode arranged in an independent island shape for each pixel;
A photoactive layer disposed on the first electrode;
A second electrode arranged to cover the photoactive layer of each pixel and to expose at least a part of the protrusion on the upper surface of the partition wall around each pixel;
A display device comprising: 前記突起は、前記隔壁とは別の工程で形成されたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the protrusion is formed in a process separate from the partition. 前記突起は、前記隔壁の上面に向かって先細る逆テーパ形状であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the protrusion has a reverse taper shape that tapers toward an upper surface of the partition wall. 前記光活性層は、有機活性層であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the photoactive layer is an organic active layer. 前記突起は柱状であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the protrusion has a columnar shape. マトリクス状の画素によって構成された表示エリアを備えた表示装置の製造方法であって、
画素毎に独立島状の第１電極を形成する工程と、
各画素を分離するとともにその上面に突起を有する隔壁を形成する工程と、
前記第１電極上に光活性層を形成する工程と、
表示エリアにおいて各画素の前記光活性層を覆うとともに各画素周辺における前記隔壁の上面において少なくとも前記突起の一部を露出するように第２電極を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。 A method of manufacturing a display device having a display area constituted by matrix-like pixels,
Forming an independent island-shaped first electrode for each pixel;
Separating each pixel and forming a partition having a protrusion on its upper surface;
Forming a photoactive layer on the first electrode;
Forming a second electrode so as to cover the photoactive layer of each pixel in the display area and to expose at least a part of the protrusion on the upper surface of the partition wall around each pixel;
A method for manufacturing a display device, comprising: 前記隔壁を形成する工程は、
各画素の周辺を囲むような隔壁本体を形成する工程と、
隔壁本体の上面に突起を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項６に記載の表示装置の製造方法。 The step of forming the partition wall includes
Forming a partition wall body surrounding the periphery of each pixel;
And a step of forming a protrusion on the upper surface of the partition wall main body. 前記突起は、樹脂材料をフォトリソグラフィプロセスによってパターニングすることにより、前記隔壁の上面に向かって先細る逆テーパ形状に形成することを特徴とする請求項６に記載の表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a display device according to claim 6, wherein the protrusion is formed in a reverse taper shape that tapers toward an upper surface of the partition wall by patterning a resin material by a photolithography process.
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