JP2006156425A - 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 - Google Patents
希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006156425A JP2006156425A JP2004339895A JP2004339895A JP2006156425A JP 2006156425 A JP2006156425 A JP 2006156425A JP 2004339895 A JP2004339895 A JP 2004339895A JP 2004339895 A JP2004339895 A JP 2004339895A JP 2006156425 A JP2006156425 A JP 2006156425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- punch
- lower punch
- mold cavity
- magnetic field
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
【課題】 薄型磁石を形成する場合であっても、クラックや欠けの発生を有効に抑制することのできる希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型を提供することを目的とする。
【解決手段】 下パンチ30を外周側パンチ30Aと内周側パンチ30Bとからなる二重構造とし、微粉砕粉を金型キャビティCに供給するときには、内周側パンチ30Bを上昇させ、外周側パンチ30Aの上面よりも上方に突出させておくことで、金型キャビティCの外周側に、より多くの微粉砕粉を供給するようにした。これにより、磁場中成形によって形成される成形体の密度を、特に外周部において従来手法よりも高め、クラックや欠けの発生等を低減する。
【選択図】図1
【解決手段】 下パンチ30を外周側パンチ30Aと内周側パンチ30Bとからなる二重構造とし、微粉砕粉を金型キャビティCに供給するときには、内周側パンチ30Bを上昇させ、外周側パンチ30Aの上面よりも上方に突出させておくことで、金型キャビティCの外周側に、より多くの微粉砕粉を供給するようにした。これにより、磁場中成形によって形成される成形体の密度を、特に外周部において従来手法よりも高め、クラックや欠けの発生等を低減する。
【選択図】図1
Description
本発明は、希土類焼結磁石の製造方法、およびそれに用いる磁場中成形装置、金型に関する。
モータ等をはじめとする各種電気部品の小型化の要求、およびこれに対応した磁石の特性向上に伴い、磁石厚み寸法の肉薄化が進行している。例えばHDD(Hard Disc Drive)のヘッド駆動用のVCM(Voice Coil Motor)用の磁石は、0.8〜1.5mm程度の薄いものが主流となっている。また、IPM(Interior Permanent Magnet:内部磁石埋め込み)方式のモータに使用される磁石も、断面積が広いが、厚みは2mm前後と薄くなる傾向となっている。
一般に、板状、ブロック状の磁石は、所定組成を有する合金粉末を金型キャビティに充填した後に、印加磁界中で加圧成形して成形体を得た後、この成形体を焼結、熱処理後、厚さ方向に対向する2面を平面研削するか、又は厚さ方向に平行にスライスして製造されている。
しかし、上記したような薄型の磁石を製造する場合、大きな焼結ブロックから製品形状に切り出したのでは、成形性は比較的良好であるものの、スライスコストが割高となるという欠点がある。
そこで、金型キャビティを製品形状に対応したものとし、はじめから製品形状を有した成形品を単品で得ることが行われている。
しかし、上記したような薄型の磁石を製造する場合、大きな焼結ブロックから製品形状に切り出したのでは、成形性は比較的良好であるものの、スライスコストが割高となるという欠点がある。
そこで、金型キャビティを製品形状に対応したものとし、はじめから製品形状を有した成形品を単品で得ることが行われている。
この場合、磁石厚さが薄くなっていくと、金型キャビティに薄く均一に粉を充填することが困難となる。金型キャビティに対し、合金粉末が均一に充填されないと、成形体の密度が不均一になり、特に、密度が低い部分でクラックや欠けが生じやすくなる。
具体的には、薄型磁石を製造する場合、磁界印加方向と加圧方向が平行な平行磁界成形法が用いられることが多いが、金型キャビティに充填した合金粉末に磁界を印加すると、磁束は金型キャビティの外周部に比較し中央部に集中するため、合金粉末も中央部に集中しやすい。
磁石が厚い場合は、加圧する過程で、金型キャビティ中央部の合金粉末が、加圧によって外周部に移動する余地があるが、磁石が薄型になるほどこの移動は生じにくくなるため、上記傾向は、磁石の断面積に対し、厚さが薄くなるほど顕著となる。
具体的には、薄型磁石を製造する場合、磁界印加方向と加圧方向が平行な平行磁界成形法が用いられることが多いが、金型キャビティに充填した合金粉末に磁界を印加すると、磁束は金型キャビティの外周部に比較し中央部に集中するため、合金粉末も中央部に集中しやすい。
磁石が厚い場合は、加圧する過程で、金型キャビティ中央部の合金粉末が、加圧によって外周部に移動する余地があるが、磁石が薄型になるほどこの移動は生じにくくなるため、上記傾向は、磁石の断面積に対し、厚さが薄くなるほど顕著となる。
クラックや欠けが生じる場合、製品形状よりも厚い成形体を形成し、加工工程にて焼結体を厚さ方向に研削し、製品寸法とすることもできるが、研削する量が増えると、材料歩留まりが低下し、また研削に要する時間が増えることになる。特に、希土類磁石の原料は高価なため、希土類磁石を製造する場合には、加工工程での研削代(しろ)は最低限にすることが必要である。
このような問題に対し、合金粉末を収容した容器に撃力を与え、網の開口部を通して金型キャビティに合金粉末を供給することで、合金粉末供給の均一化を図る手法(例えば、特許文献1参照。)や、加圧に用いる上下パンチの間隔を小さくすることで磁力線がほぼ平行となるように磁場を印加する手法(例えば、特許文献2参照。)等が提案されている。
しかしながら、特許文献1に記載されたような手法は、厚さ10mm以上のブロック状の磁石に対しては有効なものの、厚さ3mmといった薄型磁石においては、上記問題の有効な解決手段とは言い切れず、改善の余地がある。
また、特許文献2に記載されたような手法は、磁場中成形時の磁場の影響によって合金粉末が金型キャビティの中央部に集中するという現象に対してはある程度有効なものの、金型キャビティに合金粉末を供給する際に、金型キャビティを構成する臼の内壁面に近い部分には合金粉末が密に入らず、得られた成形体において合金粉末の密度が外周面に近い部分で低くなるという現象に対しては有効な解決手段となっておらず、この現象に起因するクラックや欠けの発生を有効に抑制するに至ってはいないのが現状である。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、薄型磁石を形成する場合であっても、クラックや欠けの発生を有効に抑制することのできる希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型を提供することを目的とする。
また、特許文献2に記載されたような手法は、磁場中成形時の磁場の影響によって合金粉末が金型キャビティの中央部に集中するという現象に対してはある程度有効なものの、金型キャビティに合金粉末を供給する際に、金型キャビティを構成する臼の内壁面に近い部分には合金粉末が密に入らず、得られた成形体において合金粉末の密度が外周面に近い部分で低くなるという現象に対しては有効な解決手段となっておらず、この現象に起因するクラックや欠けの発生を有効に抑制するに至ってはいないのが現状である。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、薄型磁石を形成する場合であっても、クラックや欠けの発生を有効に抑制することのできる希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型を提供することを目的とする。
かかる目的のもとになされた本発明の希土類焼結磁石の製造方法は、金型キャビティに磁性粉末を充填する工程と、金型キャビティ内の磁性粉末を、磁場を印加しつつ加圧することで成形体を形成する工程と、を含むものであり、磁性粉末を充填する工程では、金型キャビティの外周部に、金型キャビティの中央部よりも多くの磁性粉末を充填することを特徴とする。
このように金型キャビティの外周部に、より多くの磁性粉末を供給することで、形成される成形体は、外周部の密度を従来手法よりも向上させることができる。
このように金型キャビティの外周部に、より多くの磁性粉末を供給することで、形成される成形体は、外周部の密度を従来手法よりも向上させることができる。
金型キャビティの外周部に、中央部よりも多くの磁性粉末を充填するには、磁性粉末の供給側を工夫しても良いが、金型キャビティの底面の中央部を上方に突出させた状態で磁性粉末を充填するのが有効である。
このとき、上方に突出させる金型キャビティの底面の中央部の面積を、金型キャビティの全底面積の15〜60%とするのが好ましい。また、金型キャビティの底面の中央部の上方への突出寸法は、形成すべき成形体の厚さの15〜80%とするのが好ましい。より好ましい突出寸法の範囲は、形成すべき成形体の厚さの20〜60%である。
このとき、上方に突出させる金型キャビティの底面の中央部の面積を、金型キャビティの全底面積の15〜60%とするのが好ましい。また、金型キャビティの底面の中央部の上方への突出寸法は、形成すべき成形体の厚さの15〜80%とするのが好ましい。より好ましい突出寸法の範囲は、形成すべき成形体の厚さの20〜60%である。
このような手法は、加圧方向と磁界印加方向が平行な、平行磁界成形法(いわゆる縦磁場成形法)にて、磁化容易軸方向の厚さが薄い、扁平な磁石を形成する際に有効であり、特に、形成される成形体の厚さが6mm以下である場合に用いるのが好ましい。
また、平行磁界成形法では、磁場を印加した状態で金型キャビティへ磁性粉末の充填を行う、磁場充填法を用いるのが有効である。
具体的には次のようにして行われる。磁性粉末の入った材料供給部を金型キャビティ上部に移動させる際に、磁場中成形時のコイル電流に対して10〜60%程度の電流にて、コイルを励磁させる。このようにして下パンチを磁化して磁性粉末を吸引させ、金型キャビティ内への充填を行う。上述の電流値が10%以下では磁場充填の効果が薄く、60%以上では充填の不均一さが大きくなりすぎて、得られた成形体にクラックが生じ易くなる。磁場充填の効果は、充填に要する時間を短縮できることと、磁場中成形時の磁性粉末の配向度が向上することによって、得られた焼結磁石の残留磁束密度が向上することにある。
磁場充填法を用いた場合、無磁場充填で得られた磁石より、残留磁束密度Brが1%前後高いものが得られる。しかし、磁場充填を使用した場合、金型キャビティへの磁性粉末の充填が、より不均一となりやすい。このような場合に本発明の手法を適用することは、磁場充填の磁場を、より高く設定でき残留磁束密度を向上させることができる点で好ましい。
具体的には次のようにして行われる。磁性粉末の入った材料供給部を金型キャビティ上部に移動させる際に、磁場中成形時のコイル電流に対して10〜60%程度の電流にて、コイルを励磁させる。このようにして下パンチを磁化して磁性粉末を吸引させ、金型キャビティ内への充填を行う。上述の電流値が10%以下では磁場充填の効果が薄く、60%以上では充填の不均一さが大きくなりすぎて、得られた成形体にクラックが生じ易くなる。磁場充填の効果は、充填に要する時間を短縮できることと、磁場中成形時の磁性粉末の配向度が向上することによって、得られた焼結磁石の残留磁束密度が向上することにある。
磁場充填法を用いた場合、無磁場充填で得られた磁石より、残留磁束密度Brが1%前後高いものが得られる。しかし、磁場充填を使用した場合、金型キャビティへの磁性粉末の充填が、より不均一となりやすい。このような場合に本発明の手法を適用することは、磁場充填の磁場を、より高く設定でき残留磁束密度を向上させることができる点で好ましい。
また、本発明の磁場中成形装置は、成形すべき成形体の形状に応じた孔を有する臼型と、臼型の孔内に位置する下パンチと、臼型の孔に上側から挿入され、孔内で下パンチと対向するよう昇降可能に設けられた上パンチと、臼型および下パンチによって構成される金型キャビティ内に成形体材料を供給する材料供給部とを備えており、下パンチは孔の径方向に複数に分割されて、中央部側の下パンチと外周部側の下パンチはパンチ駆動機構によって相対的に上下動されるようになっている。
ここで、パンチ駆動機構は、中央部側の下パンチと外周部側の下パンチの双方を上下動させるようにしても良いし、中央部側の下パンチまたは外周部側の下パンチの一方のみを上下動させるようにしても良い。また、下パンチは、径方向に複数に分割するのであれば、2重構造に限らず、3重以上に分割された構造としても良い。
ここで、パンチ駆動機構は、中央部側の下パンチと外周部側の下パンチの双方を上下動させるようにしても良いし、中央部側の下パンチまたは外周部側の下パンチの一方のみを上下動させるようにしても良い。また、下パンチは、径方向に複数に分割するのであれば、2重構造に限らず、3重以上に分割された構造としても良い。
このような構成の磁場中成形装置では、中央部側の下パンチは、材料供給部から金型キャビティに成形体材料が供給されるときには外周部側の下パンチよりも上方に位置し、上パンチと下パンチで金型キャビティ内の成形体材料を加圧成形するときには外周部側の下パンチと略同レベルに位置するよう制御される。これによって、成形体材料が金型キャビティ内で中央部より外周部により多く供給される。上方から単に成形体材料を金型キャビティに落下させて供給した場合であっても、少なくとも、従来よりも外周部側に成形体材料が多く供給されることになる。特に有効なのは、金型キャビティに成形体材料を供給した後、臼型の上面レベルに合わせて成形体材料をすり切り、金型キャビティ内の成形体材料の上面レベルを一定にすることである。これにより、成形体材料が金型キャビティ内で中央部より外周部に、確実に多く供給される。
さらに、本発明の金型は、希土類焼結磁石を製造するに際し、焼結に先立ち原料粉末を磁場中成形するときに用いるものであり、所定形状の孔を有する臼型と、臼型の孔内に位置する下パンチと、臼型の孔に上側から挿入され、孔内で下パンチと対向するよう配置される上パンチと、を備え、下パンチは、径方向に複数に分割され、中央部側の下パンチが、外周部側の下パンチに対し上下方向に移動可能とされていることを特徴とする。
本発明によれば、薄型磁石を形成する場合であっても、金型キャビティの外周部側に、より多くの磁性粉末や成形体材料を供給することで、形成された成形体の密度を、特に外周部において従来手法よりも高めることができ、これによってクラックや欠けの発生等を有効に低減することが可能となる。
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
図1は、本実施の形態における成形装置(磁場中成形装置)10の構成を説明するための図である。
この図1に示すように、成形装置10は、臼型20と下パンチ30とによって形成される金型キャビティC内に原料粉(磁性材料、成形体材料)を充填し、コイル50で磁場を印加しつつ、上パンチ40と下パンチ30で原料粉を加圧することで磁場中成形を行い、成形体を形成するものである。
図1は、本実施の形態における成形装置(磁場中成形装置)10の構成を説明するための図である。
この図1に示すように、成形装置10は、臼型20と下パンチ30とによって形成される金型キャビティC内に原料粉(磁性材料、成形体材料)を充填し、コイル50で磁場を印加しつつ、上パンチ40と下パンチ30で原料粉を加圧することで磁場中成形を行い、成形体を形成するものである。
臼型20は、中央部に開口11aを有した支持プレート11上に設置されている。また、この支持プレート11上には、臼型20の外周部側に、コイル50を構成する下部コイル50Aが設けられている。支持プレート11は、成形装置10のベース12に対し昇降駆動可能とされた下ラム13に、支柱14を介して支持されている。これにより、臼型20と下部コイル50Aは、下ラム13と一体に昇降可能となっている。
この臼型20には、その中央部に、成形すべき成形体の形状に対応した形状の孔21が形成されている。
この臼型20には、その中央部に、成形すべき成形体の形状に対応した形状の孔21が形成されている。
下パンチ30は、臼型20の下方から、孔21に挿入されるような形態で設けられている。この下パンチ30は、全体として孔21に対応した外周形状を有している。下パンチ30は、内外に2分割され、外周側パンチ(外周部側の下パンチ)30Aと内周側パンチ(中央部側の下パンチ)30Bとからなる二重構造とされている。内周側パンチ30Bは、孔21の形状とほぼ相似形で、下パンチ30の加圧断面積、すなわち金型キャビティCの全底面積(成形すべき成形体の面積)に対し15〜60%の面積を有しているのが好ましい。
外周側パンチ30Aは、下ラム13上に、ベース台31を介し、上端部が臼型20の孔21内に位置するように設けられている。
この外周側パンチ30Aには、その中央部に、内周側パンチ30Bに対応した形状の開口32が形成されており、内周側パンチ30Bは、この開口32内に収められている。内周側パンチ30Bは、ガイド部材33を介し、ベース台31に対し昇降自在にガイドされている。さらにこの内周側パンチ30Bは、ベース12上に設けられた油圧または空圧によって駆動される駆動シリンダ(パンチ駆動機構)34によって昇降駆動されるようになっている。
ここで、これら外周側パンチ30Aと内周側パンチ30Bの上面は、成形すべき成形体の面形状に応じ、平面形状とされている(もちろん成形体の面形状が湾曲面であるときには、それに応じた湾曲面形状とする)。そして、図2に示すように、内周側パンチ30Bは、駆動シリンダ34によって昇降させることで、その上面が、外周側パンチ30Aの上面に連続する位置P1と、外周側パンチ30Aの上面よりも上方に所定寸法突出した位置P2との間で、移動可能となっている。
この外周側パンチ30Aには、その中央部に、内周側パンチ30Bに対応した形状の開口32が形成されており、内周側パンチ30Bは、この開口32内に収められている。内周側パンチ30Bは、ガイド部材33を介し、ベース台31に対し昇降自在にガイドされている。さらにこの内周側パンチ30Bは、ベース12上に設けられた油圧または空圧によって駆動される駆動シリンダ(パンチ駆動機構)34によって昇降駆動されるようになっている。
ここで、これら外周側パンチ30Aと内周側パンチ30Bの上面は、成形すべき成形体の面形状に応じ、平面形状とされている(もちろん成形体の面形状が湾曲面であるときには、それに応じた湾曲面形状とする)。そして、図2に示すように、内周側パンチ30Bは、駆動シリンダ34によって昇降させることで、その上面が、外周側パンチ30Aの上面に連続する位置P1と、外周側パンチ30Aの上面よりも上方に所定寸法突出した位置P2との間で、移動可能となっている。
一方、上パンチ40は、図示しない油圧または空圧の駆動シリンダによって昇降可能に設けられた上ラム15の下面に設けられている。また、上ラム15の外周部には、コイル50を構成する上部コイル50Bが設けられている。これにより、上パンチ40および上部コイル50Bは、駆動シリンダ(図示無し)を駆動させることで昇降し、上パンチ40のパンチ面が、臼型20および下パンチ30によって形成される金型キャビティCに、接近・離間できるようになっている。
このような成形装置10は、さらに、金型キャビティCに原料粉を供給する原料供給機構(材料供給部:図示無し)を備える。原料供給機構では、金型キャビティCに、所定量の原料粉を供給する。その供給量管理には、供給する原料粉の重量を用いることもできるが、金型キャビティCへの原料粉の供給高さ(レベル)を用いるのが好ましい。そして、原料粉を金型キャビティCに供給し、原料供給機構に備えたすり切り機構により、供給した原料粉を臼型20の上面レベルですり切るようにするのが好ましい。
成形装置10において、前記の臼型20、下パンチ30、上パンチ40によって、所定形状の成形体を形成するための金型が構成される。この金型は、形成する成形体の形状に応じ、適宜交換して成形装置10に取り付けることができる。
次に、上記したような構成を有する成形装置10を用いた、希土類焼結磁石の製造方法について説明する。
ここでまず、本発明の適用対象の磁石について説明する。
本発明はR−T−B(Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCo)で示されるネオジム系焼結磁石について適用することが望ましい。
R−T−B系焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜37wt%含有する。ここで、RはYを含む概念を有しており、したがってY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuの1種又は2種以上から選択される。Rの量が25wt%未満であると、R−T−B系焼結磁石の主相となるR2T14B相の生成が十分ではなく軟磁性を持つα−Feなどが析出し、保磁力が著しく低下する。一方、Rが37wt%を超えると主相であるR2T14B相の体積比率が低下し、残留磁束密度が低下する。またRが酸素と反応し、含有する酸素量が増え、これに伴い保磁力発生に有効なRリッチ相が減少し、保磁力の低下を招く。したがって、Rの量は25〜37wt%とする。望ましいRの量は28〜35wt%である。
ここでまず、本発明の適用対象の磁石について説明する。
本発明はR−T−B(Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCo)で示されるネオジム系焼結磁石について適用することが望ましい。
R−T−B系焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜37wt%含有する。ここで、RはYを含む概念を有しており、したがってY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuの1種又は2種以上から選択される。Rの量が25wt%未満であると、R−T−B系焼結磁石の主相となるR2T14B相の生成が十分ではなく軟磁性を持つα−Feなどが析出し、保磁力が著しく低下する。一方、Rが37wt%を超えると主相であるR2T14B相の体積比率が低下し、残留磁束密度が低下する。またRが酸素と反応し、含有する酸素量が増え、これに伴い保磁力発生に有効なRリッチ相が減少し、保磁力の低下を招く。したがって、Rの量は25〜37wt%とする。望ましいRの量は28〜35wt%である。
また、本発明が適用されるR−T−B系焼結磁石は、ホウ素(B)を0.5〜4.5wt%含有する。Bが0.5wt%未満の場合には高い保磁力を得ることができない。一方で、Bが4.5wt%を超えると残留磁束密度が低下する傾向がある。したがって、Bの上限を4.5wt%とする。望ましいBの量は0.5〜1.5wt%、さらに望ましいBの量は0.8〜1.2wt%である。
本発明が適用されるR−T−B系焼結磁石は、Coを5.0wt%以下(0を含まず)、望ましくは0.1〜3.0wt%含有することができる。CoはFeと同様の相を形成するが、キュリー温度の向上、粒界相の耐食性向上などに効果がある。
本発明が適用されるR−T−B系焼結磁石は、Coを5.0wt%以下(0を含まず)、望ましくは0.1〜3.0wt%含有することができる。CoはFeと同様の相を形成するが、キュリー温度の向上、粒界相の耐食性向上などに効果がある。
本発明が適用されるR−T−B系焼結磁石は、他の元素の含有を許容する。例えば、Al、Cu、Zr、Ti、Bi、Sn、Ga、Nb、Ta、Si、V、Ag、Ge等の元素を適宜含有させることができる。一方で、酸素、窒素、炭素等の不純物元素を極力低減することが望ましい。特に磁気特性を害する酸素は、その量を7000ppm以下、さらには5000ppm以下とすることが望ましい。酸素量が多いと非磁性成分である希土類酸化物相が増大して、磁気特性を低下させるからである。
このようなR−T−B系焼結磁石は、以下のような工程を経ることで製造される。
以下、各工程の内容を説明する。なお、以下では希土類焼結磁石としてネオジム系焼結磁石であるR−T−B系焼結磁石を例にして説明するが、本発明はこれ以外のSmCo系の希土類焼結磁石に適用できることは言うまでもない。
<原料合金調整>
R−T−B系焼結磁石の原料合金は、真空又は不活性ガス、望ましくはAr雰囲気中でストリップキャスト法、その他公知の溶解法により作製することができる。ストリップキャスト法は、原料金属をArガス雰囲気などの非酸化性雰囲気中で溶解して得た溶湯を回転するロールの表面に噴出させる。ロールで急冷された溶湯は、薄板または薄片(鱗片)状に急冷凝固される。この急冷凝固された合金は、結晶粒径が1〜50μmの均質な組織を有している。原料合金は、ストリップキャスト法に限らず、高周波誘導溶解等の溶解法によって得ることができる。なお、溶解後の偏析を防止するため、例えば水冷銅板に傾注して凝固させることができる。また、還元拡散法によって得られた合金を原料合金として用いることもできる。
以下、各工程の内容を説明する。なお、以下では希土類焼結磁石としてネオジム系焼結磁石であるR−T−B系焼結磁石を例にして説明するが、本発明はこれ以外のSmCo系の希土類焼結磁石に適用できることは言うまでもない。
<原料合金調整>
R−T−B系焼結磁石の原料合金は、真空又は不活性ガス、望ましくはAr雰囲気中でストリップキャスト法、その他公知の溶解法により作製することができる。ストリップキャスト法は、原料金属をArガス雰囲気などの非酸化性雰囲気中で溶解して得た溶湯を回転するロールの表面に噴出させる。ロールで急冷された溶湯は、薄板または薄片(鱗片)状に急冷凝固される。この急冷凝固された合金は、結晶粒径が1〜50μmの均質な組織を有している。原料合金は、ストリップキャスト法に限らず、高周波誘導溶解等の溶解法によって得ることができる。なお、溶解後の偏析を防止するため、例えば水冷銅板に傾注して凝固させることができる。また、還元拡散法によって得られた合金を原料合金として用いることもできる。
<粉砕>
原料合金は粉砕工程に供される。粉砕工程には、粗粉砕工程と微粉砕工程とがある。まず、原料合金を、粒径数百μm程度になるまで粗粉砕する。粗粉砕は、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等を用い、不活性ガス雰囲気中にて行うことが望ましい。粗粉砕に先立って、原料合金に水素を吸蔵させた後に放出させることにより粉砕を行うことが効果的である。水素放出処理は、希土類焼結磁石として不純物となる水素を減少させることを目的として行われる。水素放出のための加熱保持の温度は、200℃以上、望ましくは350℃以上とする。保持時間は、保持温度との関係、原料合金の厚さ等によって変わるが、少なくとも30分以上、望ましくは1時間以上とする。水素放出処理は、真空中又はArガスフローにて行う。なお、水素吸蔵処理、水素放出処理は必須の処理ではない。この水素粉砕を粗粉砕と位置付けて、機械的な粗粉砕を省略することもできる。
原料合金は粉砕工程に供される。粉砕工程には、粗粉砕工程と微粉砕工程とがある。まず、原料合金を、粒径数百μm程度になるまで粗粉砕する。粗粉砕は、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等を用い、不活性ガス雰囲気中にて行うことが望ましい。粗粉砕に先立って、原料合金に水素を吸蔵させた後に放出させることにより粉砕を行うことが効果的である。水素放出処理は、希土類焼結磁石として不純物となる水素を減少させることを目的として行われる。水素放出のための加熱保持の温度は、200℃以上、望ましくは350℃以上とする。保持時間は、保持温度との関係、原料合金の厚さ等によって変わるが、少なくとも30分以上、望ましくは1時間以上とする。水素放出処理は、真空中又はArガスフローにて行う。なお、水素吸蔵処理、水素放出処理は必須の処理ではない。この水素粉砕を粗粉砕と位置付けて、機械的な粗粉砕を省略することもできる。
粗粉砕工程後、微粉砕工程に移る。微粉砕には主にジェットミルが用いられ、粒径数百μm程度の粗粉砕粉末を、平均粒径2.5〜6μm、望ましくは3〜5μmとする。ジェットミルは、高圧の不活性ガスを狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により粗粉砕粉末を加速し、粗粉砕粉末同士の衝突やターゲットあるいは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。微粉砕前の粗紛末に潤滑剤を添加混合しても良く、微粉砕後あるいはその両方で潤滑剤を添加混合しても良い。
<磁場中成形>
以上のようにして得られた微粉砕粉(磁性材料、成形体材料)を、磁場中成形し、成形体を得る。本実施の形態では、加圧方向と印加する磁界の方向が平行な成形法である平行磁界成形法を用いる。
磁場中成形における成形圧力は30〜300MPa(0.3〜3ton/cm2)の範囲とすればよい。成形圧力が低いほど配向性は良好となるが、成形圧力が低すぎると成形体の強度が不足して成形体の加工時に問題が生じるので、この点を考慮して上記範囲から成形圧力を選択する。磁場中成形で得られる成形体の最終的な相対密度は、50〜65%が好ましい。
本発明において印加する磁界は、800〜1600kA/m(10〜20kOe)程度とすればよい。印加する磁界は静磁界に限定されず、パルス状の磁界とすることもできる。また、静磁界とパルス状磁界を併用することもできる。パルス状の磁界を用いる場合は、4000kA/m(50kOe)程度の高い磁界を使用することが可能である。
以上のようにして得られた微粉砕粉(磁性材料、成形体材料)を、磁場中成形し、成形体を得る。本実施の形態では、加圧方向と印加する磁界の方向が平行な成形法である平行磁界成形法を用いる。
磁場中成形における成形圧力は30〜300MPa(0.3〜3ton/cm2)の範囲とすればよい。成形圧力が低いほど配向性は良好となるが、成形圧力が低すぎると成形体の強度が不足して成形体の加工時に問題が生じるので、この点を考慮して上記範囲から成形圧力を選択する。磁場中成形で得られる成形体の最終的な相対密度は、50〜65%が好ましい。
本発明において印加する磁界は、800〜1600kA/m(10〜20kOe)程度とすればよい。印加する磁界は静磁界に限定されず、パルス状の磁界とすることもできる。また、静磁界とパルス状磁界を併用することもできる。パルス状の磁界を用いる場合は、4000kA/m(50kOe)程度の高い磁界を使用することが可能である。
<焼結>
磁場中成形によって得られた成形体を真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結し、R−T−B系焼結磁石を得る。焼結温度は、組成、粉砕方法、平均粒径と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要があるが、1000〜1200℃で1〜10時間程度焼結すればよい。
焼結後、得られた焼結体に時効処理を施すことができる。この工程は、保磁力を制御する重要な工程である。時効処理を2段に分けて行う場合には、800℃近傍、600℃近傍での所定時間の保持が有効である。800℃近傍での熱処理を焼結後に行うと、保磁力が増大するため特に有効である。また、600℃近傍の熱処理で保磁力が大きく増加するため、時効処理を1段で行う場合には、600℃近傍の時効処理を施すとよい。
磁場中成形によって得られた成形体を真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結し、R−T−B系焼結磁石を得る。焼結温度は、組成、粉砕方法、平均粒径と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要があるが、1000〜1200℃で1〜10時間程度焼結すればよい。
焼結後、得られた焼結体に時効処理を施すことができる。この工程は、保磁力を制御する重要な工程である。時効処理を2段に分けて行う場合には、800℃近傍、600℃近傍での所定時間の保持が有効である。800℃近傍での熱処理を焼結後に行うと、保磁力が増大するため特に有効である。また、600℃近傍の熱処理で保磁力が大きく増加するため、時効処理を1段で行う場合には、600℃近傍の時効処理を施すとよい。
<保護膜形成>
以上のようにして得られた希土類焼結磁石、特にR−T−B系焼結磁石は、その表面に電解めっきによる保護膜を形成することができる。保護膜の材質としては、Ni、Ni−P、Cu、Zn、Cr、Sn、Alのいずれかを用いることができるし、他の材質を用いることもできる。また、これらの材質を複層として被覆することもできる。
電解めっきによる保護膜は本発明の典型的な形態であるが、他の手法による保護膜を設けることもできる。他の手法による保護膜としては、無電解めっき、クロメート処理をはじめとする化成処理及び樹脂塗装膜のいずれか又は組み合せが実用的である。特に清浄性の要求から、VCM用磁石は、表面硬度の高いNiめっきが好んで用いられる。
保護膜の厚さは、磁石素体のサイズ、要求される耐食性のレベル等によって変動させる必要があるが、1〜100μmの範囲で適宜設定すればよい。望ましい保護膜の厚さは1〜50μmである。
以上のようにして得られた希土類焼結磁石、特にR−T−B系焼結磁石は、その表面に電解めっきによる保護膜を形成することができる。保護膜の材質としては、Ni、Ni−P、Cu、Zn、Cr、Sn、Alのいずれかを用いることができるし、他の材質を用いることもできる。また、これらの材質を複層として被覆することもできる。
電解めっきによる保護膜は本発明の典型的な形態であるが、他の手法による保護膜を設けることもできる。他の手法による保護膜としては、無電解めっき、クロメート処理をはじめとする化成処理及び樹脂塗装膜のいずれか又は組み合せが実用的である。特に清浄性の要求から、VCM用磁石は、表面硬度の高いNiめっきが好んで用いられる。
保護膜の厚さは、磁石素体のサイズ、要求される耐食性のレベル等によって変動させる必要があるが、1〜100μmの範囲で適宜設定すればよい。望ましい保護膜の厚さは1〜50μmである。
さて、上記したような工程を経ることで、R−T−B系焼結磁石が製造されるわけであるが、ここで、磁場中成形工程について詳述する。
磁場中成形工程では、図1に示した成形装置10を用いる。
まず、図3(a)に示すように、上パンチ40を上昇させて下パンチ30から離した状態で、臼型20と下パンチ30とによって形成される金型キャビティCに、図示しない原料供給機構により、微粉砕粉100を供給する。このとき、図2に示したように、下パンチ30は、内周側パンチ30Bを駆動シリンダ34によって上昇させ、その上面を外周側パンチ30Aの上面よりも上方に所定寸法突出した位置P2に位置させておく。
磁場中成形工程では、図1に示した成形装置10を用いる。
まず、図3(a)に示すように、上パンチ40を上昇させて下パンチ30から離した状態で、臼型20と下パンチ30とによって形成される金型キャビティCに、図示しない原料供給機構により、微粉砕粉100を供給する。このとき、図2に示したように、下パンチ30は、内周側パンチ30Bを駆動シリンダ34によって上昇させ、その上面を外周側パンチ30Aの上面よりも上方に所定寸法突出した位置P2に位置させておく。
この状態で、微粉砕粉100を所定量供給した後、供給を停止する。このとき、原料供給機構に備えたすり切り機構により、金型キャビティCに供給した微粉砕粉100を臼型20の上面レベルですり切る。
このようにすると、内周側パンチ30Bに対応した部分と、外周側パンチ30Aに対応した部分とでは、微粉砕粉100の供給量(レベル)が異なり、金型キャビティC内において外周部に微粉砕粉100がより多く供給された状態となる。
このようにすると、内周側パンチ30Bに対応した部分と、外周側パンチ30Aに対応した部分とでは、微粉砕粉100の供給量(レベル)が異なり、金型キャビティC内において外周部に微粉砕粉100がより多く供給された状態となる。
微粉砕粉100の供給後、図3(b)に示すように、下パンチ30の内周側パンチ30Bを駆動シリンダ34によって下降させ、その上面が外周側パンチ30Aの上面とほぼ同レベルの位置P1となるように移動させる。すると、図4に示すように、金型キャビティC内の微粉砕粉100は、外周部に対し、内周側パンチ30Bに対応した中央部分が低くなる。
これとともに、図5(a)に示すように、上パンチ40を下降させ、金型キャビティC内の微粉砕粉100を下パンチ30との間で挟み込み、所定の加圧力で加圧する。このとき、下部コイル50Aおよび上部コイル50Bでは所定強度の磁界を発生し、金型キャビティC内の微粉砕粉100に対し磁場を印加する。なお、上パンチ40の下降タイミングは、内周側パンチ30Bの下降と並行させてもよいし、内周側パンチ30Bの下降が完了してからとしてもよい。また、下部コイル50Aおよび上部コイル50Bによる磁界発生のタイミングも、何ら限定する意図は無い。
このようにして金型キャビティC内の微粉砕粉100に対し磁場を印加しつつ加圧することで、所定形状、サイズを有した成形体Sが形成される。
加圧の完了後、図5(b)に示すように、下ラム13を下げて、臼型20および下部コイル50Aを下パンチ30の上面と略同レベルまで下降させるとともに、上パンチ40を上昇させて退避させ、成形体Sを取り出す。
加圧の完了後、図5(b)に示すように、下ラム13を下げて、臼型20および下部コイル50Aを下パンチ30の上面と略同レベルまで下降させるとともに、上パンチ40を上昇させて退避させ、成形体Sを取り出す。
このようにして、外周側により多くの微粉砕粉100を供給することで、形成された成形体Sの密度を、特に外周部において従来手法よりも高めることができ、これによってクラックや欠けの発生等を低減することが可能となる。また、外周側により多くの微粉砕粉100を供給するには、二重構造の外周側パンチ30A、内周側パンチ30Bからなる下パンチ30という、機械的な構成を用いるようにした。例えば微粉砕粉100の供給機構側で工夫し、外周側により多くの微粉砕粉100を供給することもできるが、この場合には、供給時における微粉砕粉100の挙動によって、金型キャビティC内への微粉砕粉100の供給状況に変動が生じることもある。これに対し上記のような機械的構成を用いることで、そのような変動要素を排し、毎回、安定した微粉砕粉100の供給を行うことができる。
32.0wt%Nd−0.5wt%Co−1.0wt%B−残部Feの組成の合金をストリップキャスト法で作製、水素吸排出により粗粉化させた後、ジェットミルで窒素ガスを用いて粉砕して平均粒径4μmの原料合金粉を得た。
この原料合金粉を、図1に示したような構成の成形装置10を用い、1200kA/mの磁場中で100MPaの圧力で成形し、図6(a)に示すような扇形の成形体Sを作製した。
このとき、扇形をなした成形体Sの外周側の曲率半径(外半径)R、内周側の曲率半径(内半径)r、広がり角度θは、表1の条件1の通りとした。
この原料合金粉を、図1に示したような構成の成形装置10を用い、1200kA/mの磁場中で100MPaの圧力で成形し、図6(a)に示すような扇形の成形体Sを作製した。
このとき、扇形をなした成形体Sの外周側の曲率半径(外半径)R、内周側の曲率半径(内半径)r、広がり角度θは、表1の条件1の通りとした。
条件1のような成形体Sを形成するため、上パンチ40、下パンチ30のパンチ面の面積、すなわち加圧断面積は、12.5cm2を有するものとし、内周側パンチ30Bの面積(中子面積)を4.6cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を36.8%とした。
そして、加圧成形後の成形体Sの厚みが、7.5、5.4、3.2mmとなるように、それぞれ加圧成形を行った。このとき、内周側パンチ30Bの外周側パンチ30Aに対する突出量(中子突き出し量)は0mm、すなわち内周側パンチ30Bと外周側パンチ30Aを同一レベルとして、従来手法と同等の条件とした。
得られた成形体Sについて、クラックや欠けの発生を目視にて確認した。表1に、クラックや欠けの発生した成形体Sの10個あたりの数を示す。
そして、加圧成形後の成形体Sの厚みが、7.5、5.4、3.2mmとなるように、それぞれ加圧成形を行った。このとき、内周側パンチ30Bの外周側パンチ30Aに対する突出量(中子突き出し量)は0mm、すなわち内周側パンチ30Bと外周側パンチ30Aを同一レベルとして、従来手法と同等の条件とした。
得られた成形体Sについて、クラックや欠けの発生を目視にて確認した。表1に、クラックや欠けの発生した成形体Sの10個あたりの数を示す。
表1に示すように、成形体Sの厚みが7.5mmであった比較条件1ではクラックや欠けの発生量が0であったのに対し、厚みが5.4、3.2mmである比較条件2、3では、成形体Sが薄くなるほどクラックや欠けの発生量が増加することが確認された。
そこで、クラックや欠けが発生していた厚さ5.4、3.2mmの成形体Sの成形に際し、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を表1のように変化させ、上記と同様の条件で成形を行った。
その結果を表1に示す。
その結果を表1に示す。
表1に示すように、厚さ5.4mmの成形体Sにおいては、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を1.0mmとした実施条件1において、クラックや欠けの発生個数が0となった。
また、厚さ3.2mmの成形体Sでは、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0.3〜3.0mmに変化させたが(実施条件2〜9)、いずれの場合も、クラックや欠けの発生個数は比較条件3に対して減少した。特に、突出量を0.5〜2.0mmとした実施条件3〜8においては、クラックや欠けの発生個数は2個以下であった。これにより、内周側パンチ30Bの突出量は、0.2〜3.5mm、特に0.7〜1.4mmとするのが好ましく、また成形体Sの厚さに対する内周側パンチ30Bの突出量の比で言えば、15〜80%、特に20〜60%とするのが好ましい、と言える。
また、厚さ3.2mmの成形体Sでは、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0.3〜3.0mmに変化させたが(実施条件2〜9)、いずれの場合も、クラックや欠けの発生個数は比較条件3に対して減少した。特に、突出量を0.5〜2.0mmとした実施条件3〜8においては、クラックや欠けの発生個数は2個以下であった。これにより、内周側パンチ30Bの突出量は、0.2〜3.5mm、特に0.7〜1.4mmとするのが好ましく、また成形体Sの厚さに対する内周側パンチ30Bの突出量の比で言えば、15〜80%、特に20〜60%とするのが好ましい、と言える。
次に、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積に対する内周側パンチ30Bの面積を変化させた。ここでは、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積を上記と同様の12.5cm2、内周側パンチ30Bの面積(中子面積)を1.6cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を12.8%とし、上記と同様、厚さ3.2mmの成形体Sを成形した。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0〜3.0mmに変化させた。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0〜3.0mmに変化させた。
その結果、表1に示すように、内周側パンチ30Bの突出量を0mmとした比較条件4に対し、内周側パンチ30Bを突出させた実施条件10〜12では、いずれも、クラックや欠けの発生が減少した。しかし、実施条件2〜8等と比較すると、実施条件10〜12では、いずれの条件でも、クラックや欠けの発生が多かった。これにより、加圧断面積に対する内周側パンチ30Bの面積の比(中子面積比)は、15%以上とするのが好ましいと言える。
さらに、成形体Sの大きさを変えた。
扇形をなした成形体Sの外周側の曲率半径(外半径)R、内周側の曲率半径(内半径)r、広がり角度θは、表1の条件1の通りとした。これにより、比較条件5、実施条件13〜17では、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は6.0cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を1.2cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を20.0%とし、上記と同様、厚さ3.2mmの成形体Sを成形した。また、比較条件6、7、実施条件18では、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は2.8cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を0.7cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を25.0%とし、厚さ3.2mm、2.8mmの成形体Sを成形した。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を、比較条件5、実施条件13〜17では0〜2.0mmに、比較条件6、7、実施条件18では0〜0.8mmに、それぞれ変化させた。
扇形をなした成形体Sの外周側の曲率半径(外半径)R、内周側の曲率半径(内半径)r、広がり角度θは、表1の条件1の通りとした。これにより、比較条件5、実施条件13〜17では、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は6.0cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を1.2cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を20.0%とし、上記と同様、厚さ3.2mmの成形体Sを成形した。また、比較条件6、7、実施条件18では、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は2.8cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を0.7cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を25.0%とし、厚さ3.2mm、2.8mmの成形体Sを成形した。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を、比較条件5、実施条件13〜17では0〜2.0mmに、比較条件6、7、実施条件18では0〜0.8mmに、それぞれ変化させた。
その結果、表1に示すように、比較条件5、実施条件13〜17においては、内周側パンチ30Bの突出量を0mmとした比較条件5に対し、内周側パンチ30Bを突出させた実施条件13〜17では、いずれも、クラックや欠けの発生が減少した。特に、突出量を0.5〜1.8mmとした実施条件13〜16においては、クラックや欠けの発生個数は1個以下であった。これにより、この場合においても、成形体Sの厚さに対する内周側パンチ30Bの突出量の比は、15〜80%、特に20〜60%とするのが好ましいことが確認された。
また、さらに小さい加圧断面積の比較条件6、7、実施条件18においては、厚さ3.2mmの成形体Sを形成した比較条件6では、クラックや欠けが発生しなかったものの、比較条件7において成形体Sの厚さを2.8mmと薄くすると、クラックや欠けの発生が増加した。そこで、実施条件18において、内周側パンチ30Bの突出量を0.8mmとすると、クラックや欠けの発生が減少した。
また、さらに小さい加圧断面積の比較条件6、7、実施条件18においては、厚さ3.2mmの成形体Sを形成した比較条件6では、クラックや欠けが発生しなかったものの、比較条件7において成形体Sの厚さを2.8mmと薄くすると、クラックや欠けの発生が増加した。そこで、実施条件18において、内周側パンチ30Bの突出量を0.8mmとすると、クラックや欠けの発生が減少した。
続いて、成形体Sの形状を変えて確認を行った。
形成する成形体Sの形状を図6(b)に示すような長方形とし、長辺A、短辺Bをそれぞれ表1に示す寸法とした。
これにより、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は19.3cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を11cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を57.0%とし、上記と同様、厚さ5.2mmの成形体Sを成形した。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0〜4.0mmに変化させた。その結果を表2に示す。
形成する成形体Sの形状を図6(b)に示すような長方形とし、長辺A、短辺Bをそれぞれ表1に示す寸法とした。
これにより、上パンチ40、下パンチ30による加圧断面積は19.3cm2となり、内周側パンチ30Bは、面積(中子面積)を11cm2、加圧断面積に対する中子面積の比(中子面積比)を57.0%とし、上記と同様、厚さ5.2mmの成形体Sを成形した。
このとき、下パンチ30の内周側パンチ30Bの突出量を0〜4.0mmに変化させた。その結果を表2に示す。
その結果、表2に示すように、内周側パンチ30Bの突出量を0mmとした比較条件8に対し、内周側パンチ30Bを突出させた実施条件19〜22では、いずれも、クラックや欠けの発生が減少した。特に、突出量を1.0〜3.0mmとした実施条件19〜21においては、クラックや欠けの発生個数は1個以下であった。これにより、この場合においても、成形体Sの厚さに対する内周側パンチ30Bの突出量の比は、15〜80%、特に20〜60%とするのが好ましいことが確認された。
さらに、実施条件14で成形体Sを磁場中形成するに際し、コイル50を0、50、100、200、300、400、500Aの電流にて励磁させ、これによって下パンチ30を磁化させて磁性粉末を金型キャビティC内に吸引させて充填した。
このようにして得られた成形体Sを、1100℃で4時間の条件で焼結を行った後、800℃および600℃の時効処理を各1時間行い、R−T−B系焼結磁石を得た。
そして、得られたR−T−B系焼結磁石について、残留磁束密度Brを測定した。
その結果、図7に示すように、コイル50を50〜300Aの電流で励磁させることで、コイル50を励磁させない場合に比較し、残留磁束密度Brが0.4〜1%程度向上した。コイル50を400、500Aの電流で励磁させた場合は、成形体Sにクラックが発生してしまった。これは下パンチ30の磁化が過度になり、金型キャビティC内で磁性粉末が偏ってしまったためと推察される。
このようにして得られた成形体Sを、1100℃で4時間の条件で焼結を行った後、800℃および600℃の時効処理を各1時間行い、R−T−B系焼結磁石を得た。
そして、得られたR−T−B系焼結磁石について、残留磁束密度Brを測定した。
その結果、図7に示すように、コイル50を50〜300Aの電流で励磁させることで、コイル50を励磁させない場合に比較し、残留磁束密度Brが0.4〜1%程度向上した。コイル50を400、500Aの電流で励磁させた場合は、成形体Sにクラックが発生してしまった。これは下パンチ30の磁化が過度になり、金型キャビティC内で磁性粉末が偏ってしまったためと推察される。
10…成形装置(磁場中成形装置)、20…臼型、21…孔、30…下パンチ、30A…外周側パンチ(外周部側の下パンチ)、30B…内周側パンチ(中央部側の下パンチ)、34…駆動シリンダ(パンチ駆動機構)、40…上パンチ、50…コイル、100…微粉砕粉、C…金型キャビティ、S…成形体
Claims (9)
- 金型キャビティに磁性粉末を充填する工程と、
前記金型キャビティ内の前記磁性粉末を、磁場を印加しつつ加圧することで成形体を形成する工程と、
を含み、
前記磁性粉末を充填する工程では、前記金型キャビティの外周部に、該金型キャビティの中央部よりも多くの前記磁性粉末を充填することを特徴とする希土類焼結磁石の製造方法。 - 形成される前記成形体の厚さが6mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
- 前記磁性粉末を充填する工程では、前記金型キャビティの底面の中央部を上方に突出させた状態で前記磁性粉末を充填することを特徴とする請求項1または2に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
- 上方に突出させる前記金型キャビティの底面の中央部の面積を、前記金型キャビティの全底面積の15〜60%とすることを特徴とする請求項3に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
- 前記金型キャビティの底面の中央部の上方への突出寸法を、形成すべき前記成形体の厚さの15〜80%とすることを特徴とする請求項3または4に記載の希土類焼結磁石の製造方法。
- 成形すべき成形体の形状に応じた孔を有する臼型と、
前記臼型の前記孔内に位置し、前記孔の径方向に複数に分割された下パンチと、
複数に分割された前記下パンチにおいて、中央部側の前記下パンチと外周部側の前記下パンチを相対的に上下動させるパンチ駆動機構と、
前記臼型の前記孔に上側から挿入され、前記孔内で前記下パンチと対向するよう昇降可能に設けられた上パンチと、
前記臼型および前記下パンチによって構成される金型キャビティ内に成形体材料を供給する材料供給部と、を備えることを特徴とする磁場中成形装置。 - 前記中央部側の下パンチは、前記材料供給部から前記金型キャビティに前記成形体材料が供給されるときには前記外周部側の下パンチよりも上方に位置し、前記上パンチと前記下パンチで前記金型キャビティ内の前記成形体材料を加圧成形するときには前記外周部側の下パンチと略同レベルに位置するよう制御されることを特徴とする請求項6に記載の磁場中成形装置。
- 前記成形体材料が前記金型キャビティ内で中央部より外周部により多く供給されるよう、前記中央部側の下パンチを前記外周部側の下パンチよりも上方に位置させることを特徴とする請求項7に記載の磁場中成形装置。
- 希土類焼結磁石を製造するに際し、焼結に先立ち原料粉末を磁場中成形するときに用いる金型であって、
所定形状の孔を有する臼型と、
前記臼型の前記孔内に位置する下パンチと、
前記臼型の前記孔に上側から挿入され、前記孔内で前記下パンチと対向するよう配置される上パンチと、を備え、
前記下パンチは、径方向に複数に分割され、中央部側の前記下パンチが、外周部側の前記下パンチに対し上下方向に移動可能とされていることを特徴とする金型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004339895A JP2006156425A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004339895A JP2006156425A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006156425A true JP2006156425A (ja) | 2006-06-15 |
Family
ID=36634359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004339895A Pending JP2006156425A (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006156425A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103736997A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-23 | 昆山优磁电子有限公司 | 一种rm型磁芯模具 |
JP2014168787A (ja) * | 2013-03-01 | 2014-09-18 | Denso Corp | 粉末成形装置 |
KR20150052271A (ko) * | 2012-10-18 | 2015-05-13 | 도요타 지도샤(주) | 희토류 자석의 제조 방법 |
DE102014003726A1 (de) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Gkn Sinter Metals Engineering Gmbh | Presse zum Herstellen maßhaltiger Grünlinge und Verfahren zum Herstellen |
EP2930727A1 (en) | 2014-04-09 | 2015-10-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing rare earth sintered magnet |
WO2019202172A3 (en) * | 2019-04-23 | 2019-11-28 | Siemens Gamesa Renewable Energy A/S | Manufacturing sintered permanent magnets with a reduced deformation |
CN111640552A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-08 | 华中科技大学 | 一种永磁体压制成型方法及装置 |
CN113488304A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-08 | 马桂英 | 一种复合永磁材料及其加工工艺 |
CN117564880A (zh) * | 2024-01-16 | 2024-02-20 | 成都晨航磁业有限公司 | 一种瓦块型磁片的制作方法及制作设备 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6126205A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 希土類磁石の製法 |
JPS6137399A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-22 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | 圧粉体の成形方法とその装置 |
JPS61247009A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 永久磁石材の製法 |
JPH09165602A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-24 | Nippon Koshuha Kogyo Kk | リング磁石の成形方法 |
JP2001191199A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-17 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 成形装置、磁粉供給方法および希土類磁石 |
JP2004244708A (ja) * | 2003-02-17 | 2004-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 磁性粉充填装置及び磁性粉充填方法 |
-
2004
- 2004-11-25 JP JP2004339895A patent/JP2006156425A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6126205A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 希土類磁石の製法 |
JPS6137399A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-22 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | 圧粉体の成形方法とその装置 |
JPS61247009A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 永久磁石材の製法 |
JPH09165602A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-24 | Nippon Koshuha Kogyo Kk | リング磁石の成形方法 |
JP2001191199A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-17 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 成形装置、磁粉供給方法および希土類磁石 |
JP2004244708A (ja) * | 2003-02-17 | 2004-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 磁性粉充填装置及び磁性粉充填方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150052271A (ko) * | 2012-10-18 | 2015-05-13 | 도요타 지도샤(주) | 희토류 자석의 제조 방법 |
KR101690896B1 (ko) | 2012-10-18 | 2016-12-28 | 도요타 지도샤(주) | 희토류 자석의 제조 방법 |
JP2014168787A (ja) * | 2013-03-01 | 2014-09-18 | Denso Corp | 粉末成形装置 |
CN103736997A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-23 | 昆山优磁电子有限公司 | 一种rm型磁芯模具 |
DE102014003726A1 (de) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Gkn Sinter Metals Engineering Gmbh | Presse zum Herstellen maßhaltiger Grünlinge und Verfahren zum Herstellen |
US20150294788A1 (en) * | 2014-04-09 | 2015-10-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing rare earth sintered magnet |
CN104972115A (zh) * | 2014-04-09 | 2015-10-14 | 信越化学工业株式会社 | 用于制备稀土烧结磁体的方法 |
JP2015201568A (ja) * | 2014-04-09 | 2015-11-12 | 信越化学工業株式会社 | 希土類焼結磁石の製造方法 |
EP2930727A1 (en) | 2014-04-09 | 2015-10-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing rare earth sintered magnet |
US9711280B2 (en) | 2014-04-09 | 2017-07-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for preparing rare earth sintered magnet |
WO2019202172A3 (en) * | 2019-04-23 | 2019-11-28 | Siemens Gamesa Renewable Energy A/S | Manufacturing sintered permanent magnets with a reduced deformation |
CN111640552A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-08 | 华中科技大学 | 一种永磁体压制成型方法及装置 |
CN113488304A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-08 | 马桂英 | 一种复合永磁材料及其加工工艺 |
CN117564880A (zh) * | 2024-01-16 | 2024-02-20 | 成都晨航磁业有限公司 | 一种瓦块型磁片的制作方法及制作设备 |
CN117564880B (zh) * | 2024-01-16 | 2024-03-22 | 成都晨航磁业有限公司 | 一种瓦块型磁片的制作方法及制作设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2760032B1 (en) | Manufacturing method of R-T-B-M-C sintered magnet | |
JP2006228937A (ja) | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置 | |
EP1830371A1 (en) | Method for producing rare earth permanent magnet material | |
EP2913832B1 (en) | Preparation of rare earth permanent magnet | |
EP1845536A2 (en) | Method for preparing rare earth permanent magnet material | |
EP1845535A2 (en) | Method for preparing permanent magnet material | |
CN105448444B (zh) | 一种制备性能改善的稀土永磁材料的方法及稀土永磁材料 | |
JP4484063B2 (ja) | 磁場中成形方法、希土類焼結磁石の製造方法 | |
JP4433282B2 (ja) | 希土類磁石の製造方法及び製造装置 | |
JP2007270235A (ja) | 磁場中成形装置、金型、希土類焼結磁石の製造方法 | |
JP2006156425A (ja) | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置、金型 | |
JP2007098424A (ja) | 磁場中成形装置、金型、希土類焼結磁石の製造方法 | |
JP2007180149A (ja) | 磁場中成形装置及び金型 | |
JP2007103606A (ja) | 磁場中成形装置、金型 | |
JP4513968B2 (ja) | 希土類焼結磁石の製造方法、磁場中成形装置 | |
JP4556236B2 (ja) | 希土類磁石焼結用敷板及びそれを用いた希土類磁石の製造方法 | |
JP2006187775A (ja) | 粉末成形装置及び粉末成形方法 | |
JP2005197299A (ja) | 希土類焼結磁石及びその製造方法 | |
JP3751629B1 (ja) | 磁場中成形装置、磁場中成形方法 | |
JP4561644B2 (ja) | 粉末成形方法及び粉末成形装置 | |
JP5000882B2 (ja) | 磁場中成形方法、磁場中成形装置及び焼結体の製造方法 | |
JP5043307B2 (ja) | 焼結磁石の製造方法及び磁場中成形装置 | |
JP2005268668A (ja) | 希土類焼結磁石の製造方法及び製造装置 | |
JP6421551B2 (ja) | R−t−b系焼結磁石 | |
JP2006041295A (ja) | 希土類焼結磁石の製造方法及びvcm用磁石の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20100304 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100317 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20100804 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |