JP2006154770A

JP2006154770A - Anti-glare anti-reflection film, polarizing plate, and image display device

Info

Publication number: JP2006154770A
Application number: JP2005307411A
Authority: JP
Inventors: Yuzo Muramatsu; 雄造村松
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2004-10-28
Filing date: 2005-10-21
Publication date: 2006-06-15

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stably provide an anti-reflection film having excellent anti-glare properties and good coat surface conditions and a polarizing plate which is subjected to anti-reflection treatment by a proper means and an image display device comprising the same. <P>SOLUTION: The anti-glare anti-reflection film comprises an anti-glare layer and at least one low refractive index layer provided on or above a transparent support, wherein the anti-glare layer is a layer formed by spreading a coating composition for anti-glare layer, the coating composition for the anti-glare layer to be spread comprises a polymer compound and the coating composition for the anti-glare layer shows a viscosity rise of 3 mPa.s to 10 mPa.s due to the incorporation of the polymer compound, The polarizing plate and the image forming device use the anti-reflection film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置に関する。 The present invention relates to an antiglare antireflection film, a polarizing plate using the same, and an image display device.

近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）は大画面化が進み、光学機能フィルム、例えば反射防止フィルムを配置した液晶表示装置が増大している。
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。反射防止フィルムに反射防止能を付与するための１手段として防眩層が設置されることもある。この層に透光性粒子を含有することで、効果の一つとして防眩性等が発現される。防眩性は反射防止フィルムの表面形状に大きく依存し、防眩層に含有する透光性粒子が表面凹凸を大きくすることで、反射光を散乱させ、画像の映り込みを減らしている。また、反射防止フィルムには、防眩効果と合わせて反射光量を減らすために低屈折率層を上層に設けることも行われる。ところが透明機能層を複数塗設した光学フィルムでは、密着性が問題となることがあり、このために関係する層にある種の透明高分子化合物を含有することも行われる（特許文献１）。 In recent years, liquid crystal display devices (LCDs) have been increased in screen size, and liquid crystal display devices provided with an optical functional film such as an antireflection film are increasing.
Antireflection films are used in various image display devices such as liquid crystal display devices (LCD), plasma display panels (PDP), electroluminescence displays (ELD), and cathode ray tube display devices (CRT) to reflect external light and In order to prevent a decrease in contrast due to reflection, it is arranged on the surface of the display. An antiglare layer may be installed as one means for imparting antireflection ability to the antireflection film. By including translucent particles in this layer, anti-glare properties and the like are exhibited as one of the effects. The antiglare property greatly depends on the surface shape of the antireflection film, and the translucent particles contained in the antiglare layer increase the surface unevenness, thereby scattering the reflected light and reducing the reflection of the image. The antireflection film is also provided with a low refractive index layer as an upper layer in order to reduce the amount of reflected light in combination with the antiglare effect. However, in an optical film in which a plurality of transparent functional layers are coated, adhesion may be a problem. For this reason, a certain type of transparent polymer compound is also contained in the related layers (Patent Document 1).

他方、近年、表面凹凸を大きくする因子のひとつに透光性粒子自身の層内分散性（または凝集性）があげられ、この透光性粒子の層内分散性が該層を形成するための塗布液の物性に依存することが分かってきた（特許文献２）。
発明者らの研究によって、この物性制御のために特許文献１で用いられたような高分子化合物類が有効であることが分かったが、この高分子化合物を単に用いただけでは改良効果が十分ではなく、特定の高分子化合物が有効であること、また特定の物性に制御することが特に有効であることも分かった。また、組み合わせて用いる他の素材においても、層内分散性効果を高めるための素材選定や、使用方法のあることも分かってきた。 On the other hand, in recent years, one of the factors that increase the surface roughness is the in-layer dispersibility (or agglomeration) of the translucent particles themselves. The in-layer dispersibility of the translucent particles is used to form the layer. It has been found that it depends on the physical properties of the coating liquid (Patent Document 2).
The inventors' research has shown that polymer compounds such as those used in Patent Document 1 are effective for controlling the physical properties. However, the improvement effect is not sufficient by simply using these polymer compounds. It was also found that a specific polymer compound is effective, and that it is particularly effective to control to a specific physical property. In addition, it has been found that other materials used in combination have material selection and usage methods for enhancing the intra-layer dispersibility effect.

一方、液晶表示装置において偏光板は不可欠な光学材料であり、一般に、偏光膜が２枚の保護フィルムによって保護されている構造をしている。
これらの保護フィルムに反射防止機能を付与することができれば、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
偏光板に用いる保護フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、保護フィルムを鹸化処理して保護フィルムの表面を親水化処理することが通常行われている。 On the other hand, a polarizing plate is an indispensable optical material in a liquid crystal display device, and generally has a structure in which a polarizing film is protected by two protective films.
If an antireflection function can be imparted to these protective films, significant cost reduction and thinning of the display device can be achieved.
The protective film used for the polarizing plate needs to have sufficient adhesion to be bonded to the polarizing film. As a method for improving the adhesion to the polarizing film, it is common practice to saponify the protective film to hydrophilize the surface of the protective film.

特開２００１−８３３２７号公報JP 2001-83327 A 特開２００１−２８１４０７号公報JP 2001-281407 A

本発明の目的は、防眩性に優れ、塗布面状の良好な反射防止フィルムを安定に提供することである。
さらに、本発明の別の目的は、適切な手段により反射防止処理がされている偏光板、画像表示装置を提供することである。 An object of the present invention is to stably provide an antireflection film excellent in antiglare property and having a coated surface.
Furthermore, another object of the present invention is to provide a polarizing plate and an image display device that have been subjected to antireflection treatment by appropriate means.

上記目的は、下記構成の防眩性反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置により達成された。 The above object has been achieved by an antiglare antireflection film, a polarizing plate and an image display device having the following constitution.

１．透明支持体上に防眩層と少なくとも１層の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩層が防眩層用塗布組成物を塗布して形成された層であり、塗布前の該防眩層用塗布組成物が高分子化合物を含有し、かつ該防眩層用塗布組成物の粘度が該高分子化合物を含有することによって３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
２．高分子化合物を含有し、粘度が６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの防眩層用塗布組成物から、防眩層が塗布形成されたことを特徴とする１．に記載の防眩性反射防止フィルム。
３．高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜６０万の高分子化合物であることを特徴とする１．または２．に記載の防眩性反射防止フィルム。
４．高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜２０万の高分子化合物であることを特徴とする１．または２．に記載の防眩性反射防止フィルム。
５．高分子化合物が共重合体であることを特徴とする１．〜４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
６．高分子化合物が、該高分子化合物を含有する層の全バインダーの５質量％〜３０質量％の範囲で含有されていることを特徴とする１．〜５．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
７．高分子化合物が（メタ）アクリル樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
８．高分子化合物がセルロースエステル系樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
９．高分子化合物がビニル系樹脂であることを特徴とする１．〜６．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１０．高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層のバインダーマトリックスの屈折率が１．４５〜１．９０であり、さらに該防眩層のバインダーマトリックスと透光性粒子の屈折率差が０．０２〜０．３０であることを特徴とする１．〜９．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１１．高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層の膜厚が３μｍ〜１０μｍであり、かつ該防眩層に含有する透光性粒子の平均粒径が該層の膜厚に対して、３０％〜８０％の範囲にあることを特徴とする１．〜１０．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
１２．透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする１．〜１１．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（ａ）：（Ｒ¹⁰）_S−Ｓｉ（Ｚ）_4-S
（一般式（ａ）式中、Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。）
１３．低屈折率層が下記一般式（１）で表される含フッ素化合物の架橋または重合反応により形成されたことを特徴とする１．〜１２．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（１） 1. An antiglare antireflection film having an antiglare layer and at least one low refractive index layer on a transparent support, wherein the antiglare layer is formed by applying a coating composition for an antiglare layer Yes, the coating composition for the antiglare layer before coating contains a polymer compound, and the viscosity of the coating composition for the antiglare layer increases by 3 mPa · s to 10 mPa · s by containing the polymer compound. An anti-glare antireflection film characterized by
2. 1. An antiglare layer is coated and formed from a coating composition for an antiglare layer, which contains a polymer compound and has a viscosity of 6 mPa · s to 20 mPa · s. The antiglare antireflection film described in 1.
3. 1. The polymer compound is a polymer compound having a mass average molecular weight of 50,000 to 600,000. Or 2. The antiglare antireflection film described in 1.
4). 1. The polymer compound is a polymer compound having a mass average molecular weight of 50,000 to 200,000. Or 2. The antiglare antireflection film described in 1.
5. 1. The polymer compound is a copolymer. ~ 4. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
6). 1. The polymer compound is contained in the range of 5% by mass to 30% by mass of the total binder of the layer containing the polymer compound. ~ 5. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
7). 1. The polymer compound is a (meth) acrylic resin ~ 6. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
8). 1. The polymer compound is a cellulose ester resin. ~ 6. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
9. 1. The polymer compound is a vinyl resin. ~ 6. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
10. The polymer compound-containing layer is an antiglare layer containing translucent particles having a particle size of 1 μm to 8 μm, and the refractive index of the binder matrix of the antiglare layer is 1.45 to 1.90. 1. The refractive index difference between the binder matrix of the glare layer and the translucent particles is 0.02 to 0.30. ~ 9. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
11. The polymer compound-containing layer is an antiglare layer containing translucent particles having a particle diameter of 1 μm to 8 μm, the antiglare layer has a thickness of 3 μm to 10 μm, and the translucent light contained in the antiglare layer The average particle size of the active particles is in the range of 30% to 80% with respect to the film thickness of the layer. -10. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
12 1. Any layer on the transparent support contains at least one of an organosilane compound represented by the following general formula (a) and a derivative thereof. ~ 11. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
Formula ^{_{(a) :( R 10) S}} -Si (Z) 4-S
(In the general formula (a), R ¹⁰ represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Z represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. S represents an integer of 1 to 3. To express.)
13. 1. The low refractive index layer is formed by crosslinking or polymerization reaction of a fluorine-containing compound represented by the following general formula (1). -12. The anti-glare antireflection film according to any one of the above.
General formula (1)

（一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。）
１４．低屈折率層に中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする１．〜１３．に記載の防眩性反射防止フィルム。
１５．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、（１）防眩層形成用塗布組成物を粘度が３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの塗布組成物として調製する工程、及び（２）上記塗布組成物に高分子化合物を添加して添加前よりも該塗布組成物の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加させる工程、を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
１６．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
１７．１．〜１４．のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムまたは１６．に記載の偏光板が、画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。
１８．画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする１７．に記載の画像表示装置。 (In the general formula (1), L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, m represents 0 or 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group, and A represents a polymerized unit of any vinyl monomer. , Which may be a single polymer unit or a plurality of polymer units, x, y and z represent the mol% of each constituent polymer unit, 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, Represents a value satisfying 0 ≦ z ≦ 65.)
14 1. A hollow silica fine particle is contained in the low refractive index layer. -13. The antiglare antireflection film described in 1.
15.1. -14. A method for producing an antiglare antireflection film according to any one of (1) and (1) preparing a coating composition for forming an antiglare layer as a coating composition having a viscosity of 3 mPa · s to 10 mPa · s; and (2) An antiglare antireflection film comprising a step of adding a polymer compound to the coating composition and increasing the viscosity of the coating composition by 3 mPa · s to 10 mPa · s than before the addition. Manufacturing method.
16.1. -14. A polarizing plate, wherein the antiglare antireflection film according to any one of the above is used for at least one of two protective films of a polarizing film.
17.1. -14. 15. An antiglare antireflection film according to any one of An image display device, wherein the polarizing plate described in 1 is disposed on an image display surface.
18. 16. The image display device is a TN, STN, IPS, VA, or OCB mode transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device. The image display device described in 1.

本発明の反射防止フィルムは、防眩性に優れ、塗布面状が良好であり、しかも安定に提供することができる。本発明の偏光板、画像表示装置は、上記反射防止フィルムを用いているので、視認性に優れた高品質の画像が得られる。 The antireflection film of the present invention is excellent in antiglare property, has a good coated surface shape, and can be provided stably. Since the polarizing plate and the image display device of the present invention use the antireflection film, a high quality image with excellent visibility can be obtained.

本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリロイル」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
以下に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の反射防止フィルムは、該フィルムを構成する防眩層が、防眩層を形成するための塗布液に高分子化合物を含有することによって含有しない塗布液に対して、塗布液（塗布組成物）の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲で増加させて、塗布、形成された層であることを特徴とする。 In this specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, or the like, the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. The description “(meth) acryloyl” means “at least one of acryloyl and methacryloyl”. The same applies to “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid” and the like.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The antireflection film of the present invention has a coating solution (coating composition) which does not contain the antiglare layer constituting the film by containing a polymer compound in the coating solution for forming the antiglare layer. The viscosity of the product is increased in the range of 3 mPa · s to 10 mPa · s, and the layer is applied and formed.

まず、上記防眩層について説明する。
（防眩層）
防眩層は、主にモノマー類が電離放射線等で硬化して形成する透光性ポリマーからなる主バインダー、透光性粒子、および高屈折率化または低屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための微細無機フィラー、高分子化合物から形成される。
防眩層の厚さは、通常０．５μｍ〜３０μｍ程度で、好ましくは１μｍ〜１５μｍ、さらに３μｍ〜１０μｍがより好ましい。厚さが上記範囲であると、カール、ヘイズ値、高コスト等の欠点がなく、しかも防眩性と光拡散効果の調整も容易である。 First, the antiglare layer will be described.
(Anti-glare layer)
Antiglare layer is mainly composed of translucent polymer formed by curing monomers with ionizing radiation etc., translucent particles, and high or low refractive index, cross-linking shrinkage prevention, high strength It is formed from a fine inorganic filler and a polymer compound.
The thickness of the antiglare layer is usually about 0.5 μm to 30 μm, preferably 1 μm to 15 μm, and more preferably 3 μm to 10 μm. When the thickness is in the above range, there are no defects such as curling, haze value, and high cost, and the adjustment of antiglare property and light diffusion effect is easy.

〈主バインダー〉
防眩層を形成する主バインダーとしては、電離放射線等により硬化した後に飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有する透光性ポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、硬化後の主バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
硬化後に飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマー（バインダー前駆体）の重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。 <Main binder>
The main binder for forming the antiglare layer is preferably a translucent polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as the main chain after being cured by ionizing radiation or the like, and has a saturated hydrocarbon chain as the main chain. More preferably, it is a polymer. The cured main binder polymer preferably has a crosslinked structure.
As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain after curing, a polymer of an ethylenically unsaturated monomer (binder precursor) is preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to obtain a high refractive index, the monomer structure preferably contains an aromatic ring or at least one atom selected from a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom, a phosphorus atom, and a nitrogen atom.

防眩層を形成するための、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミド等が挙げられる。
さらに、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマーまたはプレポリマー等もあげられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよく、また、二個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂はバインダー全量に対して１０〜７０％含有することが好ましい。 As a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups for forming an antiglare layer, an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1, 4 -Cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, di Pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate Polyester, polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-vinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-vinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone) ), Acrylamide (eg, methylenebisacrylamide), methacrylamide and the like.
Furthermore, resins having two or more ethylenically unsaturated groups, such as relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins And oligomers or prepolymers of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols. Two or more of these monomers may be used in combination, and the resin having two or more ethylenically unsaturated groups is preferably contained in an amount of 10 to 70% based on the total amount of the binder.

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。 Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラー、その他の添加剤を含有する硬化組成物を調製し、該硬化組成物を透明支持体上に塗布後、電離放射線あるいは熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成する。電離放射線硬化と熱硬化を合わせて行うことも好ましい。
バインダーの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．００であり、より好ましくは１．４５〜１．９０であり、更に好ましくは１．４８〜１．８５であり、特に好ましくは１．５１〜１．８０である。なお、バインダーの屈折率は、光拡散層の成分から透光性粒子を除いて測定した値である。
防眩層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して２０〜９５質量％の範囲で添加することが好ましい。
屈折率は（株）アタゴ社製アッベ屈折計（光源５９０ｎｍ、２０℃）等により測定できる。 Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
Accordingly, a cured composition containing a monomer having an ethylenically unsaturated group, a photo radical initiator or a thermal radical initiator, mat particles and an inorganic filler, and other additives is prepared, and the cured composition is placed on a transparent support. After coating, the film is cured by a polymerization reaction with ionizing radiation or heat to form an antireflection film. It is also preferable to perform ionizing radiation curing and thermal curing together.
The refractive index of the binder is preferably 1.40 to 2.00, more preferably 1.45 to 1.90, still more preferably 1.48 to 1.85, and particularly preferably 1.51. ~ 1.80. In addition, the refractive index of a binder is the value measured by remove | excluding translucent particle | grains from the component of the light-diffusion layer.
The binder for the antiglare layer is preferably added in the range of 20 to 95% by mass with respect to the solid content of the coating composition of the layer.
The refractive index can be measured with an Abbe refractometer (Light source 590 nm, 20 ° C.) manufactured by Atago Co., Ltd.

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−アルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−エトキシアセトフェノン、ｐ−メチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−クロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが挙げられる。 As radical photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-alkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-ethoxyacetophenone, p-methylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2- Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-chlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Various examples are described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takasagi, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991), which is useful for the present invention.
Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。 As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as ammonium sulfate, potassium persulfate and the like, 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), etc. And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムを形成することができる。 The polymer having a polyether as the main chain is preferably a ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
Therefore, a coating solution containing a polyfunctional epoxy compound, a photoacid generator or a thermal acid generator, translucent particles and an inorganic filler is prepared, and the coating solution is applied onto a transparent support and then polymerized by ionizing radiation or heat. It can be cured by reaction to form an antireflection film.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。 Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydrides, cyanoacrylate derivatives, melamine, etherified methylol, esters and urethanes, and metal alkoxides such as tetramethoxysilane can also be used as monomers for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

〈高分子化合物〉
本発明に係る防眩層は、高分子化合物を含有する。高分子化合物は塗布組成物に添加する時点で既に重合体を形成しており、主として透光性粒子の分散安定性（凝集性）に関わる塗布組成物の粘度調整や、乾燥過程での固化物の極性を制御して透光性粒子の凝集挙動を変えたり、乾燥過程での乾燥ムラを減じたりする目的で含有される。
本発明に係る高分子化合物としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、エーテル系樹脂等が挙げられる。
本発明に係る（メタ）アクリル系樹脂の単量体化合物について具体的に示すと、アクリル酸エステル類としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート，２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、５−ヒドロキシベンジルアクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ｉｓｏ−プロポキシアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート等があげられる。 <Polymer compound>
The antiglare layer according to the present invention contains a polymer compound. The polymer compound has already formed a polymer when it is added to the coating composition, and it mainly adjusts the viscosity of the coating composition related to the dispersion stability (cohesiveness) of the light-transmitting particles and solidifies the dried product. It is contained for the purpose of changing the agglomeration behavior of translucent particles by controlling the polarity of the particles, or reducing drying unevenness in the drying process.
Examples of the polymer compound according to the present invention include (meth) acrylic resins, vinyl resins, cellulose resins, urethane resins, ether resins, and the like.
Specific examples of the monomer compound of the (meth) acrylic resin according to the present invention include acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, and isobutyl acrylate. , Sec-butyl acrylate, tert-butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-chlorobutyl acrylate, cyanoethyl acrylate 2-acetoxyethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, 2 Chlorocyclohexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 5-hydroxybenzyl acrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3 -Methoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-iso-propoxy acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, ω-methoxypolyethylene Glycol acrylate (addition mole number n = 9), 1-bromo-2-methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2-eth Examples include xylethyl acrylate.

メタクリル酸エステル類の例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミニエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリチエレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−アセトアセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ｉｓｏ−プロポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（付加モル数ｎ＝６）、アリルメタクリレート、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド塩、などをあげることができる。 Examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl. Methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, sulfopropyl methacrylate, N-ethyl-N-phenylaminiethyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, dimethylaminophenoxyethyl methacrylate, furfuryl Methacrylate, tetrahydrofurf Methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, trithylene glycol monomethacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-acetoxyethyl methacrylate, 2- Acetoacetoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-iso-propoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- ( 2-Butoxyethoxy) ethyl methacrylate, ω-methoxypolyethylene glycol methacrylate (added moles) n = 6), allyl methacrylate, dimethylaminoethyl methyl chloride salt methacrylate, and the like.

ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル等があげられる。
オレフィン類の例としては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン等をあげることができる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等があげられる。
クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル等があげられる。
また、イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等があげられる。
マレイン酸ジエステル類としては、例えばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル等があげられる。
フマル酸ジエステル類としては、例えばフマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル等があげられる。
アクリルアミド類としては、例えばアクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド等があげられる。 Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propinate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, etc. It is done.
Examples of olefins include vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene and the like.
Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, trifluoromethyl styrene, vinyl. Examples include benzoic acid methyl ester.
Examples of crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate.
Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.
Examples of maleic acid diesters include diethyl maleate, dimethyl maleate, and dibutyl maleate.
Examples of the fumaric acid diesters include diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate and the like.
Examples of acrylamides include acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, butyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, methoxyethyl acrylamide, dimethylaminoethyl acrylamide, phenyl acrylamide, dimethyl acrylamide, Examples include diethyl acrylamide and β-cyanoethyl acrylamide.

メタクリルアミド類としては、例えばメタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド等があげられる。
アリル化合物、例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安息香酸アリル等もあげられる。
ビニルエーテル類としては、例えばメチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなどがあげられる。
ビニルケトン類としては、例えばメチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなどがあげられる。
ビニル異節環化合物としては、例えばビニルピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげられる。
グリシジルエステル類としては、例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどがあげられる。
不飽和ニトリル類としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどがあげられる。
多官能モノマー類として、例えばジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリレートなどがあげられる。
多官能モノマーとしては、例えばジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリレートなどがあげられる。 Examples of methacrylamides include methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide, cyclohexyl methacrylamide, benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, methoxyethyl methacrylamide, Examples thereof include dimethylaminoethyl methacrylamide, phenyl methacrylamide, dimethyl methacrylamide, diethyl methacrylamide, β-cyanoethyl methacrylamide and the like.
Also included are allyl compounds such as allyl acetate, allyl caproate, allyl laurate, and allyl benzoate.
Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, and the like.
Examples of vinyl ketones include methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, and methoxyethyl vinyl ketone.
Examples of the vinyl heterocyclic compound include vinyl pyridine, N-vinyl imidazole, N-vinyl oxazolidone, N-vinyl triazole, and N-vinyl pyrrolidone.
Examples of glycidyl esters include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.
Examples of unsaturated nitriles include acrylonitrile and methacrylonitrile.
Examples of the polyfunctional monomers include divinylbenzene, methylenebisacrylamide, and ethylene glycol dimethacrylate.
Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, methylenebisacrylamide, and ethylene glycol dimethacrylate.

さらに、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル、例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチルなど：マレイン酸モノアルキル、例えばマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブチルなど：シトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えばアクリロイルオキシメチルスルホン酸など：メタクロロイルオキシアルキルスルホン酸、例えばメタクリロイルオキシエチルスルホン酸など：アクリルアミドアルキルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば２−メタクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸など：アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例えばアクリロイルオキシエチルホスフェートなど：これらの酸はアルカリ金属またはアンモニウム塩であってもよい。
さらにその他の単量体化合物としては米国特許第３４５９７９０号、同第３４３８７０８号、同第３５５４９８７号、同第４２１５１９５号、同第４２４７６７３号、特開昭５７−２０５７３５号公報明細書等に記載の単量体を用いることもできる。 Further, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, monoalkyl itaconate such as monomethyl itaconate, monoethyl itaconate, monobutyl itaconate, etc .: monoalkyl maleate such as monomethyl maleate, monoethyl maleate, monobutyl maleate Such as: citraconic acid, styrene sulfonic acid, vinyl benzyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acryloyloxyalkyl sulfonic acid, such as acryloyloxymethyl sulfonic acid, etc .: methacryloyloxyalkyl sulfonic acid, such as methacryloyloxyethyl sulfonic acid, etc .: acrylamide alkyl sulfone Acid, 2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid, methacrylamide alkylsulfonic acid, such as 2-methacrylamide-2-methylethane Such Nsuruhon acid: acryloyloxyalkyl phosphates such acryloyloxyethyl phosphate such as: These acids may be alkali metal or ammonium salts.
Other monomer compounds include those described in U.S. Pat. Nos. 3,457,790, 3,438,708, 3,554,987, 4,215,195, 4,247,673, and JP-A-57-205735. A monomer can also be used.

このような単量体化合物よりなる高分子化合物は単独で重合した高分子化合物でもよいし、複数が重合した共重合体よりなる高分子化合物でもよいが、共重合体のほうが重合しやすさ、溶解性等の点で好ましい。
これらからなる高分子化合物のうち、メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体、メタクリル酸メチル／メタクリル酸共重合体、ポリメタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル樹脂が好ましい。 The polymer compound composed of such a monomer compound may be a polymer compound polymerized alone or may be a polymer compound composed of a copolymer in which a plurality is polymerized, but the copolymer is easier to polymerize, It is preferable in terms of solubility.
Among these polymer compounds, methyl methacrylate / methyl acrylate copolymer, methyl methacrylate / ethyl acrylate copolymer, methyl methacrylate / butyl acrylate copolymer, methyl methacrylate / butyl methacrylate (Meth) acrylic resins such as copolymers, methyl methacrylate / styrene copolymers, methyl methacrylate / methacrylic acid copolymers, and polymethyl methacrylate are preferred.

高分子化合物の具体例としては例えば以下のものがあげられる。
Ｋ１：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）Ｍｗ＝１．６万
Ｋ２：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）Ｍｗ＝５．４万
Ｋ３：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）Ｍｗ＝１７万
Ｋ４：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）Ｍｗ＝３５万
Ｋ５：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０）Ｍｗ＝６８万
Ｋ６：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９５／５）Ｍｗ＝１７．３万
Ｋ７：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝８０／２０）Ｍｗ＝１７万
Ｋ８：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝６０／４０）Ｍｗ＝１７．２万
Ｋ９：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝９０／１０）Ｍｗ＝１７．４万
Ｋ１０：ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル＝８０／２０）Ｍｗ＝１６．７万
Ｋ１１：ポリ（メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル＝８０／２０）Ｍｗ＝１７．８万
Ｋ１２：ポリ（メタクリル酸メチル／スチレン＝８０／２０）Ｍｗ＝１７．４万
Ｋ１３：ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸＝９０／１０Ｍｗ＝１７万
Ｋ１４：ポリメタクリル酸メチルＭｗ＝１２．４万
Ｋ１５：ポリメタクリル酸メチルＭｗ＝４．６万
これらの具体例の中で、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ９、Ｋ１０が特に好ましい。 Specific examples of the polymer compound include the following.
K1: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 90/10) Mw = 16,000 K2: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 90/10) Mw = 54,000 K3: Poly (methacrylic acid) Mw = 170,000) Mw = 170,000 K4: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 90/10) Mw = 350,000 K5: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 90/10) Mw = 680,000 K6: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 95/5) Mw = 17.3 million K7: Poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 80/20) Mw = 170,000 K8: Poly ( Methyl methacrylate / methyl acrylate = 60/40) Mw = 17.2K K9: Poly (methyl methacrylate / ethyl acrylate) = 90/10) Mw = 1740,000 K10: Poly (methyl methacrylate / butyl acrylate = 80/20) Mw = 16.7K K11: Poly (methyl methacrylate / butyl methacrylate) = 80/20) Mw = 1780,000 K12: Poly (methyl methacrylate / styrene = 80/20) Mw = 1740,000 K13: Poly (methyl methacrylate / methacrylic acid = 90/10 Mw = 170,000 K14: Polymethyl methacrylate Mw = 1240,000 K15: Polymethyl methacrylate Mw = 46,000 Among these specific examples, K2, K3, K9, and K10 are particularly preferable.

これらのポリマーの合成法は、特開平５−２９５２１５号、同５−１５５９０７号、同１０−８７７３９号、同１−２６６１０４号、同１−１４６９１０号、英国特許第１，２１１，０３９号、および「合成高分子」１２４６〜２９０、同３１〜１０８等に記載の方法を参考にして行うことができる。
たとえば、少量の親水性ポリマー等の縣濁安定剤を含有する水相へ、重合開始剤を含有したモノマーを単独または２種以上加え、数時間撹拌しながら加温して重合させたあと、重合物を洗浄、分離、乾燥する方法がある。
または水相のない系でモノマー類に直に重合開始剤濃度を制御しながら滴下して一定の温度、時間で重合させたあと、一部ずつ分取して未反応のモノマー類を脱揮させて固形物を得る方法等もある。
重合温度としては２０℃〜１８０℃、好ましくは４０〜１２０℃であり、重合開始剤は重合するべきモノマーに対して０．０５質量％〜５質量％加えるのが好ましい。重合開始剤としては、アゾビス化合物、パーオキサイド類、ハイドロパーオキサイド類、レドックス触媒など、例えば、過硫酸カリウム、ｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどがある。
縣濁安定剤としての水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリル酸類、またはその金属塩類、水性変性セルロース類などが挙げられる。 Synthesis methods of these polymers are disclosed in JP-A Nos. 5-295215, 5-155907, 10-87739, 1-266104, 1-146910, British Patent No. 1,211,039, and It can carry out with reference to the method as described in "Synthetic polymer" 1246-290, 31-108, etc.
For example, a monomer containing a polymerization initiator is added alone or in combination to a water phase containing a small amount of a suspension stabilizer such as a hydrophilic polymer, and the mixture is heated and polymerized while stirring for several hours. There are methods for washing, separating and drying things.
Alternatively, in a system without an aqueous phase, drop the monomer directly onto the monomers while controlling the polymerization initiator concentration, polymerize at a certain temperature and time, and then aliquot and remove unreacted monomers. There is also a method for obtaining solid matter.
The polymerization temperature is 20 ° C to 180 ° C, preferably 40 ° C to 120 ° C, and the polymerization initiator is preferably added in an amount of 0.05% by mass to 5% by mass with respect to the monomer to be polymerized. Examples of the polymerization initiator include azobis compounds, peroxides, hydroperoxides, redox catalysts, such as potassium persulfate, t-butyl peroctoate, benzoyl peroxide, isopropyl percarbonate, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide. Examples include oxide, methyl ethyl ketone peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, azobisisobutyronitrile.
Examples of the aqueous polymer as the suspension stabilizer include polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylic acids, or metal salts thereof, and aqueous modified celluloses.

（メタ）アクリル系樹脂の質量平均分子量は０．３万〜４０万が好ましく、０．５万〜３０万がより好ましく、０．５万〜２０万がさらに好ましい。分子量がこの範囲であると、塗布組成物の粘度増加効果が十分発現し、溶解時間が短時間であり、しかも不溶解物も少ない。
（メタ）アクリル系樹脂の高分子化合物の製品としては、例えばポリメタクリル酸エステル系として、ポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル）分子量１０．１万、ポリ（メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル）分子量７．５万、ポリメタクリル酸メチル分子量１２万、１．５万、３５万、９９．６万（いずれもシグマアルドリッチジャパン（株）製）、ポリメタクリル酸イソブチル（分子量３０万、関東化学（株）製）、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、スミペックスＬＧ２１、ＬＧ、ＥＸ、ＭＨ（住友化学工業（株）製）、パラペットＧＦ、Ｇ、ＧＨ−Ｓ、ＨＲ−Ｌ、ＧＲ（（株）クラレ製）等があげられる。 The mass average molecular weight of the (meth) acrylic resin is preferably from 30,000 to 400,000, more preferably from 50,000 to 300,000, and even more preferably from 50,000 to 200,000. When the molecular weight is within this range, the effect of increasing the viscosity of the coating composition is sufficiently exhibited, the dissolution time is short, and there are few insolubles.
As a polymer compound product of (meth) acrylic resin, for example, poly (methacrylic acid ester), poly (methyl methacrylate / ethyl acrylate) molecular weight 101,000, poly (methyl methacrylate / butyl methacrylate) molecular weight 75,000, polymethyl methacrylate molecular weight 120,000, 15,000, 350,000, 996,000 (all manufactured by Sigma-Aldrich Japan), polybutyl methacrylate (molecular weight 300,000, Kanto Chemical Co., Ltd.) Acrypet MD, VH, MF, V (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Sumipex LG21, LG, EX, MH (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Parapet GF, G, GH-S, HR -L, GR (made by Kuraray Co., Ltd.) and the like.

高分子化合物はセルロース系樹脂から選ばれる少なくとも１種類であることも好ましい。このような樹脂はエステル体が好ましく、具体例としては、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースナイトレート等である。セルロース系樹脂の質量平均分子量は０．５万以上１００万以下であることが好ましく、０．５万以上６０万以下がより好ましく、０．５万以上４０万以下が更に好ましく、０．５万以上２０万以下が特に好ましい。 The polymer compound is also preferably at least one selected from cellulosic resins. Such a resin is preferably an ester, and specific examples include cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, and cellulose nitrate. The weight average molecular weight of the cellulose resin is preferably from 50,000 to 1,000,000, more preferably from 50,000 to 600,000, further preferably from 50,000 to 400,000, Above 200,000 is particularly preferable.

さらに、高分子化合物はビニル系樹脂から選ばれる少なくとも１種類であることも好ましい。このような樹脂の具体例としては、スチレン樹脂、スチレン共重合樹脂、ビニルエステル系としては、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ化ビニル樹脂、プロピオン酸ビニル樹脂等である。ビニル系樹脂の質量平均分子量は０．５万以上２００万以下であることが好ましく、０．５万以上６０万以下がより好ましく、０．５万以上４０万以下が更に好ましく、０．５万以上２０万以下が特に好ましい。 Further, the polymer compound is preferably at least one selected from vinyl resins. Specific examples of such resins include styrene resins, styrene copolymer resins, and vinyl ester resins such as vinyl acetate resins, vinyl chloride resins, vinyl fluoride resins, and vinyl propionate resins. The mass average molecular weight of the vinyl resin is preferably from 50,000 to 2,000,000, more preferably from 50,000 to 600,000, further preferably from 50,000 to 400,000, Above 200,000 is particularly preferable.

高分子化合物は必要に応じて、前記樹脂を２種類以上使用することもできる。
高分子化合物は、塗布組成物の粘度増加効果の発現及び含有層の膜強度維持の観点から、高分子化合物を含有する層に含む全バインダーに対して、好ましくは３質量％〜４０質量％、より好ましくは５質量％〜３０質量％、さらに好ましくは８質量％〜２５質量％の範囲で含有することが好ましい。
また、高分子化合物を含有することによって、含有しない場合の塗布組成物の粘度を含有前の粘度に対して、好ましくは２ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓ、よりこのましくは３ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは３ｍＰａ・ｓ〜７ｍＰａ・ｓの範囲で増加して塗布形成することが好ましい。これによって粘度増加により防眩性が強くなりすぎるのを抑制することができる。塗布面状故障、防眩性、ディスプレイ表面に適用した場合の黒しまりの見え方、などの観点から粘度増加を上記範囲にすることは好ましい。
また、高分子化合物を含有する塗布組成物の粘度は、主として防眩性制御と塗布面状の観点から、４ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓがより好ましく、７ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓが最も好ましい。
粘度は振動式粘度計ＣＪＶ−５０００（［株］エー・アンド・デイ社製）（２５℃で）等により測定できる。
高分子化合物を含有しない場合の塗布組成物の粘度は、１ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓが好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓがより好ましい。
防眩層の調液方法において、高分子化合物はあらかじめ良溶媒（芳香族系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒等）で溶解してから添加するほうが工程時間短縮の観点から好ましい。また、高分子化合物を添加する工程順番は強く限定されないが、添加する試薬類の中の一番最後に添加するほうが溶解性の点で好ましい。 As the polymer compound, two or more kinds of the resins can be used as necessary.
The polymer compound is preferably 3% by mass to 40% by mass with respect to the total binder contained in the layer containing the polymer compound, from the viewpoint of expressing the viscosity increasing effect of the coating composition and maintaining the film strength of the containing layer. More preferably, it is contained in the range of 5% by mass to 30% by mass, more preferably 8% by mass to 25% by mass.
Further, by containing the polymer compound, the viscosity of the coating composition when not containing is preferably 2 mPa · s to 20 mPa · s, more preferably 3 mPa · s to 15 mPa · s, relative to the viscosity before containing. s, more preferably 3 mPa · s to 10 mPa · s, particularly preferably 3 mPa · s to 7 mPa · s. Accordingly, it is possible to suppress the antiglare property from becoming too strong due to the increase in viscosity. From the viewpoints of coating surface failure, antiglare property, and appearance of black spots when applied to the display surface, it is preferable to make the viscosity increase in the above range.
In addition, the viscosity of the coating composition containing the polymer compound is preferably in the range of 4 mPa · s to 30 mPa · s, more preferably 6 mPa · s to 20 mPa · s, mainly from the viewpoint of antiglare control and the surface of the coating. 7 mPa · s to 15 mPa · s is most preferable.
The viscosity can be measured with a vibration viscometer CJV-5000 (manufactured by A & D Co., Ltd.) (at 25 ° C.) or the like.
The viscosity of the coating composition when it does not contain a polymer compound is preferably 1 mPa · s to 15 mPa · s, and more preferably 3 mPa · s to 10 mPa · s.
In the preparation method of the antiglare layer, it is preferable from the viewpoint of shortening the process time that the polymer compound is added after dissolving in advance with a good solvent (aromatic solvent, ester solvent, ketone solvent, etc.). Further, the order of steps for adding the polymer compound is not strongly limited, but it is preferable from the viewpoint of solubility that it is added last in the reagents to be added.

〈透光性粒子〉
防眩層には、後記の微細無機フィラー粒子より粒径が大きく、平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１μｍ〜８μｍの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。これは、ディスプレイ表面で反射する外光を散らして弱めたり、液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）を拡大し、観察方向の視角が変化してもコントラスト低下、黒白反転または色相変化を起こりにくくする目的で用いられる。平均粒径が上記範囲であれば、防眩効果が発現し、しかもザラツキ感が起こらない。
透光性粒子と透光性樹脂（防眩層のバインダーマトリックス）との間の屈折率差は、フィルムの白濁が生じないこと及び十分な光拡散効果を得る観点から、０．０２〜０．３０であることが好ましく、０．０４〜０．２０であることが特に好ましい。
透光性粒子の透光性樹脂に対する添加量も、同様な観点から、好ましい範囲が決められる。透光性粒子の好ましい層内含有率は、防眩層全固形分中３質量％〜４０質量％であり、５質量％〜２５質量％であることが特に好ましい。
透光性粒子の塗布量は、形成された防眩層中の粒子量において好ましくは１０ｍｇ／ｍ²〜１００００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは５０ｍｇ／ｍ²〜４０００ｍｇ／ｍ²、最も好ましくは１００ｍｇ／ｍ²〜１５００ｍｇ／ｍ²となるように防眩層に含有される。
透光性粒子の粒径と含有する層の膜厚との関係は、透光性粒子の平均粒径が含有する層の膜厚の２０％〜１００％であることが好ましく、３０％〜８０％がより好ましく、３５％〜７０％が最も好ましい。平均粒径がこの範囲であると画面の黒しまりに優れ、かつ防眩性にも優れる。
粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出する。 <Translucent particles>
The antiglare layer contains translucent particles having a particle diameter larger than that of the fine inorganic filler particles described later and an average particle diameter of 0.5 μm to 10 μm, preferably 1 μm to 8 μm, such as inorganic compound particles or resin particles. The This is because the external light reflected on the display surface is scattered and weakened, or the viewing angle of the liquid crystal display device (especially the downward viewing angle) is enlarged, so that the contrast decreases, black / white inversion or hue changes even if the viewing angle in the viewing direction changes. Used to make it difficult to occur. When the average particle size is in the above range, the antiglare effect is exhibited and the graininess does not occur.
The difference in refractive index between the translucent particles and the translucent resin (binder matrix of the antiglare layer) is from 0.02 to 0.02 in terms of preventing the film from being clouded and obtaining a sufficient light diffusion effect. 30 is preferable, and 0.04 to 0.20 is particularly preferable.
From the same viewpoint, the preferable range of the addition amount of the translucent particles to the translucent resin is determined. The preferable in-layer content of the translucent particles is 3% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 5% by mass to 25% by mass in the total solid content of the antiglare layer.
The coating amount of the translucent particles is preferably 10 mg / m ^{2 to} 10000 mg / m ² , more preferably 50 mg / m ^{2 to} 4000 mg / m ² , most preferably 100 mg / m ^{2 in} terms of the amount of particles in the formed antiglare layer. It is contained in the antiglare layer so as to be m ^{2 to} 1500 mg / m ² .
The relationship between the particle diameter of the translucent particles and the film thickness of the layer to be contained is preferably 20% to 100% of the film thickness of the layer containing the average particle diameter of the translucent particles, and preferably 30% to 80%. % Is more preferable, and 35% to 70% is most preferable. When the average particle size is within this range, the screen is excellent in blackening and the antiglare property is also excellent.
The particle size distribution of the particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution. The average particle size is calculated from the obtained particle distribution.

透光性粒子は、異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。２種類以上の透光性粒子を用いる場合には、複数種類の粒子の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために、最も屈折率の高い透光性粒子と最も屈折率の低い透光性粒子との間の屈折率の差が０．０２以上、０．１０以下であることが好ましく、０．０３以上、０．０７以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することも可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子より小さな粒子径で、透光性樹脂の屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、中空シリカ粒子、アルミナ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の粒子、ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ポリカーボネート粒子、ポリ塩化ビニル粒子等の樹脂粒子などが好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋ポリメチルメタアクリレート粒子、架橋メチルメタアクリレート−スチレン共重合体粒子、シリカ粒子が好ましい。
透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが、ヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の粒子を得ることができる。 The translucent particles may be used in combination of two or more different translucent particles. When two or more kinds of translucent particles are used, the translucent particles having the highest refractive index and the translucent particles having the lowest refractive index are used to effectively exert the refractive index control by mixing a plurality of types of particles. The difference in refractive index with the active particles is preferably 0.02 or more and 0.10 or less, and particularly preferably 0.03 or more and 0.07 or less. It is also possible to impart anti-glare properties with translucent particles having a larger particle size and to impart other optical characteristics with translucent particles having a smaller particle size. For example, when an antireflection film is attached to a high-definition display of 133 ppi or higher, it is required that there is no problem in optical performance called glare. Glare is derived from the fact that the unevenness of the film surface (which contributes to antiglare properties) causes the pixels to be enlarged or reduced and loses brightness uniformity, but is smaller than the light-transmitting particles that impart antiglare properties. The diameter can be greatly improved by using translucent particles different from the refractive index of the translucent resin.
Specific examples of the translucent particles include particles of inorganic compounds such as silica particles, hollow silica particles, alumina particles, and TiO ₂ particles, polymethyl methacrylate particles, crosslinked polymethyl methacrylate particles, and crosslinked methyl methacrylate. Preferred examples include styrene copolymer particles, polystyrene particles, crosslinked polystyrene particles, melamine resin particles, benzoguanamine resin particles, polycarbonate particles, and polyvinyl chloride particles. Among these, crosslinked styrene particles, crosslinked polymethyl methacrylate particles, crosslinked methyl methacrylate-styrene copolymer particles, and silica particles are preferable.
As the shape of the translucent particle, either a true sphere or an indeterminate shape can be used, but monodisperse particles are preferable from the viewpoint of controllability of haze value and diffusibility, and uniformity of the coated surface. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are obtained by classification after a normal synthesis reaction, and particles having a more preferable distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification.

＜微細無機フィラー＞
防眩層には、層の屈折率を高めるため、上記の透光性粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、一次粒子の平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である微細な無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、高屈折率の透光性粒子を用いた防眩層では、透光性粒子との屈折率差を大きくするためにバインダーの屈折率を低くしなければならない。このためにシリカ微粒子、中空シリカ微粒子を用いることも好ましい。好ましい粒径は前記の高屈折率化微細無機フィラーと同じである。
防眩層に用いられる微細無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの微細無機フィラーの添加量は、防眩層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、微細無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分短いために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質の性質を有する。 <Fine inorganic filler>
The antiglare layer has an oxidation of at least one metal selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony in addition to the above light-transmitting particles in order to increase the refractive index of the layer. It is preferable that a fine inorganic filler having an average primary particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less is contained.
Conversely, in an antiglare layer using light-transmitting particles having a high refractive index, the refractive index of the binder must be lowered in order to increase the difference in refractive index from the light-transmitting particles. For this purpose, it is also preferable to use silica fine particles and hollow silica fine particles. The preferred particle size is the same as that of the high refractive index fine inorganic filler.
Specific examples of the fine inorganic filler used for the antiglare layer include TiO ₂ , ZrO ₂ , Al ₂ O ₃ , In ₂ O ₃ , ZnO, SnO ₂ , Sb ₂ O ₃ , ITO and SiO ₂ . TiO ₂ and ZrO ₂ are particularly preferable from the viewpoint of increasing the refractive index. The surface of the inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
The addition amount of these fine inorganic fillers is preferably 10 to 90% of the total mass of the antiglare layer, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 75%.
The fine inorganic filler does not scatter because the particle size is sufficiently shorter than the wavelength of light, and the dispersion in which the filler is dispersed in the binder polymer has the property of an optically uniform substance.

（低屈折率層）
本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。特に、含フッ素化合物を主体とする低屈折率層を構築することが好ましい。含フッ素化合物を主体とする低屈折率層は、通常反射防止フィルムの最外層として位置し、防汚層としての機能も有する。ここで、「含フッ素化合物を主体とする」とは、低屈折率層の中に含まれる構成成分のうち、含フッ素化合物の質量比が最も大きいことを意味し、含フッ素化合物の含有率が低屈折率層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。 (Low refractive index layer)
The low refractive index layer of the present invention preferably contains a fluorine-containing compound. In particular, it is preferable to construct a low refractive index layer mainly composed of a fluorine-containing compound. The low refractive index layer mainly composed of a fluorine-containing compound is usually positioned as the outermost layer of the antireflection film and also has a function as an antifouling layer. Here, “mainly containing a fluorine-containing compound” means that the mass ratio of the fluorine-containing compound is the largest among the components contained in the low refractive index layer, and the content of the fluorine-containing compound is It is preferable that it is 50 mass% or more with respect to the total mass of a low refractive index layer, and it is more preferable that 60 mass% or more is contained.

低屈折率層の含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましく、該架橋又は重合性の官能基は電離放射線硬化性の官能基であることが好ましい。以下、低屈折率層に含まれる含フッ素化合物について記載する。 The fluorine-containing compound of the low refractive index layer is preferably formed by a crosslinking or polymerization reaction of a fluorine-containing compound having a crosslinking or polymerizable functional group, and the crosslinking or polymerizable functional group is an ionizing radiation curable functional group. It is preferable that Hereinafter, the fluorine-containing compound contained in the low refractive index layer will be described.

〈含フッ素化合物〉
低屈折率層に含まれる含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜１．４５である。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げられる。
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの架橋又は重合反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが含まれる。 <Fluorine-containing compounds>
The refractive index of the fluorine-containing compound contained in the low refractive index layer is preferably 1.35 to 1.50. More preferably, it is 1.36-1.47, More preferably, it is 1.38-1.45.
Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing polymer, a fluorine-containing silane compound, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing ether.
Examples of the fluorine-containing polymer include those synthesized by crosslinking or polymerization reaction of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Fluorinated vinyl ethers and esters of fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid are included.

含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位からなる共重合体も用いることができる。
上記共重合体は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることができる。
フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。 As the fluorine-containing polymer, a copolymer comprising a repeating structural unit containing a fluorine atom and a repeating structural unit not containing a fluorine atom can also be used.
The copolymer can be obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom and an ethylenically unsaturated monomer not containing a fluorine atom.
Examples of ethylenically unsaturated monomers not containing fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylate esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid-2- Ethyl hexyl, etc.), methacrylic acid esters (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene and its derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.) , Vinyl ether (eg, methyl vinyl ether), vinyl ester (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamide (eg, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), Ruamido and acrylonitrile, and the like.

含フッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物などが挙げられる。 Examples of the fluorine-containing silane compound include silane compounds containing a perfluoroalkyl group.

含フッ素界面活性剤は、疎水性部分を構成する炭化水素の水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換されているもので、その親水性部分はアニオン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれであってもよい。 Fluorine-containing surfactants are those in which part or all of the hydrocarbon hydrogen atoms constituting the hydrophobic part are replaced by fluorine atoms, and the hydrophilic part is anionic, cationic, nonionic and amphoteric. Any of these may be used.

含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使用されている化合物である。含フッ素エーテルとしては、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。 The fluorine-containing ether is a compound generally used as a lubricant. Examples of the fluorinated ether include perfluoropolyether.

低屈折率層の含フッ素化合物としては、架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーが特に好ましい。架橋又は重合構造が導入された含フッ素ポリマーは、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物を架橋又は重合させることにより得られる。 As the fluorine-containing compound of the low refractive index layer, a fluorine-containing polymer into which a crosslinked or polymerized structure is introduced is particularly preferable. The fluorine-containing polymer into which a crosslinked or polymerized structure is introduced can be obtained by crosslinking or polymerizing a fluorine-containing compound having a crosslinked or polymerizable functional group.

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有さない含フッ素化合物に、架橋又は重合性の官能基を側鎖として導入することにより得ることができる。架橋又は重合性の官能基としては、光（好ましくは紫外線照射）、電子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱などにより反応して含フッ素ポリマーが架橋又は重合構造を有するようになる官能基であることが好ましい。架橋又は重合性の官能基としては、（メタ）アクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活性メチレン等の基が挙げられる。架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物として、市販品を用いてもよい。 The fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group can be obtained by introducing a crosslinkable or polymerizable functional group as a side chain into a fluorine-containing compound having no crosslinkable or polymerizable functional group. The crosslinkable or polymerizable functional group is a functional group that reacts with light (preferably ultraviolet irradiation), electron beam (EB) irradiation or heating to cause the fluorinated polymer to have a crosslinked or polymerized structure. preferable. Examples of the crosslinkable or polymerizable functional group include groups such as (meth) acryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene. A commercially available product may be used as the fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group.

低屈折率層の含フッ素化合物は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位をからなる共重合体を主成分として含有することが好ましい。該共重合体由来の成分は最外層の全質量に対し５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。以下に、低屈折率層に用いられるのに好ましい上記共重合体について説明する。 The fluorine-containing compound of the low refractive index layer preferably contains as a main component a copolymer comprising a repeating unit derived from a fluorine-containing vinyl monomer and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain. The component derived from the copolymer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more, based on the total mass of the outermost layer. Below, the said copolymer preferable to be used for a low refractive index layer is demonstrated.

含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学工業（株）製）やＭ−２０２０（商品名、ダイキン工業（株）製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％であり、特に好ましくは３０〜５０質量％である。 Fluorine-containing vinyl monomers include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid moieties or fully fluorinated alkyl ester derivatives (eg, biscoat) 6FM (trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), M-2020 (trade name, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and the like, and fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. are preferable. From the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, etc., hexafluoropropylene is particularly preferred.
The fluorine-containing vinyl monomer is preferably introduced so that the fluorine content of the copolymer is 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 55% by mass, and particularly preferably 30 to 50% by mass.

上記共重合体は（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位を有する。（メタ）アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(i)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(ii)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(iii)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(iv)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法、(v)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(vi)３−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で本発明では特に水酸基を含有するポリマーに対して(i)または(ii)の手法によって（メタ）アクリロイル基を導入することが好ましい。 The copolymer has a repeating unit having a (meth) acryloyl group. The method for introducing the (meth) acryloyl group is not particularly limited. For example, (i) after synthesizing a polymer having a nucleophilic group such as a hydroxyl group or an amino group, (meth) acrylic acid chloride, (meth) (Ii) a method in which acrylic acid anhydride, a mixed acid anhydride of (meth) acrylic acid and methanesulfonic acid, etc. are allowed to act, (ii) (meth) acrylic acid is added to the polymer having the nucleophilic group in the presence of a catalyst such as sulfuric acid. (Iii) a method of allowing a compound having both an isocyanate group such as methacryloyloxypropyl isocyanate and a (meth) acryloyl group to act on the polymer having the nucleophilic group, and (iv) after synthesizing a polymer having an epoxy group ( (V) a method of allowing meth) acrylic acid to act; (v) an epoxy group such as glycidyl methacrylate and (meth) acryloyl on a polymer having a carboxyl group Examples thereof include a method of allowing a compound having a group to act, and (vi) a method of dehydrochlorination after polymerizing a vinyl monomer having a 3-chloropropionic acid ester moiety. Among these, in the present invention, it is particularly preferable to introduce a (meth) acryloyl group by the method (i) or (ii) to a polymer containing a hydroxyl group.

側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位は、上記共重合体中に５〜９０質量％を占めることが好ましく、３０〜７０質量％を占めることがより好ましく、４０〜６０質量％を占めることが特に好ましい。 The repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain preferably occupies 5 to 90% by mass, more preferably 30 to 70% by mass, and 40 to 60% by mass in the copolymer. It is particularly preferred.

上記共重合体には、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合させることもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、より好ましくは０〜４０モル％、特に好ましくは０〜３０モル％である。 In addition to the repeating unit derived from the fluorine-containing vinyl monomer and the repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, the copolymer includes adhesion to a lower layer such as a transparent support, polymer Tg (for coating hardness). Other vinyl monomers can be suitably copolymerized from various viewpoints such as solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust resistance and antifouling properties. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer, more preferably 0 to 40 mol%, particularly preferably 0. ˜30 mol%.

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２-ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ,Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。 The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethyl styrene, p-methoxy styrene, etc.) ), Vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate) , Vinyl cinnamate, etc.), unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide) Etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile derivatives and the like.

本発明に用いられる含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位からなる共重合体の好ましい形態として、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。
一般式（１） As a preferred form of a copolymer composed of a repeating unit derived from the fluorine-containing vinyl monomer used in the present invention and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain, one represented by the following general formula (1) is exemplified. It is done.
General formula (1)

一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは炭素数２〜４の連結基であり、直鎖、分岐、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₂−ＮＨ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₄−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₆−Ｏ−＊＊、＊−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−＊＊、−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−＊＊、＊−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表す。 In the general formula (1), L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms. May have a branched or ring structure and may have a heteroatom selected from O, N and S.
Preferred _{_{examples, * - (CH 2) 2}} -O - **, * - (CH 2) 2 -NH - **, * - (CH 2) 4 -O - **, * - (CH 2) _{6 -O - **, * - (} CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O - **, - CONH- (CH 2) 3 -O - **, * - CH 2 CH (OH) CH ₂ —O — **, * —CH ₂ CH ₂ OCONH (CH ₂ ) ₃ —O — ** (* represents a connecting site on the polymer main chain side, and ** represents a connecting site on the (meth) acryloyl group side) And the like. m represents 0 or 1;

一般式（１）中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。 In general formula (1), X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式（１）中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、透明支持体など下層への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。 In the general formula (1), A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. It can be appropriately selected from various viewpoints such as adhesion, Tg of polymer (contributing to film hardness), solubility in solvent, transparency, slipperiness, dustproof / antifouling property, and can be selected according to the purpose. You may be comprised by the some vinyl monomer.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。 Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０である。 x, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. Preferably, 35 ≦ x ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, and 0 ≦ z ≦ 20, and particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10.

さらに上記共重合体の特に好ましい形態として一般式（２）で表されるものが挙げられる。
一般式（２） Furthermore, what is represented by General formula (2) is mentioned as an especially preferable form of the said copolymer.
General formula (2)

一般式（２）中、Ｘ、ｘ、ｙはそれぞれ一般式（１）と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表し、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（１）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のモル％を表し、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たす値を表す。それぞれ０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。
一般式（２）で表される共重合体としては、４０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦６０、ｚ２＝０を満たすものが特に好ましい。 In general formula (2), X, x, and y are each synonymous with general formula (1), and their preferable ranges are also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said General formula (1) is applicable.
z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and represent values satisfying 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65. It is preferable that 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10 respectively, and it is particularly preferable that 0 ≦ z1 ≦ 10 and 0 ≦ z2 ≦ 5.
As the copolymer represented by the general formula (2), those satisfying 40 ≦ x ≦ 60, 30 ≦ y ≦ 60, and z2 = 0 are particularly preferable.

一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の好ましい具体例として、特開２００４−４５４６２号公報の段落［００４３］〜［００４７］に記載されたものが挙げられる。また、一般式（１）又は一般式（２）で表される共重合体の合成法も該公報に詳しく記載されている。 Preferable specific examples of the copolymer represented by the general formula (1) or the general formula (2) include those described in paragraphs [0043] to [0047] of JP-A-2004-45462. Further, the method for synthesizing the copolymer represented by the general formula (1) or the general formula (2) is also described in detail in the publication.

本発明において、低屈折率層を作製するのに用いる組成物は、塗料の形態をとることが好ましく、含フッ素化合物を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが０．０１質量％〜６０質量％が好ましく、より好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。 In the present invention, the composition used for producing the low refractive index layer is preferably in the form of a paint, and a fluorine-containing compound is an essential constituent, and various additives and radical polymerization initiators are added as necessary. It is prepared by dissolving in an appropriate solvent. In this case, the solid content is appropriately selected depending on the use, but is preferably 0.01% by mass to 60% by mass, more preferably 0.5 to 50% by mass, and particularly preferably about 1% to 20% by mass. It is.

低屈折率層は、目的に応じて充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）、オルガノシラン化合物及びその誘導体、バインダー、界面活性剤等の添加剤を含有することができる。特に、充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り剤（ジメチルシリコーンなどのポリシロキサン化合物等）を添加することは好ましい。
以下に、低屈折率層に用いる好ましい充填剤、滑り剤等について記載する。 The low refractive index layer is made up of fillers (for example, inorganic fine particles and organic fine particles), slip agents (polysiloxane compounds such as dimethyl silicone), organosilane compounds and derivatives thereof, binders, surfactants, etc. Additives can be included. In particular, it is preferable to add a filler (for example, inorganic fine particles and organic fine particles) and a slipping agent (polysiloxane compound such as dimethyl silicone).
Hereinafter, preferred fillers, slip agents and the like used for the low refractive index layer will be described.

〈低屈折率層の好ましい充填剤〉
充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）を改良する点で、添加することが好ましい。低屈折率層に添加する充填剤としては無機微粒子が好ましく、中でも屈折率が低い二酸化珪素（シリカ）、中空のシリカ、細孔を有するシリカ、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）などが好ましい。特に好ましいのは二酸化珪素（シリカ）、中空シリカである。 <Preferable filler for low refractive index layer>
It is preferable to add a filler (for example, inorganic fine particles or organic fine particles) in terms of improving the physical strength (such as scratch resistance) of the low refractive index layer. As the filler added to the low refractive index layer, inorganic fine particles are preferable. Among them, silicon dioxide (silica) having a low refractive index, hollow silica, silica having pores, fluorine-containing particles (magnesium fluoride, calcium fluoride, fluorine). Barium fluoride) and the like are preferable. Particularly preferred are silicon dioxide (silica) and hollow silica.

充填剤の一次粒子の質量平均粒径は、１ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１ｎｍ〜８０ｎｍであることが最も好ましい。低屈折率層において充填剤は、より微細に分散されていることが好ましい。充填剤の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、不定形状であることが好ましく、また、粒子構造として中空、細孔または微細空隙を有する構造であることがさらに好ましい。特に好ましい形状は、球形状、不定形状である。充填剤は、結晶質、非晶質のいずれでも良い。 The mass average particle diameter of the primary particles of the filler is preferably 1 nm to 150 nm, more preferably 1 nm to 100 nm, and most preferably 1 nm to 80 nm. It is preferable that the filler is more finely dispersed in the low refractive index layer. The shape of the filler is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a short fiber shape, a ring shape, or an indefinite shape, and has a structure having hollow, fine pores or fine voids as a particle structure. Is more preferable. Particularly preferable shapes are a spherical shape and an indefinite shape. The filler may be crystalline or amorphous.

充填剤は、分散液中あるいは塗料中で、分散安定化を図るために、あるいは低屈折率層の構成成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤による表面処理が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシ化合物（例、チタネートカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。特に、シランカップリング剤処理が有効である。 The filler is used in plasma dispersion or corona discharge treatment in order to stabilize the dispersion in the dispersion or paint, or to increase the affinity and binding properties with the components of the low refractive index layer. Physical surface treatment, chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. A surface treatment with a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy compound (eg, titanate coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. In particular, silane coupling agent treatment is effective.

充填剤の表面処理は、低屈折率層の塗料の調製前にあらかじめ表面処理を実施しておくことが好ましいが、カップリング剤による表面処理の場合、塗料の調製時に塗料中にカップリング剤を添加して実施することも好ましい。
充填剤は、媒体（溶媒など）中に予め分散されていることが好ましい。 As for the surface treatment of the filler, it is preferable to carry out the surface treatment in advance before preparing the paint for the low refractive index layer, but in the case of surface treatment with a coupling agent, a coupling agent is added to the paint at the time of preparation of the paint. It is also preferable to carry out the addition.
The filler is preferably dispersed in advance in a medium (such as a solvent).

充填剤の添加量は、物理強度（耐擦傷性など）の改良効果及び低屈折率層に白濁を起こさないこと等の観点から、低屈折率層の全質量に対し５質量％〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０質量％〜５０質量％、特に好ましくは２０質量％〜４０質量％である。 The addition amount of the filler is 5% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the low refractive index layer from the viewpoint of improving the physical strength (such as scratch resistance) and preventing the low refractive index layer from becoming clouded. More preferably, it is 10 mass%-50 mass%, Most preferably, it is 20 mass%-40 mass%.

充填剤の平均粒径は、低屈折率層の膜厚に対し２０％〜１００％が好ましく、より好ましくは３０％〜８０％、特に好ましくは３０％〜５０％である。 The average particle diameter of the filler is preferably 20% to 100%, more preferably 30% to 80%, and particularly preferably 30% to 50% with respect to the film thickness of the low refractive index layer.

低屈折率層に添加する充填剤が二酸化珪素微粒子の場合、中空の二酸化珪素微粒子を用いることが特に好ましい。中空の二酸化珪素微粒子は、屈折率が１．１７〜１．４５であることが好ましく、より好ましくは１．１７〜１．４０、さらに好ましくは１．１７〜１．３７である。ここで、中空の二酸化珪素微粒子の屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の二酸化珪素微粒子を形成している外殻の二酸化珪素のみの屈折率を表すものではない。中空の二酸化珪素微粒子を用いることで低屈折率層の屈折率を下げることができる。 When the filler added to the low refractive index layer is silicon dioxide fine particles, it is particularly preferable to use hollow silicon dioxide fine particles. The hollow silicon dioxide fine particles preferably have a refractive index of 1.17 to 1.45, more preferably 1.17 to 1.40, and still more preferably 1.17 to 1.37. Here, the refractive index of the hollow silicon dioxide fine particles represents the refractive index of the entire particles, and does not represent the refractive index of only the outer shell silicon dioxide forming the hollow silicon dioxide fine particles. The refractive index of the low refractive index layer can be lowered by using hollow silicon dioxide fine particles.

この時、粒子内の空洞の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（１）で表される。 At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is expressed by the following formula (1).

数式（１）ｘ＝(４πａ³／３)／（４πｂ³／３）×１００ Equation ^{(1) x = (4πa 3} /3) / (4πb 3/3) × 100

空隙率ｘは１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がさらに好ましく、３０〜６０％であることが最も好ましい。 The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%.

充填剤は、２種類以上を併用して用いることも好ましい。また、平均粒子径が異なる粒子も併用して用いることができる。 It is also preferable to use two or more fillers in combination. Further, particles having different average particle diameters can be used in combination.

〈低屈折率層の好ましい滑り剤〉
滑り剤は、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、防汚性を改良する点で添加することが好ましい。
滑り剤としては、含フッ素エーテル化合物（パーフルオロポリエーテル、及び、その誘導体など）、ポリシロキサン化合物（ジメチルポリシロキサン、及び、その誘導体など）などが挙げられる。ポリシロキサン化合物が好ましい。 <Preferable slip agent for low refractive index layer>
The slip agent is preferably added from the viewpoint of improving the physical strength (such as scratch resistance) and antifouling property of the low refractive index layer.
Examples of the slip agent include fluorine-containing ether compounds (perfluoropolyether and derivatives thereof), polysiloxane compounds (dimethylpolysiloxane and derivatives thereof), and the like. Polysiloxane compounds are preferred.

ポリシロキサン化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物の末端及び側鎖の少なくともいずれかに置換基を有するものが挙げられる。
ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として含む化合物中にはジメチルシリルオキシ単位以外の構造単位（置換基）を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。 Preferable examples of the polysiloxane compound include those having a substituent at at least one of a terminal and a side chain of a compound containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units.
The compound containing a dimethylsilyloxy unit as a repeating unit may contain a structural unit (substituent) other than the dimethylsilyloxy unit. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable.

好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。 Examples of preferred substituents include groups containing (meth) acryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done.

滑り剤の分子量には特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シロキサン化合物のＳｉ原子含有量には特に制限はないが５質量％以上であることが好ましく、１０〜６０質量％であることが特に好ましく、１５〜５０質量％であることが最も好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight of a slip agent, It is preferable that it is 100,000 or less, It is especially preferable that it is 50,000 or less, It is most preferable that it is 3000-30000. Although there is no restriction | limiting in particular in Si atom content of a siloxane compound, it is preferable that it is 5 mass% or more, it is especially preferable that it is 10-60 mass%, and it is most preferable that it is 15-50 mass%.

特に好ましい滑り剤は、下記一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体（誘導体とは、例えば、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物の架橋又は重合体、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物とポリシロキサン化合物以外の架橋又は重合可能な官能基を有する化合物との反応生成物など）である。
一般式（Ａ） Particularly preferred slipping agents are a polysiloxane compound having a crosslinkable or polymerizable functional group represented by the following general formula (A) and a derivative thereof (for example, a polysiloxane compound represented by the general formula (A) Or a reaction product of a polysiloxane compound represented by the general formula (A) and a compound having a crosslinkable or polymerizable functional group other than the polysiloxane compound).
Formula (A)

一般式（Ａ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴のうち少なくとも一つの基が架橋又は重合性の官能基を表す。
ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、｛｝で囲われているポリシロキサン部分はランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。 In general formula (A), R ^{1 to} R ⁴ each independently represent a substituent having 1 to 20 carbon atoms, and when there are a plurality of each group, they may be the same or different from each other, R ¹ , R ³ and R ⁴ represent a cross-linkable or polymerizable functional group.
p represents an integer satisfying 1 ≦ p ≦ 4. q represents an integer satisfying 10 ≦ q ≦ 500, r represents an integer satisfying 0 ≦ r ≦ 500, and the polysiloxane portion surrounded by {} is a block copolymer even if it is a random copolymer. There may be.

本発明に用いられる低屈折率層は、一般式（Ａ）で表される架橋又は重合性の官能基を有するポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかと含フッ素化合物とを含む硬化物を含有することが好ましい。 The low refractive index layer used in the present invention contains a cured product containing at least one of a polysiloxane compound having a crosslinked or polymerizable functional group represented by the general formula (A) and a derivative thereof and a fluorine-containing compound. It is preferable.

ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの含有量は、含フッ素化合物に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。 The content of at least one of the polysiloxane compound and the derivative thereof is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, and particularly preferably 1 to 1% by mass with respect to the fluorine-containing compound. 10% by mass.

ポリシロキサン化合物及びその誘導体の好ましい架橋又は重合性の官能基は、最外層の他の構成成分（含フッ素化合物、バインダー、など）と架橋又は重合反応して結合を形成することができる官能基であればよく、例えば、活性水素原子を有する基（たとえば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β−ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等）、カチオン重合可能な基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニル基、ビニルオキシ基等）、ラジカル種による架橋または重合が可能な不飽和二重結合を有する基（（メタ）アクリロイル基、アリル基等）、加水分解性シリル基（例えばアルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等）、酸無水物、イソシアネート基、求核剤によって置換され得る基（活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等）等が挙げられる。 Preferred cross-linkable or polymerizable functional groups of the polysiloxane compound and derivatives thereof are functional groups capable of forming a bond by cross-linking or polymerizing with other constituent components (fluorine-containing compound, binder, etc.) of the outermost layer. For example, a group having an active hydrogen atom (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a carbamoyl group, a mercapto group, a β-ketoester group, a hydrosilyl group, a silanol group, etc.), a group capable of cationic polymerization (epoxy group, An oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyl group, a vinyloxy group, etc.), a group having an unsaturated double bond that can be crosslinked or polymerized by a radical species (a (meth) acryloyl group, an allyl group, etc.), a hydrolyzable silyl group (for example, Alkoxysilyl group, acyloxysilyl group, etc.), acid anhydride, isocyanate group, nucleophile Group capable of being (active halogen atom, a sulfonic acid ester, etc.) and the like.

これらの架橋又は重合性官能基は低屈折率層の構成成分に合わせて適宜選択される。好ましくは、電離放射線硬化性の官能基である。 These crosslinkable or polymerizable functional groups are appropriately selected according to the constituent components of the low refractive index layer. Preferably, it is an ionizing radiation curable functional group.

また、一般式（Ａ）の架橋又は重合性の官能基は、含フッ素化合物が有する架橋又は重合性の官能基と架橋又は重合反応することが好ましく、特に好ましい官能基はカチオン開環重合反応性基（特に、エポキシ基、オキセタニル基など）、ラジカル重合反応性基（特に、（メタ）アクリロイル基）である。 The crosslinkable or polymerizable functional group of the general formula (A) preferably crosslinks or undergoes a polymerization reaction with the crosslinkable or polymerizable functional group of the fluorine-containing compound, and the particularly preferred functional group is cationic ring-opening polymerization reactivity. Groups (especially epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) and radical polymerization reactive groups (particularly (meth) acryloyl groups).

一般式（Ａ）のＲ²が表す置換基は、炭素数１〜２０の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等）、フッ素化アルキル基（トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等）または炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）であり、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、フッ素化アルキル基またはフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。これらはさらにこれらの基で置換されていてもよい。
一般式（Ａ）のＲ¹、Ｒ³、Ｒ⁴が架橋又は重合性の官能基でない場合、上記有機基であることができる。 The substituent represented by R ^{2 in the} general formula (A) is a substituted or unsubstituted organic group having 1 to 20 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a hexyl group). Etc.), a fluorinated alkyl group (trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, etc.) or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), more preferably an alkyl having 1 to 5 carbon atoms. Group, a fluorinated alkyl group or a phenyl group, particularly preferably a methyl group. These may be further substituted with these groups.
In the case where R ¹ , R ³ and R ^{4 in the} general formula (A) are not cross-linked or polymerizable functional groups, they can be the above organic groups.

ｐは１≦ｐ≦４を満たす整数を表す。ｑは１０≦ｑ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは５０≦ｑ≦４００であり、特に好ましくは１００≦ｑ≦３００である。ｒは０≦ｒ≦５００を満たす整数を表し、好ましくは０≦ｒ≦ｑであり、特に好ましくは０≦ｒ≦０．５ｑである。 p represents an integer satisfying 1 ≦ p ≦ 4. q represents an integer satisfying 10 ≦ q ≦ 500, preferably 50 ≦ q ≦ 400, and particularly preferably 100 ≦ q ≦ 300. r represents an integer satisfying 0 ≦ r ≦ 500, preferably 0 ≦ r ≦ q, and particularly preferably 0 ≦ r ≦ 0.5q.

一般式（Ａ）で表される化合物のポリシロキサン構造は、その繰り返し単位（−ＯＳｉ（Ｒ²）₂−）が単一の置換基（Ｒ²）のみで構成された単独重合体であっても、異なる置換基を有する繰り返し単位の組み合わせによって構成されたランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であってもよい。 The polysiloxane structure of the compound represented by the general formula (A) is a homopolymer in which the repeating unit (—OSi (R ² ) ₂ —) is composed of only a single substituent (R ² ). Alternatively, it may be a random copolymer constituted by a combination of repeating units having different substituents, or may be a block copolymer.

一般式（Ａ）で表される化合物の質量平均分子量は、１０³〜１０⁶であることが好ましく、より好ましくは５×１０³〜５×１０⁵であり、特に好ましくは１０⁴〜１０⁵である。 The compound represented by the general formula (A) preferably has a mass average molecular weight of 10 ³ to 10 ⁶ , more preferably 5 × 10 ^{3 to} 5 × 10 ⁵ , and particularly preferably 10 ⁴ to 10 ^5. It is.

一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物は市販されているもの、例えば、KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-164C、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(信越化学工業（株）製)、AK-5、AK-30、AK-32（東亜合成化学（株）製）、サイラプレーンFM-0275、FM-0721、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(チッソ（株）製)等を用いることもできる。また、市販のポリシロキサン化合物が含有する水酸基、アミノ基、メルカプト基等に架橋、又は、重合性官能基を導入することで作製することもできる。 The polysiloxane compound represented by the general formula (A) is commercially available, for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22 -164C, X-22-5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS, X-22-174DX, X-22-2426, X-22-170DX , X-22-176D, X-22-1821 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.), Silaplane FM-0275, FM -0721, FM-0725, FM-7725, DMS-U22, RMS-033, RMS-083, UMS-182 (manufactured by Chisso Corporation) and the like can also be used. Moreover, it can also produce by introduce | transducing a crosslinking or polymerizable functional group into the hydroxyl group, amino group, mercapto group, etc. which a commercially available polysiloxane compound contains.

一般式（Ａ）で表される好ましいポリシロキサン化合物の好ましい具体例として特開２００３−３２９８０４号公報の［００４１］〜［００４５］に記載されたものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of preferable polysiloxane compounds represented by the general formula (A) include those described in JP-A-2003-329804, [0041] to [0045], but are not limited thereto. It is not a thing.

一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかの添加量は、最外層の全固形分に対し、０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０質量％、更に好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。 The addition amount of at least one of the polysiloxane compound represented by the general formula (A) and the derivative thereof is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0%, based on the total solid content of the outermost layer. 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, and particularly preferably 1 to 10% by mass.

〈低屈折率層及びその形成法〉
低屈折率層は、上記含フッ素化合物、さらに必要に応じて、上記充填剤、上記ポリシロキサン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを溶媒に溶解、又は、分散した塗料を塗布することにより作製することが好ましい。
好ましい溶媒としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、水などを挙げることができる。
特に好ましい溶媒としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、エステル類であり、最も好ましい溶媒としては、ケトン類である。ケトン類の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。溶媒には、ケトン系溶媒の含有量が塗料に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
２種類以上の溶剤を併用することもできる。 <Low refractive index layer and formation method thereof>
The low refractive index layer is prepared by applying a paint in which at least one of the above-mentioned fluorine-containing compound and, if necessary, the above-mentioned filler, the above-mentioned polysiloxane compound and its derivative is dissolved or dispersed in a solvent. Is preferred.
Preferred solvents include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), alcohols (methanol, ethanol, etc.) Isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), water and the like.
Particularly preferred solvents are ketones, aromatic hydrocarbons and esters, and most preferred solvents are ketones. Of the ketones, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are particularly preferable. The solvent preferably has a ketone solvent content of 10% by mass or more based on the total solvent contained in the paint. Preferably it is 30 mass% or more, More preferably, it is 60 mass% or more.
Two or more kinds of solvents can be used in combination.

架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であれば、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、含フッ素化合物を架橋又は重合反応させ、低屈折率層を作製することが好ましい。
含フッ素化合物が、ラジカルで架橋又は重合する官能基を有していれば、ラジカル重合開始剤、特に光ラジカル重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。また、カチオンで架橋又は重合する官能基を有していれば、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を用いて架橋又は重合反応させることが好ましい。 In the case of a fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group, it is preferable to produce a low refractive index layer by crosslinking or polymerizing the fluorine-containing compound simultaneously with or after the application of the low refractive index layer.
If the fluorine-containing compound has a functional group that crosslinks or polymerizes with a radical, it is preferable to perform a crosslinking or polymerization reaction using a radical polymerization initiator, particularly a photoradical polymerization initiator. Moreover, if it has a functional group which crosslinks or polymerizes with a cation, it is preferable to carry out a crosslinking or polymerization reaction using a cationic polymerization initiator, particularly a photocationic polymerization initiator.

ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、あるいは光の作用によりラジカルを発生するものが好ましい。特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。 As the radical polymerization initiator, those that generate radicals by the action of heat or those that generate radicals by the action of light are preferable. Particularly preferred are radical photopolymerization initiators.

熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。 As the compound that initiates radical polymerization by the action of heat, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p -Nitrobenzenediazonium etc. can be mentioned.

光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、例えば紫外線など用いる化合物に応じた光の照射によって硬化させ、低屈折率層を作製することができる。
光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、高薄一弘著「最新ＵＶ硬化技術」（（株）技術情報協会、１５９頁、１９９１年）に記載されている。
市販の光ラジカル重合開始剤も好ましく用いることができ、防眩層の項で記載した開始剤等が挙げられる。 In the case of using a compound that initiates radical polymerization by the action of light, for example, it can be cured by irradiation with light according to the compound to be used such as ultraviolet rays to produce a low refractive index layer.
Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfides There are compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
In particular, photocleavable photoradical polymerization initiators are preferred. The photocleavable photoradical polymerization initiator is described in “Latest UV Curing Technology” by Kazuhiro Takashiro (Technical Information Association, Inc., page 159, 1991).
Commercially available radical photopolymerization initiators can also be preferably used, and examples include the initiators described in the item of the antiglare layer.

光重合開始剤は、含フッ素化合物１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。さらには、これらの光重合開始剤と併用して光増感剤も好ましく用いることができ、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。市販の光増感剤も好ましく用いることができ、防眩層の項で記載した増感剤等が挙げられる。 It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of fluorine-containing compounds, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts. Furthermore, a photosensitizer can be preferably used in combination with these photopolymerization initiators, and examples thereof include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone. Commercially available photosensitizers can also be preferably used, and examples include the sensitizers described in the item of the antiglare layer.

バインダーは、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、最外層と隣接する層との密着性を改良する点で、添加することが好ましい。
含フッ素化合物が、架橋又は重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーは含フッ素化合物と架橋又は重合する官能基を有するバインダーであることが好ましい。
特に、含フッ素化合物が、光架橋又は光重合性の官能基を有する化合物であれば、バインダーとして光架橋又は光重合性の官能基を有する多官能モノマーであることが好ましい。光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、後述の帯電防止層で記載したものが挙げられる。多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
本発明の低屈折率層に用いる含フッ素化合物は、架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物であることが好ましい。該含フッ素化合物と組み合わせて用いることのできる化合物としては、一般式（Ａ）で表されるポリシロキサン化合物及びその誘導体、該架橋又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物と架橋又は重合するバインダー等をあげることができる。該含フッ素化合物とを組み合わせて用いる化合物は複数種を併用してもよい。 The binder is preferably added in terms of improving the physical strength (such as scratch resistance) of the low refractive index layer and the adhesion between the outermost layer and the adjacent layer.
If the fluorine-containing compound is a compound having a crosslinkable or polymerizable functional group, the binder is preferably a binder having a functional group that crosslinks or polymerizes with the fluorine containing compound.
In particular, if the fluorine-containing compound is a compound having a photocrosslinkable or photopolymerizable functional group, the binder is preferably a polyfunctional monomer having a photocrosslinkable or photopolymerizable functional group. Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group include those described in the antistatic layer described later. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
The fluorine-containing compound used for the low refractive index layer of the present invention is preferably a fluorine-containing compound having a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the compound that can be used in combination with the fluorine-containing compound include a polysiloxane compound represented by the general formula (A) and a derivative thereof, and a binder that crosslinks or polymerizes with the fluorine-containing compound having the crosslinkable or polymerizable functional group. Etc. A plurality of compounds used in combination with the fluorine-containing compound may be used in combination.

低屈折率層は、含フッ素化合物、その他最外層の構成成分を溶解あるいは分散させた塗料を、塗布と同時又は塗布後に、光照射、電子線ビーム照射、加熱処理などを実施して、架橋又は重合反応させ、作製することが好ましい。
紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。 The low-refractive index layer is formed by dissolving or dispersing a fluorine-containing compound and other constituents of the outermost layer at the same time as or after application, and then performing light irradiation, electron beam irradiation, heat treatment, etc. It is preferable to carry out a polymerization reaction.
In the case of ultraviolet irradiation, ultraviolet rays emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, and the like can be used.

低屈折率層の作製は、特に最外層を電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成する場合には、酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。
低屈折率層を酸素濃度が４体積％以下の雰囲気で作製することにより、低屈折率層の物理強度（耐擦傷性など）、耐薬品性、耐候性、更には、最外層と最外層と隣接する層との接着性を改良することができる。
好ましくは酸素濃度が３体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により作製することであり、更に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が１体積％以下、最も好ましくは０．５体積％以下である。
酸素濃度を４体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。 The production of the low refractive index layer is preferably carried out in an atmosphere having an oxygen concentration of 4% by volume or less, particularly when the outermost layer is formed by the crosslinking or polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound.
By producing the low refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 4% by volume or less, the physical strength (scratch resistance, etc.), chemical resistance and weather resistance of the low refractive index layer, and the outermost and outermost layers Adhesion between adjacent layers can be improved.
Preferably, it is produced by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere having an oxygen concentration of 3% by volume or less, more preferably an oxygen concentration of 2% by volume or less, particularly preferably an oxygen concentration. Is 1% by volume or less, most preferably 0.5% by volume or less.
As a method for reducing the oxygen concentration to 4% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

低屈折率層の膜厚は３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。低屈折率層を防汚層として用いる場合、膜厚は３〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは７〜２５ｎｍである。 The film thickness of the low refractive index layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm, and particularly preferably 60 to 120 nm. When the low refractive index layer is used as an antifouling layer, the film thickness is preferably 3 to 50 nm, more preferably 5 to 35 nm, and particularly preferably 7 to 25 nm.

低屈折率層は反射防止フィルムの物理強度を改良するために、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。 The low refractive index layer preferably has a surface dynamic friction coefficient of 0.25 or less in order to improve the physical strength of the antireflection film. The dynamic friction coefficient described here refers to a dynamic friction coefficient between a surface and a stainless steel hard sphere having a diameter of 5 mm when a load of 0.98 N is applied to a stainless steel hard sphere having a diameter of 5 mm and the surface is moved at a speed of 60 cm / min. Preferably it is 0.17 or less, Most preferably, it is 0.15 or less.

また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
また、低屈折率層の表面の水に対する接触角は後述する鹸化処理の前後で変わらないことが望ましく、鹸化処理の前後で変化量が１０°以内であることが好ましく、特に好ましくは５°以内である。 Further, in order to improve the antifouling performance of the antireflection film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.
Further, the contact angle of the surface of the low refractive index layer with water is preferably not changed before and after the saponification treatment, which will be described later. It is.

低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下である。 The haze of the low refractive index layer is preferably as low as possible. It is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less.

低屈折率層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳＫ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。 The strength of the low refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test according to JIS K5400. Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

低屈折率層には、前記の成分（含フッ素化合物、重合開始剤、光増感剤、充填剤、滑り剤、バインダーなど）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。 In addition to the above components (fluorine-containing compounds, polymerization initiators, photosensitizers, fillers, slip agents, binders, etc.), the low refractive index layer contains surfactants, antistatic agents, coupling agents, and thickeners. Agents, anti-coloring agents, coloring agents (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, etc. Can also be added.

低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０、更に好ましくは１．３５〜１．４８、特に好ましくは１．３７〜１．４５である。
低屈折率層には、後述の一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物、及び、その誘導体（加水分解物、および該加水分解物が縮合して生成した架橋ケイ素化合物など）からなる群から選ばれた化合物を含有することも好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.55. More preferably, it is 1.30-1.50, More preferably, it is 1.35-1.48, Most preferably, it is 1.37-1.45.
The low refractive index layer is composed of an organosilane compound represented by the following general formula (a) and a derivative thereof (hydrolyzate and a crosslinked silicon compound formed by condensation of the hydrolyzate). It is also preferable to contain the compound chosen from these.

（帯電防止層）
本発明の防眩性反射防止フィルムは表面に塵埃（埃など）が付着するのを防止するために帯電防止層を用いることも好ましい。防塵性は、表面の表面抵抗値を下げることで発現される。表面抵抗値は、１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましく、１×１０¹²Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０¹⁰Ω／□以下であることが更に好ましい。
帯電防止層は、防眩層と低屈折率層の間、または透明支持体と防眩層の間に設けることが好ましい。 (Antistatic layer)
The antiglare antireflection film of the present invention preferably uses an antistatic layer in order to prevent dust (dust etc.) from adhering to the surface. The dust resistance is expressed by lowering the surface resistance value of the surface. The surface resistance value is preferably 1 × 10 ¹³ Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 ¹² Ω / □ or less, and further preferably 1 × 10 ¹⁰ Ω / □ or less.
The antistatic layer is preferably provided between the antiglare layer and the low refractive index layer, or between the transparent support and the antiglare layer.

帯電防止層を塗布で形成する場合、導電材（電子伝導型の導電性粒子、イオン伝導型の有機化合物など）を結着剤（バインダーなど）に含有させて、帯電防止層を形成することが好ましい。特に、電子伝導型の導電材が、環境の変化を受け難く導電性能が安定するので低湿環境下でも良好な導電性能を発現する点で好ましい。 When the antistatic layer is formed by coating, an antistatic layer may be formed by incorporating a conductive material (electroconductive particles, electron conductive organic compounds, etc.) in a binder (binder, etc.). preferable. In particular, an electron conductive type conductive material is preferable in that it is less susceptible to environmental changes and has stable conductive performance, so that it exhibits good conductive performance even in a low humidity environment.

帯電防止層に用いられる好ましい導電材としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、などが挙げられる。
導電材の一次粒子の質量平均粒径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍである。導電材の比表面積は、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることがさらに好ましい。 Preferred conductive materials used for the antistatic layer include tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide, and aluminum-doped zinc oxide. Can be mentioned.
The mass average particle size of the primary particles of the conductive material is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 100 nm. Specific surface of the conductive material is preferably 10 to 400 m ² / g, further preferably 20 to 200 m ² / g.

導電材の分散においては、分散剤の存在下で、分散媒体中に分散することが好ましい。分散は、例えばカルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有するアニオン性基を有する分散剤を用いることができる。アニオン性の極性基を有する分散剤としては、ホスファノール（ＰＥ−５１０、ＰＥ−６１０、ＬＢ−４００、ＥＣ−６１０３、ＲＥ−４１０など；東邦化学工業（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（−１１０、−１１１、−１１６、−１４０、−１６１、−１６２、−１６３、−１６４、−１６４、−１７０、−１７１など；ビックケミー・ジャパン社製）などが挙げられる。分散剤は、さらに架橋又は重合性の官能基を含有することが好ましい。 In dispersing the conductive material, it is preferable to disperse in the dispersion medium in the presence of a dispersant. For the dispersion, for example, a dispersant having an anionic group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo group), a phosphoric acid group (phosphono group), or a sulfonamide group can be used. Examples of the dispersant having an anionic polar group include phosphanol (PE-510, PE-610, LB-400, EC-6103, RE-410, etc .; manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), Disperbyk (-110,- 111, -116, -140, -161, -162, -163, -164, -164, -170, -171, etc .; manufactured by Big Chemie Japan). The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group.

分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。
中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール、プロパノ−ル、セロソルブ類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく、特に好ましくは、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。 As the dispersion medium, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used.
Among these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butanol, propanol, and cellosolves (for example, propylene glycol monomethyl ether) are preferable, and methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are particularly preferable.

導電材は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、アイガーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミル、ペイントシェーカーなどのメディア型分散機を用いて分散することが好ましい。
導電材は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均粒径は１〜２００ｎｍが好ましい。 The conductive material is preferably dispersed using a media-type disperser such as a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a dyno mill, a high-speed impeller mill, an Eiger mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor and a colloid mill, or a paint shaker. .
The conductive material is preferably as fine as possible in the dispersion medium, and the mass average particle diameter is preferably 1 to 200 nm.

本発明の帯電防止層のバインダー前駆体としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなどが好ましい。
帯電防止層の形成は、４体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成することが好ましい。 As the binder precursor of the antistatic layer of the present invention, ionizing radiation curable polyfunctional monomers and polyfunctional oligomers such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group and allyl group are preferable.
The antistatic layer is preferably formed by crosslinking or polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere of 4% by volume or less.

帯電防止層の膜厚は用途により適切に設計することができ、透明性を優先して帯電防止層を形成する場合、膜厚は１μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
また、帯電防止層がハードコート処理されハードコート層を兼ねる場合、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。 The film thickness of the antistatic layer can be appropriately designed depending on the application, and when the antistatic layer is formed with priority given to transparency, the film thickness is preferably 1 μm or less, more preferably 500 nm or less, still more preferably Is 200 nm or less, particularly preferably 150 nm or less.
Moreover, when an antistatic layer is hard-coated and serves also as a hard-coat layer, 1-10 micrometers is preferable, More preferably, it is 2-7 micrometers, Most preferably, it is 3-5 micrometers.

帯電防止層には、前記の成分（導電材、重合開始剤、光増感剤、バインダーなど）以外に、樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。 In the antistatic layer, in addition to the above components (conductive material, polymerization initiator, photosensitizer, binder, etc.), resin, surfactant, coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment) Dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, adhesion-imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, and the like.

（その他の塗布層について）
本発明の防眩性反射防止フィルムには、物理強度を付与するために透明支持体と最外層の間にハードコート層を設けることも好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗料を透明支持体上に塗布し、架橋又は重合反応させることにより形成することができる。 (About other coating layers)
In order to impart physical strength to the antiglare antireflection film of the present invention, it is also preferred to provide a hard coat layer between the transparent support and the outermost layer.
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking or polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it is formed by applying a coating containing a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer curable with ionizing radiation such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group, allyl group, etc. on a transparent support and crosslinking or polymerizing it. can do.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、防眩層で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。 Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group include those exemplified for the antiglare layer, and it is preferable to polymerize using a photopolymerization initiator and a photosensitizer. The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after the hard coat layer is applied and dried.

ハードコート層の膜厚は、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳＫ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。 The film thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm, and particularly preferably 3 to 5 μm.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400. Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層には樹脂、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、などを添加することもできる。また、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御するなどの目的で、後述する一次粒子の平均粒径が１〜２００ｎｍの無機微粒子を添加することができる。
さらには、防眩機能、液晶表示装置の視野角拡大機能を付与する目的で前記平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有して、防眩性または散乱性ハードコート層にすることもできる。 Resin, dispersant, surfactant, antistatic agent, silane coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment, dye), antifoaming agent, leveling agent, flame retardant, UV Absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, and the like can also be added. In addition, for the purpose of increasing the hardness of the hard coat layer, suppressing curing shrinkage, controlling the refractive index, and the like, inorganic fine particles having an average primary particle diameter of 1 to 200 nm described later can be added.
Furthermore, for the purpose of imparting an antiglare function and a viewing angle expansion function of a liquid crystal display device, the hard coat layer can be made into an antiglare or scattering hard coat layer by containing particles having an average particle size of 0.2 to 10 μm. .

(透明支持体）
透明支持体としては、プラスチックフィルムであることが好ましい。プラスチックフィルムとしてはセルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましく、特に、液晶表示装置に用いる場合、トリアセチルセルロースであることが好ましい。 (Transparent support)
The transparent support is preferably a plastic film. As the plastic film, cellulose ester (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1, 4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene, polyethylene, poly Methylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethacrylate And polyether ketones. Triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred, and triacetyl cellulose is particularly preferred when used in a liquid crystal display device.

透明支持体がトリアセチルセルロースフィルムの場合、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何れかの流延方法により作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。 When the transparent support is a triacetyl cellulose film, a triacetyl cellulose dope prepared by dissolving triacetyl cellulose in a solvent is prepared by a single layer casting method or a multi-layer co-casting method. A cellulose film is preferred.

特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整したトリアセチルセルロースドープを用いて作製したトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
本発明に好ましく用いられるトリアセチルセルロースフィルムについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）に例示されている。 In particular, from the viewpoint of environmental conservation, a triacetyl cellulose film prepared using a triacetyl cellulose dope prepared by dissolving triacetyl cellulose in a solvent substantially free of dichloromethane by a low temperature dissolution method or a high temperature dissolution method is preferable. .
The triacetylcellulose film preferably used in the present invention is exemplified in the Japan Society for Invention and Innovation (public technical number 2001-1745).

上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは低い方が好ましい。２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
透明支持体の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。 The film thickness of the transparent support is not particularly limited, but the film thickness is preferably 1 to 300 μm, preferably 30 to 150 μm, particularly preferably 40 to 120 μm, and most preferably 40 to 100 μm.
The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more.
The haze of the transparent support is preferably low. It is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less.
The refractive index of the transparent support is preferably 1.40 to 1.70.

透明支持体には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
また、透明支持体には、滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、タルクおよびカオリンが含まれる。 An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.01 to 20% by mass of the transparent support, and more preferably 0.05 to 10% by mass.
In addition, an inert inorganic compound particle may be added to the transparent support as a slipping agent. Examples of the inorganic _{_{compound, SiO 2, TiO 2, BaSO}} 4, CaCO 3, talc and kaolin.

透明支持体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理とコロナ放電処理が特に好ましい。 A surface treatment may be performed on the transparent support. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and corona discharge treatment are particularly preferred.

（オルガノシラン化合物）
本発明に係る防眩性反射防止フィルムの各層に特に好ましく用いることができるオルガノシラン化合物について記載する。
皮膜の物理強度（耐擦傷性など）、皮膜と皮膜に隣接する層の密着性を改良する点でオルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物を透明支持体上のいずれかの層に添加することが好ましい。 (Organosilane compound)
The organosilane compound that can be particularly preferably used for each layer of the antiglare antireflection film according to the present invention will be described.
Any layer on the transparent support containing at least one compound selected from organosilane compounds and derivatives thereof in terms of improving the physical strength of the film (such as scratch resistance) and the adhesion between the film and the layer adjacent to the film. It is preferable to add to.

オルガノシラン化合物及びその誘導体としては、下記一般式（ａ）で表される化合物及びその誘導体を用いることができる。好ましいのは、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するオルガノシラン化合物であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイルなど）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノなど）、アルキル基、を含有するオルガノシラン化合物である。 As the organosilane compound and derivatives thereof, compounds represented by the following general formula (a) and derivatives thereof can be used. Preferred are organosilane compounds containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, and an acylamino group, and particularly preferred are an epoxy group and a polymerizable acyloxy group (( (Meth) acryloyl, etc.), polymerizable acylamino groups (acrylamino, methacrylamino, etc.), and alkyl groups.

一般式（ａ）：（Ｒ¹⁰）_S−Ｓｉ（Ｚ）_4-S Formula ^{_{(a) :( R 10) S}} -Si (Z) 4-S

上記一般式（ａ）において、
Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｚは、水酸基または加水分解可能な基を表す。Ｚとしては、アルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。）、またはＲ^２ＣＯＯ（Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ_３ＣＯＯ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ等が挙げられる。）等が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｓは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２である。 In the general formula (a),
R ¹⁰ represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. As an alkyl group, a C1-C30 alkyl group is preferable, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is a C1-C6 thing. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
Z represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Z is an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (such as Cl, Br, or I), or R ^2. COO (R ² is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples include CH ₃ COO, C ₂ H ₅ COO, etc.), preferably an alkoxy group, particularly preferably. A methoxy group or an ethoxy group;
s represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2.

Ｒ¹⁰およびＺは複数存在するときは、複数のＲ¹⁰およびＺはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ¹⁰に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、シクロアルキル基、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。 When R ¹⁰ and Z there are a plurality, a plurality of R ¹⁰ and Z may be different from each other be the same.
The substituent contained in R ¹⁰ is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), cycloalkyl group, aryl group (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic group (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryl Oxy (phenoxy etc.), alkylthio group (methylthio, ethylthio etc.), arylthio group (phenylthio etc.), alkenyl group (vinyl, 1-propenyl etc.), acyloxy group (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy etc.), alkoxycarbonyl group ( Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl ), Aryloxycarbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylic) Amino, methacrylamino and the like), and these substituents may be further substituted.

オルガノシラン化合物としては、以下に記載する一般式（ｂ）で表されるオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式（ｂ） As the organosilane compound, an organosilane compound represented by the following general formula (b) is preferable.
General formula (b)

上記一般式（ｂ）において、
Ｒ_２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊、または＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊、または＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合または＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ_２）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。 In the general formula (b),
R ₂ represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom and a chlorine atom are preferred, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom and a chlorine atom are more preferred, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond, * -COO-**, * -CONH-**, or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-**, or * -CONH-**. Bonds or * -COO-** are more preferred, and * -COO-** is particularly preferred. * Represents a position bonded to ═C (R ₂ ) —, and ** represents a position bonded to L.

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。 L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) inside, and a linking group inside. A substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, an alkylene group having a linking group therein is preferred, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group Further, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferable, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferable. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

ｌはｌ＝１００−ｍを満たす数を表し、ｍは０〜５０の数を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ_３〜Ｒ_５は一価の基を表し、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、または無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ_３〜Ｒ_５は、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基であることがより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基であることが更に好ましく、水酸基またはメトキシ基であることが特に好ましい。
Ｒ_６は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としてはメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ_６は、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
Ｒ_７は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｒ_４、Ｒ_５、およびＲ_７は複数存在するときは、複数のＲ_４、Ｒ_５、およびＲ_７はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。 l represents a number satisfying l = 100−m, and m represents a number from 0 to 50. As for m, the number of 0-40 is more preferable, and the number of 0-30 is especially preferable.
R _{3 to} R ₅ represent a monovalent group, preferably a halogen atom, a hydroxyl group, an unsubstituted alkoxy group, or an unsubstituted alkyl group. R _{3 to} R ₅ are more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and a hydroxyl group or methoxy group. Particularly preferred is a group.
R ₆ represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably a methyl group or an ethyl group. R ₆ is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R ₇ represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. As an alkyl group, a C1-C30 alkyl group is preferable, More preferably, it is C1-C16, Most preferably, it is a C1-C6 thing. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
R _4, _{R 5,} and _{when R 7} there are a plurality, even more of _R 4, _{R 5,} and _{R 7} are respectively the same or different.

一般式（ａ）の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式（ｂ）の化合物は一般式（ａ）の化合物２種類を出発原料として合成される。以下に一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Two or more compounds of the general formula (a) may be used in combination. In particular, the compound of the general formula (b) is synthesized using two kinds of compounds of the general formula (a) as starting materials. Specific examples of the starting materials for the compounds represented by general formula (a) and general formula (b) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Ｍ−４８：ＣＨ₃−Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃
Ｍ−４９：Ｃ₂Ｈ₅−Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃
Ｍ−５０：ｔ−Ｃ₄Ｈ₉-Ｓｉ(ＯＣＨ₃)₃ M-48: CH ₃ —Si (OCH ₃ ) ₃
M-49: C ₂ H ₅ —Si (OCH ₃ ) ₃
_{M-50: t-C 4} H 9 -Si (OCH 3) 3

これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、（Ｍ−２５）、（Ｍ−４８）、（Ｍ−４９）が特に好ましい。 Of these, (M-1), (M-2), (M-25), (M-48), and (M-49) are particularly preferable.

本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜１００質量％が更に好ましく、９０質量％〜１００質量％が特に好ましい。固形分の生成、液の濁り、ポットライフの悪化、分子量の制御、などの観点から、また重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られやすいため、前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が３０質量％以上にすることが好ましい。 In order to obtain the effect of the present invention, the content of the organosilane containing the vinyl polymerizable group in the hydrolyzate of organosilane and / or its partial condensate is preferably 30% by mass to 100% by mass, More preferably, it is more preferably from 100% by weight to 100% by weight, even more preferably from 70% by weight to 100% by weight, particularly preferably from 90% by weight to 100% by weight. From the viewpoints of solid content generation, liquid turbidity, deterioration of pot life, control of molecular weight, etc., and performance when polymerized due to low content of polymerizable groups (for example, scratch resistance of antireflection film) The content of the organosilane containing a vinyl polymerizable group is preferably 30% by mass or more.

本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかは塗布品性能の安定化のためには揮発性を抑えることが好ましく、具体的には、１０５℃における１時間当たりの揮発量が５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。 It is preferable to suppress volatility of the hydrolyzate of organosilane of the present invention and / or its partial condensate in order to stabilize the performance of the coated product. Specifically, volatilization per hour at 105 ° C. The amount is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less.

本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解および／または部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。 The sol component used in the present invention is prepared by hydrolysis and / or partial condensation of the organosilane.
In the hydrolysis condensation reaction, 0.05 to 2.0 mol, preferably 0.1 to 1.0 mol of water is added to 1 mol of the hydrolyzable group (X), and the presence of the catalyst used in the present invention is present. Under stirring at 25-100 ° C.

本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物いずれかの質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、４５０〜２００００が好ましく、５００〜１００００がより好ましく、５５０〜５０００が更に好ましく、６００〜３０００が更に好ましい。
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが特に好ましい。このように１０質量％以下とすることは、そのようなオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜の透明性や基板との密着性の観点から好ましい。 In at least one of the hydrolyzate of organosilane of the present invention and the partial condensate thereof, the mass average molecular weight of either the hydrolyzate of organosilane containing a vinyl polymerizable group or the partial condensate thereof is less than 300. When this component is removed, 450 to 20000 is preferable, 500 to 10,000 is more preferable, 550 to 5000 is still more preferable, and 600 to 3000 is still more preferable.
Of the components having a molecular weight of 300 or more in the hydrolyzate of organosilane and / or its partial condensate, the component having a molecular weight of more than 20000 is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less. 3% by mass or less is particularly preferable. Thus, if it is 10 mass% or less, the transparency of the cured film obtained by curing such a curable composition containing a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof and the substrate. It is preferable from the viewpoint of adhesion.

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
分散度（質量平均分子／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。 Here, the mass average molecular weight and the molecular weight were converted to polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corp.), and detection by solvent THF and differential refractometer. The content is the area% of the peak in the molecular weight range when the peak area of the component having a molecular weight of 300 or more is defined as 100%.
The dispersity (mass average molecule / number average molecular weight) is preferably 3.0 to 1.1, more preferably 2.5 to 1.1, still more preferably 2.0 to 1.1, and 1.5 to 1. 1 is particularly preferred.

本発明のオルガノシランの加水分解物および部分縮合物の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲ分析により一般式（ａ）のＺが−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）、Ｓｉの１つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ１）、Ｓｉが全く縮合していない場合を（Ｔ０）とした場合に縮合率αは
α＝（Ｔ３×３＋Ｔ２×２＋Ｔ１×１）／３／（Ｔ３＋Ｔ２＋Ｔ１＋Ｔ０）
で表され、縮合率は０．２〜０．９５が好ましく、０．３〜０．９３がより好ましく、０．４〜０．９が特に好ましい。
適切な加水分解・縮合の進行度合い、適切なモノマー成分数による硬化の度合い、および加水分解可能な基がの消費によるバインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用の低下防止などの観点から縮合率は上記範囲が好ましい。 The ²⁹ Si-NMR analysis of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane of the present invention can confirm the state in which Z in the general formula (a) is condensed in the form of -OSi.
At this time, when three bonds of Si are condensed in the form of -OSi (T3), when two bonds of Si are condensed in the form of -OSi (T2), one bond of Si is- The condensation rate α is α = (T3 × 3 + T2 × 2 + T1 × 1) / 3 / (T3 + T2 + T1 + T0) when the condensation is performed in the form of OSi (T1), and the case where Si is not condensed at all (T0).
The condensation rate is preferably 0.2 to 0.95, more preferably 0.3 to 0.93, and particularly preferably 0.4 to 0.9.
Condensation from the viewpoints of appropriate degree of hydrolysis / condensation, degree of cure with appropriate number of monomer components, and prevention of lowering of interaction between binder polymer, resin substrate, inorganic fine particles, etc. due to consumption of hydrolyzable groups The rate is preferably in the above range.

本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物について詳細に説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ_４Ｆなどの含Ｆ化合物等が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。 The organosilane compound hydrolyzate and partial condensate used in the present invention will be described in detail.
The hydrolysis reaction of organosilane and the subsequent condensation reaction are generally carried out in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, butyric acid, maleic acid, citric acid, formic acid, methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid; sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia Inorganic bases such as triethylamine, pyridine, etc .; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium, tetrabutyltitanate, dibutyltin dilaurate; metals such as Zr, Ti or Al as the central metal Metal chelate compounds and the like; F-containing compounds such as KF and NH ₄ F are included.
The said catalyst may be used independently or may use multiple types together.

オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。 The organosilane hydrolysis / condensation reaction can be carried out in the absence of a solvent or in a solvent, but an organic solvent is preferably used in order to mix the components uniformly. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, Ketones and esters are preferred.
The solvent preferably dissolves the organosilane and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating liquid or a part of the coating liquid, and those that do not impair solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。 Among these, examples of alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols, and among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms.
Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜１００％の範囲である。 Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane. Specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Specific examples of esters such as diisobutyl ketone and cyclohexanone include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The concentration of solid content in the reaction is not particularly limited, but is usually in the range of 1% to 100%.

加水分解・縮合反応は、オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、一般式Ｒ^３ＯＨ（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ^４ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^５ (式中、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含Ｆ化合物を使用する場合、含Ｆ化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。すなわち、平均重合度Ｍのオルガノシラン加水分解物／部分縮合物を調整するためには、Ｍモルの加水分解性オルガノシランに対して（Ｍ−１）モルの水を使用すれば良い。 In the hydrolysis / condensation reaction, 0.05 to 2 mol, preferably 0.1 to 1 mol of water is added to 1 mol of the hydrolyzable group of the organosilane, and in the presence or absence of the solvent. And stirring in the presence of a catalyst at 25-100 ° C.
In the present invention, (wherein, ^{R 3} represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula ^R 3 OH alcohol of the general formula ^R 4 COCH ₂ COR ⁵ (formula represented by, ^{R 4} is carbon From Zr, Ti, or Al having a ligand of a compound represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R ⁵ represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms) It is preferable to perform hydrolysis by stirring at 25 to 100 ° C. in the presence of at least one metal chelate compound having a selected metal as a central metal.
Alternatively, when an F-containing compound is used as a catalyst, the F-containing compound has the ability to completely proceed with hydrolysis and condensation, so the degree of polymerization can be determined by selecting the amount of water to be added, and any molecular weight can be set Therefore, it is preferable. That is, in order to adjust the organosilane hydrolyzate / partial condensate having an average degree of polymerization M, (M-1) mol of water may be used with respect to M mol of hydrolyzable organosilane.

金属キレート化合物は、一般式Ｒ^３ＯＨ（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ^４ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^５（式中、Ｒ^４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ^３）_ｐ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ^３）_ｑ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ^３）_ｒ１（Ｒ^４ＣＯＣＨＣＯＲ^５）_ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を持つ。
金属キレート化合物中のＲ^３およびＲ^４は、複数存在するときは、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。
Ｒ^５は、複数存在するときは、同一または異なってもよく、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。
また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。 Metal chelate compounds (wherein, ^{R 3} represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula ^R 3 OH alcohol and ^R 4 COCH ₂ COR ⁵ (wherein represented by, ^{R 4} is C 1 -C To 10 alkyl groups, R ⁵ represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms), and is selected from Zr, Ti, and Al. Any metal having a metal as a central metal can be suitably used without particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has a general formula of Zr (OR ³ ) _p1 (R ⁴ COCHCOR ⁵ ) _p2 , Ti (OR ³ ) _q1 (R ⁴ COCHCOR ⁵ ) _q2 , and Al (OR ³ ) _r1 (R ⁴ Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR ⁵ ) _r2 are preferred and have the effect of promoting the condensation reaction of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound.
When a plurality of R ³ and R ⁴ in the metal chelate compound are present, they may be the same or different, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like.
When a plurality of R ⁵ are present, they may be the same or different. In addition to the same alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, n- A propoxy group, an i-propoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a t-butoxy group, and the like.
Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。 Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropyl Poxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲で用いられることによりオルガノシラン化合物の縮合反応が早く、塗膜の耐久性が良好であり、オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が良好である。 The metal chelate compound is preferably used in a proportion of 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass, and still more preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the organosilane compound. When the metal chelate compound is used within the above range, the condensation reaction of the organosilane compound is fast, the durability of the coating film is good, and the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound and the metal chelate compound are contained. The storage stability of the composition is good.

本発明に用いられる機能層および低屈折率層の塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。 In addition to the composition containing the sol component and the metal chelate compound, at least one of a β-diketone compound and a β-ketoester compound is added to the coating liquid for the functional layer and the low refractive index layer used in the present invention. It is preferable. This will be further described below.

本発明で使用されるのは、一般式Ｒ^４ＣＯＣＨ₂ ＣＯＲ^５で表されるβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよびアルミニウム化合物の少なくともいずれかの化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物を構成するＲ^４およびＲ^５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ^４およびＲ^５と同様である。 In the present invention, at least one of a β-diketone compound and a β-ketoester compound represented by the general formula R ⁴ COCH ₂ COR ⁵ is used as a stability improver for the composition used in the present invention. It works. That is, by coordinating with a metal atom in the metal chelate compound (a compound of at least one of zirconium, titanium and aluminum compounds), condensation of hydrolyzate and partial condensate of organosilane compound by these metal chelate compounds It is considered that the action of accelerating the reaction is suppressed and the action of improving the storage stability of the resulting composition is achieved. R ⁴ and R ⁵ constituting the β- diketone compound and β- ketoester compound are the same as R ⁴ and R ⁵ constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、得られる組成物の保存安定性の観点から、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。 Specific examples of the β-diketone compound and β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate- sec-butyl, acetoacetate-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane-dione , 5-methyl-hexane-dione and the like. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and β-ketoester compound are preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound, from the viewpoint of the storage stability of the resulting composition.

上記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である低屈折率層の場合は少なく、厚膜である機能層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。 The content of the hydrolyzate and partial condensate of the organosilane compound is preferably small for a low refractive index layer that is a relatively thin film and large for a functional layer that is a thick film. The content is preferably 0.1 to 50% by mass, and preferably 0.5 to 30% by mass based on the total solid content of the containing layer (added layer), considering the effect, refractive index, film shape / surface shape, and the like. More preferred is 1 to 15% by mass.

オルガノシラン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物は、これらを含有する層の他の成分と架橋又は重合反応することが、皮膜の物理強度（耐擦傷性など）を向上させるために好ましい。このため、オルガノシラン化合物が架橋又は重合する官能基を有したり、無機微粒子やバインダーなどにオルガノシラン化合物と架橋又は重合する官能基を有する化合物を用いることが好ましい。 In order to improve the physical strength (scratch resistance, etc.) of the film, it is preferable that at least one compound selected from organosilane compounds and derivatives thereof is crosslinked or polymerized with other components in the layer containing them. . For this reason, it is preferable to use the compound which has a functional group which an organosilane compound bridge | crosslinks or superpose | polymerizes, or has a functional group which crosslinks or superposes | polymerizes with an organosilane compound in an inorganic fine particle, a binder, etc.

オルガノシラン化合物を添加するのに好ましい層は、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び最外層であり、より好ましくはハードコート層、防眩層、光拡散層、低屈折率層、及び最外層であり、特に好ましくは最外層及び該最外層の隣接層である。 Preferred layers for adding the organosilane compound are an antistatic layer, a hard coat layer, an antiglare layer, a light diffusion layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and an outermost layer, more preferably a hard coat layer. , An antiglare layer, a light diffusion layer, a low refractive index layer, and an outermost layer, particularly preferably an outermost layer and an adjacent layer of the outermost layer.

（反射防止フィルムの形成法等）
本発明において反射防止フィルムを構成する各層は、塗布法により作製したものが好ましい。塗布で形成する場合、各層はディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２，６８１，２９４号明細書記載）またはダイコート法（特開２００３−２００９７号、同２００３−２１１０５２号、２００３−２３６４３４号、同２００３−２６０４００号、同２００３−２６０４０２号公報等に記載）により作製することができる。２層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号の各明細書および原崎勇次著、「コーティング工学」、２５３頁、朝倉書店（１９７３年）に記載がある。ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコートが好ましい。特に、マイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。 (Anti-reflection film formation method, etc.)
In the present invention, each layer constituting the antireflection film is preferably prepared by a coating method. When formed by coating, each layer is formed by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure coating or extrusion coating (US Pat. No. 2,681, 294 specification) or a die coating method (described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2003-20097, 2003-211052, 2003-236434, 2003-260400, 2003-260402, etc.). . Two or more layers may be applied simultaneously. For the simultaneous application method, US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, 3,526,528 and Yuji Harasaki, “Coating Engineering ", page 253, Asakura Shoten (1973). Wire bar coating, gravure coating, micro gravure coating and die coating are preferred. In particular, a micro gravure coating method and a die coating method are preferable.

マイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を支持体に転写させて塗工することを特徴とする塗布法である。
マイクログラビアコート法では、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、より好ましくは１００〜３００本／インチである。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、より好ましくは５〜２００μｍである。グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、より好ましくは５〜２００ｒｐｍである。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは１〜５０ｍ／分である。 The micro gravure coating method is a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and having a gravure pattern engraved on the entire circumference, below the support and in the transport direction of the support. , Reversely rotating, scraping off excess coating liquid from the surface of the gravure roll with a doctor blade, and transferring a fixed amount of coating liquid onto a support and coating.
In the micro gravure coating method, the number of lines of the gravure pattern engraved on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines / inch, more preferably 100 to 300 lines / inch. The depth of the gravure pattern is preferably 1 to 600 μm, more preferably 5 to 200 μm. The rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm. It is preferable that the conveyance speed of a support body is 0.5-100 m / min, More preferably, it is 1-50 m / min.

また、ダイコート法はバックアップローラに支持されて連続走行するウェブに対して、内部にポケットが形成されているスロットダイから塗布液をビードにして塗布することにより、ウェブ上に塗膜を形成する。スロットダイの先端とウェブとの距離を、ウェブ進行方向に対するスロット部材の上流側と下流側で適度に調節することによって湿潤膜厚が数十μｍ以下の塗布を精度よく行うことができる。 In the die coating method, a coating film is formed on a web by coating the web continuously running supported by a backup roller from a slot die in which pockets are formed. By appropriately adjusting the distance between the tip of the slot die and the web on the upstream side and the downstream side of the slot member with respect to the web traveling direction, it is possible to accurately apply a wet film thickness of several tens of μm or less.

反射防止フィルムの各層を塗布法で作製する上で、層を作製するのに用いる塗料には、面状改良剤を添加することが好ましい。以下に、面状改良剤について説明する。 When each layer of the antireflection film is prepared by a coating method, it is preferable to add a surface conditioner to the coating material used for preparing the layer. Hereinafter, the surface conditioner will be described.

（面状改良剤）
透明支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗料には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。 (Surface improver)
In order to improve surface defects (coating unevenness, drying unevenness, point defects, etc.), the paint used to make any layer on the transparent support has at least one of fluorine-based and silicone-based surfaces. It is preferable to add a state improver.

面状改良剤は、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗料の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗料の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加していない塗料の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。
好ましくは、塗料の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。 The surface improver preferably changes the surface tension of the paint by 1 mN / m or more. Here, the surface tension of the paint changes by 1 mN / m or more when the surface tension of the paint after the addition of the surface conditioner is added, including the concentration process during coating / drying. It means that it changes by 1 mN / m or more as compared with the surface tension of no paint.
Preferably, it is a surface improver that has the effect of lowering the surface tension of the paint by 1 mN / m or more, more preferably a surface improver that lowers by 2 mN / m or more, and particularly preferably a surface improver that lowers by 3 mN / m or more.

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物（「フッ素系面状改良剤」と略記する）が挙げられる。特に、下記一般式（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位、及び、下記一般式（ii）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ２ｎｄｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ２，Ｐａｇｅ１〜４８３記載のものを用いることが好ましい。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
一般式（ｉ） Preferable examples of the fluorine-based surface improver include compounds containing a fluoroaliphatic group (abbreviated as “fluorine-based surface improver”). In particular, an acrylic resin, a methacrylic resin, and a vinyl monomer copolymerizable with the repeating unit corresponding to the monomer of the following general formula (i) and the repeating unit corresponding to the monomer of the following general formula (ii) And a copolymer are preferred.
Such monomers include Polymer Handbook 2nd ed. , J .; Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2, Pages 1-483 are preferably used.
For example, a compound having one addition polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, etc. I can give you.
Formula (i)

一般式（ｉ）においてＲ²¹は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²²）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ²²）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ²²は水素原子又は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。ａは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが特に好ましい。ｂは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が特に好ましい。
フッ素系面状改良剤中に一般式（ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが２種類以上構成成分として含まれていてもよい。 In the general formula (i), R ²¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. X ² represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R ²² ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R ²² ) —, and particularly preferably an oxygen atom. R ²² represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. a represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1. b represents an integer of 1 to 18, more preferably 4 to 12, and particularly preferably 6 to 8.
Two or more types of fluoroaliphatic group-containing monomers represented by the general formula (i) may be contained in the fluorine-based surface improver as a constituent component.

一般式（ii）

General formula (ii)

一般式（ii）において、Ｒ²³は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙ²は酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ²⁵）−がより好ましく、特に酸素原子が好ましい。Ｒ²⁵は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ²⁴は水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜２０の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換もしくは無置換の芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基が更に好ましい。以下でポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。 In the general formula (ii), R ²³ represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y ² represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R ²⁵ ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R ²⁵ ) —, and particularly preferably an oxygen atom. R ²⁵ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R ²⁴ represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group containing a poly (alkyleneoxy) group, or a substituted or unsubstituted aromatic group (for example, A phenyl group or a naphthyl group). A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms in total is more preferable, and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is still more preferable. The poly (alkyleneoxy) group will be described below.

ポリ（アルキレンオキシ）基は、−（ＯＲ）−を繰り返し単位とした基であり、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ（ＣＨ₃）−が挙げられる。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位（前記−ＯＲ−）は、ポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレンもしくはオキシエチレン単位であったり、または直鎖もしくは分岐状のオキシプロピレン単位のブロックもしくはオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであってもよい。 Poly (alkyleneoxy) group, - (OR) - a group in which a repeating unit, R represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, such as _{_{-CH 2 CH 2 -, - CH}} 2 CH 2 CH _2- , -CH (CH ₃ ) CH _2- , and -CH (CH ₃ ) CH (CH ₃ )-.
The oxyalkylene units (the -OR-) in the poly (oxyalkylene) group may be the same as in poly (oxypropylene), and two or more different oxyalkylenes are randomly distributed. It may be a linear or branched oxypropylene or oxyethylene unit, or a linear or branched oxypropylene unit block or an oxyethylene unit block. There may be.

このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（ＲｏｈｍａｎｄＨａａｓ製））およびＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。 The poly (oxyalkylene) chain may also include those linked by one or more chain bonds (for example, —CONH—Ph—NHCO—, —S—, etc .: Ph represents a phenylene group). If the chain bond has a valence of 3 or more, this provides a means for obtaining branched oxyalkylene units. When this copolymer is used in the present invention, the molecular weight of the poly (oxyalkylene) group is suitably from 250 to 3,000.
Poly (oxyalkylene) acrylates and methacrylates are commercially available hydroxypoly (oxyalkylene) materials such as “Pluronic” (Pluronic (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka Polyether (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) “Carbowax” [Carbowax (Glyco Products)], “Triton” (Toriton (from Rohm and Haas)) and P.M. E. It can be produced by reacting what is sold as G (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) with acrylic acid, methacrylic acid, acrylic chloride, methacrylic chloride or acrylic anhydride by a known method. Separately, poly (oxyalkylene) diacrylate produced by a known method can also be used.

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤において、フッ素系面状改良剤の形成に用いられる全モノマー量に対する一般式（i）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量が５０モル％以上であることが好ましく、より好ましくは７０〜１００モル％であり、特に好ましくは８０〜１００モル％の範囲である。 In the fluorine-based surface improver used in the present invention, the amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (i) with respect to the total amount of monomers used for forming the fluorine-based surface improver is 50 mol% or more. It is preferable that there is, more preferably 70 to 100 mol%, particularly preferably in the range of 80 to 100 mol%.

本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましく、８，０００〜６０，０００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。 The preferred weight average molecular weight of the fluorine-based surface improver used in the present invention is preferably 3000 to 100,000, more preferably 6,000 to 80,000, and still more preferably 8,000 to 60,000.
Here, the mass average molecular weight is expressed in terms of polystyrene by solvent THF and differential refractometer detection using a GPC analyzer using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corporation). The content is the area% of the peak in the molecular weight range when the peak area of a component having a molecular weight of 300 or more is defined as 100%.

更に、本発明で用いられるフッ素系面状改良剤の好ましい添加量は、添加する層の塗料に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。 Furthermore, the preferable addition amount of the fluorine-type surface improving agent used by this invention is the range of 0.001-5 mass% with respect to the coating material of the layer to add, Preferably it is the range of 0.005-3 mass%. More preferably, it is the range of 0.01-1 mass%.

以下、本発明によるフッ素系面状改良剤の具体的な構造の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。 Hereinafter, although the example of the specific structure of the fluorine-type surface improvement agent by this invention is shown, this invention is not limited to these. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

本発明の面状改良剤は、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン等）を含有する塗料に用いることが好ましくい。特に、ケトン系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒の中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
また、特にケトン系溶媒を全溶媒の１０質量％以上含有する塗料であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。 The surface conditioner of the present invention includes ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ester solvents (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), It is preferable to use it for a paint containing an aromatic hydrocarbon solvent (toluene, xylene, etc.). In particular, a ketone solvent is preferable. Among the ketone solvents, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone are preferable.
Moreover, it is preferable that it is especially a coating material containing 10 mass% or more of a ketone solvent of all the solvents. Preferably it is 30 mass% or more, More preferably, it is 60 mass% or more.

塗料の溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）などがあげられる。 The solvent of the paint may contain a solvent other than the ketone solvent. For example, water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), fat Aromatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethyl) Examples include acetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol) and the like.

面状改良剤は、層と層の界面の密着性を悪化させることがある。従って、層の表面に存在する面状改良剤を、該層の隣接層を形成する塗料中に溶出させて、層と層の界面近傍に面状改良剤が残らないようにすることが好ましい。そのため、隣接層の塗料中に面状改良剤を溶解する溶媒を含有させることが好ましい。そのような溶媒としては、上記ケトン系溶媒が好ましい。 A planarity improving agent may worsen the adhesiveness of the interface of a layer. Accordingly, it is preferable to elute the surface improver present on the surface of the layer into the coating material forming the adjacent layer of the layer so that the surface improver does not remain in the vicinity of the interface between the layers. Therefore, it is preferable to contain a solvent that dissolves the surface improver in the paint of the adjacent layer. As such a solvent, the above ketone solvents are preferable.

透明支持体上に形成する層の塗料において、面状改良剤を添加するのが特に好ましいのは、ハードコート層、防眩層、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層を形成するための塗料であり、特に好ましいのはハードコート層、防眩層、を形成するための塗料である。 In the coating of the layer formed on the transparent support, it is particularly preferable to add a surface conditioner to form a hard coat layer, an antiglare layer, an antistatic layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. The paint for forming a hard coat layer and an antiglare layer is particularly preferred.

（防眩性反射防止フィルムの物理性能）
本発明に係る反射防止フィルムは、物理強度（耐擦傷性など）を改良するために、塗布した最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で最外層を有する側の表面を移動させたときの、最外層を有する側の表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
さらに反射防止フィルムは、防汚性能を改良するために、最外層を有する側の表面の水に対する接触角が８０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９０゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムのヘイズは、０．５〜６０％であることが好ましく、１〜５０％であることがさらに好ましく、１〜４０％であることが最も好ましい。
さらに、本発明に係る反射防止フィルムの反射率は、低いほど好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは２．５％以下、更に好ましくは２．０％以下、特に好ましくは１．５％以下である。 (Physical performance of antiglare antireflection film)
The antireflection film according to the present invention preferably has a coefficient of dynamic friction on the surface having the coated outermost layer of 0.25 or less in order to improve physical strength (such as scratch resistance). The coefficient of dynamic friction is such that when a load of 0.98 N is applied to a stainless steel hard sphere having a diameter of 5 mm and the surface having the outermost layer is moved at a speed of 60 cm / min, the surface having the outermost layer and the stainless steel hard sphere having a diameter of 5 mm The coefficient of dynamic friction between Preferably it is 0.17 or less, Most preferably, it is 0.15 or less.
Further, the antireflection film preferably has a contact angle with water of 80 ° or more on the surface having the outermost layer in order to improve the antifouling performance. More preferably, it is 90 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.
Furthermore, the haze of the antireflection film according to the present invention is preferably 0.5 to 60%, more preferably 1 to 50%, and most preferably 1 to 40%.
Furthermore, the reflectance of the antireflection film according to the present invention is preferably as low as possible, preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, still more preferably 2.0% or less, and particularly preferably 1.5%. % Or less.

（偏光板用保護フィルム）
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いることができる。この場合、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。さらに好ましくは３０°以下であり、特に好ましくは２５°以下である。接触角を４０°以下にすることは、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。この接触角は下記の鹸化処理の処理条件により調整することができる。 (Protective film for polarizing plate)
The antireflection film of the present invention can be used as a protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate). In this case, the contact angle with respect to water of the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film is preferably 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, and particularly preferably 25 ° or less. Setting the contact angle to 40 ° or less is effective in improving the adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component. This contact angle can be adjusted by the following saponification treatment conditions.

偏光板用保護フィルムとして用いる反射防止フィルムの透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。 As the transparent support of the antireflection film used as the protective film for polarizing plate, it is particularly preferable to use a triacetyl cellulose film.

本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、高屈折率層、最外層など）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、帯電防止層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層、最外層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。 The following two methods are mentioned as a method of producing the protective film for polarizing plates in this invention.
(1) Apply each of the above layers (eg, antistatic layer, hard coat layer, antiglare layer, low refractive index layer, high refractive index layer, outermost layer, etc.) on one surface of the saponified transparent support. Technique.
(2) After coating each of the above layers (eg, antistatic layer, hard coat layer, antiglare layer, low refractive index layer, outermost layer, etc.) on one surface of the transparent support, the side to be bonded to the polarizing film Saponification treatment method.

上記（１）の手法において、透明支持体の一方の面のみが鹸化処理されている場合、各層は鹸化処理されていない側に塗設する。透明支持体の両方の面が鹸化処理されている場合、各層を塗設する側の鹸化処理した透明支持体の表面をコロナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理などの手法により表面処理し、その後、各層を塗設することが好ましい。
上記（２）において、反射防止フィルム全体を鹸化液に浸漬することが好ましい。この場合、反射防止フィルムは各層を有する側の表面を保護フィルムで保護して鹸化液に浸せきし、偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面を鹸化処理することもできる。
さらにまた、反射防止フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
鹸化処理は、保護フィルムの上に反射防止性能を付与した後に実施することで、よりコストを削減でき、特に（２）の手法が、偏光板用保護フィルムを安価に製造できる点で好ましい。 In the method (1), when only one surface of the transparent support is saponified, each layer is coated on the side not saponified. When both surfaces of the transparent support are saponified, the surface of the saponified transparent support on the side where each layer is coated is surface-treated by a technique such as corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, etc. It is preferable to coat each layer.
In said (2), it is preferable to immerse the whole antireflection film in a saponification liquid. In this case, the surface of the transparent support on the side to be bonded to the polarizing film can be saponified by protecting the surface of the antireflection film with a protective film and immersing it in a saponification solution.
Furthermore, a saponification treatment liquid can be applied to the surface of the transparent support on the side to be bonded to the polarizing film of the antireflection film, and the side to be bonded to the polarizing film can be saponified.
The saponification treatment is carried out after antireflection performance is imparted on the protective film, so that the cost can be further reduced. In particular, the method (2) is preferable because the protective film for polarizing plate can be produced at a low cost.

偏光板用保護フィルムは、光学性能（低反射性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）、防塵性能において、本発明の反射防止フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。
従って、最外層を有する側の表面の表面抵抗値が１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましく、１×１０¹²Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０¹⁰Ω／□以下であることが更に好ましい。
最外層を有する側の表面の動摩擦係数は０．２５以下であることが好ましい。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最外層を有する側の表面の水に対する接触角は９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。 Protective films for polarizing plates have optical performance (low reflection performance, antiglare performance, etc.), physical performance (such as scratch resistance), chemical resistance, antifouling performance (contamination resistance, etc.), and weather resistance (moisture and heat resistance, light resistance). Property) and dustproof performance, it is preferable to satisfy the performance described in the antireflection film of the present invention.
Accordingly, the surface resistance value of the surface having the outermost layer is preferably 1 × 10 ¹³ Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 ¹² Ω / □ or less, and 1 × 10 ¹⁰ Ω / □. More preferably, it is as follows.
The coefficient of dynamic friction on the surface having the outermost layer is preferably 0.25 or less. Preferably it is 0.17 or less, Most preferably, it is 0.15 or less.
Further, the contact angle with respect to water on the surface having the outermost layer is preferably 90 ° or more. More preferably, it is 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.

（鹸化処理）
上記の鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に透明支持体、又は、反射防止フィルムを適切な時間浸漬して実施するのが好ましい。
アルカリ液は、水酸化カリウム水溶液、及び／又は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７０℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。 (Saponification treatment)
The saponification treatment is preferably carried out by a known method, for example, by immersing the transparent support or the antireflection film in an alkali solution for an appropriate time.
The alkaline liquid is preferably a potassium hydroxide aqueous solution and / or a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / l, particularly preferably 1 to 2 mol / l. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-70 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２５゜以下である。 By saponification treatment, the surface of the transparent support is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component.
The saponification treatment is preferably carried out so that the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the antiglare layer or the low refractive index layer is 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, particularly preferably 25 ° or less.

（偏光板）
本発明の偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。 (Polarizer)
The polarizing plate of the present invention has the antireflection film of the present invention on at least one of the polarizing film protective film (polarizing plate protective film). As described above, the polarizing plate protective film has a water contact angle of 40 ° or less on the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film. preferable.

本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを２枚の保護フィルムの一方に用い、後述する光学異方性のある光学補償フィルムをもう一方に用いた偏光板は、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角を非常に広げることができるので、好ましい。 By using the antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate having an antireflection function can be produced, and the cost can be greatly reduced and the display device can be thinned.
Further, a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the two protective films and the optical compensation film having optical anisotropy described later as the other is further provided in the bright room of the liquid crystal display device. It is preferable because the contrast can be improved and the vertical and horizontal viewing angles can be greatly widened.

（光学補償フィルム）
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性層を有し、該ディスコティック化合物とフィルム面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向で変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。すなわち、ディスコティック構造単位を有する化合物の配向状態としては、例えば、ハイブリッド配向、ベント配向、ツイスト配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等であることが好ましく、ハイブリッド配向であることが特に好ましい。該角度は、光学異方性層中で光学補償フィルムの支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。 (Optical compensation film)
The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
As the optical compensation film, a known film can be used, but in terms of widening the viewing angle, an optically anisotropic layer made of a compound having a discotic structural unit described in JP-A-2001-100042 is disclosed. An optical compensation film characterized in that the angle formed by the discotic compound and the film surface changes in the depth direction of the optically anisotropic layer is preferable. That is, the orientation state of the compound having a discotic structural unit is preferably, for example, a hybrid orientation, a bent orientation, a twist orientation, a homogeneous orientation, a homeotropic orientation, or the like, and particularly preferably a hybrid orientation. The angle is preferably increased as the distance from the support surface side of the optical compensation film increases in the optically anisotropic layer.
When the optical compensation film is used as a protective film for the polarizing film, the surface on the side to be bonded to the polarizing film is preferably saponified, and is preferably performed according to the saponifying process.

また、光学異方性層が更にセルロースエステルを含んでいる態様、光学異方性層と光学補償フィルムの透明支持体との間に配向層が形成されている態様、該光学異方性層を有する光学補償フィルムの透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、且つ該透明支持体面の法線方向に光軸を有する態様、更に下記の条件を満足する態様も好ましい。 Also, an embodiment in which the optically anisotropic layer further contains a cellulose ester, an embodiment in which an alignment layer is formed between the optically anisotropic layer and the transparent support of the optical compensation film, and the optically anisotropic layer An embodiment in which the transparent support of the optical compensation film has an optically negative uniaxial property and an optical axis in the normal direction of the surface of the transparent support, and an embodiment satisfying the following conditions are also preferable.

２０≦｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ≦４００ 20 ≦ {(nx + ny) / 2−nz} × d ≦ 400

式中、ｎｘは面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、ｎｚは面に垂直方向の屈折率である。また、ｄは光学異方性層の厚さ（ｎｍ）である。 In the equation, nx is a refractive index in the slow axis direction in the plane (maximum refractive index in the plane), ny is a refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and nz is a refractive index in the direction perpendicular to the plane. Rate. D is the thickness (nm) of the optically anisotropic layer.

（画像表示装置）
防眩性反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
本発明に用いる反射防止フィルム及び偏光板は、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３号公報等に記載されているように、上記の光学補償フィルムと反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板を用いることで、視野角特性と反射防止特性を大幅に改良できる。
また、さらに市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、透過型または半透過型の液晶表示装置において、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。 (Image display device)
The antiglare antireflection film can be applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display (CRT). The antireflection film adheres the transparent support side of the antireflection film to the image display surface of the image display device.
The antireflection film and polarizing plate used in the present invention are twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated bend cell (OCB). It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of the mode. In particular, for a TN mode or IPS mode liquid crystal display device, as described in JP-A-2001-100043, a polarizing plate having the above optical compensation film and antireflection film as a protective film is used. Thus, viewing angle characteristics and antireflection characteristics can be greatly improved.
Further, by using in combination with a commercially available brightness enhancement film (a polarized light separation film having a polarization selection layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), in a transmissive or transflective liquid crystal display device, Furthermore, a display device with high visibility can be obtained.
Further, by combining with a λ / 4 plate, it can be used to reduce reflected light from the surface and the inside as a polarizing plate for reflective liquid crystal or a surface protective plate for organic EL display.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（高分子化合物の合成例）
水３００ｍｌにポリビニルアルコール０．６ｇを溶解し、これにアゾビスイソブチロニトリル２ｇを溶解したメタクリル酸メチル８１．６ｇとアクリル酸メチル１５．９ｇの混合液を加えた。この混合液をディスパーで５分間攪拌したあと、窒素の雰囲気下で７５℃で４時間、弱い攪拌を行いながら反応させた。
反応後遠心分離器で弱く脱水し、生成物を水で洗浄したあと乾燥させて高分子化合物Ｋ３を得た。
（パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の合成） In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto.
(Synthesis example of polymer compound)
A mixture of 81.6 g of methyl methacrylate and 15.9 g of methyl acrylate, in which 2 g of azobisisobutyronitrile was dissolved, was added to 0.6 g of polyvinyl alcohol in 300 ml of water. The mixture was stirred with a disper for 5 minutes, and then allowed to react under mild stirring at 75 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere.
After the reaction, the product was weakly dehydrated with a centrifugal separator, and the product was washed with water and dried to obtain a polymer compound K3.
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer PF-1)

ステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０質量部、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７質量部、及び過酸化ジラウロイル０．５５質量部を仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５質量部をオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ²（５２９ｋＰａ）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ²（３１４ｋＰａ）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。
得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー生成物２８質量部を得た。
次に該ポリマー生成物の２０質量部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００質量部に溶解、氷冷下で、アクリル酸クロライド１１．４質量部を滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加えて水洗し、有機層を抽出後、濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１を１９質量部を得た。得られたパーフルオロオレフィン共重合体の屈折率は１．４２１であった。
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１をメチルエチルケトンに溶解し、固形分濃度３０％の溶液を得た。 A stainless steel autoclave equipped with a stirrer was charged with 40 parts by mass of ethyl acetate, 14.7 parts by mass of hydroxyethyl vinyl ether, and 0.55 parts by mass of dilauroyl peroxide, and the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Further, 25 parts by mass of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 5.4 kg / cm ² (529 kPa). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 3.2 kg / cm ² (314 kPa), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out.
The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 parts by mass of the polymer product was obtained.
Next, 20 parts by mass of the polymer product was dissolved in 100 parts by mass of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 parts by mass of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution and washed with water. The organic layer was extracted and concentrated, and the obtained polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 parts by mass of the perfluoroolefin copolymer PF-1. The obtained perfluoroolefin copolymer had a refractive index of 1.421.
The perfluoroolefin copolymer PF-1 was dissolved in methyl ethyl ketone to obtain a solution having a solid content concentration of 30%.

（オルガノシラン化合物Ａ溶液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加えて混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。室温まで冷却し、オルガノシラン化合物Ａの溶液を得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィーによって分析したところから、原料の３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランは殆ど残存していなかった。 (Preparation of organosilane compound A solution)
A reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 120 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate After adding a part and mixing, 30 mass parts of ion-exchange water was added, and it was made to react at 60 degreeC for 4 hours. The solution was cooled to room temperature to obtain a solution of organosilane compound A. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the analysis by gas chromatography, the raw material 3-acryloxypropyltrimethoxysilane hardly remained.

（防眩層用塗料Ｂ−１の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）４７．０質量部に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２．０質量部、フッ素系面状改良剤（ＦＰ−７−１２）０．７５質量部、オルガノシラン化合物（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１０．０質量部、高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部、トルエン２２．５質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布したのち、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液１２．６質量部、及び、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで分散した平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液１０．０質量部を添加して撹拌した。
孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩散層用塗料Ｂ−１を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．５１であった。
この防眩層用塗料Ｂ−１の粘度は９．８ｍＰａ・ｓで、表面張力は２７ｍＮ／ｍであった。
尚、高分子溶液を添加しない後述の比較塗料ＢＲ−３の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであり、高分子溶液の添加による粘度の上昇は５．１ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of antiglare layer coating B-1)
A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 47.0 parts by mass, a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 0.0 part by mass, 0.75 part by mass of a fluorine-based surface improver (FP-7-12), 10.0 parts by mass of an organosilane compound (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a polymer compound K3 16.0 parts by mass of a 30% toluene solution and 22.5 parts by mass of toluene were added and stirred. After applying this solution, the refractive index of the coating film obtained by ultraviolet curing was 1.51.
Furthermore, a 30% toluene dispersion 12.6 of crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 3.5 μm (refractive index 1.60, SX-350, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) dispersed in this solution at 10,000 rpm with a Polytron disperser. 10.0 parts by mass of a 30% toluene dispersion of mass parts and crosslinked acrylic-styrene particles having an average particle diameter of 3.5 μm (refractive index: 1.55, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) dispersed at 10,000 rpm with a polytron disperser. Part was added and stirred.
The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare antiglare scattering layer coating material B-1. The refractive index of the coating film made of this paint was 1.51.
The viscosity of this antiglare layer coating material B-1 was 9.8 mPa · s, and the surface tension was 27 mN / m.
In addition, the viscosity of the later-described comparative paint BR-3 to which no polymer solution was added was 4.7 mPa · s, and the increase in viscosity due to the addition of the polymer solution was 5.1 mPa · s.

（防眩層用塗料Ｂ−２の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をＫ１に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−２を調製した。この塗料の粘度は、８．０ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−３の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をＫ４に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−３を調製した。この塗料の粘度は、１４．６ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−４の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル）共重合体（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量１０．１万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−４を調製した。この塗料の粘度は、９．２ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of antiglare layer coating B-2)
The antiglare layer coating B-2 was prepared in exactly the same manner as the coating B-1, except that the polymer compound was changed to K1. The viscosity of this paint was 8.0 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-3)
The antiglare layer coating B-3 was prepared in exactly the same manner as the coating B-1, except that the polymer compound was changed to K4. The viscosity of this paint was 14.6 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-4)
The polymer compound was changed to a poly (methyl methacrylate / ethyl acrylate) copolymer (manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., molecular weight of 101,000) with respect to the coating B-1 for the antiglare layer. The coating was carried out in the same manner as the coating B-1, and a coating B-4 for an antiglare layer was prepared. The viscosity of this paint was 9.2 mPa · s.

（防眩層用塗料Ｂ−５の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／メタアクリル酸ブチル）共重合体（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量７．５万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−５を調製した。この塗料の粘度は、８．９ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−６の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリメタクリル酸イソブチル（関東化学（株）製。分子量３０万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−６を調製した。この塗料の粘度は、１１．７ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−７の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリメタクリル酸メチル（シグマアルドリッチジャパン（株）製。分子量１２万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−７を調製した。この塗料の粘度は、９．５ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of antiglare layer coating B-5)
Except for changing the polymer compound to a poly (methyl methacrylate / butyl methacrylate) copolymer (manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., molecular weight 75,000) with respect to the paint B-1 for the antiglare layer. Was carried out in exactly the same manner as paint B-1, and antiglare layer paint B-5 was prepared. The viscosity of this paint was 8.9 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-6)
The antiglare layer coating B-1 was prepared in the same manner as the coating B-1, except that the polymer compound was changed to polyisobutyl methacrylate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., molecular weight 300,000). A glare layer coating material B-6 was prepared. The viscosity of this paint was 11.7 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-7)
For the antiglare layer coating B-1, except that the polymer compound was changed to polymethyl methacrylate (manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., molecular weight 120,000), the same procedure as in coating B-1 was performed. A paint B-7 for an antiglare layer was prepared. The viscosity of this paint was 9.5 mPa · s.

（防眩層用塗料Ｂ−８の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をスミペックスＬＧ２１（住友化学工業（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−８を調製した。この塗料の粘度は、９．８ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−９の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をスミペックスＬＧ（住友化学工業（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−９を調製した。この塗料の粘度は、１０．１ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１０の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をアクリペットＭＤ（三菱レーヨン（株）製）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１０を調製した。この塗料の粘度は、１０．３ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１１の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を試薬添加順のうちの一番最後に添加した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行った。この塗料において高分子化合物Ｋ３溶液を添加する前の塗料の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであった。また、高分子化合物溶液を添加し、撹拌した後の完成した塗料液の粘度は９．８ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of antiglare layer coating B-8)
The antiglare layer coating B-1 was performed in exactly the same manner as the coating B-1, except that the polymer compound was changed to Sumipex LG21 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). -8 was prepared. The viscosity of this paint was 9.8 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-9)
The antiglare layer coating B-1 was performed in exactly the same manner as the coating B-1, except that the polymer compound was changed to Sumipex LG (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). -9 was prepared. The viscosity of this paint was 10.1 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-10)
The antiglare layer coating B-1 was carried out in the same manner as the coating B-1 except that the polymer compound was changed to Acrypet MD (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.). -10 was prepared. The viscosity of this paint was 10.3 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-11)
Anti-glare layer coating B-1 except that 16.0 parts by mass of a 30% toluene solution of polymer compound K3 was added last in the order of reagent addition to anti-glare layer coating B-1. The same was done. In this paint, the viscosity of the paint before adding the polymer compound K3 solution was 4.7 mPa · s. The viscosity of the finished coating liquid after adding and stirring the polymer compound solution was 9.8 mPa · s.

（防眩層用塗料Ｂ−１２の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１の高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を、セルロースアセテーチブチレート（質量平均分子量約２６０，０００、イーストマンケミカル（株）製）の１０％メチルイソブチルケトン溶液７．０質量に変更し、その後に添加するトルエンの量を３１．５質量部に変更した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１２を調製した。この塗料の粘度は１０．２ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料Ｂ−１３の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１の高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液１６．０質量部を、ポリビニルアセテート（質量平均分子量５００，０００、アルドリッチ（株）製）の１０％メチルイソブチルケトン溶液５．６質量部に変更し、その後に添加するトルエンの量を３２．９質量部に変更した以外は防眩層用塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料Ｂ−１３を調製した。この塗料の粘度は９．５ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of antiglare layer coating B-12)
16.0 parts by mass of 30% toluene solution of polymer compound K3 of antiglare layer coating B-1 is 10% of cellulose acetylate butyrate (mass average molecular weight of about 260,000, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) The antiglare layer coating was carried out in the same manner as the antiglare layer coating B-1, except that the methyl isobutyl ketone solution was changed to 7.0 mass and the amount of toluene added thereafter was changed to 31.5 parts by mass. B-12 was prepared. The viscosity of this paint was 10.2 mPa · s.
(Preparation of antiglare layer coating B-13)
4. 16.0 parts by mass of 30% toluene solution of polymer compound K3 of antiglare layer coating B-1 in 10% methyl isobutyl ketone solution of polyvinyl acetate (mass average molecular weight 500,000, manufactured by Aldrich Co., Ltd.) The antiglare layer coating B-13 was prepared in the same manner as the antiglare layer coating B-1, except that the amount of toluene added to 6 parts by mass was changed to 32.9 parts by mass. did. The viscosity of this paint was 9.5 mPa · s.

（防眩層用塗料比較例ＢＲ−１の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物の添加をゼロにして、代わりにトルエンを１６．０質量部に変更した以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料比較例ＢＲ−１を調製した。この塗料の粘度は、４．２ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料比較例ＢＲ−２の調製）
前記防眩層用塗料Ｂ−１に対して、高分子化合物をポリ（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル＝９０／１０、分子量９５万）に変えた以外は塗料Ｂ−１と全く同様に行って、防眩層用塗料比較例ＢＲ−２を調製した。この塗料の粘度は、１９．６ｍＰａ・ｓであった。
（防眩層用塗料比較例ＢＲ−３の調製）
防眩層用塗料Ｂ−１１に対して高分子化合物Ｋ３の３０％トルエン溶液を添加しない塗料を調製した。塗料の粘度は４．７ｍＰａ・ｓであった。 (Preparation of anti-glare layer coating comparative example BR-1)
The antiglare layer coating B-1 was made exactly the same as the coating material B-1, except that the addition of the polymer compound was made zero and the toluene was changed to 16.0 parts by mass instead. A layer-coating comparative example BR-1 was prepared. The viscosity of this paint was 4.2 mPa · s.
(Preparation of anti-glare layer coating comparative example BR-2)
For the antiglare layer coating B-1, exactly the same as coating B-1, except that the polymer compound was changed to poly (methyl methacrylate / methyl acrylate = 90/10, molecular weight 950,000). An antiglare layer coating comparative example BR-2 was prepared. The viscosity of this paint was 19.6 mPa · s.
(Preparation of anti-glare layer coating comparative example BR-3)
A paint in which a 30% toluene solution of the polymer compound K3 was not added to the antiglare layer paint B-11 was prepared. The viscosity of the paint was 4.7 mPa · s.

（帯電防止層用塗料ＡＳ−１）
市販の透明帯電防止層用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を帯電防止層用塗料Ａとして用いた。Ｃ−４４５６Ｓ−７は、分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。 (Antistatic layer coating AS-1)
A commercially available coating for transparent antistatic layer "Pertron C-4456S-7" (solid content concentration 45%, manufactured by Nippon Pernox Co., Ltd.) was used as antistatic layer coating A. C-4456S-7 is a coating for transparent antistatic layer containing conductive fine particles ATO dispersed using a dispersant. The refractive index of the coating film made of this paint was 1.55.

（低屈折率層用塗料Ｌ−１の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）１．３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン５．０質量部および、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−１を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。 (Preparation of coating material L-1 for low refractive index layer)
13.0 parts by mass of heat-crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.42 (JN7228A, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), MEK dispersion of silica fine particles (MEK-ST-L, average particle diameter) 45 parts by mass, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 1.3 parts by mass, the above organosilane compound A solution 0.6 parts by mass, methyl ethyl ketone 5.0 parts by mass, and cyclohexanone 0.6 parts by mass Added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a coating L-1 for a low refractive index layer. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.42.

（低屈折率層用塗料Ｌ−２の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１５．０質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．６質量部、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）０．８質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．４質量部、およびメチルエチルケトン３．０質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−２を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４２であった。 (Preparation of paint L-2 for low refractive index layer)
In 15.0 parts by mass of a heat-crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.42 (JN7228A, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation), a MEK dispersion of silica fine particles (MEK-ST, average particle size 15 nm, Solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 0.6 parts by mass, silica fine particle MEK dispersion (MEK-ST-L, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, Nissan Chemical Industries, Ltd.) (Product) 0.8 parts by mass, 0.4 parts by mass of the organosilane compound A solution, 3.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 0.6 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating L-2 for a low refractive index layer. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.42.

（中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート（商品名：ケロープＥＰ−１２、ホープ製薬（株）製）１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにメチルエチルケトンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をメチルエチルケトンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。 (Preparation of MEK dispersion of hollow silica fine particles)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, produced by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.31, preparation of JP-A-2002-79616 500 parts with acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and diisopropoxyaluminum ethyl acetate (trade name: Kerope EP-12, Hope) After adding 1.5 parts of Pharmaceutical Co., Ltd. and mixing, 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added. While adding methyl ethyl ketone so that the content of silica was almost constant in 500 g of this dispersion, solvent substitution by vacuum distillation was performed at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% by mass with methyl ethyl ketone was 5 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A-1 was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

（低屈折率層用塗料Ｌ−３の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３．０質量部に、上記中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）１．９５質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液０．６質量部、およびメチルエチルケトン４．３５質量部、シクロヘキサノン０．６質量部を添加して攪拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−３を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４０であった。 (Preparation of paint L-3 for low refractive index layer)
13.0 parts by mass of a heat-crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.42 (JN7228A, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) was added to the MEK dispersion of the above-described hollow silica fine particles (refractive index 1.31, 1.95 parts by mass (average particle size 60 nm, solid content concentration 20%), 0.6 parts by mass of the organosilane compound A solution, 4.35 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 0.6 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-3. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.40.

（低屈折率層用塗料Ｌ−４の調製）
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）の混合溶媒に、テトラメトキシシラン１モル、０．１モル／リットルの塩酸２モルを添加した。室温で２時間撹拌して加水分解反応を行い、テトラメトキシシランの加水分解物の溶液を調製した。
イソプロピルアルコール／メチルエチルケトン＝１／１（質量比）に、テトラメトキシシランの加水分解物９．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．０質量部、重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５質量部、固形分濃度が４．５質量％になるように添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−４を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４５であった。 (Preparation of paint L-4 for low refractive index layer)
To a mixed solvent of isopropyl alcohol / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio), 1 mol of tetramethoxysilane and 2 mol of 0.1 mol / liter hydrochloric acid were added. A hydrolysis reaction was performed by stirring at room temperature for 2 hours to prepare a hydrolyzate solution of tetramethoxysilane.
Isopropyl alcohol / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio), tetramethoxysilane hydrolyzate 9.0 parts by mass, pentaerythritol triacrylate 1.0 part by mass, polymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.5 parts by mass, and the solid content concentration was added to 4.5% by mass and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-4. The refractive index of the coating film made of this paint was 1.45.

（低屈折率層用塗料Ｌ−５の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１５．０質量部に、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．８質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４３であった。 (Preparation of coating material L-5 for low refractive index layer)
A polysiloxane compound having an acryloyl group (X-22-164C, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to 15.0 parts by mass of the above-mentioned perfluoroolefin copolymer PF-1 (solid content concentration: 30%). 15 parts by mass, 0.23 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 81.8 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.8 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. . The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-6. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.43.

（低屈折率層用塗料Ｌ−６の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、シリカ微粒子のＭＥＫ分散液（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製）４．５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−６を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。 (Preparation of coating material L-6 for low refractive index layer)
In 10.5 parts by mass of the above-mentioned perfluoroolefin copolymer PF-1 (solid content concentration 30%), MEK dispersion of silica fine particles (MEK-ST-L, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, Nissan Chemical Industries, Ltd.) 4.5 parts by mass, polysiloxane compound having an acryloyl group (X-22-164C, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.15 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.23 parts by mass, 2.0 parts by mass of the organosilane compound A solution, 81.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.8 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. . The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-6. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.44.

（低屈折率層用塗料Ｌ−７の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１０．５質量部に、中空のシリカ微粒子のＭＥＫ分散液（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）６．７５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ，信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、上記オルガノシラン化合物Ａ溶液２．０質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−７を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４１であった。 (Preparation of coating material L-7 for low refractive index layer)
In 10.5 parts by mass of the above-mentioned perfluoroolefin copolymer PF-1 (solid content concentration 30%), hollow silica fine particle MEK dispersion (refractive index 1.31, average particle size 60 nm, solid content concentration 20). %) 6.75 parts by mass, polysiloxane compound having an acryloyl group (X-22-164C, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.15 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals ( 0.23 parts by mass, 2.0 parts by mass of the organosilane compound A solution, 81.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.8 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-7. The refractive index of the coating film made of this paint was 1.41.

（低屈折率層用塗料Ｌ−８の調製）
上記パーフルオロオレフィン共重合体ＰＦ−１の溶液（固形分濃度３０％）１３．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．４５質量部、アクリロイル基を有するポリシロキサン化合物（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）０．１５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．２３質量部、及び、メチルエチルケトン８１．２質量部及び、シクロヘキサノン２．８質量部を添加して、撹拌した。孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗料Ｌ−８を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は１．４４であった。 (Preparation of coating material L-8 for low refractive index layer)
A mixture (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate was added to 13.5 parts by mass of the above-mentioned perfluoroolefin copolymer PF-1 (solid content concentration 30%). 0.45 parts by mass, polysiloxane compound having an acryloyl group (X-22-164C, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.15 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.23 parts by mass, 81.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 2.8 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating material L-8. The refractive index of the coating film formed from this paint was 1.44.

［実施例１］
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、帯電防止層用塗料（ＡＳ−１）を、スロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
１００℃で１５０秒乾燥した後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、帯電防止層を有するフィルムを作製した。 [Example 1]
On a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm and a width of 1340 mm, an antistatic layer coating material (AS-1) is applied by a slot die coating method at a conveyance speed of 25 m / min. It apply | coated on the conditions of.
After drying at 100 ° C. for 150 seconds, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with nitrogen purge (oxygen concentration 0.5% or less), irradiation is 400 mW / cm ² . The coating layer was cured by irradiating an ultraviolet ray in an amount of 500 mJ / cm ² to produce a film having an antistatic layer.

膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）上に、または、前記で作製した帯電防止層の上に、防眩層用塗料（Ｂ−１〜Ｂ−１３）および防眩層用比較塗料（ＢＲ−１〜ＢＲ−３）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、防眩層つきフィルムを作製した。 On the anti-glare layer coating (B-1 to B-1) on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm and a width of 1340 mm, or on the antistatic layer prepared above. B-13) and comparative paints for anti-glare layer (BR-1 to BR-3) were applied by a slot die application method under the condition of a conveyance speed of 25 m / min.
After it dried for 150 seconds at 60 ° C., with a nitrogen purge (hereinafter oxygen concentration of 0.5%), using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co.), illuminance 400 mW / cm ^2, irradiation The coating layer was cured by irradiating an ultraviolet ray having a quantity of 250 mJ / cm ² to produce a film with an antiglare layer.

上記防眩層の上に、低屈折率層用塗料（Ｌ−１〜Ｌ−８）をスロットダイ塗布方式で、搬送速度２５ｍ／分の条件で塗布した。
その後、Ｌ−１〜Ｌ−３についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（最外層）を形成した。
Ｌ−４についての乾燥、硬化条件は、以下で行った。
１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で２０分熱処理して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。
また、Ｌ−５〜Ｌ−８についての乾燥、硬化条件は、以下でのように行った。
９０℃で３０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ低屈折率層（最外層）を形成した。 On the anti-glare layer, the coating material for low refractive index layer (L-1 to L-8) was applied by a slot die application method under the condition of a conveyance speed of 25 m / min.
Thereafter, the drying and curing conditions for L-1 to L-3 were as follows.
After drying at 120 ° C. for 150 seconds and further drying at 140 ° C. for 8 minutes, a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) is used while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.5% or less). Then, the coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm ² and an irradiation amount of 900 mJ / cm ² to form a low refractive index layer (outermost layer).
The drying and curing conditions for L-4 were as follows.
After drying at 120 ° C. for 150 seconds, the coating layer was cured by heat treatment at 140 ° C. for 20 minutes to form a low refractive index layer (outermost layer).
The drying and curing conditions for L-5 to L-8 were as follows.
After drying at 90 ° C. for 30 seconds, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) with a nitrogen purge (oxygen concentration of 0.5% or less), an illuminance of 600 mW / cm ² and an irradiation amount The coating layer was cured by irradiating 600 mJ / cm ² of ultraviolet rays to form a low refractive index layer (outermost layer).

本発明に掛かる反射防止フィルム試料の前記帯電防止層、前記防眩層および前記低屈折率層の塗設組み合わせを、表１に記載したとおりに行った。 The coating combination of the antistatic layer, the antiglare layer and the low refractive index layer of the antireflection film sample according to the present invention was performed as described in Table 1.

膜厚：各塗設層の乾燥、ＵＶ照射後または熱処理後の膜厚を示す。 Film thickness: Indicates the film thickness after drying, UV irradiation or heat treatment of each coating layer.

（反射防止フィルムの評価）
得られた反射防止フィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示す。 (Evaluation of antireflection film)
About the obtained antireflection film sample, the following items were evaluated. The results are shown in Table 2.

（１）表面抵抗の評価
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％の条件下で測定した。 (1) Evaluation of surface resistance The surface resistance of the surface having the low refractive index layer (outermost layer) of the antireflection film was measured at 25 ° C. using a super insulation resistance / microammeter TR8601 (manufactured by Advantest). , And measured under conditions of relative humidity 60%.

（２）塵埃除去性の評価
反射防止フィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけた。クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃の除去性を調べ、下記３段階で評価した。
○；塵埃が完全に取り除けたもの。
△；塵埃が若干残ったもの（許容範囲内）。
×；塵埃がかなり残ったもの。 (2) Evaluation of dust removability An antireflection film was attached to the monitor, and dust (futon, fiber waste from clothes) was sprinkled on the monitor surface. The dust was wiped off with a cleaning cloth, the dust removal property was examined, and the following three grades were evaluated.
○: Dust completely removed.
Δ: Some dust remained (within tolerance).
×: Dust remains considerably.

（３）防眩性の評価
作製した反射防止フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ²）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
◎ ：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない。
○ ：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる。
△ ：蛍光灯の周囲が白っぽく見えるが、輪郭は識別できる（許容範囲内）。
×₍₁₎：蛍光灯がほとんどボケない。
×₍₂₎：蛍光灯の輪郭が全く分からず、かつ全体がかなり白っぽく見える。
（４）平均反射率の評価
分光光度計（日本分光（株）製；Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球を用いて、入射角５°における分光反射率を測定した。分光反射率の評価において、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。 (3) Evaluation of anti-glare property An exposed fluorescent lamp (8000 cd / cm ² ) without a louver was projected on the produced anti-reflection film, and the degree of blur of the reflected image was evaluated according to the following criteria.
A: The outline of the fluorescent lamp is hardly understood.
○: The outline of the fluorescent lamp is slightly understood.
Δ: The fluorescent lamp appears whitish, but the outline can be identified (within tolerance).
× ₍₁₎ : There is almost no blur of fluorescent light.
× ₍₂₎ : The outline of the fluorescent lamp is not known at all, and the whole looks quite whitish.
(4) Evaluation of average reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation; V-550), in the wavelength region of 380 to 780 nm, using a integrating sphere, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° is calculated. It was measured. In the evaluation of the spectral reflectance, an average reflectance of 450 to 650 nm was used.

（５）塗布面状の評価
反射防止フィルム試料を全塗布幅のまま塗布方向に３０ｃｍ切り取って黒布の上に塗布層側を上向きにして置き、白熱灯下で面状を目視で観察して以下の基準で評価した。
◎ ：塗布方向のスジ状の塗布ムラが全くない。
○ ：注意深く見ると、上記スジ状のごく弱い塗布ムラが一部で見られる。
△ ：上記スジ状の弱い塗布ムラが一部で見られる。
△×：上記スジ状の弱い塗布ムラが全幅で見られる。
× ：上記スジ状の強い塗布ムラが全幅で見られる。 (5) Evaluation of coating surface shape Cut the antireflection film sample 30 cm in the coating direction with the entire coating width, place it on a black cloth with the coating layer side facing up, and visually observe the surface shape under an incandescent lamp. Evaluation was made according to the following criteria.
A: There is no streaky coating unevenness in the coating direction.
○: When observed carefully, the above-mentioned streaky, very weak coating unevenness is partially observed.
Δ: The stripe-shaped weak coating unevenness is partially observed.
Δ ×: The above-mentioned streaky weak coating unevenness is seen over the entire width.
X: The above stripe-like strong coating unevenness is seen over the entire width.

表１と表２に示した結果より、防眩層に高分子化合物を含有しない比較例の塗布組成物（試料Ｎｏ．１２３、１２５）に対して、高分子化合物を含有して塗布組成物の粘度を所定範囲で上げた本発明の組成物（試料Ｎｏ．１０１〜１２２）は、防眩性が強すぎて全体が白っぽく見えるのを防いで丁度適切な防眩性を発現していることがわかる。また、塗布組成物の粘度を必要以上に上げた比較の塗布組成物（試料No.１２４）は蛍光灯の輪郭が見えて防眩性が不十分であり、かつ塗布面状も悪いことがわかる。これらの結果から、本発明は防眩性および塗布面状などにおいて優れた効果を発揮することは明らかである。 From the results shown in Tables 1 and 2, the coating composition of the comparative example not containing the polymer compound in the antiglare layer (Sample Nos. 123 and 125) contained the polymer compound and The composition of the present invention (sample Nos. 101 to 122) having a viscosity increased within a predetermined range has an anti-glare property that is too strong to prevent the whole from appearing whitish and exhibiting an appropriate anti-glare property. Recognize. Further, it can be seen that the comparative coating composition (Sample No. 124) in which the viscosity of the coating composition was increased more than necessary showed the outline of the fluorescent lamp, the antiglare property was insufficient, and the coating surface condition was poor. . From these results, it is clear that the present invention exhibits excellent effects in antiglare properties and coated surface conditions.

［実施例２］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムを、画像表示装置（ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢのモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置、及び、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ））のディスプレイ面に装着した。本発明の反射防止フィルムを用いた画像表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
さらにまた、切断面の面積が１００μｍ²以上の凹は存在せず、画素サイズが１００ｐｐｉ（１００ピクセル／インチ：長さ１インチ当たり１インチ角に１００画素がある）における画像表示装置におけるギラツキ故障の発生が無かった。 [Example 2]
(Evaluation of image display device)
The antireflection film of the samples 101 to 122 of Example 1 is used as an image display device (a TN, STN, IPS, VA, or OCB mode transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device, and plasma display). Panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT)) were mounted on the display surface. The image display device using the antireflection film of the present invention was excellent in antireflection properties, dustproof properties, scratch resistance, and antifouling properties.
Furthermore, there is no recess having an area of 100 μm ² or more and the glare failure in the image display device when the pixel size is 100 ppi (100 pixels / inch: 100 pixels in 1 inch square per 1 inch length). There was no outbreak.

［実施例３］
（偏光板用保護フィルムの作製）
１．５モル／リットルの水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に保温した鹸化液を調整した。さらに、０．０１モル／リットルの希硫酸水溶液を調製した。
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムにおいて、低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、上記鹸化液を用いて鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面の水酸化ナトリウム水溶液を、水で十分に洗浄した後、上記の希硫酸水溶液で洗浄し、さらに希硫酸水溶液を水で十分に洗浄して、１００℃で十分に乾燥させた。
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側とは反対側の、鹸化処理した透明支持体の表面の水に対する接触角を評価したところ、４０°以下であった。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。 [Example 3]
(Preparation of protective film for polarizing plate)
A saponification solution in which a 1.5 mol / liter sodium hydroxide aqueous solution was kept at 50 ° C. was prepared. Furthermore, a 0.01 mol / liter dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared.
In the antireflection films of Samples 101 to 122 of Example 1, the surface of the transparent support opposite to the side having the low refractive index layer (outermost layer) was saponified using the saponification solution.
The sodium hydroxide aqueous solution on the surface of the saponified transparent support is thoroughly washed with water, then washed with the above diluted sulfuric acid aqueous solution, and further, the diluted sulfuric acid aqueous solution is thoroughly washed with water and sufficiently dried at 100 ° C. I let you.
When the contact angle of the surface of the saponified transparent support on the side opposite to the side having the low refractive index layer (outermost layer) of the antireflection film was evaluated, it was 40 ° or less. Thus, the protective film for polarizing plates was produced.

（偏光板の作製）
特開２００２−８６５５４号公報に記載の偏向膜の一方の面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて、本発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム（株）製フジタック、レターデーション値３．０ｎｍ）を同じ接着剤を用いて貼り合わせた。このようにして、本発明の偏光板を作製した。 (Preparation of polarizing plate)
An antireflection film of the present invention (protection for polarizing plate) is applied to one surface of a deflection film described in JP-A-2002-86554 using a 3% aqueous solution of PVA (PVA-117H manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as an adhesive. The saponified triacetyl cellulose surface of the film) was bonded together. Further, a triacetyl cellulose film (Fuji Photo Film Co., Ltd., Fujitac, retardation value 3.0 nm) saponified in the same manner as above was bonded to the other surface of the polarizing film using the same adhesive. . Thus, the polarizing plate of this invention was produced.

（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。 (Evaluation of image display device)
The TN, STN, IPS, VA, OCB mode transmission type, reflection type, or semi-transmission type liquid crystal display device equipped with the polarizing plate of the present invention thus produced has antireflection properties, dustproof properties, Excellent scratch resistance and antifouling properties.
Similar results were obtained with polarizing plates produced in the same manner as described above using various known deflection films.

［実施例４］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）の、光学異方性層を有する側とは反対側の表面を実施例３と同様の条件で鹸化処理した。 [Example 4]
(Preparation of polarizing plate)
The surface of the optical compensation film (Wide View Film SA 12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) opposite to the side having the optically anisotropic layer was saponified under the same conditions as in Example 3.

（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型、反射型、又は、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が広く、さらに、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
特に、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリル−ポリスチレン粒子、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子による透過光の光散乱効果により、下方向の視野角が顕著に広がり、左右方向の黄色味が改善されていた。
なお、種々公知化されている偏向膜を用い、上記と同様に作製した偏光板においても同様の結果が得られた。 (Evaluation of image display device)
The TN, STN, IPS, VA, OCB mode transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device equipped with the polarizing plate of the present invention thus manufactured does not use an optical compensation film. Compared with a liquid crystal display device equipped with a polarizing plate, the contrast in a bright room was excellent, the viewing angles of the top, bottom, left and right were wide, and the antireflection property, dust resistance, scratch resistance, and antifouling property were excellent.
In particular, due to the light scattering effect of transmitted light by the cross-linked polystyrene particles, cross-linked acrylic-polystyrene particles, cross-linked PMMA particles, and silica particles, the downward viewing angle was remarkably widened, and the yellowness in the left-right direction was improved.
Similar results were obtained with polarizing plates produced in the same manner as described above using various known deflection films.

［実施例５］
（画像表示装置の評価）
実施例１の試料１０１〜１２２の反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置に装着したところ、反射防止性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れていた。
また、偏光膜の一方の面に実施例３で作製した偏光板用保護フィルム、もう一方の面にλ／４板を有する偏光板を実施例３と同様にして作製した。上記の偏光板を有機ＥＬ表示装置に装着したところ、偏光板を貼ったガラス表面からの光の反射もカットされ、極めて視認性の高い表示装置が得られた。 [Example 5]
(Evaluation of image display device)
When the antireflection films of Samples 101 to 122 of Example 1 were mounted on an organic EL display device, they were excellent in antireflection properties, dustproof properties, scratch resistance, and antifouling properties.
Further, a polarizing plate protective film prepared in Example 3 on one side of the polarizing film and a polarizing plate having a λ / 4 plate on the other side were prepared in the same manner as in Example 3. When the above polarizing plate was mounted on an organic EL display device, reflection of light from the glass surface on which the polarizing plate was attached was also cut, and a display device with extremely high visibility was obtained.

Claims

透明支持体上に防眩層と少なくとも１層の低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩層が防眩層用塗布組成物を塗布して形成された層であり、塗布前の該防眩層用塗布組成物が高分子化合物を含有し、かつ該防眩層用塗布組成物の粘度が該高分子化合物を含有することによって３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加したことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 An antiglare antireflection film having an antiglare layer and at least one low refractive index layer on a transparent support, wherein the antiglare layer is formed by applying a coating composition for an antiglare layer. Yes, the coating composition for the antiglare layer before coating contains a polymer compound, and the viscosity of the coating composition for the antiglare layer increases by 3 mPa · s to 10 mPa · s by containing the polymer compound. An anti-glare antireflection film characterized by

高分子化合物を含有し、粘度が６ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの防眩層用塗布組成物から、防眩層が塗布形成されたことを特徴とする請求項１に記載の防眩性反射防止フィルム。 2. The antiglare antireflection material according to claim 1, wherein the antiglare layer is formed by coating from a coating composition for an antiglare layer containing a polymer compound and having a viscosity of 6 mPa · s to 20 mPa · s. the film.

高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜６０万の高分子化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the polymer compound is a polymer compound having a mass average molecular weight of 50,000 to 600,000.

高分子化合物が質量平均分子量０．５万〜２０万の高分子化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the polymer compound is a polymer compound having a mass average molecular weight of 50,000 to 200,000.

高分子化合物が共重合体であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymer compound is a copolymer.

高分子化合物が、該高分子化合物を含有する層の全バインダーの５質量％〜３０質量％の範囲で含有されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare property according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer compound is contained in a range of 5% by mass to 30% by mass of the total binder of the layer containing the polymer compound. Antireflection film.

高分子化合物が（メタ）アクリル樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the polymer compound is a (meth) acrylic resin.

高分子化合物がセルロースエステル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymer compound is a cellulose ester resin.

高分子化合物がビニル系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the polymer compound is a vinyl resin.

高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層のバインダーマトリックスの屈折率が１．４５〜１．９０であり、さらに該防眩層のバインダーマトリックスと透光性粒子の屈折率差が０．０２〜０．３０であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The polymer compound-containing layer is an antiglare layer containing translucent particles having a particle size of 1 μm to 8 μm, and the refractive index of the binder matrix of the antiglare layer is 1.45 to 1.90. The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 9, wherein the refractive index difference between the binder matrix of the glare layer and the translucent particles is 0.02 to 0.30.

高分子化合物含有層が、粒径１μｍ〜８μｍの透光性粒子を含有する防眩層であり、該防眩層の膜厚が３μｍ〜１０μｍであり、かつ該防眩層に含有する透光性粒子の平均粒径が該層の膜厚に対して、３０％〜８０％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The polymer compound-containing layer is an antiglare layer containing translucent particles having a particle diameter of 1 μm to 8 μm, the antiglare layer has a thickness of 3 μm to 10 μm, and the translucent light contained in the antiglare layer The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 10, wherein the average particle diameter of the active particles is in the range of 30% to 80% with respect to the film thickness of the layer.

透明支持体上のいずれかの層に、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物及びその誘導体の少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（ａ）：（Ｒ¹⁰）_S−Ｓｉ（Ｚ）_4-S
（一般式（ａ）式中、Ｒ¹⁰は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｚは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｓは１〜３の整数を表す。） The organic silane compound represented by the following general formula (a) and at least one of its derivatives are contained in any layer on the transparent support, according to any one of claims 1 to 11. Antiglare antireflection film.
Formula ^{_{(a) :( R 10) S}} -Si (Z) 4-S
(In the general formula (a), R ¹⁰ represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Z represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. S represents an integer of 1 to 3. To express.)

低屈折率層が下記一般式（１）で表される含フッ素化合物の架橋または重合反応により形成されたことを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式（１）

（一般式（１）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、ｍは０または１を表す。Ｘは水素原子またはメチル基を表す。Ａは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一重合単位であっても複数の重合単位で構成されていてもよい。ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成重合単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。） The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 12, wherein the low refractive index layer is formed by crosslinking or polymerization reaction of a fluorine-containing compound represented by the following general formula (1).
General formula (1)

(In the general formula (1), L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, m represents 0 or 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group, and A represents a polymerized unit of any vinyl monomer. , Which may be a single polymer unit or a plurality of polymer units, x, y and z represent the mol% of each constituent polymer unit, 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, Represents a value satisfying 0 ≦ z ≦ 65.)

低屈折率層に中空シリカ微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜１３に記載の防眩性反射防止フィルム。 14. The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer contains hollow silica fine particles.

請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、（１）防眩層形成用塗布組成物を粘度が３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの塗布組成物として調製する工程、及び（２）上記塗布組成物に高分子化合物を添加して添加前よりも該塗布組成物の粘度を３ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓ増加させる工程、を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 It is a manufacturing method of the anti-glare antireflection film in any one of Claims 1-14, Comprising: (1) The coating composition for anti-glare layer formation is used as a coating composition whose viscosity is 3 mPa * s-10 mPa * s. And (2) a step of adding a polymer compound to the coating composition to increase the viscosity of the coating composition by 3 mPa · s to 10 mPa · s from before the addition. Manufacturing method of dazzling antireflection film.

請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムが偏光膜の２枚の保護フィルムの少なくとも一方に用いられていることを特徴とする偏光板。 A polarizing plate, wherein the antiglare antireflection film according to claim 1 is used for at least one of two protective films of a polarizing film.

請求項１〜１４のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムまたは請求項１６に記載の偏光板が、画像表示面に配置されていることを特徴とする画像表示装置。 An image display device, wherein the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 14 or the polarizing plate according to claim 16 is disposed on an image display surface.

画像表示装置が、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ又はＯＣＢモードの、透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１７に記載の画像表示装置。 The image display device according to claim 17, wherein the image display device is a TN, STN, IPS, VA, or OCB mode transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device.