JP2006152329A - 銅層の表面処理法および当該処理をした銅層を含む積層板ならびに配線板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】谷から山までの高さが5μmを越える凹凸を含み生成するように銅層の表面にエッチング型化学粗化処理をし、さらに前記処理面に黒化還元処理をする。前記エッチング型化学粗化処理は、好ましくは谷から山までの高さが8μmを越える凹凸、さらに好ましくは12μmを越える凹凸を含み生成するように行なう。また、黒化還元処理後に、カップリング剤処理を付加してもよい。前記処理法は、例えば、厚さ100μm以上の圧延銅箔に適用し、その処理面をプリプレグ層に重ねて加熱加圧成形により一体化して積層板とする。
【選択図】 なし
Description
電解銅箔は、その片面が電着の結果生じる粗面となっているので、当該粗面を樹脂絶縁層に当接して上記の加熱加圧成形を行ない、粗面を構成する凸部を樹脂絶縁層に食い込ませ、その投錨効果により樹脂絶縁層と銅層の密着性を高めている。一方、圧延銅箔は、その製造工程上、両面とも滑らかな面になるので、当該銅層を樹脂絶縁層に一体化するに当っては、銅層の樹脂絶縁層への当接面に、別途粗化処理をする必要がある。
銅層は、例えば、厚さ100μm以上の圧延銅箔である(請求項4)。
厚み100μmの圧延銅箔(JIS C1201P)を脱脂処理してから、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理液に浸漬して、120秒間の粗化処理を行ない、谷から山までの高さが2〜8μmの間にある凹凸を付与した。このときの銅箔の粗化量は、銅箔の厚み換算で、4μmに調整した。
その後、脱脂処理、酸処理、酸化処理、還元処理の順で黒化還元処理を実施した。この際、酸処理には硫酸を、酸化処理には亜塩素酸ナトリウムとリン酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液を、還元処理にはジメチルアミノボランと水酸化ナトリウムの混合水溶液を、それぞれ用いた。
以上の粗化処理を実施した圧延銅箔の粗化処理面に、高耐熱FR−4グレードのプリプレグ5枚からなる層を重ね、温度175℃、圧力4MPaの条件で90分間加熱加圧形成して一体化し、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例1において、黒化還元処理を経て乾燥後に、さらにシラン系カップリング剤の水溶液に浸漬する処理を行なった。以下、実施例1と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例2において、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理液による粗化処理時間を180秒とし、谷から山までの高さが5〜12μmの間にある凹凸を付与した。このときの銅箔の粗化量は、銅箔の厚み換算で、8μmに調整した。以下、実施例2と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例2において、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理液による粗化処理時間を600秒とし、谷から山までの高さが10〜25μmの間にある凹凸を付与した。このときの銅箔の粗化量は、銅箔の厚み換算で、20μmに調整した。以下、実施例2と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例1において、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理を行なわずに、黒化還元処理を行ない、以下、実施例1と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例2において、黒化還元処理を行なわずに、そのほかは実施例2と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例1で使用した圧延銅箔の表面に、空気圧を利用した吸引式エアブラスト装置を用いブラスト処理を行なった。これは、平均粒子径70μmのアルミナを主成分とする粒子を、吐出圧力0.4MPaで銅箔表面に40秒間吹き付ける処理である。
上記の粗化処理を実施した圧延銅箔の粗化処理面に、実施例1と同様にプリプレグ5枚からなる層を重ね、加熱加圧形成により一体化して厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例2において、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理液による粗化処理時間を60秒とし、谷から山までの高さが1〜3μmの間にある凹凸を付与した。このときの銅箔の粗化量は、銅箔の厚み換算で、2μmに調整した。以下、実施例2と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
実施例2において、硫酸−過酸化水素系エッチング型化学粗化処理液による粗化処理時間を90秒とし、谷から山までの高さが2〜5μmの間にある凹凸を付与した。このときの銅箔の粗化量は、銅箔の厚み換算で、3μmに調整した。以下、実施例2と同様に、厚さ1.2mmの積層板を得た。
常態における銅箔引き剥がし強度は、実施例1を基準として、相対的な指標で示した。また、エージング後の引き剥がし強度は、常態における引き剥がし強度に対する保持率が、50%以上:◎、20%〜50%未満:○、20%未満:×として表示した。
Claims (7)
- 谷から山までの高さが5μmを越える凹凸を含み生成するように銅層の表面にエッチング型化学粗化処理をし、さらに前記処理面に黒化還元処理をすることを特徴とする銅層の表面処理法。
- エッチング型化学粗化処理を、谷から山までの高さが8μmを越える凹凸を含み生成するように実施することを特徴とする請求項1記載の銅層の表面処理法。
- エッチング型化学粗化処理を、谷から山までの高さが12μmを越える凹凸を含み生成するように実施することを特徴とする請求項1記載の銅層の表面処理法。
- 銅層が厚さ100μm以上の圧延銅箔である請求項1〜3のいずれかに記載の銅層の表面処理法。
- 黒化還元処理後に、さらにカップリング剤処理を行なう請求項1〜4のいずれかに記載の銅層の表面処理法。
- 請求項1〜5のいずれかの方法により処理された銅層を用い、その粗化処理面を樹脂絶縁層に加熱加圧成形により一体化した積層板。
- 請求項6記載の積層板の銅層が導電回路に加工されている配線板。
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