JP2006147023A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 垂直磁気記録方式にて記録媒体上に情報を記録する記録ヘッド部と、記録媒体上の情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関し、磁気記録装置の高記録密度化に対応するために、記録媒体上の記録磁界強度の湾曲の度合いを低減させ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることを目的とする。
【解決手段】 記録媒体３に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部１と、記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部２とを含み、主磁極部、記録媒体および補助磁極部により形成される磁気回路を利用して記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部１１と、記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部１２とを有する薄膜磁気ヘッド１０において、主磁極部の側壁の両側に、主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部７を設ける。
【選択図】 図５

Description

本発明は、垂直磁気記録方式によりディスク等の記録媒体上の任意の位置に情報（データ）を記録する記録ヘッド部と、記録媒体上の任意の位置に記録されている情報（データ）を再生する再生ヘッド部とを有し、磁気ディスク装置や磁気テープ装置等の磁気記録装置に使用される薄膜磁気ヘッド、および当該薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
磁気ディスク装置や磁気テープ装置等の磁気記録装置では、薄膜磁気ヘッドに代表される磁気ヘッドを用いて、記録媒体上の任意の位置にデータを記録することでデータの書き込み動作が実行され、当該記録媒体上の任意の位置に記録されているデータを再生することでデータの読み出し動作が実行される。
記録媒体にデータを記録する際の磁気記録方式として、現在既に実用化されているような磁化信号の向きが記録媒体の面内方向になっている長手磁気記録方式と、磁化信号の向きが記録媒体面に垂直な方向になっている垂直磁気記録方式とが挙げられる。一般に、垂直磁気記録方式は長手磁気記録方式に比べて記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、比較的高い磁気記録密度（例えば、線記録密度）を実現することが可能であるといわれている。
現在、主流とされている長手磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドは、記録媒体の媒体対向面側において、ギャップ部を介して対向する第１の磁性層および第２の磁性層が磁気的に接続されており、少なくともその一部が第１の磁性層および第２の磁性層の間に電気的に絶縁された状態で薄膜コイルが設けられた構造になっている。
また一方で、垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドとしては、長手磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドと同様の構成のリングヘッドと、単一の主磁極部によって記録媒体に対し垂直な方向の磁界を印加する単磁極型の垂直磁気記録ヘッドとがある。ここでは、後者の単磁極型の垂直磁気記録ヘッドについて詳細に説明する。
図１は、一般の垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドによる情報記録の原理を説明するための模式図である。以下、図１を参照しながら、一般の垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドとして単磁極型の垂直磁気記録ヘッドを用いた場合の情報記録の原理を説明する。
一般に、垂直磁気記録方式の垂直磁気記録ヘッドにより情報記録を行う場合、記録媒体３として、図１に示すような垂直２層媒体が使用される。この垂直２層媒体は、記録媒体面に垂直な方向に磁化された２種類の磁化ＭＴが情報として記録されている記録層３０と、この記録層の下部に位置する裏打ち層３１とが積層された構造になっている。この裏打ち層３１は、記録層３内の磁化ＭＴを記録媒体面に垂直な方向に保持しておく機能を有しており、通常、鉄（Ｆｅ）およびニッケル（Ｎｉ）の元素を含むパーマロイ（ＦｅＮｉ）等の軟磁性材料から作製される。このため、裏打ち層３１は軟磁性下部層（ＳＵＬ（Soft Underlayer ）とも称する）とも呼ばれる。記録媒体３がディスクである場合、ディスクの回転方向の下流側がトレーリングエッジ側（単にトレーリング側とも称する）であり、上流側がリーディングエッジ側（単にリーディング側とも称する）である。
図１に示す垂直磁気記録ヘッドは、記録媒体３の記録媒体面に垂直な方向の磁界を印加する単一の主磁極部１と、記録媒体上の記録層３０を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部２と、主磁極部１および補助磁極部２を磁気的に接続するための磁性材料からなる接続部４とを有する。記録媒体上の記録層３０に情報を記録したい場合、主磁極部１の近傍の薄膜コイル５に電流を流して所定の磁界を生成する。この薄膜コイル５にて生成された磁界は主磁極部１を通過し、記録媒体３の記録媒体面に垂直な方向の記録磁界として記録層３０に印加される。さらに、記録層３０から外部に出てくる磁界は、補助磁極部２に吸収される。
換言すれば、薄膜コイル５からの磁界によって主磁極部１内で絞り込まれた磁束ＭＦは，記録層３０を通過して裏打ち層３１に到達し、記録層３０を再度通過して補助磁極に入り込む。上記の主磁極部１、記録媒体３、補助磁極部２および接続部４により磁気回路が形成される。この磁気回路を利用して、記録媒体３の記録媒体面に垂直な方向の磁化ＭＴ（情報）を記録層３０に記録することができる。このように、単磁極型の垂直磁気記録ヘッドを用いて、記録層と裏打ち層とが積層された記録媒体（すなわち、垂直２層媒体）に情報を記録する場合、垂直磁気記録ヘッドと記録媒体との相関がかなり大きくなる。
図２は、上記の単磁極型の垂直磁気ヘッドを含むような従来の薄膜磁気ヘッドの構成例を示す断面図である。ここでは、上記の単磁極型の垂直磁気ヘッドからなる記録ヘッド部１１０と、記録媒体（例えば、垂直２層媒体）上の記録層の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部１２とを有する薄膜磁気ヘッド１００の概略的構成を示す。なお、図２の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、同図の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板（図示されていない）の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
図２の薄膜磁気ヘッド１００において、記録ヘッド部１１０は、前述の図１の垂直磁気記録ヘッドとほぼ同様に、記録媒体の記録媒体面に垂直な方向の磁界を印加する単一の主磁極部１と、記録媒体上の記録層（図１参照）を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部２と、主磁極部１および補助磁極部２を磁気的に接続するための磁性材料からなる接続部４とを有する。さらに、図２の記録ヘッド部１１０では、薄膜コイル５からの磁界を集束して主磁極部１に効率良く供給するための磁性材料からなるヨーク部６が、主磁極部１と接続部４との間に形成されている。さらに、図２の記録ヘッド部１１０では、薄膜磁気ヘッド１００の外部からの浮遊磁界（浮遊磁場）が記録ヘッド部内に侵入するのを抑制するための磁性材料からなる記録ヘッド部シールド層１９が、薄膜磁気ヘッド１００の上部に配置されている。一般に、上記の記録ヘッド部１１０内の主磁極部１、補助磁極部２、接続部４、薄膜コイル５、ヨーク部６および記録ヘッド部シールド層１９等の構成要素は、非磁性絶縁層により覆われているが、図２ではこの非磁性絶縁層の記載を省略する。
図２の薄膜磁気ヘッド１００において、記録媒体上の記録層に情報を記録したい場合、前述の図１の垂直磁気記録ヘッドとほぼ同様に、主磁極部１の近傍の薄膜コイル５に電流を流して所定の磁界を生成する。この薄膜コイル５にて生成された磁界は、ヨーク部６を介して主磁極部１を通過し、記録媒体の記録媒体面に垂直な方向の記録磁界として記録層に印加される。さらに、記録層から外部に出てくる磁界は、補助磁極部２に吸収される。上記のヨーク部６、主磁極部１、記録媒体、補助磁極部２および接続部４により磁気回路が形成される。この磁気回路を利用して、記録媒体の記録媒体面に垂直な方向の磁化（情報）を記録層に記録することができる。
さらに、図２の薄膜磁気ヘッド１００において、再生ヘッド部１２は、アルチック（Ａｌ2Ｏ3・ＴｉＯ）等のセラミック材料よりなる基板（図示されていない）上に成膜されたアルミナ(Ａｌ2Ｏ3)等の絶縁材料よりなる非磁性絶縁層（図示されていない）と、この非磁性絶縁層の上に形成された磁性材料よりなる下部シールド層１７−２と、この下部シールド層１７−２の上に非磁性絶縁層（図示されていない）を介して形成された磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistance effect）素子と略記することもある）１８と、このＭＲ素子１８の上に非磁性絶縁層（図示されていない）を介して形成された磁性材料よりなる上部シールド層１７−１とを有する。上部シールド層１７−１および下部シールド層１７−２は、外部からの浮遊磁界がＭＲ素子内に侵入するのを抑制する機能を有しており、その厚みは、それぞれ例えば１〜２μｍ（ミクロンメータ）である。上記のＭＲ素子として、異方性磁気抵抗効果素子（ＡＭＲ（Anisotropic Magnetoresistance effect）素子とも称する）、巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ（Giant Magnetoresistance effect）素子とも呼ばれる）、またはトンネル磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ（Tunneling Magnetoresistance effect）素子とも呼ばれる）等の磁気抵抗効果を示す感磁性膜を用いた素子を用いることができる。
さらに、再生ヘッド部１２の上部シールド層１７−１の上に非磁性絶縁層（図示されていない）が形成されており、この非磁性絶縁層の上に、記録ヘッド部１１０の補助磁極部２が形成されている。この補助磁極部２の上部には、前述のような薄膜コイル５、接続部４、ヨーク部６、主磁極部１および記録ヘッド部シールド層１９が形成されている。
磁気ディスク装置等の磁気記録装置においては、図２に示したような記録ヘッド部１１０（すなわち、単磁極型の垂直磁気記録ヘッド）を用いて記録媒体上の記録面の任意の位置に情報を記録したり、図２に示したような再生ヘッド部１２を用いて上記記録面の任意の位置の情報を再生したりすることができる。
ここで、磁気ディスク装置等の磁気記録装置では、ディスク等の記録媒体の単位面積当たりの記録容量を多くするために、記録媒体の面記録密度を大きくする必要がある。この面記録密度を大きくするためには、ディスク等の記録媒体のトラック幅方向のトラック密度と、トラック長さ方向の線記録密度とを向上させる必要がある。
一般に、ディスク等の記憶媒体は、薄膜磁気ヘッドによるアクセスが可能な複数の同心円状のトラックにより構成されている。さらに、各々のトラックは、複数の記憶領域に区分されている。この複数の記憶領域の各々は、「セクタ」と呼ばれる。
単磁極型の垂直磁気記録ヘッドを用いて、記録層と裏打ち層とが積層された記録媒体に対して垂直磁気記録方式の情報記録を行う場合、単磁極型の垂直磁気記録ヘッドの主磁極部から記録媒体の記録面に印加される記録磁界強度の分布は、長手磁気記録方式の情報記録の場合と大幅に異なっている。より詳しくいえば、垂直磁気記録方式の情報記録を行う場合の記録磁界強度の等高線は、単一の主磁極部の中心部を最大強度として同心円状に分布し、等高線の外側ほど膨らんだ分布を示している。それゆえに、記録媒体上の記録面の磁化状態を決定するトレーリング側の記録磁界強度の分布は湾曲した形状になる。
このような記録磁界分布を有する垂直磁気記録ヘッドを用いて、ディスク等の記録媒体に情報の書き込みを行った場合、磁気力顕微鏡（ＭＦＭ（Magnetic Force Microscopy ）とも呼ばれる）等のイメージを利用して磁化パターンを観察した場合の磁化パターンＭＰの状態を拡大して図３に示す。さらに、図３の（ａ）は、従来の垂直磁気記録ヘッドにより湾曲して記録された磁化パターンＭＰを示しており、図３の（ｂ）は、理想的な磁化パターンＭＰを示している。なお、図３では、記録媒体面に垂直な方向の磁化パターンＭＰの磁化の方向が反転している状態を白黒コントラストにより表している。
図３の（ａ）に示すように、ディスク上のトラックＴＲの中心部において磁化パターンＭＰの磁化の方向が反転する位置は、トラックＴＲの端部において磁化パターンＭＰの磁化の方向が反転する位置よりもディスクの回転方向側に位置している。このため、ディスク上の磁化パターンＭＰの磁化の方向が反転した場合の反転形状が湾曲してしまう。これに対し、理想的な状態で情報の書き込みを行った場合の磁化パターンの反転形状は、図３の（ｂ）に示すように、良好な白黒コントラストを有する直線的な形状になる。
このように、記録媒体上の磁化パターンの反転形状がトラックの長さ方向に対して湾曲したような形状になっている場合、ＭＲ素子により情報を再生する際に磁化パターンの反転形状が見かけ上大きくなって、ある一つの情報の再生信号における半値幅が増大する。このため、トラックの端部のトラックエッジノイズが再生信号に混入し易くなるので、再生信号の信号対雑音比（ＳＮ比）が低下するという問題が発生する。これと同時に、記録媒体の線記録密度の上昇に伴い、湾曲した形状の磁化パターンが記録されているトラックの幅が実質的に狭められて見えてしまうという問題も発生する。この問題によって、磁気ディスク装置等の磁気記録装置のさらなる高記録密度化の実現が大きく阻害されるおそれがある。
上記のような問題点に対処するための一つの方策として、下記の特許文献１に示すように、主磁極部のヘッド浮上面の形状が記録磁界強度の分布に影響を及ぼすことに着目し、単磁極型の垂直磁気記録ヘッドの主磁極部に対して、記録媒体の回転方向の下流側すなわちトレーリング側に凹部（くぼみ）を形成した垂直磁気記録ヘッドが記載されている。
しかしながら、一般に、微細構造の垂直磁気記録ヘッドの主磁極部に凹部を形成することは技術的に困難である。したがって、特許文献１に記載の垂直磁気記録ヘッドを製造することは事実上不可能であり、特許文献１においても、従来の薄膜磁気ヘッドと同様の問題が依然として残る。
特開２００２−２７９６０６号公報
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、再生信号のＳＮ比を向上させると共に磁気ディスク装置等の磁気記録装置の高記録密度化に対応するために、垂直磁気記録方式の情報記録を行う場合の記録媒体上の記録磁界強度の湾曲の度合いを低減させ、ひいては、記録媒体上に記録される磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることが可能な薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。
上記問題点を解決するために、本発明の一つの態様は、記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、上記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、上記主磁極部、上記記録媒体および上記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して上記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、上記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、上記主磁極部の側壁の両側に、当該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設けるように構成される。
好ましくは、本発明の一つの態様において、上記磁気シールド部の高さは、上記主磁極部の膜厚より１０〜３０％大きい。
さらに、好ましくは、本発明の一つの態様において、上記記録媒体が、情報が記録された記録層と、この記録層の下部に形成された軟磁性下部層（すなわち、裏打ち層）とからなる垂直２層媒体であり、上記主磁極部の側壁の両側に設けられる上記磁気シールド部は、上記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から上記垂直２層媒体内の上記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置される。
さらに、好ましくは、本発明の一つの態様において、上記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する上記主磁極部のトレーリングエッジ側の上記磁気シールド部が、上記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する上記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成される。
また一方で、本発明の他の態様は、記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、上記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、上記主磁極部、上記記録媒体および上記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して上記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、上記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、上記主磁極部の側壁の両側に、当該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設ける共に、上記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する上記主磁極部のトレーリングエッジ側の上面に沿って補助磁気シールド部を設けるように構成される。
好ましくは、本発明の他の態様において、上記記録媒体が、情報が記録された記録層と、当該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、上記主磁極部の側壁の両側に設けられる上記磁気シールドの各々は、上記薄膜磁気ヘッドの浮上面から上記垂直２層媒体内の上記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍に相当する間隔で配置される。
さらに、好ましくは、本発明の他の態様において、上記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する上記主磁極部のトレーリングエッジ側の上記磁気シールド部が、上記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する上記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成される。
また一方で、本発明は、記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部、上記記録媒体、および上記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部により形成される磁気回路を利用して上記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、所定の形状になるように上記主磁極部を形成する工程と、上記主磁極部の側壁の両側に、当該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を形成する工程とを含む薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
好ましくは、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、イオンビームデポジションまたは化学的気相法のいずれかの方法により、上記主磁極部と上記磁気シールド部との隙間に絶縁膜を形成する工程をさらに含む。
さらに、好ましくは、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法において、スパッタリングまたはメッキ（鍍金）のいずれかの方法により、上記主磁極部の側壁にて位置ずれを生じさせることなく、上記主磁極部の形状に沿って一様に上記磁気シールド部が形成される。
要約すれば、本発明では、垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドにおいて、主磁極部の側壁の両側に主磁極部の厚さより高い磁気シールド部を形成することにより、記録媒体上のトラックの端部のトラックエッジノイズが再生信号に混入しなくなって再生信号のＳＮ比が向上し、かつ、磁化パターンの磁化反転が決定されるトレーリングエッジ側の記録磁界強度の分布をより直線的にすることできると共に、記録媒体上のトラックの幅方向の記録磁界強度の分布をより急峻にすることができる。
さらに、本発明では、記録媒体が、記録層と軟磁性下部層（すなわち、裏打ち層）とからなる垂直２層媒体である場合、薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から垂直２層媒体内の軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に磁気シールド部を配置することにより、記録媒体上の記録磁界強度を低下させることなく、トレーリングエッジ側の記録磁界強度の分布をほぼ直線的にすることができると共に、記録媒体上のトラックの幅方向の記録磁界強度の分布をさらに急峻にすることができる。
上記のような構成の薄膜磁気ヘッドを用いることによって、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることができるようになり、記録媒体の線記録密度の向上およびトラック密度の向上を実現することが可能になる。上記のような構成の薄膜磁気ヘッドを磁気ディスク装置等の磁気記録装置に搭載することにより、従来よりも磁気記録密度が向上した磁気記録装置を提供することが可能になる。
以下、添付図面（図４〜図２０）を参照しながら、本発明の好ましい実施例の構成を説明する。
図４は、本発明の薄膜磁気ヘッドを含むディスク装置の概略的構成を示す平面図である。なお、これ以降、前述した構成要素と同様のものについては、同一の参照番号を付して表す。
図４に示すディスク装置２０は、大まかにいって、ディスク装置内のディスク３２、薄膜磁気ヘッド１０、スピンドルモータ３４およびボイスコイルモータ４０等を収納するためのディスクエンクロージャ２５と、薄膜磁気ヘッド１０によりディスク３２に対するデータ書き込み動作およびデータ読み出し動作等を制御する制御部（図示されていない）とにより構成される。上記のディスクエンクロージャ２５には、スピンドル３３に結合されるスピンドルモータ３４によって回転駆動される単一または複数のハードディスク等の回転するディスク３２が同軸上に設けられている。スピンドルモータ３４の動作は、制御部のサーボコントローラ（図示されていない）により制御されている。ディスク３２の表面（または裏面）の記録層の磁気記録面には、複数のトラック（または複数のシリンダ）が形成されており、このトラックの任意の位置のセクタに所定のデータに対応するデータパターン（磁化パターン）が書き込まれている。
ここで、「シリンダ」とは、複数のディスクが積層されて配置されている場合に、各々のディスク上で複数の薄膜磁気ヘッドによって同時にアクセスすることが可能な垂直方向の複数のトラックの集合体（すなわち、シリンダ状の複数のトラック）を指し示す用語である。
より詳細にいえば、薄膜磁気ヘッド１０は、図４に示すように、後述の図５〜図７等の実施例に代表されるような垂直磁気記録方式によりディスク３２の磁気記録面の任意の位置にデータを記録するための（データ書き込み動作用の）記録ヘッド部と、ディスク３２の磁気記録面の任意の位置に記録されているデータを磁気信号として再生するための（データ読み出し動作用の）磁気抵抗効果型の再生ヘッド部とが一体化された構造になっている。
さらに、再び図４に示すように、薄膜磁気ヘッド１０は、ヘッド支持用のアーム４１の先端に実装されている。このアーム４１は、サーボコントローラにより制御されるボイスコイルモータ４０によって、ディスク３２の内周部（インナ側）の位置と外周部（アウタ側）の位置との間を往復移動するように駆動される。これによって、ディスク３２の磁気記録面でデータが書き込まれている全てのデータ領域のセクタに対するアクセスを行うことが可能になる。ここで、アーム４１の往復移動がスムーズに行えるようにするために、ボイスコイルモータ４０の中心部にピボットベアリング５０が取り付けられている。
例えば、ボイスコイルモータ４０によってアーム４１が矢印Ｂの方向に回転することにより、薄膜磁気ヘッド１０がディスク３２の半径方向に移動し、所望のトラックを走査することが可能になる。ボイスコイルモータ４０およびアーム４１を含む構成要素は、ヘッドアクチュエータとも呼ばれている。さらに、このヘッドアクチュエータにはフレキシブルプリント基板（通常、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）と略記される）５１が取り付けられており、このフレキシブルプリント基板５１を経由して、ボイスコイルモータ４０および薄膜磁気ヘッド１０の動作を制御するためのサーボ信号が供給される。
ディスク３２の外周部には、ランプ機構４２が配置されており、アーム４１の先端に係合して薄膜磁気ヘッド１０をディスク３２から離間させて保持するようになっている。
図５は、本発明の第１の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。図５の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、同図の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板（図示されていない）の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
ただし、図５の実施例に係る薄膜磁気ヘッド１０において、記録ヘッド部１１を除く再生ヘッド部に関しては、図２に示したような従来の薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部１２と同様の構造を有しているので、図５には再生ヘッド部を図示していない。さらに、ここでは、再生ヘッド部の再度の説明を省略する。
図５の薄膜磁気ヘッド１０において、記録ヘッド部１１は、記録媒体の記録媒体面に垂直な方向の磁界を印加する単一の主磁極部１と、記録媒体上の記録層（図１参照）を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部２と、主磁極部１および補助磁極部２を磁気的に接続するための磁性材料からなる接続部４とを有する。さらに、図５の記録ヘッド部１１では、薄膜コイル５からの磁界を集束して主磁極部１に効率良く供給するための磁性材料からなるヨーク部６が、主磁極部１と接続部４との間に形成されている。通常、上記の記録ヘッド部１１内の主磁極部１、補助磁極部２、接続部４、薄膜コイル５、ヨーク部６および接続部４は、ギャップ層（非磁性絶縁層）により覆われている。なお、図５の記録ヘッド部１１では、外部からの浮遊磁界の侵入を抑制するための記録ヘッド部シールド層（図２参照）の記載を省略している。
さらに、図５の薄膜磁気ヘッド１０において、記録ヘッド部１１は、主磁極部１の側壁の両側に、主磁極部１の厚さより高い磁気シールド層からなる磁気シールド部７を設けている。この磁気シールド層からなる磁気シールド部７は、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。この磁気シールド部７により、磁化パターンの磁化反転が決定されるトレーリングエッジ側の記録磁界強度の分布をより直線的にすることできると共に、記録媒体上のトラックの幅方向の記録磁界強度の分布をより急峻にすることができる。
より詳細に説明すると、図５の薄膜磁気ヘッド１０において、再生ヘッド部（図２参照）の上部シールド層（図２参照）の上にアルミナ等の非磁性絶縁層が形成されており、この非磁性絶縁層の上に、記録ヘッド部１１の第１の磁性層である補助磁極部２が形成されている。この補助磁極部２は、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。さらに、この補助磁極部２の上に、薄膜コイル５を形成すべき位置に形成されたアルミナ等の非磁性絶縁層８−１と、この非磁性絶縁層８−１上に形成された薄膜コイル５の巻線間に充填された非磁性絶縁層８−２とが配置されている。薄膜コイル５の巻線間に充填された非磁性絶縁層８−２は、フォトレジスト（感光性樹脂）のような形成時に流動性を有する非導電性かつ非磁性の材料により作製される。
図５の薄膜磁気ヘッド１０においては、さらに、媒体対向面から離れた位置において、補助磁極部２の上にパーマロイ等の磁性材料からなる接続部４が形成され、薄膜コイル５がその周囲に巻回されている。その後、凹凸が存在する部分において、アルミナやシリコン酸化物（ＳｉＯ2）等の耐食性、剛性および絶縁性が優れた非磁性かつ非導電性の材料よりなる非磁性絶縁層８がかぶせられ、化学的機械研磨法(ＣＭＰ（Chemical and Mechanical Polishing Method ）とも称する）を用いて平坦加工を行う。この薄膜コイル５の巻線間等に充填された非磁性絶縁層８−１、８−２、および接続部形成後にかぶせられた非磁性絶縁層８を併せてギャップ層と呼んでいる。このギャップ層の厚みは、２〜６μｍである。
図５の薄膜磁気ヘッド１０は、さらに、媒体対向面から少なくとも連結部４まで、平坦加工された非磁性絶縁層８と、接続部４の上に形成された磁性材料よりなる第２の磁性層とを有する。図５の（ａ）および図５の（ｂ）に示すように、第２の磁性層は、主磁極層を含む主磁極部１と、ヨーク部分層を含むヨーク部６とから構成されている。
さらに、媒体対向面から見た主磁極部１の側壁の両側には、主磁極部１の側壁の形状に沿って、一様に離れた位置に磁気シールド部７が配置された構成となっている。磁気シールド部７の位置は、媒体対向面からディスク等の記録媒体（垂直２層媒体）の裏打ち層（図２参照）までの距離と相関を有している。主磁極部１の側壁の両側に設けられる磁気シールド部７の媒体対向面（ヘッド浮上面）に対する位置に関していえば、主磁極部１から記録媒体に供給される磁界の強度が低下するのを回避するために、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置に磁気シールド部７を配置することが望ましい。
この磁気シールド部７の高さは、主磁極部１の膜厚すなわちポール長さより高いほうが望ましく、例えば図５に示すように、ポール長さより１０〜３０％程度厚いほうが望ましい。好ましくは、主磁極部１のトレーリングエッジ側の磁気シールド部が、主磁極部１のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成される。
図５の薄膜磁気ヘッド１０は、さらに、アルミナ等の非導電性かつ非磁性の材料よりなり、第２の磁性層を覆うように形成された保護層を備えている。好ましくは、この保護層は、非磁性絶縁層８と同じ材料から作製される。さらに、上記保護層には、薄膜磁気ヘッド１０の外部からの浮遊磁界の影響を受けないようにするために、パーマロイ等の磁性材料からなる記録ヘッド部シールド層（図２参照）が厚さ１〜３μｍで挿入されている。
ここで、主磁極部１は、ＦｅＣｏ（鉄コバルト）やＦｅＣｏＮｉ（鉄コバルト・ニッケル）等の高い飽和磁束密度を有する記録磁性材料からなり、厚みは１００〜３００ｎｍ（ナノメータ）である。主磁極部１の側壁の両側に配置される磁気シールド部７の磁性材料としては、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の透磁率の大きい磁性材料が望ましい。ヨーク部分層を形成するヨーク部６の磁性材料としては、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の磁性材料を用いることが可能であり、ヨーク部分層の厚みは、例えば１〜３μｍである。
図５の実施例によれば、磁気シールド部がない場合と比較して、主磁極部からの記録磁界の垂直成分に関して直線的な記録磁界強度分布が得られる。磁気シールド部がない従来の垂直磁気記録方式では、主磁極部を中心として同心円状の磁界強度分布を示し、特にトレーリングエッジ側での磁界強度の分布が湾曲しており、記録媒体上に書き込まれた磁化パターンの反転形状も湾曲した形となる。
また一方で、図５の実施例のように、主磁極部の側壁の両側の適切な位置に、ポール長さより高い磁気シールド部を配置することにより、主磁極部から記録媒体に供給される記録磁界の強度を低下させずに漏洩磁界のみを抑制することができる。これと同時に、トレーリングエッジ側での記録磁界強度分布をより直線的にすることができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることができる。これによって、記録媒体上に記録されるビットパターンの湾曲の状態が改善され、理想的な磁化パターンに近づけることができる。また一方で、主磁極部の側壁の両側に配置される磁気シールド部の隙間によって記録媒体上のトラックの幅方向の記録磁界強度も急峻になり、結果として、記録媒体の線記録密度とトラック密度の双方を向上させることができる。
図６は、本発明の第２の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。図６の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、同図の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
ただし、図６の実施例に係る薄膜磁気ヘッド１０において、記録ヘッド部１１を除く再生ヘッド部に関しては、図２に示したような従来の薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部１２と同様の構造を有しているので、図６には再生ヘッド部を図示していない。さらに、ここでは、再生ヘッド部の再度の説明を省略する。
図６の第２の実施例に係る記録ヘッド部１１の構成は、前述の図５の第１の実施例に係る記録ヘッド部の構成と概ね同じである。ただし、図５の第１の実施例では、主磁極部の側壁の両側にのみ磁気シールド部を配置した構造になっているのに対し、図６の第２の実施例では、主磁極部１の側壁の両側に配置された磁気シールド部７以外にトレーリングエッジ側の上面に沿って補助磁気シールド部（ここでは、図６の主磁極上部シールド層７１）を配置した構造になっている点が異なる。したがって、ここでは、上記の磁気シールド部および補助磁気シールド部を配置した構造に関する説明のみを行い、その他の構成要素に関しては再度の説明を省略する。
図６の実施例に係る記録ヘッド部１１においては、前述の図５の記録ヘッド部と同様に、媒体対向面から見た主磁極部１の側壁の両側に、主磁極部１の側壁の形状に沿って、一様に離れた位置に磁気シールド層からなる磁気シールド部７が配置されている。この磁気シールド層からなる磁気シールド部７は、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。
磁気シールド部７の位置は、媒体対向面からディスク等の記録媒体の裏打ち層（図２参照）までの距離と相関を有している。磁気シールド部７の媒体対向面（ヘッド浮上面）に対する位置に関していえば、主磁極部１から記録媒体に供給される磁界の強度が低下するのを回避するために、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置に磁気シールド部７を配置することが望ましい。
この磁気シールド部７の高さは、前述の図５の実施例の場合と同様に、主磁極部１の膜厚すなわちポール長さより高いほうが望ましく、例えば図６に示すように、ポール長さより１０〜３０％程度厚いほうが望ましい。好ましくは、主磁極部１のトレーリングエッジ側の磁気シールド部が、主磁極部１のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成される。
さらに、図６の実施例に係る記録ヘッド部１１では、トレーリングエッジ側の上面に沿って主磁極上部シールド層７１が配置されている。この主磁極上部シールド層７１は、磁気シールド部７に対する補助磁気シールド部として機能する。この主磁極上部シールド層７１をトレーリングエッジ側の上面に配置することによって、トレーリングエッジ側での磁界強度分布をさらに直線的にすることができ、図５の実施例の場合よりも磁気記録密度の大きい磁気ディスク装置が得られる。
主磁極上部シールド層７１の媒体対向面（ヘッド浮上面）からの位置に関していえば、前述の磁気シールド部７の場合と同様に、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置に主磁極上部シールド層７１を配置することが望ましい。この主磁極上部シールド層７１は、主磁極部１のトレーリングエッジ側の幅と同等、もしくはそれより大きな幅を有しても構わない。
図６の実施例によれば、主磁極部の側壁の両側の適切な位置に、ポール長さより高い磁気シールド部を配置すると共に、トレーリングエッジ側の上面に沿って主磁極上部シールド層（補助磁気シールド部）を配置することにより、主磁極部から記録媒体に供給される記録磁界の強度を低下させずに漏洩磁界のみを抑制することができる。これと同時に、トレーリングエッジ側での記録磁界強度分布をさらに直線的にすることができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いをさらに低減させることができる。
図７は、本発明の第３の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。図７の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、同図の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
ただし、図７の実施例に係る薄膜磁気ヘッド１０において、記録ヘッド部１１を除く再生ヘッド部に関しては、図２に示したような従来の薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部１２と同様の構造を有しているので、図７には再生ヘッド部を図示していない。さらに、ここでは、再生ヘッド部の再度の説明を省略する。
図７の第３の実施例に係る記録ヘッド部１１の構成は、前述の図６の第２の実施例に係る記録ヘッド部の構成と概ね同じである。ただし、図６の第２の実施例では、主磁極部１の側壁の両側に磁気シールド部７を配置すると共にトレーリングエッジ側の上面に沿って補助磁気シールド部を配置した構造になっているのに対し、図７の第３の実施例では、主磁極部１の側壁の両側に配置された磁気シールド部７と、トレーリングエッジ側の上面に沿って配置された補助磁気シールド部（ここでは、図７の主磁極上部シールド層７２）とが磁気的に完全に接続されている構造になっている点が異なる。したがって、ここでは、上記の磁気シールド部および補助磁気シールド部を配置した構造に関する説明のみを行い、その他の構成要素に関しては再度の説明を省略する。
図７の実施例に係る記録ヘッド部１１においては、前述の図５の記録ヘッド部と同様に、媒体対向面から見た主磁極部１の側壁の両側に、主磁極部１の側壁の形状に沿って、一様に離れた位置に磁気シールド層からなる磁気シールド部７が配置されている。この磁気シールド層からなる磁気シールド部７は、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。
磁気シールド部７の位置は、媒体対向面からディスク等の記録媒体の裏打ち層（図２参照）までの距離と相関を有している。磁気シールド部７の媒体対向面（ヘッド浮上面）に対する位置に関していえば、主磁極部１から記録媒体に供給される磁界の強度が低下するのを回避するために、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置に磁気シールド部７を配置することが望ましい。
この磁気シールド部７の高さは、前述の図６の実施例の場合と同様に、主磁極部１の膜厚すなわちポール長さより高いほうが望ましく、例えば図７に示すように、ポール長さより１０〜３０％程度厚いほうが望ましい。好ましくは、主磁極部１のトレーリングエッジ側の磁気シールド部が、主磁極部１のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成される。
さらに、図７の実施例に係る記録ヘッド部１１では、トレーリングエッジ側の上面に沿って主磁極上部シールド層７２が配置されている。この主磁極上部シールド層７２は、磁気シールド部７に対する補助磁気シールド部として機能する。ここでは、主磁極上部シールド層７２は、主磁極部１のトレーリングエッジ側の幅より大きな幅を有しており、磁気シールド部７に磁気的に接続されている。換言すれば、媒体対向面から見た場合、主磁極部１の三方が磁気シールド部および補助磁気シールド部に取り囲まれた構造になっている。このような構造によって、トレーリングエッジ側での磁界強度分布をさらに直線的にすることができ、図６の実施例の場合よりも磁気記録密度の大きい磁気ディスク装置が得られる。
図７の実施例によれば、主磁極部の側壁の両側の適切な位置に、ポール長さより高い磁気シールド部を配置すると共に、トレーリングエッジ側の上面に沿って磁気シールド部に完全に接続されるように主磁極上部シールド層（補助磁気シールド部）を配置することにより、主磁極部から記録媒体に供給される記録磁界の強度を低下させずに漏洩磁界のみを抑制することができる。これと同時に、トレーリングエッジ側での記録磁界強度分布をさらに直線的にすることができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを顕著に低減させることができる。
図８は、磁気シールド部がない場合の記録磁界強度分布の一例を示す図であり、図９は、磁気シールド部を設けた場合の記録密度磁界強度分布の一例を示す図である。
図８から明らかなように、主磁極部１の側壁の両側に磁気シールド部がない従来の垂直磁気記録方式では、主磁極部１を中心として同心円状の磁界強度分布（ＲＭ）の等高線が得られる。この等高線では、特にトレーリングエッジ側での磁界強度の分布が湾曲しており、記録媒体上に書き込まれた磁化パターンの反転形状も湾曲した形となる（例えば、図３の（ａ）参照）。
これに対し、本発明の実施例（図５〜図７）に係る薄膜磁気ヘッドでは、主磁極部１の側壁の両側の適切な位置に、主磁極部１の膜厚Ｔより高い（高さＨ）磁気シールド部７を配置している。これによって、図９から明らかなように、記録媒体の回転方向の下流側に位置するトレーリングエッジ側での記録磁界強度分布（ＲＭ）の等高線をより直線的にすることができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることができる（例えば、図３の（ｂ）参照）。
したがって、例えば図５の実施例では、磁気シールド部がない場合と比較して、主磁極部からの記録磁界の垂直成分に関して直線的な記録磁界強度分布が得られる。これによって、記録媒体上に記録されるビットパターンの湾曲の状態が改善され、理想的な磁化パターンに近づけることができる（例えば、図３の（ｂ）参照）。
さらに、図６および図７の実施例では、主磁極部の側壁の両側の位置に磁気シールド部を配置すると共に、トレーリングエッジ側の上面に沿って主磁極上部シールド層（補助磁気シールド部）を配置しているので、トレーリングエッジ側での記録磁界強度分布の直線性をさらに改善することができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを顕著に低減させることができる。
図１０は、図５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。図１０では、図５の第１の実施例で述べた薄膜磁気ヘッドにおいて、主磁極部の周囲の磁気シールド部を実際に作製する工程について説明する。ここでは、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
図５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの主磁極部を作製する場合、初めに、図１０の（ａ）に示すように、ヨーク部６を形成するヨーク部分層６０の上に、主磁極部を形成する主磁極層１３を積層する。より具体的には、主磁極層１３として、高い飽和磁束密度を有するＦｅＣｏの磁性材料からなる磁性材料をスパッタリングにより成膜する。この磁性材料を所定の形状に形成するために、ハードマスク１４として、非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜をスパッタリングにより成膜する。
次に、図１０の（ｂ）に示すように、所定の狭いコア幅（トレーリングエッジ幅）を有する主磁極部形状を得るために、エッチングを行う。このエッチングとして、収束されたイオンビームによるエッチングや、イオンミリングと呼ばれるイオンビームエッチングの手法を用いることが可能である。
さらに、図１０の（ｃ）に示すように、エッチングにより形成された主磁極部形状に対し、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で一様な隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成する。この場合、非磁性絶縁膜１５として、主磁極部形状に応じて一様な厚さで非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜を成膜する。成膜の手法として、イオンビームデポジションまたはＣＶＤ（化学的気相法）による手法を用いて成膜を行うことが望ましい。
さらに、図１０の（ｄ）に示すように、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成した後、主磁極層１３の側壁の両側に、漏洩磁界のシールドの役割を果たす磁気シールド層７０をスパッタリングまたはメッキ（鍍金）のいずれかの方法により成膜する。磁気シールド層７０の膜厚は、主磁極層７０の膜厚すなわちポール長さより厚く形成し、化学的機械研磨法（ＣＭＰ）により平坦化を行うことにより、図１０の（ｅ）に示すように、主磁極層１３の側壁にて位置ずれを生じさせることなく磁気シールド層７０を配置することができ、本発明の第１の実施例に係る薄膜磁気ヘッドを製造することが可能になる。
図１１は、図６の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。図１１では、図６の第２の実施例で述べた薄膜磁気ヘッドにおいて、主磁極部の周囲の磁気シールド部を実際に作製する工程について説明する。ここでは、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
図６の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの主磁極部を作製する場合、初めに、図１１の（ａ）に示すように、ヨーク部６を形成するヨーク部分層６０の上に、主磁極部を形成する主磁極層１３を積層する。より具体的には、主磁極層１３として、高い飽和磁束密度を有するＦｅＣｏの磁性材料からなる磁性材料をスパッタリングにより成膜する。さらに、主磁極層１３の上に、補助ハードマスク１６として、非磁性材料からなるアルミナもしくはシリコン酸化膜をスパッタリングにより成膜する。さらに、非磁性材料からなるアルミナ（またはシリコン酸化膜）を介して、トレーリングエッジ側の上面の主磁極上部シールド層７１をスパッタリングにより成膜する。さらに、主磁極上部シールド層７１の上に、前述の図１０の実施例と同様に、磁性材料を所定の形状に形成するためのハードマスク１４として、非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜をスパッタリングにより成膜する。
次に、前述の図１０の実施例と同様に、図１１の（ｂ）において、所定の狭いコア幅を有する主磁極部形状を得るために、エッチングを行う。このエッチングとして、収束されたイオンビームによるエッチングや、イオンミリングと呼ばれるイオンビームエッチングの手法を用いることが可能である。
さらに、図１１の（ｃ）に示すように、エッチングにより形成された主磁極部形状に対し、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で一様な隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成する。この場合、非磁性絶縁膜１５として、主磁極部形状に応じて一様な厚さで非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜を成膜する。成膜の手法として、イオンビームデポジションまたはＣＶＤ（化学的気相法）による手法を用いて成膜を行うことが望ましい。
さらに、図１１の（ｄ）に示すように、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成した後、主磁極層１３の側壁の両側に、磁気シールド層７０をスパッタリングまたはメッキ（鍍金）のいずれかの方法により成膜する。磁気シールド層７０の膜厚は、主磁極層７０の膜厚すなわちポール長さより厚く形成し、化学的機械研磨法（ＣＭＰ）により平坦化を行うことにより、図１１の（ｅ）に示すように、主磁極層１３の側壁にて位置ずれを生じさせることなく磁気シールド層７０を配置することができ、本発明の第２の実施例に係る薄膜磁気ヘッドを製造することが可能になる。
図１１の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、トレーリングエッジ側の上面の主磁極上部シールド層７１の幅は、主磁極層１３のコア幅と等しい幅になり、主磁極層１３の側壁には主磁極層１３の膜厚より大きい磁気シールド層７０を所定の位置に配置することが同時に可能になる。
図１２は、図７の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。図１２では、図７の第３の実施例で述べた薄膜磁気ヘッドにおいて、主磁極部の周囲の磁気シールド部を実際に作製する工程について説明する。ここでは、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
図７の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの主磁極部を作製する場合、前述の図１０の実施例と同様に、図１２の（ａ）において、ヨーク部６を形成するヨーク部分層６０の上に、主磁極部を形成する主磁極層１３を積層する。より具体的には、主磁極層１３として、高い飽和磁束密度を有するＦｅＣｏの磁性材料からなる磁性材料をスパッタリングにより成膜する。この磁性材料を所定の形状に形成するために、ハードマスク１４として、非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜をスパッタリングにより成膜する。
次に、図１２の（ｂ）に示すように、所定の狭いコア幅を有する主磁極部形状を得るために、エッチングを行う。このエッチングとして、収束されたイオンビームによるエッチングや、イオンミリングと呼ばれるイオンビームエッチングの手法を用いることが可能である。
さらに、図１２の（ｃ）に示すように、エッチングにより形成された主磁極部形状に対し、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で一様な隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成する。この場合、非磁性絶縁膜１５として、主磁極部形状に応じて一様な厚さで非磁性材料からなるアルミナまたはシリコン酸化膜を成膜する。成膜の手法として、イオンビームデポジションまたはＣＶＤ（化学的気相法）による手法を用いて成膜を行うことが望ましい。
さらに、図１２の（ｄ）に示すように、主磁極層１３の側壁と磁気シールド層７０との間で隙間を有する非磁性絶縁膜１５を形成した後、主磁極層１３の側壁の両側に、漏洩磁界のシールドの役割を果たす磁気シールド層７０をスパッタリングまたはメッキ（鍍金）のいずれかの方法により成膜する。磁気シールド層７０の膜厚は、主磁極層７０の膜厚すなわちポール長さより厚く形成し、化学的機械研磨法（ＣＭＰ）により平坦化を行うことにより、図１２の（ｅ）に示すように、主磁極層１３の側壁にて位置ずれを生じさせることなく磁気シールド層７０を配置することができる。
さらに、図１２の（ｆ）に示すように、トレーリングエッジ側の上面に、主磁極層７０コア幅より大きい主磁極上部シールド層７２を形成することで、本発明の第３の実施例に係る薄膜磁気ヘッドを製造することが可能になる。この場合、媒体対向面から見て主磁極層１３の三方が磁気シールド部（磁気シールド層７０および主磁極上部シールド層７２）に取り囲まれた構造になる。
図１３は、物理的作用の成膜手法を用いた場合の膜の付着の様子を示す断面図であり、図１４は、化学的作用の成膜手法を用いた場合の膜の付着の様子を示す断面図である。図１３および図１４では、図１０〜図１２で示したような非磁性絶縁膜１５の成膜の手法の違いによる形状の違いが示されている。
図１３の（ａ）に示すように、物理的なスパッタリングによる手法を用いて非磁性絶縁膜１５の成膜を行う場合、スパッタリングがなされた粒子Ｐの方向性が強いため、パターンの凹凸があると、凹部の部分に入っていくスパッタ粒子の確率が小さくなる。それゆえに、平面箇所とエッジ部ではスパッタ粒子の堆積差が生じ、図１３の（ｂ）のように、付着した膜の膜厚のむらが発生する。特に、エッジが鋭く立っている場合のパターンの側壁にはスパッタ粒子が堆積しにくくなる。この結果、スパッタリングにより薄膜を形成すると、パターン段差および形状による膜厚の違いが生じてしまう。
また一方で、図１４の（ａ）に示すように、ＣＶＤ（化学的気相法）等の化学的な手法を用いると、反応種（粒子Ｐ）の平均自由工程が大きく、等方的に拡散するためパターンに凹凸がある場合でも反応種は均一に基板に堆積していく。この結果、化学的な手法を用いると、図１４の（ｂ）のように、パターンの形状に沿って一様な膜厚で成膜を行うことが可能になる。
図１５は、本発明の第４の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。図１５の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、同図の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板（図示されていない）の基板面に垂直な方向の断面図を示している。
ただし、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッド１０ａにおいて、記録ヘッド部１１ａを除く再生ヘッド部に関しては、図２に示したような従来の薄膜磁気ヘッドの再生ヘッド部１２と同様の構造を有しているので、図１５には再生ヘッド部を図示していない。さらに、ここでは、再生ヘッド部の再度の説明を省略する。
図１５の薄膜磁気ヘッド１０ａにおいて、記録ヘッド部１１ａは、前述の図５の実施例とほぼ同様に、記録媒体の記録媒体面に垂直な方向の磁界を印加する単一の主磁極部１ａと、記録媒体上の記録層（図１参照）を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部２ａと、主磁極部１ａおよび補助磁極部２ａを磁気的に接続するための磁性材料からなる接続部６ａ、６ｂとを有する。
ただし、図１５の記録ヘッド部１１ａでは、前述の図５の実施例と異なり、主磁極部１の上部の記録ヘッド部シールド層（図２参照）の位置に、補助磁極部２ａが配置されている。それゆえに、この補助磁極層２ａは、外部からの浮遊磁界の侵入を抑制する機能を兼ね備えており、前述の記録ヘッド部シールド層が不要になる。さらに、図１５の記録ヘッド部１１ａでは、主磁極部１ａの側辺に沿って、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の磁性材料からなるサイドシールド部９が配置されている。このサイドシールド部９により、主磁極部１ａ内を通過する磁束が、主磁極部１ａの外部に漏洩しないようにしている。
より詳細に説明すると、図１５の薄膜磁気ヘッド１０において、再生ヘッド部（図２参照）の上部シールド層（図２参照）の上にアルミナ等の非磁性絶縁層（図示されていない）が形成されており、この非磁性絶縁層の上に、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の磁性材料からなるサイドシールド部９と、主磁極部１ａを保護するための非磁性絶縁層８ａとが形成されている。さらに、サイドシールド部９の上に、主磁極部１ａが積層されている。
さらに、主磁極部１ａの上に、薄膜コイル５ａを形成すべき位置に形成されたアルミナ等の非磁性絶縁層８−１ａと、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の磁性材料からなる接続部６ａ、６ｂとが積層されている。さらに、この非磁性絶縁層８−１ａ上に形成された薄膜コイル５ａの巻線間に充填された非磁性絶縁層８−２ａが配置されている。薄膜コイル５ａの巻線間に充填された非磁性絶縁層８−２ａは、フォトレジストのような形成時に流動性を有する非導電性かつ非磁性の材料により作製される。さらに、非磁性絶縁層８−２ａの上に、補助磁極部２ａが積層されている。この補助磁極部２ａは、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。
さらに、図１５の記録ヘッド部１１ａは、主磁極部１ａの側壁の両側に、主磁極部１ａの厚さより高い磁気シールド層からなるトレーリングシールド部７ａを設けている。この磁気シールド層からなるトレーリングシールド部７ａは、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料から作製される。このトレーリングシールド部７ａにより、磁化パターンの磁化反転が決定されるトレーリングエッジ側の記録磁界強度の分布をより直線的にすることできると共に、記録媒体上のトラックの幅方向の記録磁界強度の分布をより急峻にすることができる。さらに、図１５の記録ヘッド部１１ａでは、接続部６ａ、６ｂおよびサイドシールド部９を設けることによって、前述の図５の実施例の場合よりも完全な形で磁気回路を形成することができる。これによって、主磁極部１ａから記録媒体に供給される記録磁界の強度を実質的に低下させずに漏洩磁界のみを抑制することができるようになる。
さらに、媒体対向面から見た主磁極部１ａの側壁の両側には、主磁極部１ａの側壁の形状に沿って、一様に離れた位置にトレーリングシールド部７ａが配置された構成となっている。トレーリングシールド部７ａの位置は、媒体対向面からディスク等の記録媒体の裏打ち層（図２参照）までの距離と相関を有している。主磁極部１ａの側壁の両側に設けられるトレーリングシールド部７ａの媒体対向面（ヘッド浮上面）に対する位置に関していえば、主磁極部１ａから記録媒体に供給される磁界の強度が低下するのを回避するために、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置にトレーリングシールド部７ａを配置することが望ましい。
このトレーリングシールド部７ａの高さは、主磁極部１ａの膜厚すなわちポール長さより高いほうが望ましく、例えばポール長さより１０〜３０％程度厚いほうが望ましい。
さらに、トレーリングエッジ側の上面にも、主磁極部１ａのコア幅より大きいトレーリングシールド部７ａを形成することによって、媒体対向面から見て主磁極部１ａの三方がトレーリングシールド部に取り囲まれた構造になっている。
ここで、主磁極部１ａは、ＦｅＣｏ（鉄コバルト）やＦｅＣｏＮｉ（鉄コバルト・ニッケル）等の高い飽和磁束密度を有する記録磁性材料からなり、厚みは１００〜３００ｎｍである。主磁極部１ａの側壁の両側に配置されるトレーリングシールド部７ａの磁性材料としては、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の透磁率の大きい磁性材料が望ましい。ヨーク部６ａ、６ｂの磁性材料としては、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の磁性材料を用いることが可能であり、ヨーク部の厚みは、例えば１〜３μｍである。
図１５の実施例によれば、主磁極部の側壁の両側の適切な位置に、ポール長さより高い磁気シールド部を配置するとことによって、主磁極部から記録媒体に供給される記録磁界の強度を低下させずに、トレーリングエッジ側での記録磁界強度分布をより直線的にすることができ、かつ、磁化パターンの反転形状の湾曲の度合いを低減させることができる。さらに、外部からの浮遊磁界の侵入を抑制する機能を兼ね備える位置に補助磁極部を配置することによって、薄膜磁気ヘッドの構成要素の節減が図れる。
図１６は、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その１）、図１７は、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その２）、図１８は、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その３）、図１９は、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その４）、そして、図２０は、図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その５）である。
図１６の（ａ）〜図２０の（ａ）は、記録媒体の媒体対向面（ヘッド浮上面）に垂直な方向の断面図を示しており、図１６の（ｂ）〜図２０の（ｂ）は、薄膜磁気ヘッドの基部を構成する基板（図示されていない）の基板面に垂直な方向の断面図を示している。図１５の実施例に係る記録ヘッド部１１ａの作製工程を以下に記す。
第１に、図１６に示すように、再生ヘッド部（図２参照）の上部シールド層（図２参照）の上にアルミナ等の非磁性絶縁層が形成されており、この非磁性絶縁層の上に、サイドシールド部９と、主磁極部１ａを保護するための非磁性絶縁層８ａとが形成される。さらに、サイドシールド部９の上に、主磁極部１ａが形成される。
第２に、図１７に示すように、媒体対向面から見た主磁極部１ａの側壁の両側に、主磁極部１ａの側壁の形状に沿って、一様に離れた位置にトレーリングシールド部７ａが形成される。トレーリングシールド部７ａの位置は、媒体対向面からディスク等の記録媒体の裏打ち層（図２参照）までの距離と相関を有している。主磁極部１ａから記録媒体に供給される磁界の強度が低下するのを回避するために、媒体対向面から記録媒体内の裏打ち層までの距離の１〜３倍離れた位置にトレーリングシールド部７ａを配置することが望ましい。
このトレーリングシールド部７ａの高さは、主磁極部１ａの膜厚すなわちポール長さより高いほうが望ましい。さらに、トレーリングエッジ側の上面にも、主磁極部１ａのコア幅より大きいトレーリングシールド部７ａが形成される。
第３に、図１８に示すように、この補助磁極部２の上に、薄膜コイル５ａを形成すべき位置に形成されたアルミナ等の非磁性絶縁層８−１ａと、この非磁性絶縁層８−１ａ上に形成された薄膜コイル５ａと，接続部６ａの一部とが形成される。
第４に、図１９に示すように、この非磁性絶縁層８−１ａの上に、接続部６ａ、６ｂの残りの部分が形成される。
第５に、図２０に示すように、非磁性絶縁層８−１ａ上に、薄膜コイル５ａの巻線間に充填された非磁性絶縁層８−２ａが形成される。この非磁性絶縁層８−２ａは、フォトレジストのような形成時に流動性を有する非導電性かつ非磁性の材料により作製される。最終的に、非磁性絶縁層８−２ａの上に、補助磁極部２ａが形成される。この補助磁極部２ａは、鉄およびニッケルの元素を含むパーマロイ等の軟磁性材料をスパッタリングすることにより作製され、外部からの浮遊磁界の侵入を抑制する機能も備えている。
（付記１） 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、前記主磁極部、前記記録媒体および前記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、前記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
（付記２） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部から前記記録媒体に印加される磁界は、前記記録層を通過して前記軟磁性下部層に到達し、前記記録層を再度通過して前記補助磁極部に入力されることを特徴とする付記１記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記３） 前記磁気シールド部の高さは、前記主磁極部の膜厚より１０〜３０％大きいことを特徴とする付記１または２記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記４） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部の側壁の両側に設けられる前記磁気シールド部は、前記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から前記垂直２層媒体内の前記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置されることを特徴とする付記１記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記５） 前記磁気シールド部が、前記主磁極部の側壁の形状に沿って、前記主磁極部の側壁に対し一様な間隔で配置されることを特徴とする付記１または２記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記６） 前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の前記磁気シールド部が、前記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する前記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成されることを特徴とする付記１または２記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記７） 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、前記主磁極部、前記記録媒体および前記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、前記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設ける共に、前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の上面に沿って補助磁気シールド部を設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
（付記８） 前記補助磁気シールド部が、前記磁気シールド部に対し磁気的に接続されていることを特徴とする付記７記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記９） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部から前記記録媒体に印加される磁界は、前記記録層を通過して前記軟磁性下部層に到達し、前記記録層を再度通過して前記補助磁極部に入力されることを特徴とする付記７または８記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１０） 前記磁気シールド部の高さは、前記主磁極部の膜厚より１０〜３０％大きいことを特徴とする付記７から９のいずれか一項に記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１１） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部の側壁の両側に設けられる前記磁気シールド部は、前記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から前記垂直２層媒体内の前記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置されることを特徴とする付記７または８記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１２） 前記磁気シールド部が、前記主磁極部の側壁の形状に沿って、前記主磁極部の側壁に対し一様な間隔で配置されることを特徴とする付記７から９のいずれか一項に記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１３） 前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の前記磁気シールド部が、前記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する前記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成されることを特徴とする付記７から９のいずれか一項に記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１４） 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、前記主磁極部、前記記録媒体および前記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、前記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記補助磁極部は、外部からの浮遊磁界の侵入を抑制する機能を兼ね備える位置に配置され、
前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
（付記１５） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部から前記記録媒体に印加される磁界は、前記記録層を通過して前記軟磁性下部層に到達し、前記記録層を再度通過して前記補助磁極部に入力されることを特徴とする付記１４記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１６） 前記磁気シールド部の高さは、前記主磁極部の膜厚より１０〜３０％大きいことを特徴とする付記１４または１５記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１７） 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部の側壁の両側に設けられる前記磁気シールド部は、前記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から前記垂直２層媒体内の前記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置されることを特徴とする付記１４記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１８） 前記磁気シールド部が、前記主磁極部の側壁の形状に沿って、前記主磁極部の側壁に対し一様な間隔で配置されることを特徴とする付記１４または１５記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記１９） 前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の前記磁気シールド部が、前記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する前記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成されることを特徴とする付記１４または１５記載の薄膜磁気ヘッド。
（付記２０） 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部、前記記録媒体、および前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
所定の形状になるように前記主磁極部を形成する工程と、
前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
（付記２１） イオンビームデポジションまたは化学的気相法のいずれかの方法により、前記主磁極部と前記磁気シールド部との隙間に絶縁膜を形成する工程をさらに含むことを特徴とする付記２０記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
（付記２２） スパッタリングまたはメッキのいずれかの方法により、前記主磁極部の側壁にて位置ずれを生じさせることなく、前記主磁極部の形状に沿って一様に前記磁気シールド部が形成されることを特徴とする付記２０記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
本発明は、単磁極型の垂直磁気記録ヘッドと磁気抵抗効果型の再生ヘッドとが一体化された構造の薄膜磁気ヘッド、および、当該薄膜磁気ヘッドが組み込まれた磁気ディスク装置等の高記録密度の磁気記録装置に適用され得る。
一般の垂直磁気記録方式の薄膜磁気ヘッドによる情報記録の原理を説明するための模式図である。 従来の薄膜磁気ヘッドの構成例を示す断面図である。 湾曲して記録された磁化パターンと理想的な磁化パターンとを拡大して示す磁化パターン図である。 本発明の薄膜磁気ヘッドを含むディスク装置の概略的構成を示す平面図である。 本発明の第１の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。 本発明の第２の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。 本発明の第３の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。 磁気シールド部がない場合の記録磁界強度分布の一例を示す図である。 磁気シールド部を設けた場合の記録磁界強度分布の一例を示す図である。 図５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。 図６の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。 図７の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図である。 物理的作用の成膜手法を用いた場合の膜の付着の様子を示す断面図であるである。 化学的作用の成膜手法を用いた場合の膜の付着の様子を示す断面図であるである。 本発明の第４の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略的構成を示す断面図である。 図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その１）である。 図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その２）である。 図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その３）である。 図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その４）である。 図１５の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの作製工程を説明するための断面図（その５）である。
符号の説明
１ 主磁極部
２ 補助磁極部
３ 記録媒体
４ 接続部
５ 薄膜コイル
６ ヨーク部
７ 磁気シールド部
７ａ トレーリングシールド部
８ 非磁性絶縁層
９ サイドシールド部
１０ 薄膜磁気ヘッド
１１ 記録ヘッド部
１２ 再生ヘッド部
１３ 主磁極層
１４ ハードマスク
１５ 非磁性絶縁膜
１６ 補助ハードマスク
１７−１ 上部シールド層
１７−２ 下部シールド層
１８ 磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）
１９ 記録ヘッド部シールド層
２０ ディスク装置
２５ ディスクエンクロージャ
３２ ディスク
３３ スピンドル
３４ スピンドルモータ
４０ ボイスコイルモータ
６０ ヨーク部分層
７０ 磁気シールド層
７１ 主磁極上部シールド層
７２ 主磁極上部シールド層

Claims (10)

  1. 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、前記主磁極部、前記記録媒体および前記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、前記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
    前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 前記磁気シールド部の高さは、前記主磁極部の膜厚より１０〜３０％大きいことを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
  3. 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部の側壁の両側に設けられる前記磁気シールド部は、前記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から前記垂直２層媒体内の前記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
  4. 前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の前記磁気シールド部が、前記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する前記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成されることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
  5. 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部と、前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部とを含み、前記主磁極部、前記記録媒体および前記補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部と、前記記録媒体上の任意の位置に記録されている情報を再生する再生ヘッド部とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
    前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を設ける共に、前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の上面に沿って補助磁気シールド部を設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  6. 前記記録媒体が、情報が記録された記録層と、該記録層の下部に形成された軟磁性下部層とからなる垂直２層媒体であり、前記主磁極部の側壁の両側に設けられる前記磁気シールド部は、前記薄膜磁気ヘッドのヘッド浮上面から前記垂直２層媒体内の前記軟磁性下部層までの距離の１〜３倍離れた位置に配置されることを特徴とする請求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
  7. 前記記憶媒体の回転方向の下流側に位置する前記主磁極部のトレーリングエッジ側の前記磁気シールド部が、前記記憶媒体の回転方向の上流側に位置する前記主磁極部のリーディングエッジ側の磁気シールド部よりも厚く形成されることを特徴とする請求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
  8. 記録媒体に対して垂直な方向の磁界を印加する主磁極部、前記記録媒体、および前記記録媒体を通して外部に出てくる磁界を吸収する補助磁極部により形成される磁気回路を利用して前記記録媒体上の任意の位置に情報を記録する記録ヘッド部を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
    所定の形状になるように前記主磁極部を形成する工程と、
    前記主磁極部の側壁の両側に、該主磁極部の膜厚より高い磁気シールド部を形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  9. イオンビームデポジションまたは化学的気相法のいずれかの方法により、前記主磁極部と前記磁気シールド部との隙間に絶縁膜を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項８記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  10. スパッタリングまたはメッキのいずれかの方法により、前記主磁極部の側壁にて位置ずれを生じさせることなく、前記主磁極部の形状に沿って一様に前記磁気シールド部が形成されることを特徴とする請求項８記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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