JP2006130612A - Grinding wheel - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grinding wheel capable of suppressing the grinding remainder and occurrence of clogging during the grinding work. <P>SOLUTION: The grinding wheel 10 is provided with a base metal and an abrasive grain layer 2 provided on a working face of the base metal. The abrasive grain layer 2 is composed so as to have a first region N<SB>1</SB>, in which a plurality of abrasive grain rows 51 composed of a plurality of abrasive grains 5 arrayed along in the circumferential direction X are arranged in the radial direction Y at prescribed intervals (a), and a second region N<SB>2</SB>, in which a plurality of abrasive grain rows 52 composed of a plurality of the abrasive grains 5 arrayed along in the circumferential direction X are arranged in the radial direction Y at the prescribed intervals (a). The first-third regions N<SB>1</SB>-N<SB>3</SB>are arrayed along in the circumferential direction X. The second region N<SB>2</SB>is inwardly arranged by a prescribed distance (b) from the first region N<SB>1</SB>in the radial direction Y. The third region N<SB>3</SB>is inwardly arranged by the prescribed distance (b) from the second region N<SB>2</SB>in the radial direction Y. The prescribed distance (b) is smaller than the prescribed interval (a). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、研削ホイールに関する。   The present invention relates to a grinding wheel.

従来、台金の作用面上に複数の砥粒が同心円状に配列された研削ホイールが知られている(例えば、特許文献1参照)。この研削ホイールでは、各同心円において砥粒が周方向に所定の間隔で配列されている。
特開2004−154908号公報
Conventionally, a grinding wheel is known in which a plurality of abrasive grains are concentrically arranged on the working surface of a base metal (see, for example, Patent Document 1). In this grinding wheel, abrasive grains are arranged at predetermined intervals in the circumferential direction in each concentric circle.
JP 2004-154908 A

しかしながら、上述の研削ホイールにおいて隣り合う砥粒同士の間隔を狭くすると、研削時の削り残しは抑制されるが、目詰まりが発生し易くなってしまう。   However, if the interval between the adjacent abrasive grains in the above-described grinding wheel is narrowed, uncut residue during grinding is suppressed, but clogging is likely to occur.

特に、研削ホイールを用いて高能率加工を行う場合には、以下のように目詰まりが更に発生し易くなってしまう。高能率加工を行う場合には、例えば、図9に示されるように、中央部に設けられたベース部211と外周に設けられたテーパ部209とを有する台金201を備えた研削ホイール210が好適に用いられる。図9は、研削ホイール210を用いて被研削材Wを研削する工程を模式的に示す部分断面図である。研削ホイール210では、台金201の作用面201a上に砥粒層202が形成されている。砥粒層202は、砥粒205と、砥粒205を台金201に固定させる結合材207とからなる。   In particular, when high-efficiency machining is performed using a grinding wheel, clogging is more likely to occur as follows. When performing high-efficiency machining, for example, as shown in FIG. 9, a grinding wheel 210 including a base metal 201 having a base portion 211 provided at the center and a tapered portion 209 provided at the outer periphery is provided. Preferably used. FIG. 9 is a partial cross-sectional view schematically showing a process of grinding the workpiece W using the grinding wheel 210. In the grinding wheel 210, an abrasive layer 202 is formed on the working surface 201 a of the base metal 201. The abrasive grain layer 202 includes abrasive grains 205 and a binder 207 that fixes the abrasive grains 205 to the base metal 201.

被研削材Wは、図9中の方向Aに移動し、研削ホイール210に当接することにより研削される。このとき、被研削材Wがテーパ部209上の砥粒205に当接しないと削り残しができてしまう。研削ホイール210では、テーパ部209上の隣り合う砥粒205同士の間隔(方向Aに垂直な方向における間隔)dが狭くなるので、目詰まりが発生し易くなってしまう。さらに、高能率加工時には大きな切り粉が多量に発生するため、一層目詰まりが発生し易くなってしまう。   The workpiece W moves in the direction A in FIG. 9 and is ground by contacting the grinding wheel 210. At this time, if the material to be ground W does not come into contact with the abrasive grains 205 on the taper portion 209, uncut material is left. In the grinding wheel 210, since the interval d (interval in the direction perpendicular to the direction A) d between the adjacent abrasive grains 205 on the tapered portion 209 is narrowed, clogging is likely to occur. Furthermore, since a large amount of large chips are generated during high-efficiency processing, clogging is more likely to occur.

そこで、本発明は、削り残しを抑制すると共に、研削時に目詰まりの発生を抑制できる研削ホイールを提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the grinding wheel which can suppress generation | occurrence | production of clogging at the time of grinding while suppressing uncut material.

上述の課題を解決するため、本発明の研削ホイールは、台金と、台金の作用面上に設けられた砥粒層とを備え、砥粒層は、周方向に沿って配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、第1及び第2の領域は、周方向に沿って配列されており、第2の領域は、径方向において第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、所定距離は所定の間隔よりも小さい。   In order to solve the above-mentioned problem, the grinding wheel of the present invention includes a base metal and an abrasive grain layer provided on the working surface of the base metal, and the abrasive grain layers are arranged in a plurality in the circumferential direction. An abrasive grain row made of abrasive grains has first and second regions arranged in a plurality of rows at predetermined intervals in the radial direction, and the first and second regions are arranged along the circumferential direction. In addition, the second region is arranged at a predetermined distance inside the first region in the radial direction, and the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.

また、本発明の研削ホイールは、台金と、台金の作用面上に設けられた砥粒層とを備え、砥粒層は、同心円上に配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、第1及び第2の領域は、周方向に沿って配列されており、第2の領域は、径方向において第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、所定距離は所定の間隔よりも小さい。   The grinding wheel of the present invention comprises a base metal and an abrasive grain layer provided on the working surface of the base metal, and the abrasive grain layer is an abrasive grain array comprising a plurality of abrasive grains arranged concentrically. Has first and second regions arranged in a plurality of rows at predetermined intervals in the radial direction, the first and second regions are arranged along the circumferential direction, and the second region is It is arranged at a predetermined distance inside the first region in the radial direction, and the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.

また、本発明の研削ホイールは、台金と、台金の作用面上に設けられた砥粒層とを備え、砥粒層は、周方向に沿った直線上に配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、第1及び第2の領域は、周方向に沿って配列されており、第2の領域は、径方向において第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、所定距離は所定の間隔よりも小さい。   The grinding wheel of the present invention includes a base metal and an abrasive grain layer provided on the working surface of the base metal, and the abrasive grain layer includes a plurality of abrasive grains arranged on a straight line along the circumferential direction. The abrasive grain row having the first and second regions arranged in a plurality of rows at predetermined intervals in the radial direction, the first and second regions are arranged along the circumferential direction, The second region is disposed on the inner side by a predetermined distance than the first region in the radial direction, and the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.

本発明の各研削ホイールでは第2の領域が上述の位置に配置されている。このため、本発明の各研削ホイールを回転させると、第1の領域内における「所定の間隔」に起因する削り残しを第2の領域内の砥粒によって研削することができる。これにより、削り残しを抑制できる。また、第1及び第2の各領域内において、削り残しを抑制するために砥粒を密に配置する必要がないので、研削時に目詰まりの発生を抑制できる。したがって、本発明の各研削ホイールを用いて研削を行うと、削り残しを抑制できると共に、研削時の目詰まりの発生を抑制できる。   In each grinding wheel of the present invention, the second region is arranged at the above-mentioned position. For this reason, when each grinding wheel of the present invention is rotated, the uncut residue resulting from the “predetermined interval” in the first region can be ground by the abrasive grains in the second region. Thereby, uncut residue can be suppressed. Further, in each of the first and second regions, it is not necessary to densely arrange the abrasive grains in order to suppress uncut portions, so that clogging can be suppressed during grinding. Therefore, when grinding is performed using each grinding wheel of the present invention, uncut residue can be suppressed, and clogging during grinding can be suppressed.

また、上記研削ホイールでは、台金は、外周に設けられたテーパ部を有し、台金の作用面は、テーパ部上に設けられていることが好ましい。この場合、高能率加工を行っても削り残しを抑制できると共に、研削時の目詰まりの発生を抑制できる。   Moreover, in the said grinding wheel, it is preferable that a base has a taper part provided in the outer periphery, and the effect | action surface of a base metal is provided on the taper part. In this case, even if high-efficiency machining is performed, uncut residue can be suppressed and occurrence of clogging during grinding can be suppressed.

また、上記研削ホイールでは、第1及び第2の領域間にスリットが設けられていることが好ましい。これにより、例えば、研削時の削り粉等を排出し易くなる。   Moreover, in the said grinding wheel, it is preferable that the slit is provided between the 1st and 2nd area | regions. Thereby, it becomes easy to discharge | emit the shavings etc. at the time of grinding, for example.

本発明の研削ホイールによれば、削り残しを抑制すると共に、研削時に目詰まりの発生を抑制できる。   According to the grinding wheel of the present invention, it is possible to suppress uncut residue and to prevent clogging during grinding.

以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are used for the same or equivalent elements, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、実施形態に係る研削ホイールを模式的に示す斜視図である。図1に示される研削ホイール10は、台金1と、台金1の作用面1a上に設けられた砥粒層2とを備える。研削ホイール10は、例えばカップ型の研削ホイールである。台金1の作用面1aは、例えば円環状の台金1の一方面に設けられている。また、台金1の作用面1aには、研削ホイール10の中心から外側に向けて放射状に複数(例えば8個)のスリット3が設けられている。したがって、スリット3上には砥粒層2が設けられていない。本実施形態では、スリット3は例えば台金1に形成された溝からなる。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a grinding wheel according to an embodiment. A grinding wheel 10 shown in FIG. 1 includes a base metal 1 and an abrasive layer 2 provided on a working surface 1 a of the base metal 1. The grinding wheel 10 is, for example, a cup-type grinding wheel. The working surface 1a of the base 1 is provided on one surface of the annular base 1 for example. Further, a plurality of (e.g., eight) slits 3 are provided radially on the working surface 1a of the base 1 from the center of the grinding wheel 10 to the outside. Therefore, the abrasive grain layer 2 is not provided on the slit 3. In the present embodiment, the slit 3 is formed by a groove formed in the base metal 1, for example.

続いて、図2を参照しながら砥粒層2における砥粒5の配置パターンについて詳細に説明する。図2は、砥粒層2側から見た研削ホイール10の一部を模式的に示す平面図である。砥粒層2は、複数の砥粒5と、これらの砥粒5を台金1に保持させる結合材7とを有する。   Next, the arrangement pattern of the abrasive grains 5 in the abrasive grain layer 2 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a plan view schematically showing a part of the grinding wheel 10 viewed from the abrasive layer 2 side. The abrasive grain layer 2 has a plurality of abrasive grains 5 and a binder 7 that holds these abrasive grains 5 on the base metal 1.

砥粒5の構成材料としては、例えば、ダイヤモンド、cBN等が挙げられる。ダイヤモンドとしては、例えば、天然ダイヤモンド、合成ダイヤモンド等が挙げられる。また、砥粒5は、ダイヤモンド砥粒又はcBN砥粒等の超砥粒であることが好ましい。この場合、硬度が向上するので耐磨耗性が向上する。   Examples of the constituent material of the abrasive grains 5 include diamond and cBN. Examples of diamond include natural diamond and synthetic diamond. The abrasive grains 5 are preferably superabrasive grains such as diamond abrasive grains or cBN abrasive grains. In this case, since the hardness is improved, the wear resistance is improved.

結合材7としては、例えば金属結合材が挙げられる。砥粒5は、例えば金属結合材により台金1の作用面1aに固着される。   Examples of the binding material 7 include a metal binding material. The abrasive grains 5 are fixed to the working surface 1a of the base metal 1 by, for example, a metal binder.

砥粒層2は、研削ホイール10の周方向Xに沿って順に配列された第1〜第3の領域N〜Nを有する。第1〜第3の領域N〜Nは3つの領域で1つの繰返し単位となっている。この繰返し単位は、周方向Xに沿って環状に繰返し配列されている。なお、図2において、第1〜第3の領域N〜Nは時計回りに配置されているが、反時計回りに配置されているとしてもよい。 The abrasive grain layer 2 has first to third regions N 1 to N 3 arranged in order along the circumferential direction X of the grinding wheel 10. The first to third regions N 1 to N 3 are one repeating unit in three regions. The repeating units are repeatedly arranged in a ring shape along the circumferential direction X. In FIG. 2, the first to third regions N 1 to N 3 are arranged clockwise, but may be arranged counterclockwise.

第1の領域Nでは、周方向Xに沿って配列された複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列51が、研削ホイール10の径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。同様に、第2の領域Nでは、周方向Xに沿って配列された複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列52が、径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。また同様に、第3の領域Nでは、周方向Xに沿って配列された複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列53が、径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。 In the first region N 1 , the abrasive grain row 51 composed of a plurality of (for example, three) abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X has a predetermined interval a (for example, 1 mm) in the radial direction Y of the grinding wheel 10. ) Are arranged in a plurality of rows (for example, 3 rows). Similarly, in the second region N 2 , the abrasive grain row 52 composed of a plurality of (for example, three) abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X has a predetermined interval a (for example, 1 mm) in the radial direction Y. A plurality of rows (for example, 3 rows) are arranged. Similarly, in the third region N 3 , the abrasive grain row 53 composed of a plurality of (for example, three) abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X has a predetermined interval a (for example, 1 mm) in the radial direction Y. ) Are arranged in a plurality of rows (for example, 3 rows).

なお、第1〜第3の各領域N〜Nにおける砥粒5の配置パターンは互いに同一であることが好ましい。これにより、1種類の配置パターンで砥粒層2を形成できるので、砥粒層2を形成し易くなる。また、第1〜第3の各領域N〜Nにおける砥粒5の数は、図2に示される数(9個)より多くてもよい。また、砥粒5の粒径は、例えば、間隔aが1mmの場合、500μmである。 In addition, it is preferable that the arrangement pattern of the abrasive grains 5 in each of the first to third regions N 1 to N 3 is the same. Thereby, since the abrasive grain layer 2 can be formed with one kind of arrangement pattern, it becomes easy to form the abrasive grain layer 2. Further, the number of abrasive grains 5 in each of the first to third regions N 1 to N 3 may be larger than the number (9) shown in FIG. Moreover, the particle size of the abrasive grains 5 is 500 μm, for example, when the interval a is 1 mm.

より具体的には、例えば、砥粒列51は、第1の領域Nにおいて同心円C11〜C13上にそれぞれ配列されている。同様に、砥粒列52は、第2の領域Nにおいて同心円C21〜C23上にそれぞれ配列されている。また同様に、砥粒列53は、第3の領域Nにおいて同心円C31〜C33上にそれぞれ配列されている。同心円C11,C21,C31の半径は、同心円C12,C22,C32の半径よりそれぞれ所定の間隔aだけ大きく、同心円C12,C22,C32の半径は、同心円C13,C23,C33の半径よりそれぞれ所定の間隔aだけ大きい。なお、同心円C11〜C13,C21〜C23,C31〜C33の中心点Oは、いずれも研削ホイール10の中心点と同一であることが好ましい。 More specifically, for example, the abrasive grain rows 51 are respectively arranged on concentric circles C 11 to C 13 in the first region N 1 . Similarly, the abrasive grain array 52 are arranged respectively on the concentric circles C 21 -C 23 in the second region N 2. Similarly, the abrasive grain rows 53 are arranged on concentric circles C 31 to C 33 in the third region N 3 , respectively. The radii of the concentric circles C 11 , C 21 , C 31 are larger than the radii of the concentric circles C 12 , C 22 , C 32 by a predetermined distance a, respectively, and the radii of the concentric circles C 12 , C 22 , C 32 are concentric circles C 13 , C 32 It is larger than the radii of C 23 and C 33 by a predetermined distance a. Note that the center point O of the concentric circles C 11 to C 13 , C 21 to C 23 , and C 31 to C 33 is preferably the same as the center point of the grinding wheel 10.

第2の領域Nは、径方向Yにおいて第1の領域Nよりも所定距離bだけ内側(中心点O側)に配置されている。同様に、第3の領域Nは、径方向Yにおいて第2の領域Nよりも所定距離bだけ内側(中心点O側)に配置されている。さらに、所定距離bは上述の所定の間隔aよりも小さい(b<a)。同心円C11〜C13の半径は、同心円C21〜C23の半径よりそれぞれ所定距離bだけ大きく、同心円C21〜C23の半径は、同心円C31〜C33の半径よりそれぞれ所定距離bだけ大きい。 Second region N 2 is disposed inside by a predetermined distance b (the center point O side) of the first area N 1 in the radial direction Y. Similarly, the third region N 3 is arranged only on the inner side (center point O side) a predetermined distance b than the second region N 2 in the radial direction Y. Further, the predetermined distance b is smaller than the predetermined distance a (b <a). Radius of the concentric circles C 11 -C 13, respectively than the radius of the concentric circle C 21 -C 23 increases by a predetermined distance b, the radius of the concentric circle C 21 -C 23, respectively than the radius of the concentric circle C 31 -C 33 by a predetermined distance b large.

研削ホイール10では第2及び第3の領域N,Nが上述の位置に配置されている。このため、研削ホイール10を回転させると、第1の領域N内における所定の間隔a(径方向Yにおける砥粒5同士の間隔)に起因する削り残しを第2及び第3の領域N,N内の砥粒5によって研削することができる。これにより、削り残しを抑制できる。また、第1〜第3の各領域N〜N内において、削り残しを抑制するために砥粒5を密に配置する必要がないので、研削時に目詰まりの発生を抑制できる。したがって、研削ホイール10を用いて研削を行うと、削り残しを抑制できると共に、研削時の目詰まりの発生を抑制できる。なお、上述のように砥粒列が同心円上に配列されている方が、直線上に配列されているよりも研削効率を一層向上できる。 In the grinding wheel 10, the second and third regions N 2 and N 3 are arranged at the positions described above. For this reason, when the grinding wheel 10 is rotated, an uncut residue caused by a predetermined interval a (the interval between the abrasive grains 5 in the radial direction Y) in the first region N 1 is left in the second and third regions N 2. , N 3 . Thereby, uncut residue can be suppressed. Further, in the first to third regions N 1 to N 3 , it is not necessary to densely arrange the abrasive grains 5 in order to suppress uncut parts, so that clogging can be suppressed during grinding. Therefore, when grinding is performed using the grinding wheel 10, uncut residue can be suppressed and occurrence of clogging during grinding can be suppressed. In addition, the grinding efficiency can be further improved when the abrasive grain rows are arranged concentrically as described above than when they are arranged on a straight line.

また、所定距離bは所定の間隔aを等分した長さであることが好ましく、所定の間隔aの1/2又は1/3の長さであることがより好ましい{b=a/N(N=2,3)}。この場合、より効率的に削り残しを抑制することができる。本実施形態では、第1〜第3の領域N〜Nが3つの領域で1つの繰返し単位となっているので、所定距離bは所定の間隔aの1/3の長さである。第1及び第2の領域N,Nが2つの領域で1つの繰返し単位となっている場合には、所定距離bは所定の間隔aの1/2の長さであることが好ましい。 The predetermined distance b is preferably a length obtained by equally dividing the predetermined interval a, and more preferably 1/2 or 1/3 of the predetermined interval a {b = a / N ( N = 2, 3)}. In this case, uncut residue can be more efficiently suppressed. In the present embodiment, since the first to third regions N 1 to N 3 are one repeating unit in three regions, the predetermined distance b is 1/3 of the predetermined interval a. In the case where the first and second regions N 1 and N 2 are one repeating unit in two regions, the predetermined distance b is preferably half the predetermined interval a.

また、本実施形態の研削ホイール10では、第1〜第3の各領域N〜N間にスリット3が設けられているので、研削時の削り粉や冷却水等を排出し易くなる。 Further, the grinding wheel 10 of the present embodiment, since the slit 3 between the first to third of the regions N 1 to N 3 is provided, it is easy to discharge grinding dust and cooling water or the like at the time of grinding.

次に、図3を参照しながら上記研削ホイール10の変形例について詳細に説明する。   Next, a modification of the grinding wheel 10 will be described in detail with reference to FIG.

図3は、実施形態の変形例に係る研削ホイール10の一部を模式的に示す断面図である。この研削ホイール10では、台金1は、中央部に設けられたベース部11と外周に設けられたテーパ部9とを有する。台金1の作用面1aは、テーパ部9上に設けられている。テーパ部9のテーパ角度は、図3に示されるように径方向Yに対してαである。テーパ角度は、例えば、「設定取り代」が大きくなるほど大きくなる。このような研削ホイール10を用いると、例えば、深切り込み加工や高送り速度加工等といった高能率加工が可能となり、高能率加工を行っても削り残しを抑制できると共に、研削時の目詰まりの発生を抑制できる。   FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a part of a grinding wheel 10 according to a modification of the embodiment. In this grinding wheel 10, the base 1 has a base portion 11 provided at the central portion and a tapered portion 9 provided on the outer periphery. The working surface 1 a of the base metal 1 is provided on the tapered portion 9. The taper angle of the taper portion 9 is α with respect to the radial direction Y as shown in FIG. For example, the taper angle increases as the “setting allowance” increases. When such a grinding wheel 10 is used, for example, high-efficiency machining such as deep cutting and high feed rate machining can be performed, and uncut residue can be suppressed even when high-efficiency machining is performed, and clogging occurs during grinding. Can be suppressed.

次に、図4〜図7を参照しながら砥粒5の配置パターンの他の例について詳細に説明する。図4〜図7に示される研削ホイール10と図2に示される研削ホイール10とでは、砥粒5の配置パターンが異なっている。図4〜図7は、いずれも砥粒層2側から見た研削ホイール10の一部を模式的に示す平面図である。   Next, another example of the arrangement pattern of the abrasive grains 5 will be described in detail with reference to FIGS. The grinding wheel 10 shown in FIGS. 4 to 7 and the grinding wheel 10 shown in FIG. 4 to 7 are plan views schematically showing a part of the grinding wheel 10 viewed from the abrasive grain layer 2 side.

図4に示される研削ホイール10において、砥粒層2は、周方向Xに沿って順に配列された第1〜第3の領域M〜Mを有する。第1〜第3の領域M〜Mは3つの領域で1つの繰返し単位となっている。この繰返し単位は、周方向Xに沿って環状に繰返し配列されている。なお、図4において、第1〜第3の領域M〜Mは時計回りに配置されているが、反時計回りに配置されているとしてもよい。本例では、第1〜第3の各領域M〜Mにおいて、複数の砥粒5は格子状に配置されている。 In the grinding wheel 10 shown in FIG. 4, the abrasive grain layer 2 has first to third regions M 1 to M 3 arranged in order along the circumferential direction X. The first to third regions M 1 to M 3 are one repeating unit in three regions. The repeating units are repeatedly arranged in a ring shape along the circumferential direction X. In FIG. 4, the first to third regions M 1 to M 3 are arranged in the clockwise direction, but may be arranged in the counterclockwise direction. In this example, the plurality of abrasive grains 5 are arranged in a lattice pattern in each of the first to third regions M 1 to M 3 .

第1の領域Mでは、複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列54が、周方向Xに沿った直線L11〜L13上にそれぞれ配列されている。砥粒列54は、径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。同様に、第2の領域Mでは、複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列55が、周方向Xに沿った直線L21〜L23上にそれぞれ配列されている。砥粒列55は、径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。また同様に、第3の領域Mでは、複数(例えば3個)の砥粒5からなる砥粒列56が、周方向Xに沿った直線L31〜L33上にそれぞれ配列されている。砥粒列56は、径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば3列)配置されている。 In the first region M 1 , the abrasive grain rows 54 including a plurality of (for example, three) abrasive grains 5 are arranged on the straight lines L 11 to L 13 along the circumferential direction X, respectively. The abrasive grain rows 54 are arranged in a plurality of rows (for example, three rows) in the radial direction Y at a predetermined interval a (for example, 1 mm). Similarly, in the second region M 2, abrasive grain array 55 consisting of abrasive grains 5 of a plurality (e.g., three) are on the straight line L 21 ~L 23 along the circumferential direction X are arranged respectively. The abrasive grain rows 55 are arranged in a plurality of rows (for example, three rows) in the radial direction Y at a predetermined interval a (for example, 1 mm). Similarly, in the third region M 3 , the abrasive grain rows 56 including a plurality of (for example, three) abrasive grains 5 are arranged on the straight lines L 31 to L 33 along the circumferential direction X, respectively. A plurality of rows (for example, 3 rows) of the abrasive grain rows 56 are arranged in the radial direction Y at a predetermined interval a (for example, 1 mm).

なお、第1〜第3の各領域M〜Mにおける砥粒5の配置パターンは互いに同一であることが好ましい。また、第1〜第3の各領域M〜Mにおける砥粒5の数は、図4に示される数(9個)より多くてもよい。また、砥粒5の粒径は、例えば、間隔aが1mmの場合、500μmである。 In addition, it is preferable that the arrangement pattern of the abrasive grains 5 in the first to third regions M 1 to M 3 is the same. Further, the number of abrasive grains 5 in each of the first to third regions M 1 to M 3 may be larger than the number (9) shown in FIG. Moreover, the particle size of the abrasive grains 5 is 500 μm, for example, when the interval a is 1 mm.

第2の領域Mは、径方向Yにおいて第1の領域Mよりも所定距離bだけ内側(中心点O側)に配置されている。第3の領域Mは、径方向Yにおいて第2の領域Mよりも所定距離bだけ内側(中心点O側)に配置されている。さらに、所定距離bは上述の所定の間隔aよりも小さい(b<a)。中心点Oから直線L11までの距離r1は、中心点Oから直線L21までの距離r2より所定距離bだけ大きく、中心点Oから直線L21までの距離r2は、中心点Oから直線L31までの距離r3より所定距離bだけ大きい。 Second area M 2 is disposed on the inside by a predetermined distance b (the center point O side) of the first area M 1 in the radial direction Y. The third area M 3 are, is disposed inside by a predetermined distance b (the center point O side) of the second region M 2 in the radial direction Y. Further, the predetermined distance b is smaller than the predetermined distance a (b <a). Distance r1 from the center point O to the straight line L 11 is the distance r2 from the center point O greater than the distance r2 to the straight line L 21 by a predetermined distance b, from the center point O to the straight line L 21 is a straight line L from the center point O It is larger than the distance r3 to 31 by a predetermined distance b.

図4に示される研削ホイール10では、第2及び第3の領域M,Mが上述の位置に配置されている。このため、研削ホイール10を回転させると、第1の領域M内における所定の間隔a(径方向Yにおける砥粒5同士の間隔)に起因する削り残しを第2及び第3の領域M,M内の砥粒5によって研削することができる。これにより、削り残しを抑制できる。また、第1〜第3の各領域M〜M内において、削り残しを抑制するために砥粒5を密に配置する必要がないので、研削時に目詰まりの発生を抑制できる。したがって、研削ホイール10を用いて研削を行うと、削り残しを抑制できると共に、研削時の目詰まりの発生を抑制できる。 In the grinding wheel 10 shown in FIG. 4, the second and third regions M 2 and M 3 are arranged at the above-described positions. Thus, by rotating the grinding wheel 10, the first region M of the uncut portion due to a predetermined distance a (abrasive grains 5 distance between the radial Y) within one of the second and third regions M 2 , M 3 . Thereby, uncut residue can be suppressed. Further, in the first to third regions M 1 to M 3 , it is not necessary to densely arrange the abrasive grains 5 in order to suppress uncut parts, so that clogging can be suppressed during grinding. Therefore, when grinding is performed using the grinding wheel 10, uncut residue can be suppressed and occurrence of clogging during grinding can be suppressed.

本実施形態では、第1〜第3の領域M〜Mが3つの領域で1つの繰返し単位となっているので、所定距離bは所定の間隔aの1/3の長さである。第1及び第2の領域M,Mが2つの領域で1つの繰返し単位となっている場合には、所定距離bは所定の間隔aの1/2の長さであることが好ましい。 In the present embodiment, since the first to third regions M 1 to M 3 are one repeating unit in three regions, the predetermined distance b is 1/3 of the predetermined interval a. When the first and second regions M 1 and M 2 are one repeating unit in two regions, the predetermined distance b is preferably ½ of the predetermined interval a.

また、図4に示される研削ホイール10では、第1〜第3の各領域M〜M間にスリット3が設けられているので、研削時の削り粉や冷却水等を排出し易くなる。 Moreover, in the grinding wheel 10 shown in FIG. 4, since the slits 3 are provided between the first to third regions M 1 to M 3 , it becomes easy to discharge shavings, cooling water, and the like during grinding. .

また、図2に示される研削ホイール10の第1〜第3の各領域N〜Nを、それぞれ図5に示される領域Kに置換するとしてもよい。この領域K内には、複数の砥粒5が千鳥状に配置されている。 Further, the first to third regions N 1 to N 3 of the grinding wheel 10 shown in FIG. 2 may be replaced with the region K 1 shown in FIG. The region K 1, a plurality of abrasive grains 5 are arranged in a staggered manner.

領域K内では、周方向Xに沿って配列された複数(例えば2個又は3個)の砥粒5からなる砥粒列57が、研削ホイール10の径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば5列)配置されている。より具体的には、例えば、砥粒列57は、研削ホイール10に対する同心円上にそれぞれ配列されている。 In the region K 1 , the abrasive grain row 57 composed of a plurality of (for example, two or three) abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X is arranged at a predetermined interval a (for example, in the radial direction Y of the grinding wheel 10). 1 mm) and a plurality of rows (for example, 5 rows) are arranged. More specifically, for example, the abrasive grain rows 57 are respectively arranged on concentric circles with respect to the grinding wheel 10.

また、図4に示される研削ホイール10の第1〜第3の各領域M〜Mを、それぞれ図6に示される領域Jに置換するとしてもよい。この領域J内には、複数の砥粒5が千鳥格子状に配置されている。 Further, the first to third regions M 1 to M 3 of the grinding wheel 10 shown in FIG. 4 may be replaced with the region J 1 shown in FIG. The region J 1, a plurality of abrasive grains 5 are arranged in a staggered pattern.

領域J内では、周方向Xに沿って配列された複数(例えば2個又は3個)の砥粒5からなる砥粒列58が、研削ホイール10の径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば5列)配置されている。より具体的には、例えば、砥粒列58は、周方向Xに沿った直線上にそれぞれ配列されている。 In the region J 1 , the abrasive grain row 58 composed of a plurality of (for example, two or three) abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X has a predetermined interval a (for example, in the radial direction Y of the grinding wheel 10). 1 mm) and a plurality of rows (for example, 5 rows) are arranged. More specifically, for example, the abrasive grain rows 58 are each arranged on a straight line along the circumferential direction X.

また、図2に示される研削ホイール10の第1〜第3の領域N〜Nを、それぞれ図7に示される第1〜第3の領域I〜Iに置換するとしてもよい。第1〜第3の領域I〜Iは、周方向Xに沿って順に配列され、3つの領域で1つの繰返し単位となっている。この繰返し単位は、周方向Xに沿って環状に繰返し配列されている。なお、図7において、第1〜第3の領域I〜Iは反時計回りに配置されているが、時計回りに配置されているとしてもよい。 Further, the first to third regions N 1 to N 3 of the grinding wheel 10 shown in FIG. 2 may be replaced with the first to third regions I 1 to I 3 shown in FIG. 7, respectively. The first to third regions I 1 to I 3 are arranged in order along the circumferential direction X, and each of the three regions serves as one repeating unit. The repeating units are repeatedly arranged in a ring shape along the circumferential direction X. In FIG. 7, the first to third regions I 1 to I 3 are arranged counterclockwise, but may be arranged clockwise.

第1〜第3の各領域I〜Iでは、周方向Xに沿って配列された複数(例えば7個〜10個)の砥粒5からなる砥粒列59が、研削ホイール10の径方向Yに所定の間隔a(例えば1mm)で複数列(例えば12列)配置されている。より具体的には、例えば、第1の領域Iにおいて、砥粒列59は、同心円C101〜C112上にそれぞれ配列されている。また、各砥粒列59における末端の砥粒5は、周方向Xとなす角がθとなる方向Yに所定の間隔で順に配列されている。さらに、方向Yに沿って、第1〜第3の各領域I〜I間に設けられたスリット3が配置されている。なお、第1〜第3の各領域I〜Iにおける砥粒5の配置パターンは互いに同一であることが好ましい。 In each of the first to third regions I 1 to I 3 , the abrasive grain row 59 composed of a plurality (for example, 7 to 10) of abrasive grains 5 arranged along the circumferential direction X has a diameter of the grinding wheel 10. A plurality of rows (for example, 12 rows) are arranged in the direction Y at a predetermined interval a (for example, 1 mm). More specifically, for example, in the first region I 1 , the abrasive grain rows 59 are arranged on concentric circles C 101 to C 112 , respectively. Further, the abrasive grains 5 of the end of each abrasive grain array 59, in a direction Y 1 of the circumferential direction X and the angle is θ are arranged in this order at predetermined intervals. Furthermore, the slits 3 provided between the first to third regions I 1 to I 3 are arranged along the direction Y 1 . In addition, it is preferable that the arrangement pattern of the abrasive grains 5 in the first to third regions I 1 to I 3 is the same.

第2の領域Iは、径方向Yにおいて第1の領域Iよりも所定距離bだけ内側に配置されている。同様に、第3の領域Iは、径方向Yにおいて第2の領域Iよりも所定距離bだけ内側に配置されている。さらに、所定距離bは上述の所定の間隔aよりも小さい(b<a)。 Second region I 2 is disposed inside by a predetermined distance b than the first region I 1 in the radial direction Y. Similarly, the third region I 3 is disposed on the inner side by a predetermined distance b in the radial direction Y than the second region I 2 . Further, the predetermined distance b is smaller than the predetermined distance a (b <a).

次に、図8を参照しながら図2に示される研削ホイール10の変形例について説明する。図8は、実施形態の変形例に係る研削ホイール10を模式的に示す斜視図である。図8に示される研削ホイール10は、台金1と、台金1の作用面1a上に設けられた砥粒層2とを備え、図2に示される研削ホイール10からスリット3を除いた構成を有している。このような研削ホイール10を、図2に示される研削ホイール10に代えて用いてもよい。この場合であっても、砥粒5の配置パターンを上述のようにすることができる。   Next, a modification of the grinding wheel 10 shown in FIG. 2 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a perspective view schematically showing a grinding wheel 10 according to a modification of the embodiment. A grinding wheel 10 shown in FIG. 8 includes a base metal 1 and an abrasive grain layer 2 provided on the working surface 1a of the base metal 1, and is configured by removing the slit 3 from the grinding wheel 10 shown in FIG. have. Such a grinding wheel 10 may be used in place of the grinding wheel 10 shown in FIG. Even in this case, the arrangement pattern of the abrasive grains 5 can be as described above.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment.

例えば、砥粒5を上述の配置パターンでチップ上に配置し、当該チップを砥粒層2の第1〜第3の各領域として用いてもよい。   For example, the abrasive grains 5 may be arranged on the chip in the above-described arrangement pattern, and the chip may be used as the first to third regions of the abrasive grain layer 2.

実施形態に係る研削ホイールを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view showing the grinding wheel concerning an embodiment typically. 砥粒層側から見た研削ホイールの一部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically a part of grinding wheel seen from the abrasive grain layer side. 実施形態の変形例に係る研削ホイールの一部を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically a part of grinding wheel which concerns on the modification of embodiment. 砥粒の他の配置パターン例を示し、砥粒層側から見た研削ホイールの一部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the other example of an arrangement pattern of an abrasive grain, and shows typically a part of grinding wheel seen from the abrasive grain layer side. 砥粒の他の配置パターン例を示し、砥粒層側から見た研削ホイールの一部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the other example of an arrangement pattern of an abrasive grain, and shows typically a part of grinding wheel seen from the abrasive grain layer side. 砥粒の他の配置パターン例を示し、砥粒層側から見た研削ホイールの一部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the other example of an arrangement pattern of an abrasive grain, and shows typically a part of grinding wheel seen from the abrasive grain layer side. 砥粒の他の配置パターン例を示し、砥粒層側から見た研削ホイールの一部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the other example of an arrangement pattern of an abrasive grain, and shows typically a part of grinding wheel seen from the abrasive grain layer side. 実施形態の変形例に係る研削ホイールを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the grinding wheel which concerns on the modification of embodiment. 研削ホイールを用いて被研削材を研削する工程を模式的に示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing typically the process of grinding a material to be ground using a grinding wheel.

符号の説明Explanation of symbols

1…台金、1a…台金の作用面、2…砥粒層、3…スリット、5…砥粒、51〜59…砥粒列、9…テーパ部、10…研削ホイール、X…周方向、Y…径方向、a…所定の間隔、b…所定距離、N〜N,M〜M,I〜I…第1〜第3の領域、K,J…第1〜第3の各領域、C11〜C13,C21〜C23,C31〜C33,C101〜C112…同心円、L11〜L13,L21〜L23,L31〜L33…直線。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base metal, 1a ... Working surface of base metal, 2 ... Abrasive grain layer, 3 ... Slit, 5 ... Abrasive grain, 51-59 ... Abrasive grain row, 9 ... Tapered part, 10 ... Grinding wheel, X ... Circumferential direction , Y ... radial direction, a ... predetermined interval, b ... predetermined distance, N 1 to N 3 , M 1 to M 3 , I 1 to I 3 ... first to third regions, K 1 , J 1 ... first to third regions of, C 11 ~C 13, C 21 ~C 23, C 31 ~C 33, C 101 ~C 112 ... concentric, L 11 ~L 13, L 21 ~L 23, L 31 ~L 33 ... Straight line.

Claims (5)

台金と、
前記台金の作用面上に設けられた砥粒層と、
を備え、
前記砥粒層は、周方向に沿って配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、
前記第1及び第2の領域は、前記周方向に沿って配列されており、
前記第2の領域は、前記径方向において前記第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、
前記所定距離は前記所定の間隔よりも小さい、研削ホイール。
With the base metal,
An abrasive layer provided on the working surface of the base metal;
With
The abrasive layer has first and second regions in which a plurality of rows of abrasive grains arranged in the circumferential direction are arranged at predetermined intervals in the radial direction,
The first and second regions are arranged along the circumferential direction,
The second region is disposed at a predetermined distance inside the first region in the radial direction,
The grinding wheel, wherein the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.
台金と、
前記台金の作用面上に設けられた砥粒層と、
を備え、
前記砥粒層は、同心円上に配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、
前記第1及び第2の領域は、周方向に沿って配列されており、
前記第2の領域は、前記径方向において前記第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、
前記所定距離は前記所定の間隔よりも小さい、研削ホイール。
With the base metal,
An abrasive layer provided on the working surface of the base metal;
With
The abrasive layer has first and second regions in which a plurality of rows of abrasive grains arranged in concentric circles are arranged at predetermined intervals in the radial direction,
The first and second regions are arranged along a circumferential direction,
The second region is disposed at a predetermined distance inside the first region in the radial direction,
The grinding wheel, wherein the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.
台金と、
前記台金の作用面上に設けられた砥粒層と、
を備え、
前記砥粒層は、周方向に沿った直線上に配列された複数の砥粒からなる砥粒列が、径方向に所定の間隔で複数列配置された第1及び第2の領域を有し、
前記第1及び第2の領域は、前記周方向に沿って配列されており、
前記第2の領域は、前記径方向において前記第1の領域よりも所定距離内側に配置されており、
前記所定距離は前記所定の間隔よりも小さい、研削ホイール。
With the base metal,
An abrasive layer provided on the working surface of the base metal;
With
The abrasive layer has first and second regions in which a plurality of rows of abrasive grains arranged in a straight line along the circumferential direction are arranged at predetermined intervals in the radial direction. ,
The first and second regions are arranged along the circumferential direction,
The second region is disposed at a predetermined distance inside the first region in the radial direction,
The grinding wheel, wherein the predetermined distance is smaller than the predetermined interval.
前記台金は、外周に設けられたテーパ部を有し、
前記台金の作用面は、前記テーパ部上に設けられている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の研削ホイール。
The base metal has a tapered portion provided on the outer periphery,
The grinding wheel according to claim 1, wherein the working surface of the base metal is provided on the tapered portion.
前記第1及び第2の領域間にスリットが設けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の研削ホイール。   The grinding wheel according to any one of claims 1 to 4, wherein a slit is provided between the first and second regions.
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