JP2006126808A - Optical laminate - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To disclose an optical laminate in which the occurrence of interface reflection and interference fringes at an interface between a translucent base material and an antistatic layer are effectively prevented. <P>SOLUTION: The optical laminate is constituted by providing with the translucent base material and further the antistatic layer and a hard coat layer thereon in this order. The hard coat layer is formed on the antistatic layer by using a composition for the hard coat layer comprising a resin and a permeable solvent. The permeable solvent permeates the antistatic layer and the translucent base material and an antistatic material contained in the antistatic layer is dispersed in the antistatic layer or in the translucent base material. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、界面反射と干渉縞を防止した光学積層体に関する。   The present invention relates to an optical laminate that prevents interface reflection and interference fringes.

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における表示面は、蛍光燈等の外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、透明な物体の表面を屈折率の低い透明皮膜で被覆することにより反射率を低下させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を備えてなることにより、画像表示装置の表示面の反射性を低減させ視認性を向上させることがなされている。   A display surface in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to reduce the reflection due to light rays emitted from an external light source such as a fluorescent lamp and to improve its visibility. . On the other hand, by providing an optical laminate (for example, an antireflection laminate) in which the reflectance is lowered by coating the surface of a transparent object with a transparent film having a low refractive index, It has been attempted to improve the visibility by reducing the reflectivity of the display surface.

また、画像表示装置の表示面の耐汚染性等の観点から、光学積層体には帯電防止層を形成することが良くなされている。例えば、特開２００４−９４００７号（特許文献１）では、光透過型基材の表面に、帯電防止層、ハードコート層がこれらの順で平滑に形成されてなる反射防止光学積層体が提案されている。   In addition, an antistatic layer is often formed on the optical layered body from the viewpoint of contamination resistance of the display surface of the image display device. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-94007 (Patent Document 1) proposes an antireflection optical laminate in which an antistatic layer and a hard coat layer are smoothly formed in this order on the surface of a light transmissive substrate. ing.

しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた反射防止積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられる。特に、光透過性基材と帯電防止層との界面にあっては、干渉縞が発生し、画像の視認性が低下されることが指摘されている。   However, in an antireflection laminate in which layers having a large difference in refractive index are laminated, it is often seen that interface reflection and interference fringes occur at the interface between the layers that overlap each other. In particular, it has been pointed out that interference fringes are generated at the interface between the light-transmitting substrate and the antistatic layer, and the visibility of the image is lowered.

これに対して、本発明者等は帯電防止層を凹凸形状として形成させた光学積層体を製造しその光学特性を調べたところ、干渉縞が有効に防止することができたが、光学積層体のヘイズ値が若干上昇することが分かった。また、干渉縞を防止することは可能であったが、帯電防止層の凹凸形状上に、適切な膜厚（0.8〜20μm）のハードコート層を形成した光学積層体では、その最表面に帯電防止層に起因する光学的な凹凸ひずみが残存することがあった。このため、最終形態である光学積層体の最表面は、一般に、ハードコート層のみを積層した光学積層体の最表面程度に平坦化することが非常に困難であることが分かった。その結果、帯電防止層の凹凸形状を有した光学積層体を画像表示装置に組み込んだ場合、装置の内部からの透過光が、非平坦化な最表面を通過すると、光学的な凹凸ひずみを起因として生じるキラキラとしたギラツキが生じることが確認された。   On the other hand, the present inventors manufactured an optical laminate in which the antistatic layer was formed in a concavo-convex shape, and investigated the optical characteristics thereof. As a result, interference fringes could be effectively prevented. It was found that the haze value of the slightly increased. In addition, although it was possible to prevent interference fringes, in the optical laminate in which a hard coat layer with an appropriate film thickness (0.8 to 20 μm) was formed on the uneven shape of the antistatic layer, the outermost surface was charged. Optical unevenness due to the prevention layer sometimes remained. For this reason, it turned out that it is very difficult to planarize the outermost surface of the optical laminated body which is a final form to the extent of the outermost surface of the optical laminated body which laminated | stacked only the hard-coat layer generally. As a result, when an optical laminate having an uneven shape of the antistatic layer is incorporated in an image display device, if the transmitted light from the inside of the device passes through the non-planar outermost surface, optical unevenness is caused. As a result, it was confirmed that a glittering glitter was generated.

さらに、帯電防止層に凹凸形状を付与することは多段階工程を必要とされ、また凹凸形状用の装置等を必要とするため、製造コストが嵩む等の問題があり、帯電防止層組成物が硬化する際に、適切な凹凸形状が形成されれば、上記諸問題が解決しうる。   Further, providing the antistatic layer with a concavo-convex shape requires a multi-step process, and also requires a device for the concavo-convex shape, which causes problems such as increased manufacturing costs. The above problems can be solved if an appropriate uneven shape is formed during curing.

さらにまた、帯電防止層は、一般に、光透過性基材とハードコート層との間に形成されるため、帯電防止層中の帯電防止剤は密に集合し凝集状態で形成されているのが一般的であった。つまり、帯電防止剤が超微粒子の場合、その微粒子の１個もしくは凝集体で存在している時に、微粒子同士または凝集体同士が、それぞれいずれかの箇所で接触している状態であることが要求されていたのである。他方、帯電防止剤が有機導電性組成物の場合に、帯電防止防止性能を発揮させるためには、均質な帯電防止層の層膜を形成させることが必要とされていた。   Furthermore, since the antistatic layer is generally formed between the light-transmitting substrate and the hard coat layer, the antistatic agent in the antistatic layer is densely aggregated and formed in an aggregated state. It was general. That is, when the antistatic agent is an ultrafine particle, it is required that the fine particles or the aggregates are in contact with each other at one location when the antistatic agent is present as one of the fine particles or the aggregate. It was done. On the other hand, when the antistatic agent is an organic conductive composition, it has been necessary to form a uniform antistatic layer film in order to exhibit antistatic performance.

しかしながら、本発明者等が確認したところ、光学積層体において、帯電防止層における帯電防止剤が層中において凝集せずに、帯電防止性能を維持しながら、それぞれが十分な分散状態で存在されるか、または、帯電防止剤としての有機導電性組成物が付与され形成された帯電防止層の一面において均質な膜として存在せずに、クラックの入った不均質な膜として形成されることにより、帯電防止層と光透過性基材の界面において、反射界面および干渉縞を有効に防止することができ、最表面に帯電防止層を設けずにハードコート層のみを形成した光学積層体のように平坦化することが可能となり、画像表示画面において問題となっていたギラツキも解消できたとする帯電防止層を形成した光学積層体は未だ提案されていない。
特開２００４−９４００７号 However, the present inventors have confirmed that, in the optical laminate, the antistatic agent in the antistatic layer does not aggregate in the layer, and each of them exists in a sufficiently dispersed state while maintaining the antistatic performance. Or by being formed as a cracked inhomogeneous film without being present as a homogeneous film on one side of the antistatic layer formed by applying an organic conductive composition as an antistatic agent, At the interface between the antistatic layer and the light-transmitting substrate, the reflective interface and interference fringes can be effectively prevented, as in the optical laminate in which only the hard coat layer is formed without providing the antistatic layer on the outermost surface. An optical laminate having an antistatic layer that can be flattened and has been able to eliminate glare that has been a problem in image display screens has not yet been proposed.
JP 2004-94007 A

本発明者等は、本発明時において、帯電防止層における帯電防止剤（導電性微粒子）が層中において凝集せずに、それぞれが帯電防止性能を維持しながら、十分な分散状態で存在していること、または帯電防止剤としての有機導電性組成物が塗工された層一面において均質な膜として存在せずに、帯電防止性能を維持しながら、クラックの入った不均質な膜として存在することにより、光透過性基材と帯電防止層の界面において、これらの界面を実質的になくすことにより各界面における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止することができるとの知見を得た。よって、本発明は光透過性基材と帯電防止層の界面に着目し、その界面を実質的に消滅させることにより、機械的強度を有し、優れた反射防止機能と、視認性を向上させた光学積層体の提供をその目的とするものである。   At the time of the present invention, the inventors of the present invention did not aggregate the antistatic agent (conductive fine particles) in the antistatic layer in the layer, and each existed in a sufficiently dispersed state while maintaining the antistatic performance. Or present as a cracked heterogeneous film while maintaining antistatic performance without being present as a homogeneous film over the entire surface coated with the organic conductive composition as an antistatic agent As a result, at the interface between the light-transmitting substrate and the antistatic layer, it has been found that by substantially eliminating these interfaces, it is possible to effectively prevent the occurrence of interface reflection and interference fringes at each interface. . Therefore, the present invention focuses on the interface between the light-transmitting substrate and the antistatic layer, and by substantially eliminating the interface, it has mechanical strength, improves the antireflection function and visibility. An object of the present invention is to provide an optical laminate.

従って、本発明による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなるものである。 Therefore, the optical layered body according to the present invention comprises a light transmissive substrate, an antistatic layer, and a hard coat layer in this order on the light transmissive substrate,
The hard coat layer is formed on the antistatic layer using a hard coat layer composition comprising a resin and a permeable solvent,
The penetrating solvent penetrates into the antistatic layer and the light transmissive substrate, and an antistatic agent contained in the antistatic layer is dispersed in the antistatic layer or the light transmissive substrate. is there.

本発明の好ましい態様によれば、本発明の光学積層体において、前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、帯電防止剤としての有機導電性組成物を用いて形成された前記帯電防止層がクラックの入った不均質な膜であるものである。   According to a preferred aspect of the present invention, in the optical laminate of the present invention, the penetrating solvent penetrates the antistatic layer and the light transmissive substrate, and uses an organic conductive composition as an antistatic agent. The formed antistatic layer is a cracked heterogeneous film.

本発明の別の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層に浸透することにより、前記帯電防止層が膨潤されるか、または前記帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなるものである。 An optical layered body according to another aspect of the present invention comprises a light-transmitting base material, an antistatic layer, and a hard coat layer in this order on the light-transmitting base material. ,
The hard coat layer is formed on the antistatic layer using a hard coat layer composition comprising a resin and a permeable solvent,
When the penetrating solvent penetrates into the antistatic layer, the antistatic layer is swollen or fine cracks are generated in the antistatic layer.

１．光学積層体
本発明による光学積層体を図を用いて説明する。図１は、本発明による光学積層体１の断面図をＴＥＭで測定したものである。図１によれば、光透過性基材２の上に帯電防止層３が形成されてなり、この帯電防止層３中に存在する帯電防止剤が互いに凝集せず、分散されて存在してなることが理解される。この帯電防止層３の上に、ハードコート層７が形成されてなる。また、この浸透性溶剤により、帯電防止層が膨潤し、または帯電防止層の層中に微細なクラックが生じていた。 1. Optical Laminate The optical laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical laminate 1 according to the present invention measured by TEM. According to FIG. 1, the antistatic layer 3 is formed on the light-transmitting substrate 2, and the antistatic agents present in the antistatic layer 3 do not aggregate with each other but are dispersed. It is understood. A hard coat layer 7 is formed on the antistatic layer 3. Moreover, the antistatic layer swelled by this permeable solvent, or fine cracks were generated in the layer of the antistatic layer.

この点、従来の光学積層体１０の断面図をＴＥＭで測定した図２と比較すると、図２では、光透過性基材１２の上に、帯電防止層１３が形成されてなり、その上にハードコート層１７が形成されている点で、本発明による光学積層体１０と層構成を同じくするものである。しかしながら、図２によれば、帯電防止層中１３の帯電防止剤が互いに密に集合し凝集して存在していることが理解される。よって、本発明による光学積層１と従来の光学積層体１０とは、帯電防止層中の帯電防止剤の状態が相違することが理解される。   In this regard, when the sectional view of the conventional optical laminate 10 is compared with FIG. 2 measured by TEM, the antistatic layer 13 is formed on the light-transmitting substrate 12 in FIG. The layer structure is the same as that of the optical laminate 10 according to the present invention in that the hard coat layer 17 is formed. However, it can be seen from FIG. 2 that the antistatic agents 13 in the antistatic layer are closely aggregated and aggregated. Therefore, it is understood that the optical laminate 1 according to the present invention and the conventional optical laminate 10 are different in the state of the antistatic agent in the antistatic layer.

本発明による光学積層体が、図１に記載された帯電防止層を形成しているのは、ハードコート層７が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて帯電防止層３の上に形成されてなることにより、この浸透性溶剤及びこの浸透性溶剤とハードコート樹脂の混合物が帯電防止層と光透過性基材に浸透することによるものと思われる。つまり、帯電防止層の上に、このハードコート層用組成物が塗布されることにより、その浸透性溶剤とハードコート樹脂が、帯電防止層と光透過性基材に浸透しまたは湿潤することにより、帯電防止層と光透過性基材とが渾然一体となり、その結果、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されるのではないかと思われる。また、浸透性溶剤が、帯電防止層と光透過性基材に浸透し、その結果、帯電防止層が膨潤されるか、または帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなるものと思われる。そしてさらに、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されるのではないかと思われる。   The optical laminate according to the present invention forms the antistatic layer described in FIG. 1 because the hard coat layer 7 uses a hard coat layer composition comprising a resin and a permeable solvent. It is thought that this is because the permeable solvent and the mixture of the permeable solvent and the hard coat resin penetrate into the antistatic layer and the light-transmitting substrate. That is, by applying the hard coat layer composition on the antistatic layer, the penetrating solvent and the hard coat resin penetrate or wet the antistatic layer and the light-transmitting substrate. It seems that the antistatic layer and the light-transmitting substrate are naturally integrated, and as a result, the antistatic agents are dispersed without aggregating with each other. In addition, the penetrating solvent penetrates into the antistatic layer and the light-transmitting substrate, and as a result, the antistatic layer is swollen or fine cracks are generated in the layer of the antistatic layer. It is. Furthermore, it seems that the antistatic agents are dispersed without agglomerating each other.

また、帯電防止層が帯電防止剤として有機導電性組成物を用いて形成された場合（図３及び図４）にも、上記と同様に、ハードコート樹脂と浸透性溶剤を含有するハードコート層組成物を付与することにより、先ず、その組成物中の浸透性溶剤が、帯電防止層と光透過性基材に浸透し、その結果、光透過性基材と均質な膜状になっていた帯電防止層が膨潤し、帯電防止層の層中に微細なクラックが生じ始める。次に、ハードコート組成物中の溶剤と共に、ハードコート樹脂が、帯電防止層および光透光性基材に浸透し始め、帯電防止層中に生じた微細なクラックが更に増加し均質な膜状であった帯電防止層が不均質なものとなり、また、帯電防止層と基材との間に渾然一体となる部分（有機導電性組成物のポリマーが基材中に分散したような状態）が生じるものと思われる。   In addition, when the antistatic layer is formed using an organic conductive composition as an antistatic agent (FIGS. 3 and 4), a hard coat layer containing a hard coat resin and a permeable solvent is used in the same manner as described above. By applying the composition, first, the permeable solvent in the composition penetrated into the antistatic layer and the light-transmitting substrate, and as a result, the film was homogeneous with the light-transmitting substrate. The antistatic layer swells and fine cracks begin to form in the antistatic layer. Next, together with the solvent in the hard coat composition, the hard coat resin begins to penetrate into the antistatic layer and the light-transmitting substrate, and the fine cracks generated in the antistatic layer further increase to form a homogeneous film. In addition, the antistatic layer was inhomogeneous, and there was a portion (a state in which the polymer of the organic conductive composition was dispersed in the base material) between the antistatic layer and the base material. It seems to occur.

本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層が、光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤を含んでなる帯電防止層用組成物を用いて形成されてなる。この浸透性溶剤が光透過性基材に浸透することにより、帯電防止層と光透過性基材とが渾然一体となり、その結果、帯電防止剤が互いに凝集することなく分散されることが促進されるものと思われる。さらに、この浸透性溶剤が、光透過性基材を膨潤させることにより、帯電防止層の層中に微細なクラックが生じされるものとも思われる。また、帯電防止剤が有機導電性組成物であった場合にも、その組成物中に浸透性溶剤を含有することによって、浸透性溶剤が光透過性基材に浸透することにより、基材が膨潤し、均質な膜であった帯電防止層に微細なクラックが入り、帯電防止層の不均質化が、更に促進できるものと思われる。   According to a preferred embodiment of the present invention, the antistatic layer is formed using a composition for an antistatic layer comprising a permeable solvent having permeability to a light transmissive substrate. This penetrating solvent penetrates into the light-transmitting substrate, so that the antistatic layer and the light-transmitting substrate are naturally integrated, and as a result, it is promoted that the antistatic agent is dispersed without aggregating with each other. It seems to be. Furthermore, it is considered that this penetrating solvent causes fine cracks to be generated in the layer of the antistatic layer by swelling the light-transmitting substrate. Further, even when the antistatic agent is an organic conductive composition, by containing a permeable solvent in the composition, the permeable solvent penetrates into the light-transmitting substrate, so that the substrate It seems that the antistatic layer which swelled and became a homogeneous film has fine cracks in the antistatic layer, which can further promote the non-homogenization of the antistatic layer.

但し、以上のことは、あくまでも推論であって、そのメカニズムは明確ではない。なお、図１では、本発明による光学積層体の積層構造を分かり易くするために光透過性基材２、帯電防止層３、ハードコート層７を領域に区分して記載したが、本来はこれら各層の各界面は明確に区別することができない状態となっている。   However, the above is only an inference, and the mechanism is not clear. In FIG. 1, the light-transmitting base material 2, the antistatic layer 3, and the hard coat layer 7 are divided into regions for easy understanding of the laminated structure of the optical laminate according to the present invention. Each interface of each layer is in a state that cannot be clearly distinguished.

１）ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と溶剤と浸透性溶剤（好ましい）と任意成分とにより形成されてよい。溶剤は帯電防止層の項で説明したのと同様であってよい。 1) Hard coat layer “Hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4 (1999). The thickness of the hard coat layer (during curing) is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. The hard coat layer may be formed of a resin, a solvent, a permeable solvent (preferably), and an optional component. The solvent may be the same as described in the section of the antistatic layer.

浸透性溶剤
浸透性溶剤は、光透過性基材と帯電防止層に対して浸透性のある溶剤を利用する。よって、本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材とに対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられる。 Penetrating solvent The penetrating solvent uses a solvent that is permeable to the light-transmitting substrate and the antistatic layer. Therefore, in the present invention, the “permeability” of the osmotic solvent is intended to include all the concepts such as osmosis, swelling and wettability with respect to the light transmissive substrate. Specific examples of the permeable solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; or mixtures thereof.

浸透性溶剤の具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられ、好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが挙げられる。   Specific examples of the osmotic solvent include acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, chloroform, methylene chloride, trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, nitromethane, 1,4-dioxane, dioxolane, N -Methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, diisopropyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, preferably methyl acetate, ethyl acetate, Examples include butyl acetate and methyl ethyl ketone.

ハードコート層組成物中に浸透性溶剤を添加する場合、浸透性溶剤の添加量は、ハードコート層用組成物の全溶剤重量に対して５０重量％以上、１００重量％以下である。ハードコート層組成物の好ましい固形分としては、加工適正面より、１０重量％以上７０重量％以下が好ましく、更に好ましくは、４０重量％以上５０重量％以下である。   When adding a permeable solvent in a hard-coat layer composition, the addition amount of a permeable solvent is 50 to 100 weight% with respect to the total solvent weight of the composition for hard-coat layers. The solid content of the hard coat layer composition is preferably 10% by weight or more and 70% by weight or less, and more preferably 40% by weight or more and 50% by weight or less from the viewpoint of proper processing.

樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、溶剤乾燥型樹脂（ポリマー成分からなる樹脂など、溶剤がない状態で、接着性のない樹脂の意味である）。電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の四種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。 The resin resin is preferably transparent, and specific examples thereof include ionizing radiation curable resins that are resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams, solvent-drying resins (resins made of polymer components, and the like that have no solvent) In other words, it means a resin having no adhesiveness). There are four types of mixtures of ionizing radiation curable resins and solvent-drying resins or thermosetting resins, preferably ionizing radiation curable resins.

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the ionizing radiation curable resin include those having an acrylate functional group, for example, a polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene having a relatively low molecular weight. Resins, polythiol polyene resins, oligomers or prepolymers such as (meth) allylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and reactive diluents, and specific examples thereof include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meta ) Monofunctional monomers such as acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and polyfunctional monomers such as polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. .

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。   When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

電離放射線硬化型樹脂に混合または単独で使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。   Examples of the solvent-drying resin mixed or used alone in the ionizing radiation curable resin include mainly thermoplastic resins. As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. According to a preferred embodiment of the present invention, when the material of the transparent substrate is a cellulose resin such as TAC, as a preferred specific example of the thermoplastic resin, a cellulose resin such as nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, Examples thereof include ethyl hydroxyethyl cellulose.

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂、アクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。   Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin. , Polysiloxane resin, acrylic ester copolymer resin, and the like. When a thermosetting resin is used, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.

任意成分
重合開始剤
ハードコート層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げれられる。 Optional ingredients
When forming a polymerization initiator hard coat layer, a photopolymerization initiator can be used, and specific examples thereof include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone. This compound is commercially available, for example, trade name Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

帯電防止剤および／または防眩剤
ハードコート層は、帯電防止剤および／または防眩剤を含んでなるものが好ましい。 The antistatic agent and / or antiglare agent hard coat layer preferably contains an antistatic agent and / or antiglare agent.

帯電防止剤
帯電防止剤は、後記する帯電防止層で説明したのと同様であってよい。 The antistatic agent may be the same as described in the antistatic layer described later.

防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。 Anti- glare agent Anti-glare agent includes fine particles, and the shape of the fine particles may be true spherical, elliptical, etc., preferably true spherical. The fine particles may be inorganic or organic, but those formed of an organic material are preferred. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include plastic beads, and more preferably those having transparency. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads. The addition amount of the fine particles is about 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin composition.

溶剤
ハードコート層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合したハードコート層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。 In order to form the solvent hard coat layer, a hard coat layer composition in which the above components are mixed with a solvent is used. Specific examples of the solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; toluene, xylene and the like Aromatic hydrocarbons; or a mixture thereof, preferably ketones and esters.

ハードコート層の形成
ハードコート層は、上記した樹脂と溶剤と任意成分とを混合して得た組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した液体組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。 Formation of Hard Coat Layer The hard coat layer may be formed by applying a composition obtained by mixing the above-described resin, solvent and optional components to a light transmissive substrate. According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to add a leveling agent such as fluorine or silicone to the liquid composition. The liquid composition to which the leveling agent is added can effectively prevent inhibition of curing by oxygen on the coating film surface during application or drying, and can impart an effect of scratch resistance.

組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。   Examples of the method for applying the composition include application methods such as a roll coating method, a Miya bar coating method, and a gravure coating method. After application of the liquid composition, drying and UV curing are performed. Specific examples of the ultraviolet light source include ultrahigh pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arc lamps, black light fluorescent lamps, and metal halide lamp lamps. As the wavelength of the ultraviolet light, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various types of electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

２）帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と、樹脂とを含んでなる帯電防止層用液体組成物により形成されてなる。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。 2) Antistatic layer The antistatic layer is formed of a liquid composition for an antistatic layer comprising an antistatic agent and a resin. The thickness of the antistatic layer is preferably about 30 nm to 1 μm.

浸透性溶剤
本発明の好ましい態様によれば、帯電防止層用組成物は、浸透性溶剤を含んでなるものが好ましい。浸透性溶剤の具体例は、ハードコート層の項で説明したのと同様であってよい。帯電防止層用液体組成物中における浸透性溶剤の添加量は、帯電防止層用組成物の全溶剤量の０．１％以上１００％以下が浸透性の面で好ましく、帯電防止用組成物全体の固形分は、０．１％以上５０％以下が塗工適性の面で好ましい。 Penetration Solvent According to a preferred embodiment of the present invention, the antistatic layer composition preferably comprises a penetration solvent. Specific examples of the permeable solvent may be the same as those described in the section of the hard coat layer. The addition amount of the permeable solvent in the antistatic layer liquid composition is preferably 0.1% or more and 100% or less of the total amount of the solvent in the antistatic layer composition, and the entire antistatic composition The solid content is preferably from 0.1% to 50% in view of coating suitability.

帯電防止剤（導電剤）
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。 Antistatic agent (conductive agent)
Specific examples of the antistatic agent that forms the antistatic layer include quaternary ammonium salts, pyridinium salts, various cationic compounds having a cationic group such as first to third amino groups, sulfonate groups, and sulfate esters. Anionic compounds having anionic groups such as bases, phosphate ester bases, phosphonate bases, amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters, nonionic compounds such as amino alcohols, glycerols, and polyethylene glycols, tin And organic metal compounds such as titanium alkoxides and metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof, and compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above. Coupling having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, or a metal chelate moiety, and a monomer or oligomer polymerizable by ionizing radiation, or a polymerizable functional group polymerizable by ionizing radiation Polymerizable compounds such as organometallic compounds such as agents can also be used as antistatic agents.

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の一次粒径は３０〜７０ｎｍ程度であり、二次粒径は２００ｎｍ以下程度が好ましい。 Moreover, electroconductive ultrafine particles are mentioned. Specific examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO ₂ (1.95), Sb ₂ O ₂ (1.71), SnO. ₂ (1.997), indium tin oxide (1.95) often referred to as ITO, In ₂ O ₃ (2.00), Al ₂ O ₃ (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. The fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm. Further, according to a preferred embodiment of the present invention, the primary particle size of the fine particles is about 30 to 70 nm, and the secondary particle size is preferably about 200 nm or less.

また、有機導電性組成物を利用することができ、例えば、高分子型導電性組成物が挙げられ、上記した有機化合物以外に、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられる。更に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重合した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。   In addition, an organic conductive composition can be used, for example, a polymer-type conductive composition. In addition to the above organic compounds, for example, aliphatic conjugated polyacetylene, aromatic conjugated poly ( Paraphenylene), heterocyclic conjugated polypyrrole, polythiophene, heteroatom-containing polyaniline, and mixed conjugated poly (phenylene vinylene). Further examples include a double-chain conjugated system that is a conjugated system having a plurality of conjugated chains in the molecule, and a conductive complex that is a polymer obtained by grafting or block-copolymerizing the conjugated polymer chain to a saturated polymer. Can do.

樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。 As specific examples of the resin resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. Although a thermoplastic resin can be used as the resin, it is more preferable to use a thermosetting resin, and more preferably an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. .

電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。   The ionizing radiation curable composition is a mixture of a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having an epoxy group in a molecule. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of prepolymers and oligomers in ionizing radiation curable compositions include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates, and methacrylates such as polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, and melamine methacrylate. Acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.

電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。   Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, and butyl acrylate. Acrylic esters such as methoxybutyl acrylate and phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, lauryl methacrylate, etc. , 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate, acrylic acid- 2- (N, N-diethyla B) Unsaturated substituted amino alcohol esters such as propyl, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol di Compounds such as acrylate, triethylene glycol diacrylate, polyfunctional compounds such as dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and / or two or more thiol groups in the molecule Polythiol compounds having, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tet And lathioglycolate.

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。   Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, the above compounds are used alone or in combination of two or more as required, but in order to give ordinary application suitability to the ionizing radiation curable composition. Further, the prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   When flexibility is required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, it is preferable to reduce the amount of monomer or use an acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When wear resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, ionizing radiation curing such as using an acrylate monomer with three or more functional groups It is possible to design a sex composition. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate are exemplified as those having one functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。   In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation can be added to the ionizing radiation curable composition. . Specific examples of the resin include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin, or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.

電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。   When hardening after application | coating of an ionizing radiation curable composition is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of a photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation-curable compositions.

電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。   In the ionizing radiation curable composition, the following organic reactive silicon compound may be used in combination.

有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ'）_ｎで表せるもので、ＲおよびＲ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ'の添え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。 1 of the organosilicon compound can be represented by the general formula R _m Si (OR ′) _n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a subscript m of R and a subscript n of OR ′ Each is an integer satisfying the relationship m + n = 4.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyl Silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.

電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。   The organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent. Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyl Methoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.

帯電防止層の形成
帯電防止層として塗膜を形成するには、帯電防止剤と、樹脂と、溶剤（ハードコート層で説明したのと同様であってよい）とを混合した組成物を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法により塗布する。次に、この液体組成物の塗布後に乾燥する。電離放射線硬化性樹脂の場合、紫外線硬化または電子線硬化を行う。電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、５×１０７Ω／□以下となるよう行うことが好ましい。 Formation of antistatic layer In order to form a coating film as an antistatic layer, a composition in which an antistatic agent, a resin, and a solvent (which may be the same as described in the hard coat layer) are mixed is rolled. It is applied by a coating method such as a coating method, a Miya bar coating method, or a gravure coating method. Next, it is dried after application of the liquid composition. In the case of an ionizing radiation curable resin, ultraviolet curing or electron beam curing is performed. As a method for curing the ionizing radiation curable resin composition, the ionizing radiation curable resin composition is cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. In the case of electron beam curing, an electron beam having energy of 100 KeV to 300 KeV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays or the like emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, or a metal halide lamp are used. In forming the antistatic layer, the surface resistance value of the antistatic layer is preferably 5 × 10 7 Ω / □ or less.

３）光透過性基材
光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられる。 3) Light-transmitting base material The light-transmitting base material preferably has transparency, smoothness and heat resistance and is excellent in mechanical strength. Specific examples of the material forming the light-transmitting substrate include polyester, cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, and polychlorinated. Examples thereof include thermoplastic resins such as vinyl, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, preferably polyester and cellulose triacetate.

光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。また、光透過性基材は、その上に光学特性層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。   The thickness of the light transmissive substrate is 20 μm or more and 300 μm or less, preferably the upper limit is 200 μm or less, and the lower limit is 30 μm or more. When the light-transmitting substrate is a plate-like body, the thickness may exceed these thicknesses. In addition, when forming an optical property layer on the light-transmitting substrate, in order to improve adhesion, in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment, a paint called an anchor agent or primer is used. Application may be performed in advance.

４）低屈折率層
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の上に低屈折率層が形成されてなるものが好ましい。低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が１．４６以下の、やはり３０ｎｍ〜１μｍ程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。 4) Low Refractive Index Layer According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that a low refractive index layer is formed on the hard coat layer. The low refractive index layer is composed of a resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin as a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride, and a refractive index of 1.46 or less. The film can also be composed of a thin film of about 30 nm to 1 μm, or a thin film of silica or magnesium fluoride by chemical vapor deposition or physical vapor deposition. The resin other than the fluororesin is the same as the resin used for constituting the antistatic layer.

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも質量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。   More preferably, the low refractive index layer can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. Specifically, this silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of mass). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance by using this resin composition. Form a layer.

低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。   In the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer constituting the low refractive index layer, the proportion of each component in the monomer composition is such that the vinylidene fluoride is 30 to 90%, preferably 40 to 80%, particularly preferably 40 to 40%. 70% and hexafluoropropylene is 5 to 50%, preferably 10 to 50%, particularly preferably 15 to 45%. This monomer composition may further contain 0 to 40%, preferably 0 to 35%, particularly preferably 10 to 30% of tetrafluoroethylene.

上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。   In the above monomer composition, other copolymer components are, for example, in the range of 20% or less, preferably in the range of 10% or less, within the range in which the intended purpose and effect of the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer are not impaired. Specific examples of such other copolymerization components are fluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 1,2-dichloro-1,2-difluoroethylene, 2-bromo-3,3,3-trifluoroethylene, 3-bromo-3,3-difluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-tri Examples thereof include polymerizable monomers having fluorine atoms such as fluoropropylene and α-trifluoromethacrylic acid.

以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。   The fluorine-containing copolymer obtained from the monomer composition as described above needs to have a fluorine content of 60 to 70%, preferably a fluorine content of 62 to 70%, particularly preferably 64 to 68. %. When the fluorine content is in such a specific range, the fluorine-containing polymer has good solubility in a solvent, and contains such a fluorine-containing polymer as a component. Since it has excellent adhesion to various substrates, it forms a thin film with high transparency and low refractive index and sufficiently excellent mechanical strength, so the scratch resistance of the surface on which the thin film is formed The mechanical properties such as the above can be made sufficiently high, which is extremely suitable.

このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。   The fluorine-containing copolymer preferably has a molecular weight of 5,000 to 200,000, particularly 10,000 to 100,000 in terms of polystyrene-equivalent number average molecular weight. By using a fluorine-containing copolymer having such a molecular weight, the viscosity of the resulting fluorine-based resin composition becomes a suitable size, and therefore surely has a suitable coating property. It can be. The fluorine-containing copolymer preferably has a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less, more preferably 1.40 or less. When a fluorine-containing copolymer having a refractive index exceeding 1.45 is used, a thin film formed from the obtained fluorine-based paint may have a small antireflection effect.

このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ_２からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ_２ゾルを含むゾル液からＳｉＯ_２ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ_２以外にも、ＭｇＦ_２の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ_２薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer also can be formed of a thin film made of SiO _2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or to form a SiO ₂ gel film from the sol solution containing SiO ₂ sol It may be formed by a method. The low refractive index layer, in addition to SiO ₂ also, the or a thin film MgF _2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO ₂ thin film. Among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use organosiloxane as a raw material gas under the condition that there is no other inorganic vapor deposition source, and to maintain the deposition target as low as possible. It is preferable.

２．光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。 2. Method for producing optical laminate
Adjustment of Composition for Each Layer Each composition for the antistatic layer, thin layer, hard coat layer and the like may be adjusted by mixing and dispersing the components described above according to a general preparation method. For mixing and dispersing, it is possible to appropriately disperse with a paint shaker or a bead mill.

塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。 Specific examples of the coating method of each liquid composition on the surface of the coating light transmissive substrate and the surface of the antistatic layer include spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coater, Various methods such as a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used.

硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。   As a curing method of the curable resin composition, it is cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. In the case of electron beam curing, an electron beam having energy of 100 KeV to 300 KeV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays or the like emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, or a metal halide lamp are used.

３．光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。 3. Use of optical laminate The optical laminate according to the present invention is used as a hard coat laminate, preferably as an antireflection laminate. The optical laminate according to the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors and the like. In particular, it is used on the surface of displays such as CRTs and liquid crystal panels.

偏光板
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護積層体により主として構成される。本発明の反射防止積層体は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護保護積層体のうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の光学積層体が保護積層体を兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学積層体を最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。偏光膜は、公知の偏光膜、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。 A polarizing plate is mainly composed of two protective laminates sandwiching a polarizing film from both sides. The antireflection laminate of the present invention is preferably used for at least one of the two protective protective laminates sandwiching the polarizing film from both sides. The manufacturing cost of a polarizing plate can be reduced because the optical laminated body of this invention serves as a protective laminated body. Moreover, by using the optical layered body of the present invention for the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained. As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used.

本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の内容は実施例により限定して解釈されるものではない。   The contents of the present invention will be described in detail by the following examples, but the contents of the present invention should not be construed as being limited by the examples.

実施例１
帯電防止層用組成物１の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散して帯電防止層用組成物を調製した。 Example 1
Preparation of antistatic layer composition 1 The composition shown in the following composition table was mixed and dispersed to prepare an antistatic layer composition.

帯電防止剤（ＡＴＯ分散液） ５質量部
（ザ・インクテック(株)製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ）
シクロヘキサノン ２２質量部
重合開始剤 ０．２質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４） Antistatic agent (ATO dispersion) 5 parts by mass (The Inktec Co., Ltd., trade name: ASHD300S)
Cyclohexanone 22 parts by mass Polymerization initiator 0.2 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184)

ハードコート層用組成物１の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散してハードコート層用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート １００質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＰＥＴ３０）
メチルエチルケトン ４３質量部
レベリング剤 ２質量部
（大日本インキ化学工業(株)、商品名；ＭＣＦ-３５０-５）
重合開始剤 ６質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４） Preparation of composition 1 for hard coat layer The composition shown in the following composition table was mixed and dispersed to prepare a composition for hard coat layer.
100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: PET30)
Methyl ethyl ketone 43 parts by weight Leveling agent 2 parts by weight (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: MCF-350-5)
Polymerization initiator 6 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184)

光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フイルム(株)製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層用液体組成物１を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が９８ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、０．７ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。帯電防止層を形成した後、ハードコート層用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の透明帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。 Production of optical laminate A transparent base material (80 μm thick triacetyl cellulose resin film (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., TF80UL) was prepared, and the liquid composition 1 for antistatic layer was coated on one side of the film with a winding type coating rod. Is applied and is kept in a heating oven at a temperature of 70 ° C. for 30 seconds to evaporate the solvent in the coating film, and then the ultraviolet ray is irradiated so that the integrated light amount becomes 98 mj to cure the coating film, An optical laminate was prepared by forming a transparent antistatic layer of 0.7 g / cm ² (when dried), and after forming the antistatic layer, the composition 1 for hard coat layer was applied and the temperature was 70 ° C. In a heating oven for 30 seconds to evaporate the solvent in the coating film, and then irradiate ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 46 mj to cure the coating film, and 15 g / cm ² (during drying) Transparent antistatic layer Thereby made to prepare optical laminate.

実施例２
帯電防止層用組成物２の調製
帯電防止剤２（ポリチオフェン分散液） １０質量部
（出光テクノファイン（株）製 ＴＡ２０１０）
イソプロピルアルコール ４．９５質量部
シクロヘキサノン ０．０５質量部 Example 2
Preparation of antistatic layer composition 2 Antistatic agent 2 (polythiophene dispersion) 10 parts by mass (TA2010 manufactured by Idemitsu Technofine Co., Ltd.)
Isopropyl alcohol 4.95 parts by mass Cyclohexanone 0.05 parts by mass

光学積層体の製造
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（富士写真フイルム(株)製、ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層用液体組成物２を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度５０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させて、０．５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の透明な帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。帯電防止層を形成した後、ハードコート層用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で３０秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が４６ｍｊになるように照射して塗膜を硬化させて、１５ｇ／ｃｍ^２（乾燥時）の透明帯電防止層を形成させて、光学積層体を調製した。この光学積層体をミクロトームで断面カットし、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いてその断面を観察した。その結果は、図３及び図４で示した通りであった。 Production of optical laminate A transparent base material (80 μm thick triacetyl cellulose resin film (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., TF80UL) is prepared, and the liquid composition 2 for the antistatic layer is coated on one side of the film with a winding type coating rod. Is applied in a heat oven at a temperature of 50 ° C. for 30 seconds, the solvent in the coating film is evaporated, and a transparent antistatic layer of 0.5 g / cm ² (when dried) is formed. After forming the antistatic layer, the composition 1 for hard coat layer was applied and held in a heat oven at a temperature of 70 ° C. for 30 seconds to evaporate the solvent in the coating film, An optical laminate was prepared by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light amount was 46 mj to cure the coating film to form a transparent antistatic layer of 15 g / cm ² (during drying). Microtome cross section Collected by, and its cross section was observed using a TEM (transmission electron microscope). The results were as shown in FIGS.

比較例１
実施例１において、帯電防止層用組成物１におけるシクロヘキサノン、ハードコート層用組成物１におけるメチルエチルケトンを、それぞれトルエンに変えた以外は同様にして光学積層体を調製した。 Comparative Example 1
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that cyclohexanone in the antistatic layer composition 1 and methyl ethyl ketone in the hard coat layer composition 1 were each changed to toluene.

比較例２
比較例１において、帯電防止層用組成物を下記粒子含有帯電防止用組成物に変えた以外は同様にして光学積層体を調製した。 Comparative Example 2
An optical laminate was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the antistatic layer composition was changed to the following particle-containing antistatic composition.

粒子含有帯電防止層用組成物の調製
帯電防止剤（ＡＴＯ分散液） ５質量部
（ザ・インクテック(株)製、商品名；ＡＳＨＤ３００Ｓ）
干渉縞防止用粒子（シリカ分散液） １質量部
（大日精化工業（株）製 商品名 ；EXG ４０−７７（Ｄ−３０Ｍ））
トルエン ２２質量部
重合開始剤 ０．２質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４） Preparation of particle-containing antistatic layer composition Antistatic agent (ATO dispersion) 5 parts by mass (trade name: ASHD300S, manufactured by The Inktec Co., Ltd.)
Particles for preventing interference fringes (silica dispersion) 1 part by mass (trade name; EXG 40-77 (D-30M) manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
Toluene 22 parts by mass Polymerization initiator 0.2 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 184)

比較例３
実施例２において、下記ハードコート層用組成物２を使用した以外は同様にして光学積層体を調整した。 Comparative Example 3
In Example 2, the optical laminated body was adjusted similarly except having used the following composition 2 for hard-coat layers.

ハードコート層用組成物２の調製
下記組成表に表された組成物を、混合分散してハードコート層用組成物２を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート １００質量部
（日本化薬(株)製、商品名；ＰＥＴ３０）
トルエン ４３質量部
レベリング剤 ２質量部
（大日本インキ化学工業(株)、商品名；ＭＣＦ-３５０-５）
重合開始剤 ６質量部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名；イルガキュア１８４） Preparation of composition 2 for hard coat layer The composition shown in the following composition table was mixed and dispersed to prepare composition 2 for hard coat layer.
100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: PET30)
Toluene 43 parts by weight Leveling agent 2 parts by weight (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: MCF-350-5)
Polymerization initiator 6 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184)

評価試験
実施例、比較例で得られた光学積層体について下記評価試験を行い、その評価結果を下記の表１に表した。 Evaluation Tests The following evaluation tests were conducted on the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples, and the evaluation results are shown in Table 1 below.

評価１：全光線透過率
全光線透過率（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。 Evaluation 1: Total light transmittance Total light transmittance (%) was measured using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).

評価２：ヘイズ値
ヘイズ値（％）は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて測定した。 Evaluation 2: Haze value The haze value (%) was measured using a haze meter (Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).

評価３：干渉縞発生の有無
光学積層体のハードコート層を積層していない面が起因する裏面反射を防ぐため、光学積層体のハードコート層と反対面の面をサンドペーパーで擦り、その上に黒色テープを貼り、干渉縞検査ランプ（フナテック（株）製 FNA-18）および３波長蛍光灯にてハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
○：干渉縞検査ランプ、３波長蛍光灯共に干渉縞はない
×：干渉縞検査ランプ、３波長蛍光灯共に干渉縞があった Evaluation 3: Presence or absence of generation of interference fringes In order to prevent back surface reflection caused by the surface on which the hard coat layer of the optical laminate is not laminated, the surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate is rubbed with sandpaper. A black tape was applied to the optical laminate, and the optical laminate was visually observed from the surface of the hard coat layer with an interference fringe inspection lamp (FNA-18 manufactured by Funatec Co., Ltd.) and a three-wavelength fluorescent lamp, and evaluated according to the following evaluation criteria. .
Evaluation criteria ○: Interference fringe inspection lamp, no interference fringes in both three-wavelength fluorescent lamps ×: Interference fringe inspection lamp, three-wavelength fluorescent lamps had interference fringes

評価４：ハードコート層表面平坦性評価
ウシオ電機(株)製投影露光装置（USHIO Optical Modeulex 超高圧水銀ランプインスペクション投影式 SX-UI501HEG ）により、投影された影のムラを目視で観察し、下記評価基準にて評価した。この装置は、投影装置中の光源と白板の間に、評価したい光学積層体サンプルを設置する形態になっており、そのサンプルに光学的な膜厚ムラやひずみがある場合、白板に、その様態が拡大して投影され、目視観察できるようになる評価装置である。サンプルが平坦であれば、表面凹凸起因のムラは目視されないことになる。
評価基準
評価○：ムラの発生はなかった。
評価×：ムラの発生があった。 Evaluation 4: Hard coat layer surface flatness evaluation The projected shadow unevenness was visually observed with a projection exposure apparatus (USHIO Optical Modeulex ultra-high pressure mercury lamp inspection projection type SX-UI501HEG) manufactured by USHIO ELECTRIC CO., LTD. Evaluation was based on criteria. This device is configured to place an optical laminate sample to be evaluated between the light source in the projector and the white plate. If the sample has optical film thickness unevenness or distortion, the white plate is Is an evaluation device that is projected in an enlarged manner and can be visually observed. If the sample is flat, unevenness due to surface irregularities will not be visually observed.
Evaluation standard evaluation ○: There was no occurrence of unevenness.
Evaluation x: Generation of unevenness.

評価５：ギラツキ評価
ハードコート層の反対面に透明粘着付けガラス版に貼り、これに対して緑色に発色させたＣＲＴの光源を通して浅い角度から目視で観察し、ギラツキ度を下記評価基準にて評価した。ここで、ギラツキ度は、ディスプレイ内部からの透過光を、最表面で観察する場合、最表面が平坦ではない場合、つまりは光学的な凹凸ゆがみを持つ場合には、それを起因とするキラキラとした観察の障害となるギラツキを生じる。平坦であれば、ギラツキはない。これを、ギラツキと称し、評価項目とした。
評価基準
評価○：ギラツキの発生はなかった。
評価×：ギラツキの発生があった。 Evaluation 5: Evaluation of glare A clear adhesive glass plate is attached to the opposite surface of the hard coat layer, and visually observed from a shallow angle through a CRT light source colored green, and the degree of glare is evaluated according to the following evaluation criteria. did. Here, the degree of glare is determined by the glitter caused when the transmitted light from the inside of the display is observed on the outermost surface, when the outermost surface is not flat, that is, when there is optical distortion. This creates glare that hinders observation. If flat, there is no glare. This was called glare and was used as an evaluation item.
Evaluation standard evaluation ○: There was no occurrence of glare.
Evaluation x: Generation of glare occurred.

表１
評価１ 評価２ 評価３ 評価４ 評価５
実施例１ ９０．３ ０．４ ○ ○ ○
実施例２ ９１．５ ０．３ ○ ○ ○
比較例１ ９０．３ ０．４ × × ×
比較例２ ９０．２ ０．９ ○ × ×
比較例３ ９１．５ ０．３ × ○ ○ Table 1
Evaluation 1 Evaluation 2 Evaluation 3 Evaluation 4 Evaluation 5
Example 1 90.3 0.4 ○ ○ ○
Example 2 91.5 0.3 ○ ○ ○
Comparative Example 1 90.3 0.4 × × ×
Comparative Example 2 90.2 0.9 ○ × ×
Comparative Example 3 91.5 0.3 × ○ ○

本発明の光学積層体の断面図を表す。Sectional drawing of the optical laminated body of this invention is represented. 従来の光学積層体の断面図を表す。Sectional drawing of the conventional optical laminated body is represented. 本発明（実施例２）による光学積層体の断面の透過型電子顕微鏡写真である。It is a transmission electron micrograph of the cross section of the optical laminated body by this invention (Example 2). 図３における光学積層体の断面の透過型電子顕微鏡拡大写真である。It is a transmission electron microscope enlarged photograph of the cross section of the optical laminated body in FIG.

Claims (12)

光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなる、光学積層体。 An optical laminate comprising a light-transmitting substrate, an antistatic layer, and a hard coat layer on the light-transmitting substrate in this order,
The hard coat layer is formed on the antistatic layer using a hard coat layer composition comprising a resin and a permeable solvent,
The optical system, wherein the penetrating solvent penetrates into the antistatic layer and the light transmissive substrate, and an antistatic agent contained in the antistatic layer is dispersed in the antistatic layer or the light transmissive substrate. Laminated body. 前記帯電防止層が、帯電防止剤として有機導電性組成物を用いて形成されてなるものであり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層がクラックの入った不均質な膜として形成されてなるものである、請求項１に記載の光学積層体。 The antistatic layer is formed using an organic conductive composition as an antistatic agent,
The optical laminate according to claim 1, wherein the permeable solvent penetrates into the antistatic layer and the light transmissive substrate, and the antistatic layer is formed as a cracked heterogeneous film. body. 前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる前記帯電防止剤が前記帯電防止層または前記光透過性基材中に分散されてなる、請求項１に記載の光学積層体。 The antistatic layer is formed on the light transmissive substrate using an antistatic layer composition comprising an antistatic agent, a resin, and a permeable solvent.
The said permeable solvent osmose | permeates the said light transmissive base material, The said antistatic agent contained in the said antistatic layer is disperse | distributed in the said antistatic layer or the said light transmissive base material. Optical laminate. 光透過性基材と、該光透過性基材の上に、帯電防止層と、ハードコート層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなるハードコート層用組成物を用いて前記帯電防止層の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記帯電防止層に浸透することにより、前記帯電防止層が膨潤されるか、または前記帯電防止層の層中に微細なクラックが生じてなる、光学積層体。 An optical laminate comprising a light-transmitting substrate, an antistatic layer, and a hard coat layer on the light-transmitting substrate in this order,
The hard coat layer is formed on the antistatic layer using a hard coat layer composition comprising a resin and a permeable solvent,
An optical laminate in which the antistatic layer is swelled by the penetration of the penetrating solvent into the antistatic layer or fine cracks are generated in the antistatic layer. 前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透するものである、請求項４に記載の光学積層体。 The antistatic layer is formed on the light transmissive substrate using an antistatic layer composition comprising an antistatic agent, a resin, and a permeable solvent.
The optical laminate according to claim 4, wherein the permeable solvent penetrates the light transmissive substrate. 前記帯電防止層が、帯電防止剤と、樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる帯電防止層用組成物を用いて前記光透過性基材の上に形成されてなり、
前記浸透性溶剤が前記光透過性基材に浸透し、前記帯電防止層に含まれる前記帯電防止剤が前記帯電防止層と前記光透過性基材中に分散されてなる、請求項４に記載の光学積層体。 The antistatic layer is formed on the light transmissive substrate using an antistatic layer composition comprising an antistatic agent, a resin, and a permeable solvent.
The said permeable solvent osmose | permeates the said light transmissive base material, The said antistatic agent contained in the said antistatic layer is disperse | distributed in the said antistatic layer and the said light transmissive base material. Optical laminate. 前記帯電防止層用組成物中における浸透性溶剤の添加量が、前記帯電防止層用組成物の全重量に対して１重量％以上５０重量％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The amount of the penetrating solvent added in the antistatic layer composition is 1% by weight or more and 50% by weight or less based on the total weight of the antistatic layer composition. The optical laminate according to Item. 前記ハードコート層用液体組成物中における浸透性溶剤の添加量が、前記ハードコート層用組成物の全重量に対して１０重量％以上９０重量％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The amount of the osmotic solvent added in the hard coat layer liquid composition is 10 wt% or more and 90 wt% or less based on the total weight of the hardcoat layer composition. The optical laminate according to one item. 前記ハードコート層の上に低屈折率層をさらに備えてなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1, further comprising a low refractive index layer on the hard coat layer. 前記ハードコート層が、帯電防止剤および／防眩剤を含んでなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1, wherein the hard coat layer comprises an antistatic agent and / or an antiglare agent. 反射防止積層体として利用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminated body as described in any one of Claims 1-6 utilized as an antireflection laminated body. 画像表示装置に利用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminated body according to any one of claims 1 to 6, which is used in an image display device.