JP2006124712A

JP2006124712A - Radiation-sensitive resin composition for forming insulation layer, cured film obtained therefrom and method for producing multilayered wiring board using the same

Info

Publication number: JP2006124712A
Application number: JP2005326238A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Shioda; 淳塩田; Masako Suzuki; 雅子鈴木; Kazuaki Niwa; 一明丹羽; Hozumi Sato; 穂積佐藤
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2005-11-10
Filing date: 2005-11-10
Publication date: 2006-05-18

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition having good resolution and developability by an aqueous alkali solution, providing a cured product having plating solution resistance and heat resistance, and capable of forming an insulation layer having excellent adhesion to a conductive wire and hardly causing heat sagging after a developing treatment. <P>SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition for forming the insulation layer contains the following components (A) to (D): the component (A): an alkali-soluble resin; the component (B): an epoxy compound; the component (C): a compound having a group selected from the group consisting of an oxetanyl group and a thiiranyl group; and the component (D): a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、感放射線性樹脂組成物に関し、特に、積重して配置される２つの導体配線の間に介在させる絶縁層を形成するための絶縁層形成材料として好適な感放射線性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a radiation-sensitive resin composition, and in particular, a radiation-sensitive resin composition suitable as an insulating layer forming material for forming an insulating layer interposed between two conductor wires arranged in a stacked manner. About.

最近、プリント配線板の高密度化が要請され、複数の導体配線層が絶縁層を介して積重された多層配線板の需要が高まっている。この多層配線板を製造する方法として、導体配線が基材上に形成されてなる配線板の複数を、例えば、プリプレグと呼ばれる熱硬化性樹脂含浸シートを介して積重し、その状態でプレス成形することにより多層の積層構造とし、この多層積層体に、当該積層体の全体を貫通するスルーホールと呼ばれる貫通孔をドリルなどによって形成し、このスルーホールの内壁面にめっき処理を施して、積重配置された２つの導体配線を導通させるめっき層を形成することにより製造する方法（以下、積層プレス方式ともいう。）が知られている。 Recently, there has been a demand for higher density of printed wiring boards, and there is an increasing demand for multilayer wiring boards in which a plurality of conductor wiring layers are stacked via insulating layers. As a method of manufacturing this multilayer wiring board, a plurality of wiring boards in which conductor wiring is formed on a substrate are stacked, for example, via a thermosetting resin impregnated sheet called a prepreg, and in that state, press molding is performed. Thus, a multilayer structure is formed, and a through-hole called a through-hole penetrating the entire multilayer body is formed by a drill or the like in the multilayer laminate, and the inner wall surface of the through-hole is subjected to a plating process to be stacked. There is known a method of manufacturing by forming a plating layer that conducts two conductor wires arranged in an overlapping manner (hereinafter also referred to as a laminated press method).

しかし、この積層プレス方式では、配線パターンの微細化が進むに従って、複数の配線板の位置合わせが困難なこと、配線板の基材の収縮により配線の位置ずれが発生すること、微細なパターンに応じたスルーホールの小径化が困難なこと及び製造工程が煩雑になることなどの問題がある。 However, in this laminated press method, as the wiring pattern becomes finer, it is difficult to align the plurality of wiring boards, the position of the wiring is displaced due to shrinkage of the wiring board base material, and the fine pattern There is a problem that it is difficult to reduce the diameter of the corresponding through hole and the manufacturing process becomes complicated.

一方、導体配線が形成された配線板上に絶縁層を形成し、この絶縁層上に前記導体配線と導通する別の導体配線を形成する工程を繰り返すことにより、目的とする多層配線板を製造する方法（以下、積み上げ方式ともいう。）が提案されている。この積み上げ方式により多層配線板を製造する場合に、絶縁層を介して積重された２つの導体配線を導通させるためには、積層プレス方式の場合と同様にスルーホールを形成してめっき処理を施す手法のほか、一部の絶縁層のみを貫通するビアホールとも呼ばれる孔をドリルによって形成し、この孔内にめっき処理を施す手法がある。 On the other hand, a desired multilayer wiring board is manufactured by forming an insulating layer on the wiring board on which the conductor wiring is formed, and repeating the process of forming another conductor wiring electrically connected to the conductor wiring on the insulating layer. There has been proposed a method (hereinafter also referred to as a stacking method). In the case of manufacturing a multilayer wiring board by this stacking method, in order to make two conductor wirings stacked via an insulating layer conductive, through holes are formed and plating treatment is performed in the same manner as in the case of the laminated press method. In addition to the technique to be applied, there is a technique in which a hole called a via hole penetrating only a part of the insulating layer is formed by a drill, and plating is performed in the hole.

また、絶縁層におけるスルーホールまたはビアホールの形成方法として、エキシマレーザを利用する方法、加工用レジストを用いて所定のパターンを形成し、絶縁層を適宜の溶剤によりエッチングする方法などが知られている。しかしながら、これらの方法は、複数の孔を同時に形成することができなかったり、多くの工程が必要となるなど生産性の点から好ましい方法ではなく、加工精度の点からも満足し得る方法ではない。 In addition, as a method for forming a through hole or a via hole in an insulating layer, a method using an excimer laser, a method of forming a predetermined pattern using a processing resist, and etching the insulating layer with an appropriate solvent are known. . However, these methods are not preferable from the viewpoint of productivity because a plurality of holes cannot be formed at the same time or many processes are required, and are not satisfactory from the viewpoint of processing accuracy. .

かかる不都合を克服する手段として、導体配線層の間に介在させる絶縁層を形成する材料として感光性樹脂組成物を用い、フォトリソグラフィーによって当該絶縁層に貫通孔を形成する方法が提案されている。この方法によれば、複数の貫通孔を同時に形成することができるので多層配線板の製造において高い生産効率が得られ、しかも、従来の方法に比べて高い精度で貫通孔を形成することができるので、微細な配線パターンを有する多層配線板を製造する上で有利である。 As means for overcoming such inconvenience, a method has been proposed in which a photosensitive resin composition is used as a material for forming an insulating layer interposed between conductor wiring layers, and through holes are formed in the insulating layer by photolithography. According to this method, since a plurality of through holes can be formed simultaneously, high production efficiency can be obtained in the production of a multilayer wiring board, and the through holes can be formed with higher accuracy than in the conventional method. Therefore, it is advantageous in manufacturing a multilayer wiring board having a fine wiring pattern.

このような多層配線板に関して、感光性樹脂組成物よりなる絶縁層に形成され、後にめっき処理が施されて電気的な接続を達成するためのフォトビアホールと呼ばれる貫通孔を形成させる多層配線板を積み上げ方式により製造する方法が提案されている（特開平４−１４８５９０号公報参照）。また、このような絶縁層を形成するための感光性樹脂組成物として、感光性エポキシ樹脂を用いた応用例も提案されている（特開平５−２７３７５３号公報参照）。 With respect to such a multilayer wiring board, a multilayer wiring board that is formed in an insulating layer made of a photosensitive resin composition and is subsequently plated to form a through-hole called a photo via hole for achieving electrical connection. A method of manufacturing by a stacking method has been proposed (see Japanese Patent Laid-Open No. 4-148590). In addition, an application example using a photosensitive epoxy resin as a photosensitive resin composition for forming such an insulating layer has been proposed (see JP-A-5-273753).

このように、絶縁層の形成に感光性樹脂組成物を用い、積み上げ方式により多層配線板を製造する方法によれば、プレス処理を行うことなく多層の積層構造を得ることができると共に、フォトリソグラフィーにより十分に小径のフォトビアホールを高い精度で形成することができるため、微細な配線パターンを有する多層配線板を好適に製造することができる。 As described above, according to the method for producing a multilayer wiring board by using a photosensitive resin composition for forming an insulating layer and by a stacking method, a multilayer laminated structure can be obtained without performing a press treatment, and photolithography. Therefore, a sufficiently small diameter photo via hole can be formed with high accuracy, and thus a multilayer wiring board having a fine wiring pattern can be suitably manufactured.

しかして、積み上げ方式により多層配線板を製造する場合の絶縁層の形成に用いられる感光性樹脂組成物には、以下のような性能が要求される。
（１）得られる絶縁層が優れた解像性を有していること。これにより、微細なパターンに応じた小径のフォトビアホールを高い精度で形成することができる。
（２）得られる絶縁層が、導体配線の形成に使用される物質、例えば無電解銅めっき液に対して十分に高い耐性（耐めっき液性）を有すること。
（３）得られる絶縁層は、その表面に、例えば無電解銅めっき処理により十分な密着性で導体配線を形成し得るものであること。ここに、銅めっきによる導体配線の密着性を向上させるためには、当該絶縁層の表面が粗面化されることが有効であり、粗面化された表面を有する絶縁層は、そのアンカー効果により、導体配線の絶縁層に対する密着性が大きなものとなる。
（４）フォトビアホールを形成するための現像液としてアルカリ水溶液の使用が可能であること。アルカリ水溶液を現像液として使用できれば、人体や環境に与える悪影響を抑制することができる。
（５）得られる絶縁層は、十分な電気的絶縁性を有するものであって高い信頼性が得られ、かつ高い耐熱性を有すること。これにより、小型軽量化が進められている電子機器の製造に有利に適用することが可能となる。 Therefore, the following performance is required for the photosensitive resin composition used for forming an insulating layer when a multilayer wiring board is manufactured by a stacking method.
(1) The obtained insulating layer has excellent resolution. Thereby, a small diameter photo via hole corresponding to a fine pattern can be formed with high accuracy.
(2) The obtained insulating layer has sufficiently high resistance (plating solution resistance) to a substance used for forming the conductor wiring, for example, an electroless copper plating solution.
(3) The insulating layer obtained should be capable of forming conductor wiring on its surface with sufficient adhesion by, for example, electroless copper plating. Here, in order to improve the adhesion of the conductor wiring by copper plating, it is effective that the surface of the insulating layer is roughened, and the insulating layer having the roughened surface has its anchor effect. As a result, the adhesion of the conductor wiring to the insulating layer is increased.
(4) An alkaline aqueous solution can be used as a developing solution for forming a photo via hole. If alkaline aqueous solution can be used as a developing solution, the bad influence on a human body and an environment can be suppressed.
(5) The obtained insulating layer has sufficient electrical insulation, high reliability is obtained, and high heat resistance. This makes it possible to advantageously apply to the manufacture of electronic devices that are being reduced in size and weight.

本発明の目的は、例えば小径のフォトビアホールを高い精度で形成することができる優れた解像性を有し、アルカリ水溶液により現像することができ、耐めっき液性および耐熱性が高く、しかも導体配線が優れた密着性で形成される絶縁層を形成することのできる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。 The object of the present invention is, for example, excellent resolution capable of forming a small-diameter photo via hole with high accuracy, development with an alkaline aqueous solution, high plating solution resistance and heat resistance, and a conductor. An object of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming an insulating layer in which wiring is formed with excellent adhesion.

上記の目的を達成するために、本発明は、下記のＡ成分〜Ｃ成分を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
〔Ａ成分〕アルカリ可溶性樹脂
〔Ｂ成分〕エポキシ化合物
〔Ｃ成分〕分子内にオキセタニル基及びチイラニル基からなる群から選ばれる基を有する化合物
本発明において、感放射線とは、放射線に感応して硬化し得る性質をいう。放射線には、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線などを包含する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a radiation-sensitive resin composition containing the following components A to C.
[Component A] Alkali-soluble resin [Component B] Epoxy compound [Component C] Compound having a group selected from the group consisting of oxetanyl group and thiylyl group in the molecule In the present invention, radiation sensitive means curing in response to radiation. The nature that can be done. Radiation includes visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, X-rays, electron beams, and the like.

本発明に係る感放射線性樹脂組成物は、小径のフォトビアホールを高い精度で形成することができる優れた解像性を有し、アルカリ水溶液により現像することができ、耐めっき液性および導体配線の密着性に優れた絶縁層を形成することができる。特に現像処理後の絶縁層の熱ダレが起こりがたいので高精度のパターンが得られる。従って当該組成物を使用することにより、信頼性の高い多層配線板を効率よく製造することができる。 The radiation-sensitive resin composition according to the present invention has excellent resolution capable of forming a small-diameter photo via hole with high accuracy, can be developed with an alkaline aqueous solution, has a plating solution resistance and a conductor wiring. An insulating layer having excellent adhesion can be formed. In particular, since heat sagging of the insulating layer after development processing is unlikely to occur, a highly accurate pattern can be obtained. Therefore, a highly reliable multilayer wiring board can be efficiently manufactured by using the composition.

以下、本発明の感放射線性樹脂組成物について詳細に説明する。
〔Ａ成分〕
このＡ成分のアルカリ可溶性樹脂として代表的なものとしては、例えば、ゲルパーミエイションクロマトクラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が２００以上、好ましくは２，０００以上であるポリビニルフェノール、および同様のポリスチレン換算の重量平均分子量が２００以上、好ましくは２０００以上であるポリビニルフェノール以外のフェノール樹脂（以下、特定のフェノール樹脂という。）を挙げることができる。 Hereinafter, the radiation sensitive resin composition of the present invention will be described in detail.
[Component A]
A typical example of the alkali-soluble resin of component A is, for example, polyvinylphenol having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 200 or more, preferably 2,000 or more as measured by gel permeation chromatography (GPC). And a phenol resin other than polyvinylphenol (hereinafter referred to as a specific phenol resin) having a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 200 or more, preferably 2000 or more.

Ａ成分として用いられるポリビニルフェノールとしては、ビニルフェノール単量体を常法により重合させて得られるもの、あるいはフェノール性水酸基を保護基により保護した状態で重合した後、当該保護基を除去することによって得られるものなど、各種の製法により得られるものを挙げることができる。また、ビニルフェノール単量体に各種の置換基が導入された単量体、例えばビニルクレゾール、２，４−ジメチルビニルフェノール、フッ素化ビニルフェノール、クロル化ビニルフェノール、臭素化ビニルフェノールなどから得られる各種の置換ポリビニルフェノールも使用することができる。 The polyvinylphenol used as component A is obtained by polymerizing a vinylphenol monomer by a conventional method, or after polymerizing in a state where a phenolic hydroxyl group is protected with a protecting group, and then removing the protecting group. The thing obtained by various manufacturing methods, such as what is obtained, can be mentioned. Further, it is obtained from a monomer in which various substituents are introduced into the vinylphenol monomer, such as vinylcresol, 2,4-dimethylvinylphenol, fluorinated vinylphenol, chlorinated vinylphenol, brominated vinylphenol and the like. Various substituted polyvinylphenols can also be used.

このポリビニルフェノールの分子量は特に制限されるものではないが、得られる絶縁層における解像性、現像性、耐めっき液性などの観点から、重量平均分子量が２０００以上、特に２０００〜２００００の範囲のものが好ましい。 The molecular weight of the polyvinylphenol is not particularly limited, but the weight average molecular weight is 2000 or more, particularly 2000 to 20000 from the viewpoint of resolution, developability, plating solution resistance and the like in the obtained insulating layer. Those are preferred.

Ａ成分として用いられる特定のフェノール樹脂の代表例としては、ノボラック樹脂を挙げることができる。 A novolak resin can be mentioned as a typical example of the specific phenol resin used as A component.

ノボラック樹脂は、例えばフェノール化合物とアルデヒド化合物とを、好ましくはフェノール化合物１モルに対してアルデヒド化合物０．７〜１モルの割合で酸触媒を用いて付加縮合させることにより得られる。ここに、フェノール化合物の具体例としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、３，６−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、フロログリシノール、ヒドロキシジフェニル、ビスフェノールＡ、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、β−ナフトールなどを挙げることができる。 The novolak resin can be obtained, for example, by subjecting a phenol compound and an aldehyde compound to addition condensation using an acid catalyst at a ratio of 0.7 to 1 mol of the aldehyde compound, preferably 1 mol of the phenol compound. Specific examples of the phenol compound include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, o-butylphenol, m-butylphenol, p- Butylphenol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, 3,6-xylenol, 2,3,5- Trimethylphenol, 3,4,5-trimethylphenol, p-phenylphenol, resorcinol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, phloroglicinol, hydroxydiphenyl, bisphenol A, gallic acid, gallic acid ester, α-naphthol, β- Naf And tall.

アルデヒド化合物の具体例としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒドなどを挙げることができる。酸触媒としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、蓚酸、酢酸などが使用される。
また、特定フェノール樹脂として好ましいものは、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールから選ばれるフェノール化合物とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドから選ばれるアルデヒド化合物とを反応させて得られるものである。 Specific examples of the aldehyde compound include formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, benzaldehyde, nitrobenzaldehyde, acetaldehyde and the like. As the acid catalyst, for example, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, formic acid, oxalic acid, acetic acid and the like are used.
Moreover, what is preferable as a specific phenol resin is a thing obtained by making the phenol compound chosen from phenol, o-cresol, m-cresol, and p-cresol react with the aldehyde compound chosen from formaldehyde and paraformaldehyde.

Ａ成分として用いられる特定のフェノール樹脂は、得られる絶縁層の解像性、現像性、耐めっき液性などの観点から、重量平均分子量が２００以上であることが必要であり、特に２００〜２００００の範囲ものが好ましい。 The specific phenol resin used as the component A needs to have a weight average molecular weight of 200 or more, particularly 200 to 20000, from the viewpoints of resolution, developability, plating solution resistance, and the like of the obtained insulating layer. Those in the range are preferred.

本発明において、Ａ成分であるアルカリ可溶性樹脂は、前記のポリビニルフェノールまたは特定のフェノール樹脂の１種を単独で用いてもよいし、あるいは２種以上を併用することもできるが、特にポリビニルフェノールと特定のフェノール樹脂とを併用することが好ましい。
本発明の組成物において、Ａ成分は、得られる絶縁層が十分なアルカリ可溶性を示す含有割合で使用される。その含有割合は、通常、Ａ成分〜Ｃ成分の合計量に基づいて、３０〜９５重量％の範囲である。含有率が少なすぎると得られる組成物による薄膜がアルカリ水溶液による十分な現像性を有しないものとなり、一方、多すぎると相対的に他の成分の割合が制限される結果、得られる絶縁層が靱性、耐熱性および耐めっき液性が不十分となり不都合である。好ましい含有量は、４０〜９０重量％であり、特に、実用上５０〜８５重量％が好ましい。 In the present invention, the alkali-soluble resin as the component A may be one of the above-mentioned polyvinylphenol or a specific phenol resin, or may be used in combination of two or more. It is preferable to use a specific phenol resin in combination.
In the composition of the present invention, the component A is used in a content ratio at which the obtained insulating layer exhibits sufficient alkali solubility. The content ratio is usually in the range of 30 to 95% by weight based on the total amount of the A component to the C component. If the content is too low, the resulting thin film by the composition does not have sufficient developability with an alkaline aqueous solution, while if it is too high, the proportion of other components is relatively limited, resulting in an insulating layer obtained. Inadequate toughness, heat resistance and plating solution resistance are disadvantageous. A preferable content is 40 to 90% by weight, and 50 to 85% by weight is particularly preferable for practical use.

〔Ｂ成分〕
Ｂ成分のエポキシ化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヒキシルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレート並びにこれらの重合体またはこれらと他の重合性重結合を有する化合物との共重合体、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂，クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等に代表されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂類や、グリシジルエステル型エポキシ樹脂類、芳香族グルシジルアミン型エポキシ樹脂類、脂環式エポキシ樹脂類、複素環式エポキシ樹脂類、液状ゴム変性エポキシ樹脂類、エポキシ基により化学的に変性処理された架橋重合体（以下、該架橋重合体をエポキシ変性粒子状ゴムという）等のオキシラン環含有化合物等が挙げられ、好ましくはエポキシ変性粒子状ゴムである。 [B component]
Examples of the B component epoxy compound include glycidyl acrylate, 3,4-epoxy cyclohexyl acrylate, 3,4-epoxy cyclohexyl methacrylate, and polymers thereof or compounds having other polymerizable heavy bonds. Glycidyl ether type epoxy resins represented by polymers, bisphenol type epoxy resins, novolak type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, aromatic glycidyl amine type epoxy resins, alicyclic rings Epoxies such as epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, liquid rubber-modified epoxy resins, and cross-linked polymers chemically modified with epoxy groups (hereinafter the cross-linked polymer is referred to as epoxy-modified particulate rubber) Ring-containing compounds, etc. Ku is an epoxy-modified particulate rubber.

このエポキシ変性粒子状ゴムを添加すると、後述の、本発明の組成物から得られる絶縁層の粗面化処理工程において絶縁層表面が十分に粗面化処理されたものとなり、当該絶縁層上に形成される導体配線の密着性が大きなものとなる。 When this epoxy-modified particulate rubber is added, the surface of the insulating layer is sufficiently roughened in the step of roughening the insulating layer obtained from the composition of the present invention, which will be described later, on the insulating layer. The adhesion of the formed conductor wiring is increased.

このＢ成分とされるエポキシ変性粒子状ゴムは、エポキシ基と反応する官能基、例えばカルボキシル基を有する粒子状ゴム材を、適宜のエポキシ化合物によって化学的に変性処理することによって得られる、平均粒子径が０．０１〜２０μｍ、好ましくは０．０１〜５．０μｍのものである。このエポキシ変性粒子状ゴムの詳細は、例えば特開平４−１５８３０号公報に記載されている。 The epoxy-modified particulate rubber used as the component B is an average particle obtained by chemically modifying a particulate rubber material having a functional group that reacts with an epoxy group, such as a carboxyl group, with an appropriate epoxy compound. The diameter is 0.01 to 20 μm, preferably 0.01 to 5.0 μm. Details of the epoxy-modified particulate rubber are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-15830.

Ｂ成分のエポキシ変性粒子状ゴムを得るための粒子状ゴム材は、例えば下記（イ）〜（ハ）の単量体を含有する単量体組成物を共重合させて得られる、カルボキシル基を有する架橋重合体よりなるものである。
（イ）１分子内に複数の重合性二重結合を有する多官能単量体
（ロ）多官能単量体（イ）と共重合可能な、カルボキシル基を有する単量体（以下「カルボキシル基含有単量体」という。）
（ハ）多官能単量体（イ）と共重合可能な、上記（ロ）以外の共重合性単量体
１分子内に複数の重合性二重結合を有する多官能単量体（イ）としては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼンなどを挙げることができる。これらの多官能重合性単量体は、その１種を単独であるいは２種以上を併用することができる。 The particulate rubber material for obtaining the epoxy-modified particulate rubber of component B has, for example, a carboxyl group obtained by copolymerizing a monomer composition containing the monomers (a) to (c) below. It consists of a crosslinked polymer.
(A) a polyfunctional monomer having a plurality of polymerizable double bonds in one molecule (b) a monomer having a carboxyl group copolymerizable with the polyfunctional monomer (a) (hereinafter referred to as “carboxyl group”) Containing monomer ")
(C) Copolymerizable monomer other than the above (b) that can be copolymerized with the polyfunctional monomer (a) Polyfunctional monomer (a) having a plurality of polymerizable double bonds in one molecule For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( Mention may be made of (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, divinylbenzene, trivinylbenzene and the like. These polyfunctional polymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

多官能単量体（イ）は、粒子状ゴム材を得るための単量体組成物の全体に対して０．１〜２０モル％、好ましくは０．５〜１０モル％の割合で用いられる。この割合が０．１モル％未満の場合には、組成物において粒子状ゴムの形状が十分に保持されないために絶縁層の表面の粗面化を十分に達成することができず、また絶縁層の現像性が劣ったものとなる。一方、この割合が２０モル％を超える場合には、粗面化処理において確実に溶解しないために粗面化を十分に達成することができず、また得られる粒子状ゴムの他の成分に対する親和性が低くなって得られる組成物の加工性が悪化し、光硬化処理後の絶縁層の強度が著しく低下し、形成されるめっき層の密着性が不十分なものとなる。 The polyfunctional monomer (a) is used in a proportion of 0.1 to 20 mol%, preferably 0.5 to 10 mol%, based on the whole monomer composition for obtaining a particulate rubber material. . When this proportion is less than 0.1 mol%, the shape of the particulate rubber is not sufficiently maintained in the composition, and thus the surface of the insulating layer cannot be sufficiently roughened. The developability is inferior. On the other hand, when this ratio exceeds 20 mol%, the surface roughening treatment is not reliably dissolved, so that the surface roughening cannot be sufficiently achieved, and the obtained particulate rubber has an affinity for other components. The processability of the composition obtained by lowering the properties deteriorates, the strength of the insulating layer after the photocuring treatment is remarkably lowered, and the adhesion of the formed plating layer becomes insufficient.

カルボキシル基含有単量体（ロ）の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、テトラコン酸；コハク酸、フマル酸などのジカルボン酸と付加重合性基を有する不飽和アルコールとのハーフエステルなどを挙げることができる。 Specific examples of the carboxyl group-containing monomer (b) include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, tetraconic acid; dicarboxylic acids such as succinic acid and fumaric acid, and non-additive polymerizable groups. And a half ester with a saturated alcohol.

これらのカルボキシル基含有単量体（ロ）は、得られる組成物の具体的な用途に応じて、任意のものを１種または２種以上を選択して用いることができる。 These carboxyl group-containing monomers (b) can be used by selecting one or more of them depending on the specific use of the resulting composition.

上記のカルボキシル基含有単量体（ロ）は、粒子状ゴム材を得るための単量体組成物全体に対して０．１〜３０モル％、好ましくは０．５〜２０モル％の割合で用いられる。この割合が０．１モル％未満の場合には、エポキシ変性処理によって得られるエポキシ変性粒子状ゴムが表面エポキシ基の少ないものとなるため、当該エポキシ変性粒子状ゴムの組成物に対する親和性が低くて組成物中に均一に分散させることが困難となり、その結果良好な粗面化を達成することができず、また得られる絶縁層は靭性および解像性が乏しいものとなり、一方、この割合が３０モル％を超える場合には、得られる絶縁層が硬く脆いものとなり、いずれも好ましくない。 Said carboxyl group containing monomer (b) is 0.1-30 mol% with respect to the whole monomer composition for obtaining a particulate rubber material, Preferably it is a ratio of 0.5-20 mol%. Used. When this proportion is less than 0.1 mol%, the epoxy-modified particulate rubber obtained by the epoxy modification treatment has a small amount of surface epoxy groups, and therefore the affinity for the composition of the epoxy-modified particulate rubber is low. Therefore, it is difficult to uniformly disperse in the composition, and as a result, good roughening cannot be achieved, and the obtained insulating layer has poor toughness and resolution, while this ratio is When it exceeds 30 mol%, the obtained insulating layer becomes hard and brittle, and neither is preferable.

上記の多官能単量体（イ）およびカルボキシル基含有単量体（ロ）と共に用いられる共重合性単量体（ハ）としては、目的に応じて種々のラジカル重合性単量体を用いることができる。 As the copolymerizable monomer (c) used together with the polyfunctional monomer (a) and the carboxyl group-containing monomer (b), various radical polymerizable monomers may be used depending on the purpose. Can do.

この共重合性単量体としては、例えばブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレンなどを挙げることができ、更にスチレン、αーメチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、（メタ）アクリルアミド、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎープロピル（メタ）アクリレート、２ーエチルヘキシル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。 Examples of the copolymerizable monomer include butadiene, isoprene, dimethylbutadiene, chloroprene, and the like. Furthermore, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, (meth) acrylamide, methyl ( Mention may be made of (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like.

粒子状ゴム材は、ラジカル開始剤を用いた乳化重合法または懸濁重合法によって、直接的に粒子状共重合体として製造することができるが、粒子のサイズおよびその均一性が高いことから乳化重合法を用いるのが好適である。 The particulate rubber material can be directly produced as a particulate copolymer by emulsion polymerization or suspension polymerization using a radical initiator, but it is emulsified because of its high particle size and uniformity. It is preferred to use a polymerization method.

乳化重合法による場合には、上記の多官能単量体（イ）と、カルボキシル基含有単量体（ロ）と、共重合性単量体（ハ）とをラジカル乳化重合し、公知の方法に従って、塩析、洗浄、乾燥すればよい。この場合に、各単量体、ラジカル開始剤などの重合薬剤は、反応開始時に全量を一括して添加してもよいし、任意に分けて順次に添加してもよい。重合反応は温度０〜８０℃において酸素を除去した反応器中で行われるが、反応の途中で温度や攪拌などの操作条件を任意に変更することができる。重合方式は連続式、回分式のいずれでもよい。 In the case of the emulsion polymerization method, the above-mentioned polyfunctional monomer (i), the carboxyl group-containing monomer (b), and the copolymerizable monomer (c) are subjected to radical emulsion polymerization, and a known method According to the following, salting out, washing and drying may be performed. In this case, polymerization monomers such as monomers and radical initiators may be added all at once at the start of the reaction, or may be added separately in any order. The polymerization reaction is performed in a reactor from which oxygen is removed at a temperature of 0 to 80 ° C., but operating conditions such as temperature and stirring can be arbitrarily changed during the reaction. The polymerization method may be either a continuous type or a batch type.

しかし、電子部品の層間絶縁層を形成するための組成物の粒子状ゴムとしては、例えば特開平４−１５８３０号公報に示されている方法によって得られる、イオン含有割合の低い、具体的には、ナトリウム、カリウム等の金属イオン含有量が２００ｐｐｍ以下の粒子状ゴムを用いることが好ましく、これにより、良好な電気絶縁性を有する絶縁層を形成することができる。 However, as the particulate rubber of the composition for forming the interlayer insulating layer of the electronic component, for example, obtained by the method shown in JP-A-4-15830, the ion content ratio is low, specifically It is preferable to use a particulate rubber having a metal ion content of 200 ppm or less such as sodium and potassium, whereby an insulating layer having good electrical insulation can be formed.

上記の乳化重合法において、ラジカル開始剤としては、ベンゾイルペルオキシド、クメンハイドロペルオキシド、パラメンタンハイドロペルオキシド、ラウロイルペルオキシドなどの有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルで代表されるジアゾ化合物、過硫酸カリウムで代表される無機化合物、有機化合物−硫酸鉄の組合せで代表されるレドックス系触媒などが用いられる。 In the above emulsion polymerization method, the radical initiator includes organic peroxides such as benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, paramentane hydroperoxide, lauroyl peroxide, diazo compounds represented by azobisisobutyronitrile, and potassium persulfate. And redox catalysts represented by a combination of an organic compound and iron sulfate.

上記のようにして得られる粒子状ゴム材は、その表面にカルボキシル基が存在するものであり、このカルボキシル基がエポキシ化合物によってエポキシ化されることにより、本発明のＢ成分として用いられるエポキシ変性された粒子状ゴムが得られる。 The particulate rubber material obtained as described above has a carboxyl group on its surface, and this carboxyl group is epoxidized with an epoxy compound, so that it is epoxy-modified used as the B component of the present invention. Particulate rubber is obtained.

エポキシ変性のためには、例えば粒子の表面にカルボキシル基を有する粒子状ゴム材を、１分子内に複数のエポキシ基を含有するエポキシ化合物、例えばエポキシ樹脂と加熱して反応させることにより、粒子状ゴム材の粒子表面に存在するカルボキシル基をエポキシ基に変換することができる。具体的には、例えば、カルボキシル基を有する粒子状ゴム材とエポキシ樹脂とを、例えば臭化テトラブチルアンモニウムなどの触媒を用いて、温度４０〜１００℃の反応溶媒中で反応させればよい。ここに反応溶媒としては、当該反応に関与せず、反応系を均一に保つことのできるものであれば特に限定されず、用いるエポキシ化合物が液状である場合には反応溶媒は不要である。 For the epoxy modification, for example, a particulate rubber material having a carboxyl group on the surface of the particles is heated and reacted with an epoxy compound containing a plurality of epoxy groups in one molecule, for example, an epoxy resin. Carboxyl groups present on the particle surface of the rubber material can be converted into epoxy groups. Specifically, for example, a particulate rubber material having a carboxyl group and an epoxy resin may be reacted in a reaction solvent at a temperature of 40 to 100 ° C. using a catalyst such as tetrabutylammonium bromide. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction and can keep the reaction system uniform. When the epoxy compound to be used is liquid, the reaction solvent is unnecessary.

粒子状ゴム材のエポキシ化合物による処理においては、粒子状ゴム材をエポキシ化合物と混合し熱反応させればよい。この反応における粒子状ゴム材とエポキシ化合物の割合は、それぞれ１０〜３０重量％および９０〜７０重量％であることが好ましい。粒子状ゴム材の割合が３０重量％を超える場合には、エポキシ変性の程度が低くなるために粒子状ゴムを組成物中に均一に分散させることが困難となる。ここに使用されるエポキシ化合物としてはエポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂は特に制限されるものではなく、ビスフェノール型エポキシ樹脂、（クレゾール）ノボラック型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂などの各種エポキシ樹脂を使用することができ、臭素化エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂などの各種変性エポキシ樹脂を使用することもできる。 In the treatment of the particulate rubber material with the epoxy compound, the particulate rubber material may be mixed with the epoxy compound and thermally reacted. The proportion of the particulate rubber material and the epoxy compound in this reaction is preferably 10 to 30% by weight and 90 to 70% by weight, respectively. When the proportion of the particulate rubber material exceeds 30% by weight, it becomes difficult to uniformly disperse the particulate rubber in the composition because the degree of epoxy modification is low. An epoxy resin can be preferably used as the epoxy compound used here. The epoxy resin is not particularly limited, and various epoxy resins such as bisphenol type epoxy resin, (cresol) novolac type epoxy resin, and alicyclic type epoxy resin can be used, brominated epoxy resin, urethane modified epoxy resin. Various modified epoxy resins such as can also be used.

ここに、エポキシ化合物の使用割合は、組成物の全体における１５重量％以下であることが好ましく、１５重量％を超える場合には、得られる絶縁層のアルカリ現像性が低下し、良好なプロファイルを得ることが困難となる。 Here, the proportion of the epoxy compound used is preferably 15% by weight or less in the entire composition, and when it exceeds 15% by weight, the alkali developability of the resulting insulating layer is lowered and a good profile is obtained. It becomes difficult to obtain.

また、粒子状ゴム材の表面に存在するカルボキシル基の全部がエポキシ基によって変性されることは必要ではなく、その一部のみが変性され、他のカルボキシル基はそのままの状態で残存するものであってもよく、これにより良好な現像性が得られる可能性がある。 Further, it is not necessary that all of the carboxyl groups present on the surface of the particulate rubber material are modified with an epoxy group, only a part of the carboxyl groups is modified, and other carboxyl groups remain as they are. In this case, good developability may be obtained.

上記のエポキシ変性粒子状ゴムよりなるＢ成分は、本発明の組成物において均一に分散された状態で存在し、当該組成物より形成される絶縁層の表面を粗面化処理する工程において、強酸化性の粗面化処理液によって選択的に反応されて溶解し、これにより、絶縁層の表面の粗面化が達成される。 The component B comprising the epoxy-modified particulate rubber is present in a state of being uniformly dispersed in the composition of the present invention. In the step of roughening the surface of the insulating layer formed from the composition, the B component is strong. The surface of the insulating layer is roughened by selectively reacting and dissolving with the oxidizing surface roughening solution.

すなわち、当該粒子状ゴムは、エポキシ変性されていることにより、他の成分に対して良好な親和性を有するために本発明の当該組成物中に十分均一に分散された状態で存在するようになる。そして、粗面化処理において、強酸化性を有する粗面化処理液が絶縁層の表面に存在するエポキシ変性粒子状ゴムに接触することにより、当該エポキシ変性粒子状ゴムを構成する共重合体の二重結合が切断されて当該共重合体が当該粗面化処理液に溶解する結果、当該エポキシ変性粒子状ゴムが絶縁層から消失しあるいは除去され、これにより絶縁層の表面に微小な凹凸が形成されて粗面化される。 That is, the particulate rubber is epoxy-modified, so that it has a good affinity for other components so that it exists in a sufficiently uniformly dispersed state in the composition of the present invention. Become. Then, in the roughening treatment, the roughening treatment liquid having strong oxidation property comes into contact with the epoxy-modified particulate rubber present on the surface of the insulating layer, so that the copolymer constituting the epoxy-modified particulate rubber As a result of breaking the double bond and dissolving the copolymer in the roughening treatment liquid, the epoxy-modified particulate rubber disappears or is removed from the insulating layer, thereby causing minute irregularities on the surface of the insulating layer. Formed and roughened.

これに対し、エポキシ変性されていない粒子状ゴムを用いると、組成物において均一な分散状態が得られないことから、結局、絶縁層の粗面化処理において、その粗面化状態が均一とならず、ムラが生じた状態となる。 On the other hand, if a particulate rubber that is not epoxy-modified is used, a uniform dispersion state cannot be obtained in the composition. Therefore, in the roughening treatment of the insulating layer, the roughened state must be uniform. Without any unevenness.

なお、粒子状ゴムのエポキシ変性に用いられるエポキシ樹脂などのエポキシ化合物を単独成分として使用した場合にも、粒子状ゴムが十分均一に分散させることができない。 Even when an epoxy compound such as an epoxy resin used for epoxy modification of particulate rubber is used as a single component, the particulate rubber cannot be dispersed sufficiently uniformly.

また、本発明の組成物から得られる絶縁層の内部においては、上記のエポキシ変性粒子状ゴムが均一に分散された状態で存在することから、当該絶縁層において露光や熱処理によって生じる収縮応力、基材との熱膨張係数の差によって生じる熱応力などが緩和され、その結果、多層配線板の寸法精度および絶縁層として高い信頼性が得られる。さらに、エポキシ変性粒子状ゴムを含有する組成物によれば、得られる絶縁層の靱性が向上し、クラックの発生を防止することができる。 Further, in the insulating layer obtained from the composition of the present invention, the epoxy-modified particulate rubber is present in a uniformly dispersed state. Thermal stress caused by the difference in thermal expansion coefficient from the material is alleviated, and as a result, the dimensional accuracy of the multilayer wiring board and high reliability as an insulating layer can be obtained. Furthermore, according to the composition containing the epoxy-modified particulate rubber, the toughness of the insulating layer obtained can be improved and the occurrence of cracks can be prevented.

本発明の組成物において、Ｂ成分の割合は、Ａ成分〜Ｃ成分の合計量に対して通常１〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量％で、さらに好ましくは、１０〜３０重量％である。この割合が少なすぎると、十分な粗面化処理を達成することができず、得られる絶縁層が靱性、耐熱性および耐めっき液性が不十分なものとなるおそれがあり、一方、この割合が多すぎると、得られる組成物による薄膜が十分な現像性を有しないものとなるおそれがある。 In the composition of the present invention, the proportion of component B is usually 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight, based on the total amount of component A to component C. is there. If this ratio is too small, sufficient roughening treatment cannot be achieved, and the resulting insulating layer may have insufficient toughness, heat resistance and plating solution resistance, while this ratio When there is too much, there exists a possibility that the thin film by the composition obtained may not have sufficient developability.

〔Ｃ成分〕
本発明におけるＣ成分は、１分子内にオキセタニル基及びチイラニル基から選ばれる基を有するオキセタンまたはチイラン化合物である。代表的なものは、分子内にオキセタニル基を有する化合物及びチイラニル基を有する化合物である。 [C component]
The C component in the present invention is an oxetane or thiirane compound having a group selected from an oxetanyl group and a thiylyl group in one molecule. A typical one is a compound having an oxetanyl group and a compound having a thiranyl group in the molecule.

オキセタニル基含有化合物
オキセタニル基を分子内に１個以上有する化合物の例としては、下記の式（Ａ）、式（Ｂ）および式（Ｃ）で示される化合物を挙げることができる。 Oxetanyl group-containing compound Examples of the compound having one or more oxetanyl groups in the molecule include compounds represented by the following formulas (A), (B) and (C).

〔式（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の各々において、
Ｒ¹はメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基であり、
Ｒ²は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基であり、
Ｒ³は、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基等のアルキル基；フェニル基、キシリル基等のアリール基；式：

[In each of the formulas (A), (B) and (C),
R ¹ is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group;
R ² is an alkylene group such as methylene group, ethylene group, propylene group,
R ³ represents an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a hexyl group; an aryl group such as a phenyl group or a xylyl group;

（ここで、ｘは０〜５０の整数である）
で表わされるジメチルシロキサン残基、Ｒ²に関して例示したと同様のアルキレン基、フェニレン基、または下記の式（１）〜（５）で表わされる基を示し、

(Where x is an integer from 0 to 50)
A dimethylsiloxane residue represented by formula (1), an alkylene group similar to that exemplified for R ² , a phenylene group, or a group represented by the following formulas (1) to (5):

（ここでｙは１〜５０の整数である）、

(Where y is an integer from 1 to 50),

（ここで、ｘは単結合または−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、もしくは−ＳＯ₂−で示される２価の基である）、

(Where x is a single bond or a divalent group represented by —CH ₂ —, —C (CH ₃ ) ₂ —, —C (CF ₃ ) ₂ —, or —SO ₂ —),

ｎは、Ｒ³
の価数に等しく、１〜４の整数である。〕
これらの式（Ａ）〜式（Ｃ）で表わされる化合物の具体例としては、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン（商品名「ＸＤＯ」東亜合成社製）、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕メタン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕エーテル、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕プロパン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕スルホン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ケトン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ヘキサフロロプロパン、トリ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、テトラ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、並びに下記の化学式（Ｄ）〜（Ｈ）で示される化合物を挙げることができる。

n is R ³
Is an integer of 1 to 4. ]
Specific examples of the compounds represented by these formulas (A) to (C) include bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene (trade name “XDO” manufactured by Toagosei Co., Ltd.), bis [ (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl-phenyl] methane, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl-phenyl] ether, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl-phenyl] Propane, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl-phenyl] sulfone, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl-phenyl] ketone, bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) Methyl-phenyl] hexafluoropropane, tri [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] be Zen, can be mentioned tetra [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, and compounds represented by the following chemical formula (D) ~ (H).

以上の他、高分子量の多価オキセタン環を有する化合物も用いることができ、その具体例としては、例えばオキセタンオリゴマー（商品名「Ｏｌｉｇｏ−ＯＸＴ」東亞合成社製）並びに下記の化学式（Ｉ）〜（Ｋ）で示される化合物などを挙げることができる。

In addition to the above, a compound having a high molecular weight polyvalent oxetane ring can also be used. Specific examples thereof include oxetane oligomers (trade name “Oligo-OXT” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the following chemical formulas (I) to (I): Examples thereof include compounds represented by (K).

〔これらの式中、ｐ、ｑおよびｓは、１〜１０，０００の整数である。〕
チイラニル基含有化合物
チイラニル基含有化合物は、分子中にチイラニル基を１個以上有する化合物である。該化合物は分子中にチイラニル基以外の官能基を有していてもよい。また、その分子量は、特に限定されないが、通常、７０〜２０，０００の範囲である。

[In these formulas, p, q and s are integers of 1 to 10,000. ]
Thianyl group-containing compound A thiranyl group-containing compound is a compound having one or more thiranyl groups in the molecule. The compound may have a functional group other than thiranyl group in the molecule. The molecular weight is not particularly limited, but is usually in the range of 70 to 20,000.

チイラニル基含有化合物は、専ら、オキシラン含有化合物中のオキシラン環の酸素原子を硫黄原子に置換することにより合成されるが、その方法は、例えば、 J.M.Charlesworth J. Polym. Sc. Polym.Phys. 17 329 (1979)に示される方法等によりチオシアン酸塩を用いて、また、 R. D. Schuetz et al., J. Org. Chem. 26 3467 (1961) に示される方法などによりチオ尿素を用いて合成することができる。また、環状カーボネートからの合成方法も、S.Seales et al. J. Org. Chem., 27 2832 (1962) 等に示されている。 A thiranyl group-containing compound is synthesized exclusively by substituting the oxygen atom of the oxirane ring in the oxirane-containing compound with a sulfur atom, and the method is described in, for example, JMCharlesworth J. Polym. Sc. Polym. 329 (1979), etc. using thiocyanate, and RD Schuetz et al., J. Org. Chem. 26 3467 (1961), etc. Can do. In addition, a synthesis method from a cyclic carbonate is also shown in S.Seales et al. J. Org. Chem., 27 2832 (1962) and the like.

本発明に用いられるチイラン化合物の例として、M. Sander, Chem. Rev. 66 297 (1966)中の Table-Iに示されているチイラン化合物および、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレート、並びにこれらの重合体または他の重合性２結合を有する化合物と共重合体、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等に代表されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂類や、グリシジルエステル型エポキシ樹脂類、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂類、脂環式エポキシ樹脂類、複素環式エポキシ樹脂類、液状ゴム変性エポキシ樹脂類等のオキシラン環含有化合物のオキシラン環中の酸素原子を硫黄原子に置換したチイラン化合物を挙げることができる。良好な架橋構造を得るためには、これらのチイラン化合物うち分子中に２個以上のチイラニル基を有する化合物が好ましく用いられる。中でも特に好ましいチイラニル基含有化合物の例としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等に代表されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂類や、グリシジルエステル型エポキシ樹脂類、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂類、オキシラン環含有化合物のオキシラン環中の酸素原子を硫黄原子に置換したチイラン化合物が挙げられる。 Examples of thiirane compounds used in the present invention include thiirane compounds shown in Table-I in M. Sander, Chem. Rev. 66 297 (1966) and, for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 3,4- Representative of epoxy cyclohexyl acrylate, 3,4-epoxy cyclohexyl methacrylate, and their polymers or other compounds and copolymers having two polymerizable bonds, bisphenol type epoxy resin, novolac type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, etc. Oxirane rings such as glycidyl ether type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, aromatic glycidyl amine type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, and liquid rubber-modified epoxy resins Oxygen in oxirane ring of contained compound Mention may be made of thiirane compounds in which the atoms are replaced by sulfur atoms. In order to obtain a good crosslinked structure, a compound having two or more thiranyl groups in the molecule is preferably used among these thiirane compounds. Examples of particularly preferred thiranyl group-containing compounds include glycidyl ether type epoxy resins represented by bisphenol type epoxy resins, novolak type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, and aromatic glycidyl. Examples include amine type epoxy resins and thiirane compounds in which an oxygen atom in the oxirane ring of the oxirane ring-containing compound is substituted with a sulfur atom.

本発明の組成物において、Ｃ成分であるオキセタニル基含有化合物及びチイラニル基含有化合物から選ばれる化合物の配合の割合は、通常、Ａ成分〜Ｃ成分の合計に対して０．５〜４０重量％、好ましくは３〜３０重量％である。Ｃ成分は、光暴露時に速やかに重合する成分であり、露光部分の形状保持に効果を発揮する。特に、ビアホール形成後の後ベーク時に樹脂が軟化する事により発生する熱ダレ現象の防止に効果がある。したがって、Ｃ成分の割合が少なすぎると、熱ダレ防止に効果が無い。また、このＣ成分は、硬化後の吸水性の低下ならびに硬化時の硬化収縮の抑制にも効果があるが、得られる絶縁層は吸水性が十分に低いものとならず、また得られる硬化収縮の程度が十分に小さいものとならない。一方、この割合が多すぎると、得られる組成物による薄膜が十分な現像性を有するものとならないおそれがある。 In the composition of the present invention, the proportion of the compound selected from the oxetanyl group-containing compound and the thilanyl group-containing compound as the C component is usually 0.5 to 40% by weight based on the total of the A component to the C component, Preferably it is 3 to 30% by weight. The component C is a component that quickly polymerizes when exposed to light and exhibits an effect in maintaining the shape of the exposed portion. In particular, it is effective in preventing a thermal sag phenomenon that occurs due to softening of the resin during post-baking after the formation of the via hole. Therefore, if the proportion of the C component is too small, there is no effect in preventing heat sagging. In addition, this C component is effective in lowering the water absorption after curing and suppressing the curing shrinkage at the time of curing, but the obtained insulating layer does not have a sufficiently low water absorption, and the resulting curing shrinkage Is not small enough. On the other hand, if this ratio is too large, the thin film obtained from the composition may not have sufficient developability.

〔その他の成分〕
本発明の組成物には、前記Ａ成分ないしＣ成分のほかに、必要に応じて種々の任意的な成分を配合することができる。いずれの配合成分の場合も本発明の目的を損なわない範囲で配合される。 [Other ingredients]
In the composition of the present invention, various optional components can be blended as necessary in addition to the A component to the C component. In any case, the blending components are blended within a range that does not impair the object of the present invention.

架橋剤
本発明の組成物はＡ成分のアルカリ可溶性樹脂と反応して架橋構造を形成する架橋剤を含むことが好ましい。 Crosslinking agent The composition of the present invention preferably contains a crosslinking agent that reacts with the alkali-soluble resin of component A to form a crosslinked structure.

該架橋剤として代表的なものは、１分子内に複数の活性メチロール基を有するアミノ樹脂である。このようなアミノ樹脂として、例えば、（ポリ）メチロール化メラミン、（ポリ）メチロール化グリコールウリル、（ポリ）メチロール化ベンゾグアナミン、（ポリ）メチロール化ウレアなどの、１分子内に複数個の活性メチロール基を有する含窒素化合物を挙げることができる。そのメチロール基は、水酸基の水素原子がメチル基やブチル基などのアルキル基によって置換された化合物であってもよく、またはそのような置換化合物の複数を混合した混合物であってもよい。また、該架橋剤は、これらの化合物が一部自己縮合してなるオリゴマー成分を含むものであってもよい。 A typical example of the crosslinking agent is an amino resin having a plurality of active methylol groups in one molecule. Examples of such amino resins include a plurality of active methylol groups in one molecule such as (poly) methylolated melamine, (poly) methylolated glycoluril, (poly) methylolated benzoguanamine, and (poly) methylolated urea. A nitrogen-containing compound having The methylol group may be a compound in which a hydrogen atom of a hydroxyl group is substituted with an alkyl group such as a methyl group or a butyl group, or may be a mixture in which a plurality of such substituted compounds are mixed. The cross-linking agent may include an oligomer component obtained by partially self-condensing these compounds.

該アミノ樹脂の具体例としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン（三井サイアナミッド（株）製「サイメル３００」）、テトラブトキシメチル化グリコールウリル（三井サイアナミッド（株）製「サイメル１１７０」）などのサイメルシリーズの商品、マイコートシリーズの商品、ＵＦＲシリーズの商品、その他を用いることができる。これらのアミノ樹脂は、一種単独でも、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。特に好ましいＢ成分は、ヘキサメトキシメチル化メラミンである。 Specific examples of the amino resin include Cymel series such as hexamethoxymethylated melamine (“Cymel 300” manufactured by Mitsui Cyanamid Co., Ltd.) and tetrabutoxymethylated glycoluril (“Cymel 1170” manufactured by Mitsui Cyanamid Co., Ltd.). Products, My Coat series products, UFR series products, etc. can be used. These amino resins can be used singly or in combination of two or more. A particularly preferred B component is hexamethoxymethylated melamine.

本発明の組成物において、架橋剤の含有量は、当該組成物による薄膜が光重合開始剤および熱の作用によって十分に硬化する範囲が好ましい。通常、Ａ成分〜Ｃ成分の合計量に対して１〜５０重量％、好ましくは、５〜３０重量％である。 In the composition of the present invention, the content of the crosslinking agent is preferably in a range where the thin film of the composition is sufficiently cured by the action of the photopolymerization initiator and heat. Usually, it is 1 to 50% by weight, preferably 5 to 30% by weight based on the total amount of the A component to the C component.

液状ゴム
好ましい配合成分として、数平均分子量が１，０００〜１００，０００、好ましくは、１，０００〜６０，０００である。この液状ゴムを含有することにより、本発明の組成物は、めっき処理によって形成される導体配線の絶縁層に対する密着性が良好となり、特に高温下でも十分に大きな密着性が得られる。 As the liquid rubber preferred compounding ingredients, the number average molecular weight of 1,000 to 100,000, preferably 1,000～60,000. By containing this liquid rubber, the composition of the present invention has good adhesion to the insulating layer of the conductor wiring formed by plating, and sufficiently high adhesion can be obtained even at high temperatures.

該液状ゴムは、Ａ成分、Ｂ成分及びＣ成分との相溶性または親和性が高いものであることが必要であり、これらとの相溶性または親和性が低いものを用いると、得られる組成物は粘着性が高いものとなって取扱いにくくなることがある。 The liquid rubber is required to have high compatibility or affinity with the A component, B component and C component, and a composition obtained by using a material having low compatibility or affinity with these components. May be difficult to handle due to high tackiness.

好適な液状ゴムとしては公知の各種合成ゴムを挙げることができるができ、Ａ成分などに対して高い相溶性が得られることから、アクリルゴム（ＡＣＭ）、アクリロニトリル・ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、アクリロニトリル・アクリレート・ブタジエンゴム（ＮＢＡ）が好ましく、さらに必要に応じて、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基より選ばれる少なくとも１種の官能基を有するものも使用することができる。実際上、エポキシ基、カルボキシル基または水酸基を有するものが好ましく、特にカルボキシル基または水酸基を有するブタジエン系共重合体よりなる液状ゴムが好ましい。 Examples of suitable liquid rubber include various known synthetic rubbers, and high compatibility with the component A and the like can be obtained. Therefore, acrylic rubber (ACM), acrylonitrile / butadiene rubber (NBR), acrylonitrile / Acrylate-butadiene rubber (NBA) is preferred, and those having at least one functional group selected from an epoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group can be used as necessary. In practice, those having an epoxy group, a carboxyl group or a hydroxyl group are preferred, and a liquid rubber made of a butadiene copolymer having a carboxyl group or a hydroxyl group is particularly preferred.

液状ゴムはいずれの方法で製造されたものであってもよく、その製造には乳化重合、溶液重合、塊状重合、懸濁重合などの各種の方法を用いることができ、重合方式もバッチ式、回分式、連続式のいずれでもよい。液状ゴムは、これに含有されるイオン成分の割合が低いことが好ましく、これにより、得られる絶縁層は十分な絶縁性を有するものとなる。液状ゴムを得るための単量体組成物にジエン系単量体が含有される場合には、当該組成物の重合は乳化重合法によって容易に実行することができるが、特に特開昭６２−７４９０８号公報に示された方法により、イオン成分の含有割合の低い液状ゴムを得ることができる。 The liquid rubber may be produced by any method, and various methods such as emulsion polymerization, solution polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization and the like can be used for the production, and the polymerization method is also batch type. Either batch type or continuous type may be used. The liquid rubber preferably has a low proportion of ionic components contained therein, whereby the resulting insulating layer has sufficient insulating properties. When the monomer composition for obtaining the liquid rubber contains a diene monomer, the polymerization of the composition can be easily carried out by an emulsion polymerization method. A liquid rubber having a low content of ionic components can be obtained by the method disclosed in Japanese Patent No. 74908.

本発明の組成物における該液状ゴムの割合は、通常、Ａ成分〜Ｃ成分の合計量に基づいて１〜４０重量％、好ましくは５〜２５重量％である。 The ratio of the liquid rubber in the composition of the present invention is usually 1 to 40% by weight, preferably 5 to 25% by weight, based on the total amount of the A component to the C component.

放射線重合開始剤
本発明の組成物には通常放射線重合開始剤が配合される。該放射線重合開始剤としては、一般に光カチオン重合開始剤としてして知られているものが好ましく、具体的には、ジアゾニウム塩である「アデカウルトラセットＰＰ−３３」〔旭電化工業（株）製〕、スルホニウム塩である「ＯＰＴＯＭＥＲＳＰ−１５０」、「ＯＰＴＯＭＥＲＳＰ−１７０」、「ＯＰＴＯＭＥＲＳＰ１７１」〔旭電化工業（株）製〕、メタロセン化合物である「ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１」〔チバガイギー社製〕、トリアジン化合物である「トリアジンＢ」、「トリアジンＰＭＳ」、「トリアジンＰＰ」〔日本シイベルヘグナー（株）製〕などを挙げることができる。 Radiation polymerization initiator The composition of the present invention usually contains a radiation polymerization initiator. As the radiation polymerization initiator, those generally known as photocationic polymerization initiators are preferable, and specifically, “Adeka Ultra Set PP-33” which is a diazonium salt [manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. ], “OPTOMER SP-150”, “OPTOMER SP-170”, “OPTOMER SP171” (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), which is a sulfonium salt, “IRGACURE261” (Ciba Geigy Corp.), which is a metallocene compound, a triazine compound There may be mentioned certain “triazine B”, “triazine PMS”, “triazine PP” (manufactured by Nippon Siebel Hegner).

本発明の組成物における放射線重合開始剤の配合割合は、Ａ成分〜Ｃ成分の合計に対して０．０１〜５重量％であることが好ましく、更に好ましくは０．０２〜２重量％である。この割合が０．０１重量％未満である場合には、得られる絶縁層は酸素などの周囲の環境の影響による感度低下が著しいものとなり、一方、５重量％を超えると他の成分との相溶性に劣り、組成物の保存安定性が低下する。 The blending ratio of the radiation polymerization initiator in the composition of the present invention is preferably 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.02 to 2% by weight, based on the total of component A to component C. . When this proportion is less than 0.01% by weight, the resulting insulating layer has a significant decrease in sensitivity due to the influence of the surrounding environment such as oxygen. On the other hand, when it exceeds 5% by weight, it is in phase with other components. It is inferior in solubility, and the storage stability of the composition is lowered.

その他の任意成分
本発明の組成物には、当該組成物が適用される基材に対する接着性を向上させるための接着助剤を含有させることができる。この接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が有効である。ここで、官能性シランカップリング剤とは、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤を意味し、その例としてはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを挙げることができ、その配合割合は、Ａ成分〜Ｃ成分の合計量に対して２重量％以下が好ましい。本発明の組成物には、必要に応じて充填材、着色剤、粘度調整剤、レベリング剤、消泡剤、その他の添加剤を含有させることができる。充填材としては、シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、ベントナイト、ジルコニウムシリケート、粉末ガラスなどを挙げることができる。着色剤としては、アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウムなどの耐湿顔料；亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラックなどの無機顔料；ブリリアントカーミン６Ｂ、パーマネントレッド６Ｂ、パーマネントレッドＲ、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔料；マゼンタ、ローダミンなどの塩基性染料；ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジなどの直接染料；ローセリン、メタニルイエローなどの酸性染料、その他を挙げることができる。粘度調整剤としては、ベントナイト、シリカゲル、アルミニウム粉末などを挙げることができる。レベリング剤としては、各種シリコーン系化合物、ポリアルキレンオキシド系化合物などを挙げることができる。消泡剤としては、表面張力の低いシリコーン系化合物、フッ素系化合物などを挙げることができる。これらの添加剤は、本発明の目的を損なわない範囲で、好ましくはＡ〜Ｃ成分の合計の５０重量％以下の量で使用される。 Other optional components The composition of the present invention may contain an adhesion assistant for improving the adhesion to the substrate to which the composition is applied. A functional silane coupling agent is effective as this adhesion aid. Here, the functional silane coupling agent means a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group, and examples thereof include trimethoxysilyl benzoic acid, γ -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy Silane etc. can be mentioned, As for the mixture ratio, 2 weight% or less is preferable with respect to the total amount of A component-C component. The composition of the present invention can contain a filler, a colorant, a viscosity modifier, a leveling agent, an antifoaming agent, and other additives as necessary. Examples of the filler include silica, alumina, talc, calcium carbonate, bentonite, zirconium silicate, and powdered glass. As colorants, moisture-resistant pigments such as alumina white, clay, barium carbonate, barium sulfate; inorganic such as zinc white, lead white, yellow lead, red lead, ultramarine, bitumen, titanium oxide, zinc chromate, bengara, carbon black Pigments; organic pigments such as brilliant carmine 6B, permanent red 6B, permanent red R, benzidine yellow, phthalocyanine blue, and phthalocyanine green; basic dyes such as magenta and rhodamine; direct dyes such as direct scarlet and direct orange; Examples include acid dyes such as yellow and others. Examples of the viscosity modifier include bentonite, silica gel, and aluminum powder. Examples of the leveling agent include various silicone compounds and polyalkylene oxide compounds. Examples of the antifoaming agent include silicone compounds and fluorine compounds having a low surface tension. These additives are used in an amount not exceeding the object of the present invention, preferably in an amount of 50% by weight or less of the total of the components A to C.

〔組成物の調製〕
本発明の組成物を調製するためには、充填材、顔料を添加しない場合には各成分を通常の方法で混合、攪拌するだけでよく、充填材、顔料を添加する場合にはディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミルなどの分散機を用いて分散、混合すればよい。また、必要に応じて、メッシュ、メンブレンフィルターなどを用いてろ過することもできる。 (Preparation of composition)
In order to prepare the composition of the present invention, when the filler and the pigment are not added, each component may be mixed and stirred by a usual method. When the filler and the pigment are added, the dissolver and the homogenizer are used. What is necessary is just to disperse | distribute and mix using dispersers, such as a 3 roll mill. Moreover, it can also filter using a mesh, a membrane filter, etc. as needed.

本発明の組成物には、粘度調整を目的として、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、乳酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート、メトキシメチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエチルエーテルなどの高沸点溶剤を添加することもできる。 The composition of the present invention contains N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl for viscosity adjustment. Sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, ethyl lactate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, methoxymethyl propionate, ethoxyethyl propionate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glyco Methyl ethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, can also be added high boiling point solvent such as triethylene glycol methyl ethyl ether.

これらの溶剤の使用量は、組成物の用途や用いる塗布の方法に応じて変更することができ、組成物を均一な状態とすることができれば特に限定されるものではないが、得られる液状組成物において５〜６０重量％、好ましくは１０〜４０重量％となる量である。 The amount of these solvents used can be changed according to the use of the composition and the coating method used, and is not particularly limited as long as the composition can be made into a uniform state. The amount is 5 to 60% by weight, preferably 10 to 40% by weight.

〔組成物の使用〕
本発明の組成物を基材に塗布するための塗布方法は特に限定されるものではなく、一般的な感光性材料の塗布方法を利用することができる。具体的には、スクリーン印刷法、ロールコート法、バーコート法、ディップコート法、カーテンコート法、スピンコート法などを挙げることができる。また、本発明の組成物をフィルム状に成形した後、これをラミネーターを用いて基材に密着させて用いることもできる。 [Use of composition]
The application method for applying the composition of the present invention to a substrate is not particularly limited, and a general method for applying a photosensitive material can be used. Specific examples include screen printing, roll coating, bar coating, dip coating, curtain coating, and spin coating. Moreover, after shape | molding the composition of this invention in a film form, this can also be stuck and used for a base material using a laminator.

本発明の組成物は上記のような方法により基材に塗布された後、乾燥し、紫外線を照射し、さらに加熱することにより、硬化膜とすることができる。ここで、乾燥条件、紫外線照射条件、加熱条件は、後述する（１）薄膜形成工程、（２）露光処理工程および（３）反応促進用加熱工程にそれぞれ記載された条件と同様である。 The composition of the present invention can be formed into a cured film by being applied to a substrate by the method as described above, dried, irradiated with ultraviolet rays, and further heated. Here, the drying conditions, the ultraviolet irradiation conditions, and the heating conditions are the same as those described in (1) thin film forming step, (2) exposure processing step, and (3) reaction promoting heating step, which will be described later.

本発明の硬化膜はアルカリ水溶液に不溶である。ここでアルカリ水溶液に不溶とは、２０℃の０．７５重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液中に１８０〜３００秒間浸漬した後の残膜率が９０％以上であることを意味する。 The cured film of the present invention is insoluble in an alkaline aqueous solution. Here, insoluble in an alkaline aqueous solution means that the residual film ratio after being immersed in a 0.75 wt% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution at 20 ° C. for 180 to 300 seconds is 90% or more.

本発明の組成物を用いて多層配線板を製造する場合には、導体配線が表面に形成された配線板の当該表面に、本発明の組成物よりなる薄膜を形成し、この薄膜に露光処理および現像処理を施すことにより、例えば前記導体配線に至る貫通孔が形成されてこれにより当該導体配線が露出された状態の絶縁層を形成し、この絶縁層の表面に、前記導体配線と導通する新たな導体配線を形成する一連の工程を１回または複数回繰り返せばよい。すなわち、ｎ番目の導体配線が表面に形成された配線板に、本発明の組成物による絶縁層を形成し、この絶縁層の表面に、ｎ番目の導体配線と導通する（ｎ＋１）番目の導体配線を、めっき処理などによって形成する工程が含まれる。ここに、ｎは１以上の整数である。本発明の組成物によれば、このような方法により、信頼性の高い、高密度で高精度の耐熱性多層配線板を高い効率で製造することができる。 When producing a multilayer wiring board using the composition of the present invention, a thin film made of the composition of the present invention is formed on the surface of the wiring board on which the conductor wiring is formed, and this thin film is subjected to an exposure treatment. Then, for example, a through-hole reaching the conductor wiring is formed, thereby forming an insulating layer in which the conductor wiring is exposed, and the conductor wiring is electrically connected to the surface of the insulating layer. A series of steps for forming a new conductor wiring may be repeated once or a plurality of times. That is, an insulating layer made of the composition of the present invention is formed on a wiring board on which the nth conductor wiring is formed, and the (n + 1) th conductor that is electrically connected to the nth conductor wiring is formed on the surface of the insulating layer. A step of forming the wiring by plating or the like is included. Here, n is an integer of 1 or more. According to the composition of the present invention, a highly reliable, high-density, high-precision heat-resistant multilayer wiring board can be produced with high efficiency by such a method.

以下に、本発明の組成物を用いて多層配線板を製造する方法について、工程順に具体的に説明する。 Below, the method of manufacturing a multilayer wiring board using the composition of this invention is demonstrated concretely in order of a process.

（１）薄膜形成工程
この薄膜形成工程においては、例えば導体配線が基板の表面に形成されてなる配線板の当該表面上に、当該導体配線が覆われるように本発明の組成物を塗布し、乾燥処理して組成物中の溶剤を加熱除去することにより薄膜を形成する。 (1) Thin film forming step In this thin film forming step, for example, the composition of the present invention is applied so that the conductor wiring is covered on the surface of the wiring board in which the conductor wiring is formed on the surface of the substrate, A thin film is formed by drying and removing the solvent in the composition by heating.

ここに、導体配線が形成される基板の材質は特に限定されるものでなく、例えばガラスエポキシ樹脂、紙補強フェノール樹脂、セラミック、ガラス、シリコンウエハなどを挙げることができる。塗布方法としては、例えばスピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、スクリーン印刷法、アプリケーター法などを採用することができる。 Here, the material of the substrate on which the conductor wiring is formed is not particularly limited, and examples thereof include glass epoxy resin, paper-reinforced phenol resin, ceramic, glass, and silicon wafer. As the coating method, for example, a spin coating method, a roll coating method, a curtain coating method, a screen printing method, an applicator method, or the like can be employed.

また、本発明の組成物を基体フィルム上に製膜し乾燥させて、いわゆるドライフィルムを作製し、これをラミネーターなどによって基板に貼り合わせることにより薄膜を形成してもよい。この基体フィルムとしては、透光性を有する、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム、延伸ポリプロピレン、ポリスチレンなどのポリオレフィン系フィルムを使用することができる。ここに、基体フィルムが透光性を有するものである場合には、当該基体フィルムを通して光照射して当該薄膜を光硬化させることが可能となる。 Alternatively, the composition of the present invention may be formed on a substrate film and dried to produce a so-called dry film, which is bonded to a substrate with a laminator or the like to form a thin film. As this base film, translucent polyester films such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, and polyolefin films such as stretched polypropylene and polystyrene can be used. Here, when the base film has translucency, the thin film can be photocured by irradiating light through the base film.

塗布後における乾燥の条件は、本発明の組成物に含まれる各成分の種類、配合割合、膜厚などによっても異なるが、通常、７０〜１３０℃の温度で１〜４０分間程度である。乾燥が不十分であると、残留する溶剤によって薄膜の表面にべとつきが生じ、また、基板に対する絶縁層の密着性が低下する。一方、乾燥が過度になされると、熱かぶりによって解像性の低下を招く。この薄膜の乾燥は、オーブンやホットプレートなどの通常の装置を用いて行われる。 The conditions for drying after coating are usually about 1 to 40 minutes at a temperature of 70 to 130 ° C., although they vary depending on the types, blending ratios, film thicknesses and the like of each component contained in the composition of the present invention. If the drying is insufficient, the residual solvent causes stickiness on the surface of the thin film, and the adhesiveness of the insulating layer to the substrate decreases. On the other hand, when drying is performed excessively, resolution is lowered due to heat fogging. The thin film is dried using a normal apparatus such as an oven or a hot plate.

上記の薄膜形成工程において形成される薄膜の乾燥後の膜厚は、例えば５〜１００μｍであり、１０〜７０μｍであることが好ましい。膜厚が過少であると十分な絶縁性を有する絶縁層を形成することができず、一方、膜厚が多すぎると解像性の低下を招く。 The film thickness after drying of the thin film formed in said thin film formation process is 5-100 micrometers, for example, and it is preferable that it is 10-70 micrometers. If the film thickness is too small, an insulating layer having sufficient insulation cannot be formed. On the other hand, if the film thickness is too large, the resolution is lowered.

（２）露光処理工程
この露光処理工程においては、薄膜形成工程によって配線板上に形成された薄膜に所定のパターンのマスクを介して波長２００〜５００ｎｍの紫外線または可視光線を照射して、薄膜の光照射領域（露光領域）を光硬化させる。露光処理装置としては、フュージョン、コンタクトアライナー、ステッパー、ミラープロジェクターなどを使用することができる。また露光処理に使用される光源としては、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザ、Ｘ線発生装置、電子線発生装置などを挙げることができる。薄膜に対する露光量は、薄膜を構成する組成物における各成分の種類、配合割合、膜厚などによっても異なるが、例えば高圧水銀灯を使用する場合において１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ² である。 (2) Exposure processing step In this exposure processing step, the thin film formed on the wiring board in the thin film formation step is irradiated with ultraviolet rays or visible rays having a wavelength of 200 to 500 nm through a mask having a predetermined pattern, and the thin film is formed. The light irradiation area (exposure area) is photocured. As the exposure processing apparatus, a fusion, a contact aligner, a stepper, a mirror projector, or the like can be used. Examples of the light source used for the exposure process include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, an X-ray generator, and an electron beam generator. Although the exposure amount with respect to a thin film changes also with the kind of each component in a composition which comprises a thin film, a mixture ratio, a film thickness, etc., when using a high pressure mercury lamp, it is 100-2000 mJ / cm < ² >, for example.

（３）反応促進用加熱工程
この反応促進用加熱工程においては、露光処理工程の後の当該薄膜を、通常、温度７０〜１３０℃で１〜２０分間程度加熱し、これにより、露光処理工程における光反応による硬化に加えて、熱反応による薄膜の硬化を促進させる。この加熱が過度であると熱かぶりによって解像性の低下を招く。この加熱は、オーブンやホットプレートなどの通常の装置を用いて行われる。ただし、本発明の組成物は、光硬化速度が大きく、しかも硬化性が優れているので、この工程を省略することも可能である。 (3) Reaction promotion heating step In this reaction promotion heating step, the thin film after the exposure treatment step is usually heated at a temperature of 70 to 130 ° C for about 1 to 20 minutes, whereby in the exposure treatment step. In addition to curing by photoreaction, curing of the thin film by thermal reaction is promoted. If this heating is excessive, the resolution is lowered due to heat fogging. This heating is performed using an ordinary apparatus such as an oven or a hot plate. However, since the composition of the present invention has a high photocuring rate and excellent curability, this step can be omitted.

（４）現像処理工程
この現像処理工程においては、非露光領域における組成物を、アルカリ水溶液よりなる現像液に溶解させて除去し、露光領域における組成物のみを残存させることにより、パターン形成を行う。 (4) Development processing step In this development processing step, the composition in the non-exposed area is removed by dissolving it in a developer comprising an alkaline aqueous solution, and only the composition in the exposed area is left to form a pattern. .

ここに、現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメタノール・エタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノナンなどのアルカリ化合物の水溶液を用いることができる。また、上記のアルカリ類の水溶液にメチルアルコール、エチルアルコールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液、または本発明の組成物を溶解する各種有機溶剤を現像液として使用することができる。好ましい現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの、濃度０．１〜６．０重量％の水溶液、特に０．５〜３．０重量％の水溶液が好ましい。 Examples of the developer include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, di-n-propylamine, triethylamine, and methyldiethylamine. , Dimethanol / ethanolamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4] .3.0] An aqueous solution of an alkali compound such as 5-nonane can be used. In addition, an aqueous solution in which an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methyl alcohol or ethyl alcohol or a surfactant is added to the above alkaline aqueous solution, or various organic solvents that dissolve the composition of the present invention is used as a developer. Can do. As a preferred developing solution, an aqueous solution having a concentration of 0.1 to 6.0% by weight, particularly an aqueous solution having a concentration of 0.5 to 3.0% by weight, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and tetramethylammonium hydroxide. Is preferred.

現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、パドル法、スプレー、シャワー現像法などを挙げることができる。現像処理後には、例えば流水洗浄を行い、エアーガンなどを用いてあるいはオーブン内において乾燥させる。この現像処理工程によって薄膜の一部が除去されて例えば貫通孔が形成され、基板表面の導体配線の一部が露出される結果、フォトビアホールを有する絶縁層が形成される。 Examples of the developing method include a liquid piling method, a dipping method, a paddle method, a spray, and a shower developing method. After the development processing, for example, washing with running water is performed, and drying is performed using an air gun or the like or in an oven. By this development processing step, a part of the thin film is removed to form, for example, a through hole, and a part of the conductor wiring on the surface of the substrate is exposed. As a result, an insulating layer having a photo via hole is formed.

（５）熱硬化・後露光工程
本発明の組成物は光硬化性および熱硬化性の両方の性質を有しており、この熱硬化・後露光工程において熱硬化処理および／または後露光処理が行われることにより、フォトビアホールを有する絶縁層の硬化が更に促進される。従って、この熱硬化・後露光工程は、絶縁層が十分な硬化状態にあるときは不要となる工程である。熱硬化処理は、ホットプレート、オーブン、赤外線オーブンなどを用いて、絶縁層が熱劣化を起こさない温度条件、好ましくは１２０〜１８０℃で３０分間〜５時間程度の適当な時間が選択されて行われる。また、後露光処理は、露光処理工程で使用されるものと同様の光源および装置を用いて、例えば１００〜４０００ｍＪ／ｃｍ² の露光量で行うことができる。 (5) Thermosetting / post-exposure step The composition of the present invention has both photo-curing and thermosetting properties, and in this thermosetting / post-exposure step, the thermosetting and / or post-exposure processing is performed. By being performed, curing of the insulating layer having the photo via hole is further promoted. Therefore, this thermosetting / post-exposure process is a process that becomes unnecessary when the insulating layer is in a sufficiently cured state. The thermosetting treatment is performed using a hot plate, an oven, an infrared oven, or the like under a temperature condition that does not cause thermal degradation of the insulating layer, preferably at 120 to 180 ° C. for an appropriate time of about 30 minutes to 5 hours. Is called. Further, the post-exposure processing can be performed with an exposure amount of, for example, 100 to 4000 mJ / cm ² using the same light source and apparatus as those used in the exposure processing step.

（６）平坦化処理工程
この平坦化処理工程は、例えば平坦でない基板上に形成された絶縁層を研磨処理することによって平坦化するための任意の工程であり、平坦化されることによって、当該絶縁層の表面に導体配線を形成する場合における回路加工の精度を向上させることができる。ここに、研磨手段としては、例えばバフロール、ナイロンブラシ、ベルトサンダーなどの研磨手段を使用することができる。 (6) Planarization treatment step This planarization treatment step is an arbitrary step for planarization by polishing an insulating layer formed on, for example, a non-flat substrate. The accuracy of circuit processing in the case of forming a conductor wiring on the surface of the insulating layer can be improved. Here, as the polishing means, for example, polishing means such as a buffalo, nylon brush, belt sander, etc. can be used.

（７）スルーホール形成工程
このスルーホール形成工程は、部品の挿入や他の配線板との接続すなわち層間接続を達成するためにスルーホールが必要とされる場合において、数値制御型ドリルマシンなどを用いて機械的に穿孔加工を行う工程である。なお、本発明の組成物を用いた製造方法によれば、フォトビアホールによって層間接続を行うことができるので、このスルーホール形成工程は必要がある場合にのみ行われる任意の工程である。 (7) Through-hole forming process This through-hole forming process is performed by using a numerically controlled drill machine or the like when through holes are required to achieve component insertion or connection with other wiring boards, that is, interlayer connection. This is a step of mechanically perforating. In addition, according to the manufacturing method using the composition of this invention, since an interlayer connection can be performed by a photo via hole, this through-hole formation process is an arbitrary process performed only when necessary.

（８）粗面化処理工程
この粗面化処理工程においては、上記の絶縁層の表面に形成される導体配線の密着性を向上させるために、当該絶縁層の表面が粗面化処理液によって粗面化される。 (8) Roughening treatment step In this roughening treatment step, in order to improve the adhesion of the conductor wiring formed on the surface of the insulating layer, the surface of the insulating layer is subjected to a roughening treatment liquid. Roughened.

粗面化処理液としては、過マンガン酸カリウム水溶液、過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウムとの混合水溶液などのアルカリ性の処理液、無水クロム酸と硫酸との混酸、その他の強酸化性を有するものが用いられる。これらのうち、過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウムとの混合水溶液が特に好ましい。処理方法としては、５０〜９０℃に加温した処理液中に５〜１３０分間絶縁層を浸漬させればよい。なお、粗面化処理後においては、必要に応じてシュウ酸などの弱酸水溶液により中和した後、流水洗浄を十分に行うことが必要である。 As the roughening treatment liquid, alkaline treatment liquid such as potassium permanganate aqueous solution, mixed aqueous solution of potassium permanganate and sodium hydroxide, mixed acid of chromic anhydride and sulfuric acid, and other strong oxidizing properties Is used. Of these, a mixed aqueous solution of potassium permanganate and sodium hydroxide is particularly preferable. As a treatment method, the insulating layer may be immersed in a treatment liquid heated to 50 to 90 ° C. for 5 to 130 minutes. In addition, after the surface roughening treatment, it is necessary to sufficiently wash with running water after neutralizing with a weak acid aqueous solution such as oxalic acid as necessary.

この粗面化処理工程によって、絶縁層の表面、フォトビアホールの側壁面およびスルーホールの側壁面は、例えば０．０１〜１０μｍの凹凸形状を有する粗面状態となり、アンカー効果によって導体配線を構成する銅めっき層に対して強固な密着力が発揮される。 By this roughening treatment step, the surface of the insulating layer, the side wall surface of the photo via hole, and the side wall surface of the through hole become a rough surface state having, for example, a concavo-convex shape of 0.01 to 10 μm, and the conductor wiring is configured by the anchor effect. Strong adhesion to the copper plating layer is exhibited.

（９）触媒処理工程
この触媒処理工程は、絶縁層の表面およびホールの内壁表面に、次工程において無電解銅めっき処理を行う際の析出核となるめっき触媒を担持させる工程である。ここに、めっき触媒としては、例えばパラジウムなどの金属コロイドを使用することができ、当該金属コロイドが媒体中に分散されてなる各種公知の処理液中に絶縁層を浸漬させることにより、触媒の担持は達成される。なお、本発明の組成物中には、めっき触媒を含有させることができ、この場合には、この工程を省略することができる。 (9) Catalyst treatment step This catalyst treatment step is a step of supporting a plating catalyst that serves as a precipitation nucleus when performing electroless copper plating treatment in the next step on the surface of the insulating layer and the inner wall surface of the hole. Here, for example, a metal colloid such as palladium can be used as the plating catalyst, and the catalyst is supported by immersing the insulating layer in various known treatment liquids in which the metal colloid is dispersed in a medium. Is achieved. The composition of the present invention can contain a plating catalyst, and in this case, this step can be omitted.

（１０）新たな導体配線の形成工程
この新たな導体配線の形成工程は、例えば無電解銅めっき処理を行うことにより、フォトビアホールおよびスルーホールを介して、基板表面に既に形成されていた導体配線（第１の導体配線）との電気的接続を実現しながら、絶縁層の表面に新たな導体配線（第２の導体配線）を形成する工程である。新たな導体配線の形成方法としては、例えば以下に示す方法ａ〜ｃを挙げることができる。 (10) New conductor wiring formation process This new conductor wiring formation process includes, for example, a conductor wiring that has already been formed on the substrate surface through a photo via hole and a through hole by performing an electroless copper plating process. This is a step of forming a new conductor wiring (second conductor wiring) on the surface of the insulating layer while realizing electrical connection with the (first conductor wiring). As a method for forming a new conductor wiring, for example, the following methods ac may be mentioned.

方法ａ
触媒が担持された絶縁層表面の全域に無電解銅めっき処理を行って銅めっき層を形成し、必要に応じて、当該銅めっき層を電極とする電解銅めっき処理により所望の厚みを有する銅金属層を形成し、この銅金属層上にレジストパターンを形成し、次いで銅金属層をエッチングして導体パターンを形成する。ここで、レジストパターンは、第２の導体配線が形成される領域のほかに、第１の導体配線と第２の導体配線と間の層間接続用導体が形成される層間接続用フォトビアホールの位置、すなわち導体ランドが形成されるべき領域にも形成される。この導体ランドの径は、位置ずれ誤差を考慮してフォトビアホールの径よりも大きくすることが好ましい。レジストパターンは、通常、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーによって形成される。また、銅金属層のエッチングは、過硫酸アンモニウム水溶液やアンモニア錯体系のエッチング液により行われる。銅金属層のエッチングが行われた後、レジストパターンは所定の方法で剥離除去される。フォトレジストは、必要な解像性およびエッチング液に対する耐性を有し、後に除去できるものであればよい。このようにして、基板の表面の第１の導体配線と導通する第２の導体配線が絶縁層の上に形成される。 Method a
Copper having a desired thickness is formed by performing an electroless copper plating process on the entire surface of the insulating layer on which the catalyst is supported to form a copper plating layer, and using the copper plating layer as an electrode, if necessary. A metal layer is formed, a resist pattern is formed on the copper metal layer, and then the copper metal layer is etched to form a conductor pattern. Here, the resist pattern is a position of an interlayer connection photo via hole in which an interlayer connection conductor is formed between the first conductor wiring and the second conductor wiring in addition to the region where the second conductor wiring is formed. That is, it is also formed in the region where the conductor land is to be formed. The diameter of the conductor land is preferably larger than the diameter of the photo via hole in consideration of misalignment error. The resist pattern is usually formed by photolithography using a photoresist. Etching of the copper metal layer is performed with an ammonium persulfate aqueous solution or an ammonia complex etching solution. After the copper metal layer is etched, the resist pattern is removed by a predetermined method. The photoresist is not particularly limited as long as it has necessary resolution and resistance to an etching solution and can be removed later. In this way, the second conductor wiring that is electrically connected to the first conductor wiring on the surface of the substrate is formed on the insulating layer.

方法ｂ
触媒が担持された絶縁層表面における新たな導体配線を形成すべき領域以外の領域にレジストパターンを形成した後、無電解銅めっき処理および必要に応じて電解銅めっき処理を行うことにより、絶縁層表面における新たな導体配線を形成し、かつフォトビアホールの内壁表面に銅めっき層を形成して、レジストパターンを剥離除去する。この方法においても、導体配線の幅をフォトビアホールの径よりも大きくすることが好ましい。 Method b
After forming a resist pattern in a region other than a region where a new conductor wiring is to be formed on the surface of the insulating layer on which the catalyst is supported, an insulating layer is formed by performing an electroless copper plating process and, if necessary, an electrolytic copper plating process A new conductor wiring on the surface is formed, and a copper plating layer is formed on the inner wall surface of the photo via hole, and the resist pattern is peeled and removed. Also in this method, it is preferable to make the width of the conductor wiring larger than the diameter of the photo via hole.

方法ｃ
触媒が担持された絶縁層の表面全面に、めっき触媒を含有していない感光性樹脂組成物を塗布して被覆層を形成し、この被覆層をパターンマスクを通して露光して現像することにより、当該被覆層にフォトビアホールを形成すると共にそれに連続する第２の導体配線となる個所の被覆層部分を除去し、その上で無電解銅めっきのみを行う。この方法においても、導体配線の幅をフォトビアホールの径よりも大きくすることが好ましい。また、被覆層の厚さは、銅めっきによる銅金属層の厚さと同じか、やや大きめであることが好ましい。この方法によれば、形成される第２の導体配線は、被覆層の除去部分に形成されると共に、残存被覆層による絶縁膜が絶縁層の上に残存し、しかもこの残存被覆層と銅金属層の厚さが、通常近似したものとなるため、外表面を平坦性に優れたものとすることができる。なお、以上の被覆層を形成するための感光性樹脂組成物として、本発明の組成物を用いることができる。 Method c
A coating layer is formed by applying a photosensitive resin composition not containing a plating catalyst to the entire surface of the insulating layer on which the catalyst is supported, and the coating layer is exposed through a pattern mask and developed. A photovia hole is formed in the coating layer, and a portion of the coating layer that becomes the second conductor wiring continuous therewith is removed, and only electroless copper plating is performed thereon. Also in this method, it is preferable to make the width of the conductor wiring larger than the diameter of the photo via hole. Moreover, it is preferable that the thickness of the coating layer is the same as or slightly larger than the thickness of the copper metal layer formed by copper plating. According to this method, the second conductor wiring to be formed is formed in the removed portion of the covering layer, and the insulating film formed by the remaining covering layer remains on the insulating layer, and the remaining covering layer and the copper metal Since the thickness of the layer is generally approximated, the outer surface can be made excellent in flatness. In addition, the composition of this invention can be used as a photosensitive resin composition for forming the above coating layer.

以上の工程（１）〜（１０）を繰り返すことにより、さらに多層化することができる。この場合において、新たな導体配線の形成工程（１０）を実施する際には、方法ａ〜方法ｃを組み合わせて多層化することもできる。 Further multilayering can be achieved by repeating the steps (1) to (10). In this case, when the new conductor wiring forming step (10) is performed, the method a to the method c can be combined to form a multilayer.

なお、多層配線板の最上層となる絶縁層の表面に導体配線を形成した後に、当該絶縁層と導体配線との密着性を向上させる観点から、ポストベークを行うことが好ましい。最上層となるもの以外の絶縁層およびそれに係る導体配線に対しては、その後の絶縁層の形成における加熱工程において加熱されるため、特に単独の工程としてポストベークを行う必要はない。 In addition, after forming a conductor wiring on the surface of the insulating layer that is the uppermost layer of the multilayer wiring board, it is preferable to perform post-baking from the viewpoint of improving the adhesion between the insulating layer and the conductor wiring. Since the insulating layer other than the uppermost layer and the conductor wiring related thereto are heated in the heating step in the subsequent formation of the insulating layer, there is no need to perform post baking as a single step.

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、特に明示する場合を除き、「部」は「重量部」を、「％」は「重量％」を示す。 Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “part” indicates “part by weight”, and “%” indicates “% by weight”.

〔Ａ成分〕次の７種を用意した。
Ａ１：クレゾールノボラック樹脂〔ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール＝６：４（モル比）、重量平均分子量Ｍｗ＝１１０００〕
Ａ２：クレゾールキシレノールノボラック樹脂〔ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：３，５−キシレノール＝６：３：４（モル比）、重量平均分子量Ｍｗ＝８０００〕
Ａ３：フェノールノボラック樹脂〔重量平均分子量Ｍｗ＝６０００〕
Ａ４：ポリ（ｐ−ビニルフェノール）〔丸善石化製、重量平均分子量Ｍｗ＝３０００〕
Ａ５：ポリ（臭素化ｐ−ビニルフェノール）〔丸善石化製「マルカリンカーＭＢ」、重量平均分子量Ｍｗ＝４０００〕
Ａ６：ポリ（ｍ−ビニルフェノール）〔重量平均分子量Ｍｗ＝３０００〕 [Component A] The following seven types were prepared.
A1: Cresol novolak resin [m-cresol: p-cresol = 6: 4 (molar ratio), weight average molecular weight Mw = 11000]
A2: Cresol xylenol novolak resin [m-cresol: p-cresol: 3,5-xylenol = 6: 3: 4 (molar ratio), weight average molecular weight Mw = 8000]
A3: Phenol novolac resin [weight average molecular weight Mw = 6000]
A4: Poly (p-vinylphenol) [Maruzen Petrochemical, weight average molecular weight Mw = 3000]
A5: Poly (brominated p-vinylphenol) ["Maruka Linker MB" manufactured by Maruzen Petrochemical, weight average molecular weight Mw = 4000]
A6: Poly (m-vinylphenol) [weight average molecular weight Mw = 3000]

〔Ｂ成分〕次の３種のエポキシ変性粒子状ゴムＢ１〜Ｂ３を製造した。
粒子状ゴムＢ１
ブタジエンと、メタクリル酸メチルと、メタクリル酸と、ジビニルベンゼンとを重量比で７０：２５：４：１の割合で混合してなる単量体組成物を乳化重合することにより、平均粒径が０．０５８μｍのカルボキシル基を有する架橋重合体よりなる粒子状ゴム材Ｍ１を調製し、この粒子状ゴム材１０部に対して、エポキシ樹脂「エピコート８２８」（油化シェルエポキシ（株）製）１００部を、変性反応触媒として粒子状ゴム材に対して１％のトリフェニルフォスフィンと共に添加し、９０℃で約２時間混合・攪拌することにより、エポキシ変性処理された粒子状ゴムＢ１を得た。 [Component B] The following three epoxy-modified particulate rubbers B1 to B3 were produced.
Particulate rubber B1
By emulsion polymerization of a monomer composition obtained by mixing butadiene, methyl methacrylate, methacrylic acid, and divinylbenzene at a ratio of 70: 25: 4: 1, the average particle size is 0. A particulate rubber material M1 made of a cross-linked polymer having a carboxyl group of .058 μm was prepared, and 100 parts of an epoxy resin “Epicoat 828” (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) with respect to 10 parts of the particulate rubber material. Was added together with 1% triphenylphosphine as a modification reaction catalyst together with 1% triphenylphosphine, and mixed and stirred at 90 ° C. for about 2 hours to obtain an epoxy-modified particulate rubber B1.

なお、この粒子状ゴムＢ１をテトラヒドロフランに溶解し、残存カルボキシル基（カルボン酸）をフェノールフタレインを指示薬とした酸−塩基滴定法により定量したところ、カルボン酸は検出されず、当該粒子状ゴムＢ１は表面のカルボキシル基がすべてエポキシ基に変換されているものであった。 When this particulate rubber B1 was dissolved in tetrahydrofuran and the residual carboxyl group (carboxylic acid) was quantified by acid-base titration using phenolphthalein as an indicator, no carboxylic acid was detected and the particulate rubber B1. In which all carboxyl groups on the surface were converted to epoxy groups.

粒子状ゴムＢ２
ブタジエンと、アクリロニトリルと、メタクリル酸と、ジビニルベンゼンとを重量比で６７：３０：２：１の割合で混合してなる単量体組成物を乳化重合することにより、平均粒径が０．０７０μｍのカルボキシル基を有する架橋重合体よりなる粒子状ゴム材を調製し、この粒子状ゴム材１５部に対して、エポキシ樹脂「ＥＰ−４１００Ｅ」（旭電化工業（株）製）１００部を、変性反応触媒として粒子状ゴム材に対して１％のトリフェニルフォスフィンと共に添加し、９０℃で約２時間混合・攪拌することにより、エポキシ変性処理された粒子状ゴムＢ２を得た。 Particulate rubber B2
By emulsion polymerization of a monomer composition obtained by mixing butadiene, acrylonitrile, methacrylic acid, and divinylbenzene at a weight ratio of 67: 30: 2: 1, the average particle size is 0.070 μm. A particulate rubber material made of a crosslinked polymer having a carboxyl group is prepared, and 100 parts of an epoxy resin “EP-4100E” (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) is modified with respect to 15 parts of the particulate rubber material. As a reaction catalyst, 1% triphenylphosphine was added to the particulate rubber material and mixed and stirred at 90 ° C. for about 2 hours to obtain an epoxy-modified particulate rubber B2.

粒子状ゴムＢ３
ブタジエンと、アクリロニトリルと、メタクリル酸と、ジビニルベンゼンとを重量比で７７：１９：３：１の割合で混合してなる単量体組成物を乳化重合することにより、平均粒径が０．０６２μｍのカルボキシル基を有する架橋重合体よりなる粒子状ゴム材を調製し、この粒子状ゴム材１０部に対して、エポキシ樹脂「ＥＰ−４１００Ｅ」（旭電化工業（株）製）１００部を、変性反応触媒として粒子状ゴム材に対して１％のトリフェニルフォスフィンと共に添加し、９０℃で約２時間混合・攪拌することにより、エポキシ変性処理された粒子状ゴムＢ３を得た。 Particulate rubber B3
By emulsion polymerization of a monomer composition prepared by mixing butadiene, acrylonitrile, methacrylic acid, and divinylbenzene in a weight ratio of 77: 19: 3: 1, the average particle size is 0.062 μm. A particulate rubber material made of a crosslinked polymer having a carboxyl group is prepared, and 100 parts of an epoxy resin “EP-4100E” (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) is modified with respect to 10 parts of the particulate rubber material. As a reaction catalyst, 1% triphenylphosphine was added to the particulate rubber material and mixed and stirred at 90 ° C. for about 2 hours to obtain an epoxy-modified particulate rubber B3.

〔Ｃ成分〕
オキセタニル基含有化合物として次の２種類を用意した。
Ｃ１：１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン
Ｃ２：３−メチル−３−グリシジルオキシメチルオキセタンと３−フェニル−３−グリシジルオキシメチルオキセタンのアニオン共重合物（数平均分子量Ｍｎ＝１００００） [C component]
The following two types of oxetanyl group-containing compounds were prepared.
C1: 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene C2: Anionic copolymer of 3-methyl-3-glycidyloxymethyloxetane and 3-phenyl-3-glycidyloxymethyloxetane ( Number average molecular weight Mn = 10000)

チイラニル基含有化合物として次の１種類を用意した。
Ｃ３：２，２‘−［（１−メチルエチリデン）ビス（４，１−フェニレンオキシメチレン）］ビスチイラン The following 1 type was prepared as a thiranyl group containing compound.
C3: 2,2 ′-[(1-methylethylidene) bis (4,1-phenyleneoxymethylene)] bisthiirane

〔Ｄ成分〕次のアミノ樹脂２種を用意した。
Ｄ１：ヘキサメトキシメチル化メラミン
Ｄ２：テトラメトキシメチル化グリコールウリル [Component D] The following two amino resins were prepared.
D1: Hexamethoxymethylated melamine D2: Tetramethoxymethylated glycoluril

〔Ｅ成分〕次の液状ゴム３種を用意した。
Ｅ１：ブタジエン−アクリロニトリル−メタクリル酸共重合体〔ブタジエン：アクリロニトリル：メタクリル酸＝６０：３５：５（モル比）、数平均分子量Ｍｎ＝６０００、ガラス転移点Ｔｇ−３９℃〕
Ｅ２：ブタジエン−アクリロニトリル−ヒドロキシエチルアクリレート−メタクリル酸共重合体〔ブタジエン：アクリロニトリル：ヒドロキシエチルアクリレート＝５５：３０：１５（モル比）、数平均分子量Ｍｎ＝８０００、ガラス転移点Ｔｇ−２５℃〕
Ｅ３：ブタジエン−アクリロニトリル−ヒドロキシエチルアクリレート−メタクリル酸共重合体〔ブタジエン：アクリロニトリル：ヒドロキシエチルアクリレート：メタクリル酸＝６０：２５：１０：５（モル比）、数平均分子量Ｍｎ＝４５００、ガラス転移点Ｔｇ−３０℃〕 [E component] The following three liquid rubbers were prepared.
E1: Butadiene-acrylonitrile-methacrylic acid copolymer [butadiene: acrylonitrile: methacrylic acid = 60: 35: 5 (molar ratio), number average molecular weight Mn = 6000, glass transition point Tg-39 ° C.]
E2: butadiene-acrylonitrile-hydroxyethyl acrylate-methacrylic acid copolymer [butadiene: acrylonitrile: hydroxyethyl acrylate = 55: 30: 15 (molar ratio), number average molecular weight Mn = 8000, glass transition point Tg-25 ° C.]
E3: butadiene-acrylonitrile-hydroxyethyl acrylate-methacrylic acid copolymer [butadiene: acrylonitrile: hydroxyethyl acrylate: methacrylic acid = 60: 25: 10: 5 (molar ratio), number average molecular weight Mn = 4500, glass transition point Tg -30 ° C]

〔Ｆ成分〕次の光重合開始剤３種を用意した。
Ｆ１：２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシフェニル）−６−トリアジン
Ｆ２：２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン
Ｆ３：ジフェニルヨードニウム−９，１０−ジメトキシアントラセンスルホネート [Component F] The following three photopolymerization initiators were prepared.
F1: 2,4-trichloromethyl (4'-methoxyphenyl) -6-triazine F2: 2,4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine F3: diphenyliodonium-9,10-dimethoxyanthracenesulfonate

〔溶剤〕次の有機溶剤４種を用意した。
ＭＭＰ：３−メトキシプロピオン酸メチル
ＤＡＡ：ジアセチルアセトン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＥＰ：３−エトキシプロピオン酸エチル [Solvent] The following four organic solvents were prepared.
MMP: methyl 3-methoxypropionate DAA: diacetylacetone PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate EEP: ethyl 3-ethoxypropionate

＜実施例１〜１０、比較例１〜７（組成物の調製）＞
下記表１または表２に示す処方に従って、上記のＡ成分〜Ｆ成分並びに必要に応じて溶剤を配合し、得られた配合物の各々を、ヘンシェルミキサーにより混合・攪拌を行うことにより、各例の感光性樹脂組成物を調製した。 <Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 7 (Preparation of compositions)>
In accordance with the formulation shown in Table 1 or Table 2 below, the above-mentioned components A to F and a solvent as necessary are blended, and each of the resulting blends is mixed and stirred with a Henschel mixer, and thus each example. A photosensitive resin composition was prepared.

＜組成物の性能評価および多層配線板の製造＞
（１）感光特性評価テスト基板の作製および評価
銅金属層が一面に形成されたガラスエポキシ樹脂よりなる板状体をテストピースとして用い、その当該一面上に、実施例１〜１０および比較例１〜７により調製された組成物の各々をスピンコータを用いて塗布し、熱風オーブン内において９０℃で１０分間乾燥することにより、乾燥後の膜厚が約５０μｍの薄膜を形成した。 <Performance evaluation of composition and production of multilayer wiring board>
(1) Production and Evaluation of Photosensitive Characteristic Evaluation Test Board A plate-like body made of glass epoxy resin having a copper metal layer formed on one surface is used as a test piece, and Examples 1 to 10 and Comparative Example 1 are formed on the one surface. Each of the compositions prepared in (7) to (7) was applied using a spin coater and dried in a hot air oven at 90 ° C. for 10 minutes to form a thin film having a thickness of about 50 μm after drying.

ここに得られたテストピースの各々について、その薄膜に対し、直径がそれぞれ２５μｍ、５０μｍ、７５μｍ、１００μｍ、１５０μｍおよび２００μｍの穿孔パターンが形成されたテスト用フィルムマスクを介して露光を行った。露光処理は、オーク製作所製ＨＭＷ３２１Ｂ型露光装置を用い、コンタクトで１０００ｍＪ／ｃｍ² の露光量で行った。 About each of the test pieces obtained here, the thin film was exposed through a test film mask in which perforation patterns having diameters of 25 μm, 50 μm, 75 μm, 100 μm, 150 μm and 200 μm were formed, respectively. The exposure process was performed using an HMW321B type exposure apparatus manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., with a contact amount of 1000 mJ / cm ² using a contact.

露光処理後のテストピースを１２０℃で５分間加熱処理した後、０．７５％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液中に表３または表４に示す時間浸漬して揺動させることにより現像処理を行い、銅金属層に至る貫通孔すなわちフォトビアホールを有する絶縁層を形成した。その後、当該絶縁層が形成されたテストピースの各々を水洗し乾燥した。 The test piece after the exposure treatment was heated at 120 ° C. for 5 minutes, and then developed by immersing it in a 0.75% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for the time shown in Table 3 or Table 4 and rocking it. Then, an insulating layer having a through hole reaching the copper metal layer, that is, a photo via hole was formed. Thereafter, each of the test pieces on which the insulating layer was formed was washed with water and dried.

解像性
ここに得られたテストピースの各々について解像性の評価を行った。解像性の評価は、種々の大きさの径のフォトビアホールが形成されるようにフォトリソグラフィーを実行し、その結果、銅金属層が露出されていることが確認されたフォトビアホールのうち最小のものの直径（これを「貫通孔最小径」という。）を測定することにより行った。この貫通孔最小径の値が小さいものほど解像性に優れていることを意味する。結果を表３および表４に示す。 Resolution The resolution of each of the test pieces obtained here was evaluated. The evaluation of resolution was performed by performing photolithography so that photo via holes having various diameters were formed, and as a result, the smallest photo via hole in which the copper metal layer was confirmed to be exposed. This was carried out by measuring the diameter of the object (this is referred to as “the minimum diameter of the through hole”). A smaller value of the minimum diameter of the through hole means that the resolution is excellent. The results are shown in Table 3 and Table 4.

熱ダレ・粗面状態
次に、絶縁層が形成されたテストピースの各々を、熱風オーブン内において温度１５０℃で６０分間加熱することにより硬化させた。この時のフォトビアホールの縁の形状変化を電子顕微鏡にて観察し、熱ダレの有無を確認した。その後、熱硬化したテストピースを、温度６５℃に維持された過マンガン酸カリウム−水酸化ナトリウム水溶液（過マンガン酸カリウム濃度３％、水酸化ナトリウム濃度２％）中に１０分間浸漬することにより、絶縁層の表面に対して粗面化処理を行い、その後、濃度５％のシュウ酸水溶液中に室温で５分間浸漬することにより中和処理し、さらに十分に水洗した。 Heat drooping-roughened state Next, each test piece which an insulating layer is formed and cured by heating for 60 minutes at a temperature 0.99 ° C. in a forced air oven. At this time, the shape change of the edge of the photo via hole was observed with an electron microscope to confirm the presence or absence of thermal sag. Thereafter, the test piece cured by heat was immersed in a potassium permanganate-sodium hydroxide aqueous solution (potassium permanganate concentration 3%, sodium hydroxide concentration 2%) maintained at a temperature of 65 ° C. for 10 minutes, The surface of the insulating layer was roughened, and then neutralized by immersing it in an aqueous oxalic acid solution having a concentration of 5% at room temperature for 5 minutes, followed by thorough washing.

このテストピースの各々について、絶縁層の表面状態を走査型電子顕微鏡により観察してその粗面化処理の状態を評価した。結果を表３および表４に示す。評価の方法は、当該表面が十分に粗面化されて微細な凹凸が形成されている場合を「良好」とし、それ以外を「不良」とした。 For each of the test pieces, the surface state of the insulating layer was observed with a scanning electron microscope to evaluate the state of the roughening treatment. The results are shown in Table 3 and Table 4. The evaluation method was defined as “good” when the surface was sufficiently roughened and fine irregularities were formed, and “unsatisfactory” otherwise.

ピール強度
また、テストピースの各々を塩化パラジウム系の触媒液中に室温下６分間浸漬することにより、粗面化された絶縁層の表面および貫通孔の内面にめっき触媒を担持させ、さらに触媒活性化液中に室温で８分間浸漬してめっき触媒を活性化させた。その後、テストピースの各々を水洗した後、室温で２０分間にわたって無電解銅めっき処理を行った。この処理では、触媒液、触媒活性化液および無電解銅めっき液として「ＯＰＣプロセスＭシリーズ」（奥野製薬（株）製）のものを用いた。次に、硫酸銅−硫酸水溶液（硫酸銅濃度２１０ｇ／Ｌ、硫酸濃度５２ｇ／Ｌ、ｐＨ＝１．０）よりなる電解銅めっき液を用い、３．０ｍＡ／ｄｍの電流密度で電解銅めっき処理を行い、合計の厚みが約２０μｍの銅金属層を絶縁層の表面全体にわたって形成し、その後、当該テストピースを１５０℃で１時間加熱処理した。 Peel strength In addition, by immersing each test piece in a palladium chloride catalyst solution at room temperature for 6 minutes, the plating catalyst is supported on the surface of the roughened insulating layer and the inner surface of the through hole, and further the catalytic activity The plating catalyst was activated by immersing in the crystallization solution at room temperature for 8 minutes. Thereafter, each of the test pieces was washed with water, and then subjected to electroless copper plating at room temperature for 20 minutes. In this treatment, the catalyst solution, catalyst activation solution, and electroless copper plating solution used were those of “OPC Process M Series” (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.). Next, using an electrolytic copper plating solution made of a copper sulfate-sulfuric acid aqueous solution (copper sulfate concentration 210 g / L, sulfuric acid concentration 52 g / L, pH = 1.0), electrolytic copper plating treatment at a current density of 3.0 mA / dm Then, a copper metal layer having a total thickness of about 20 μm was formed over the entire surface of the insulating layer, and then the test piece was heat-treated at 150 ° C. for 1 hour.

これらのテストピースの表面に１ｃｍ間隔の切り込みを形成し、端面から、ピールテスターで剥離させることにより、銅金属層のピール強度（ＪＩＳＣ６４８１）を測定した。このピール強度は、１０ｃｍ引き剥がした中での最頻値である。結果を表３および表４に示す。 The peel strength (JIS C 6481) of the copper metal layer was measured by forming cuts with an interval of 1 cm on the surfaces of these test pieces and peeling them from the end surfaces with a peel tester. This peel strength is the mode value after peeling off by 10 cm. The results are shown in Table 3 and Table 4.

（２）ガラス転移点の測定
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一面に離型剤を塗布し、その一面上に上記（１）と同様の方法により厚さ５０μｍの薄膜を形成し、この薄膜の全体に対して１０００ｍＪ／ｃｍ² の露光量で露光処理した後、１５０℃で２時間加熱して硬化させて本発明の組成物によるフィルムを形成し、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離してテストフィルムを得た。 (2) Measurement of glass transition point A release agent is applied to one surface of a polyethylene terephthalate film, and a thin film having a thickness of 50 μm is formed on the one surface by the same method as in (1) above. After performing an exposure process at an exposure amount of 1000 mJ / cm ^2, the film was formed by heating at 150 ° C. for 2 hours to form a film of the composition of the present invention, and peeled from the polyethylene terephthalate film to obtain a test film.

このテストフィルムについて、弾性率測定装置「レオバイブロンＲＨＥＯ−１０２１」（オリエンテック社）により周波数１０Ｈｚにて弾性率変化を測定し、ｔａｎδのピークトップをガラス転移点の値として求めた。結果を表３および表４に示す。 With respect to this test film, a change in elastic modulus was measured at a frequency of 10 Hz using an elastic modulus measuring apparatus “Leovibron RHEO-1021” (Orientec Co., Ltd.), and the peak top of tan δ was determined as the value of the glass transition point. The results are shown in Table 3 and Table 4.

Claims

下記のＡ成分〜Ｄ成分を含有することを特徴とする絶縁層形成用感放射線性樹脂組成物。
〔Ａ成分〕アルカリ可溶性樹脂、
〔Ｂ成分〕エポキシ化合物、
〔Ｃ成分〕分子内にオキセタニル基及びチイラニル基からなる群から選ばれる基を有する化合物、および
〔Ｄ成分〕高沸点溶剤。 The radiation sensitive resin composition for insulating layer formation characterized by containing the following A component-D component.
[Component A] alkali-soluble resin,
[Component B] epoxy compound,
[Component C] A compound having a group selected from the group consisting of an oxetanyl group and a thiranyl group in the molecule, and [Component D] a high boiling point solvent.

前記Ｂ成分がエポキシ変性粒子状ゴムである請求項１記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein the component B is an epoxy-modified particulate rubber.

請求項１または２に記載の組成物を硬化してなる硬化膜からなる絶縁層。 An insulating layer comprising a cured film obtained by curing the composition according to claim 1.

導体配線が表面に形成された配線板の当該表面に、請求項１または２に記載の組成物よりなる薄膜を形成し、この薄膜に露光処理および現像処理を施すことにより前記導体配線が一部露出された状態の絶縁層を形成し、この絶縁層の表面に前記導体配線と導通する新たな導体配線を形成することを含む一連の工程を１回または複数回繰り返すことを特徴とする多層配線板の製造方法。 A thin film made of the composition according to claim 1 or 2 is formed on the surface of the wiring board on which the conductor wiring is formed, and a part of the conductor wiring is formed by subjecting the thin film to exposure processing and development processing. A multilayer wiring characterized in that a series of steps including forming an exposed insulating layer and forming a new conductor wiring electrically connected to the conductor wiring on the surface of the insulating layer is repeated one or more times. A manufacturing method of a board.

導体配線が表面に形成された配線板の当該表面に、
〔Ａ成分〕アルカリ可溶性樹脂、
〔Ｂ成分〕エポキシ化合物、および
〔Ｃ成分〕分子内にオキセタニル基及びチイラニル基からなる群から選ばれる基を有する化合物
を含有する組成物よりなる薄膜を形成し、この薄膜に露光処理および現像処理を施すことにより前記導体配線が一部露出された状態の絶縁層を形成し、この絶縁層の表面に前記導体配線と導通する新たな導体配線を形成することを含む一連の工程を１回または複数回繰り返すことを特徴とする多層配線板の製造方法。 On the surface of the wiring board on which the conductor wiring is formed,
[Component A] alkali-soluble resin,
[B component] an epoxy compound, and [C component] a thin film made of a composition containing a compound having a group selected from the group consisting of an oxetanyl group and a thilanyl group in the molecule, and exposing and developing the thin film A series of steps including forming an insulating layer in a state where the conductor wiring is partially exposed and forming a new conductor wiring electrically connected to the conductor wiring on the surface of the insulating layer once or A method for producing a multilayer wiring board, which is repeated a plurality of times.