JP2006099847A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は0.1重量%以上とし、フッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。
Description
上述したように高記録密度化にとって必要な低フライングハイト(浮上量)化のために磁気ディスク表面の高い平滑性は必要不可欠である。磁気ディスク表面の高い平滑性を得るためには、結局、高い平滑性の基板表面が求められるが、もはや、高精度に基板表面を研磨するだけでは、磁気ディスクの高記録密度化を実現できない段階まできている。つまり、いくら、高精度に研磨しても基板上に異物が付着していては高い平滑性は得られない。勿論、従来から異物の除去はなされていたが、従来では許容されていた基板上の異物が、今日の高密度化のレベルでは問題視される状況にある。
付着した酸化セリウム砥粒により形成された突起異物を除去する技術として、例えば情報記録媒体用ガラス基板の技術分野においては、酸化セリウム砥粒を用いた研磨の後に、硫酸洗浄を行うことが提案されている(下記特許文献1)。更に例えば、情報記録媒体、液晶又は有機ELディスプレー、フォトマスク等の技術分野では、酸、還元剤及びフッ素イオンの3成分を含む洗浄薬液でガラス基材を洗浄する技術が提案されている(下記特許文献2)。
これらの新規用途の場合、HDDを搭載する筐体スペースがコンピュータに比べて著しく小さいので、HDDを小型化する必要がある。このためには、HDDに搭載する磁気ディスクの径を小径化する必要がある。例えば、コンピュータ用途では3.5インチ型や2.5インチ型の磁気ディスクを用いることが出来たが、上記新規用途の場合では、これよりも小径の、例えば0.8インチ型〜1.8インチ型などの小径磁気ディスクが用いられる。このように磁気ディスクを小径化した場合であっても一定以上の情報容量を格納させる必要があるので、勢い、情報記録密度の向上に拍車がかかることになる。
このような状況の下で情報記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドの浮上量を低減させることにより、スペーシングロスを限りなく低減する必要がある。1平方インチ当り60ギガビット以上の情報記録密度を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量は10nm以下にする必要がある。LUL方式ではCSS方式と異なり、磁気ディスク面上にCSS用の凸凹形状を設ける必要が無く、磁気ディスク面上を極めて平滑化することが可能となる。よってLUL方式用磁気ディスクでは、CSS方式に比べて磁気ヘッド浮上量を一段と低下させることができるので、記録信号の高S/N比化を図ることができ、磁気ディスク装置の高記録容量化に資することができるという利点もある。
更に、磁気ヘッドの浮上量が10nm以下となると、磁気抵抗効果型再生素子、例えばTMR(トンネルMR、tunneling magneto-resistance)型再生素子が搭載された磁気ヘッドでは、サーマルアスペリティ(thermalasperity)障害が発生し易いという問題が生じた。サーマルアスペリティ障害が発生するとエラーレートが極端に悪化し、所定の記録密度、例えば1平方インチ当り60ギガビット以上での情報記録再生を行うことが困難になる。
本発明の第2の目的は、磁気抵抗効果型再生素子、特にTMR(トンネルMR、tunneling magneto-resistance)型再生素子が搭載された磁気ヘッドで記録情報が再生される磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、又は該製造方法によって製造されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
本発明の第3の目的は、ロードアンロード方式で起動停止動作を行うハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、又は該製造方法によって製造されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
本発明の第4の目的は、1平方インチ当り60ギガビット、或いはそれ以上の高い情報記録密度で記録再生される磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、又は該製造方法によって製造されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
本発明は以下の構成を有する発明である。
ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
ここで、フッ素含有量とは、研磨剤中に含まれるフッ素原子の含有量である。フッ素原子は研磨剤中では含フッ素物質(フッ化物及び/又はフッ素)として含有されている。
この発明の構成1においては、洗浄液に含有される硫酸の濃度は、好ましくは4重量%以上とすることができる。また、洗浄液に含有される硫酸の濃度は、好ましくは10重量%以下とすることができる。
前記洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は、0.1重量%以上とすることを特徴とする発明の構成1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
なお、洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は、好ましくは0.5重量%以上とすることができる。また、洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は、好ましくは3重量%以下とすることができる。
(発明の構成3)
前記洗浄液に含有されるフッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とすることを特徴とする発明の構成1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
なお、洗浄液に含有されるフッ素イオンの含有量は、好ましくは3ppm以上20ppm以下とすることができる。
前記ガラス基板を構成するガラスは、SiO2 が58重量%以上75重量%以下、Al2 O3が5重量%以上23重量%以下、Li2 Oが3重量%以上10重量%以下、Na2 Oが4重量%以上13重量%以下を主成分として含有するアモルファスのアルミノシリケートガラスであることを特徴とする発明の構成1乃至3の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
(発明の構成5)
前記洗浄処理後のガラス基板の表面は、最大谷深さRvが、4nm以下である鏡面とされることを特徴とする発明の構成1乃至4の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
なお、好ましくは最大粗さRmaxで6nm以下である鏡面とすることができる。
発明の構成1乃至5の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも磁性層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法である。
(発明の構成7)
1平方インチ当り60ギガビット以上のビット記録密度で情報を記録再生するための磁気ディスクを製造することを特徴とする発明の構成6に記載の磁気ディスクの製造方法である。
なお、本発明においてRmaxというときは、日本工業規格(JIS)B0601に準拠して算出される最大粗さのことであって、表面粗さ(すなわち表面形状)の平均面を基準面としたときに、該基準面からみて最も高い山までの高さの絶対値(これを最大山高さRpと呼称する。)と、該基準面からみて最も深い谷までの深さの絶対値(これを最大谷深さRvと呼称する。)の合計である。すなわち、Rmax=Rp+Rvとして算出することができる。また、本発明において表面粗さ(例えば、最大粗さRmax、最大山高さRp、最大谷深さRv、算術平均粗さRa)は、原子間力顕微鏡(AFM)で測定したときに得られる表面形状の表面粗さとすることが好ましい。例えば、基板の表面の縦5μm、横5μmの正方形領域を測定した場合の表面形状の表面粗さとすることが好ましい。
さらに、NPABスライダー、即ち負圧スライダーで浮上を行う磁気ヘッドで記録情報が再生される磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、又は該製造方法によって製造されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供することができる。
本発明者が様々な洗浄用試薬を組成して、研磨剤の主成分である酸化セリウム(二酸化セリウム)に対する溶解性能を比較したところ、硫酸とアスコルビン酸を含有する処理液に対しては、良好な溶解性能が得られることを確認した。特に、硫酸とアスコルビン酸を含む処理液に、更に添加剤としてフッ酸又はフッ化ナトリウムを添加することによりフッ素イオンを供給すると、迅速な溶解性能が得られることを確認した。酸化セリウム以外にも、酸化ランタン、酸化プラセオジウム、酸化ネオジウム等の希土類酸化物に対する溶解性能を確認したところ、酸化セリウムと同等の溶解性能が得られることを確認した。実際に、酸化セリウム系研磨剤を含む研磨液でガラス基板の鏡面研磨を行い、その後に硫酸、アスコルビン酸、フッ素イオンを含有する洗浄液で洗浄を行ったところ、硫酸の濃度に関わらず、研磨剤がガラス基板に付着して形成された突起(凸部)を除去することができた。
従って、ガラス基板表面の凹部の形成を防止して本発明の課題を解決するためには、硫酸、アスコルビン酸、フッ素イオンが共存する系統の洗浄液においては、硫酸は少なくとも1.5重量%を超え、取り分け3重量%以上含有されている必要があることが分かった。
現在(西暦2004年現在)、比較的入手が容易な酸化セリウム系研磨剤としては、含フッ素物質を含有するバストネサイト鉱石を原料として焼成等の処理を行い製造される酸化セリウム系研磨剤と、精製した希土類化合物を原料に焼成等の処理を行い製造される酸化セリウム系研磨剤との2種類に分類することができる。前者の酸化セリウム研磨剤は原料鉱石自体が含フッ素物質を含むために、主に希土類フッ化物の形態でフッ素を含有する。他方、後者の酸化セリウム系研磨剤は、フッ素を含有しないか、含有していても微量である。なお、研磨剤中のフッ素含有量はXPS(X線光電子分光分析法)等によりフッ素原子の含有量として測定することができる。
この観点から、本発明の洗浄液を利用して磁気ディスク用ガラス基板を洗浄する場合、その表面に付着している酸化セリウム系研磨剤(すなわち希土類酸化物系研磨剤)は、フッ素を含有していないか、含フッ素研磨剤であっても、フッ素の含有量は5重量%以下とする必要があることを突き止めた。
また、希土類フッ化物と硫酸との反応の結果、洗浄液中にフッ酸が生成されてしまうが、この生成したフッ酸により洗浄液中のフッ素イオン濃度が乱され、濃度が所望濃度に比べて増大してしまう恐れがある。さらに、ガラス基板に付着した研磨剤とガラスとの界面付近でフッ酸が生成すると、生成したフッ酸によりガラス基板表面が微小領域においてエッチング(凹部の生成)されてしまう恐れがある。
本発明においては、ガラス基板の洗浄液に含有される硫酸の濃度を3重量%以上とすれば、ガラス基板の表面に凹状の形状が生成されることを抑制できるが、例えば、研磨剤の溶解速度を高め、生産効率を向上させたいとの観点で考えると、実用上硫酸濃度を4重量%以上とすることができる。また、硫酸濃度を上昇させればさせるほど生産効率は高まるが、30重量%を超えると、逆に酸化セリウムの溶解速度が減少する場合があるので好ましくない。この観点から硫酸濃度は30重量%以下とすることが好ましい。更に、含フッ素酸化セリウム系研磨剤の場合、上述のとおり、希土類フッ化物と硫酸との反応が生じることから、過剰に硫酸濃度を高めることは好ましくない。この観点から、硫酸濃度は30重量%以下、取り分け10重量%以下とすることが好適である。
なお、含フッ素酸化セリウム系研磨剤では、上述のように、希土類フッ化物と洗浄液に含有される硫酸との反応によりフッ酸を生じる。従って、本発明においては、硫酸濃度はppmレベルで管理する必要がある。取り分け研磨剤に含有されるフッ素が5重量%を超えると、洗浄液中のフッ素イオンの濃度を管理することが困難となる場合がある。
本発明においては、洗浄処理後のガラス基板の表面は、最大谷深さRvが、4nm以下である鏡面とされることが好ましい。Rvが4nmを超える、即ち、凹部深さが深いと、10nm程度、或いはそれ以下で浮上飛行する磁気ヘッドの浮上姿勢を乱す場合があり、また、フライスティクション障害を生じせしめる恐れがあるからである。更に、最大粗さRmaxが6nm以下である鏡面とされることが好ましい。このような鏡面状態は、本発明の鏡面研磨処理と洗浄処理をこの順で行うことにより実現することができる。
最近では、磁気ディスクの情報記録密度を向上させる目的で、磁気ディスクの磁性層に対して、ディスクの円周方向に沿う磁気異方性を付与する場合がある。ディスクの円周方向とは即ち磁気ヘッドの移動方向であるので、この方向に沿って磁気異方性が付与されていると、高記録密度化に資するからである。ディスク状ガラス基板の表面にテープ研磨処理を行うことにより、ディスクの円周方向に配向する筋状の筋からなるテクスチャを形成することができる。このテクスチャ処理が施されたガラス基板上に磁性層を形成すると、ディスクの円周方向に磁気異方性を生じせしめることができる。このテクスチャ処理は、テープ研磨処理において研磨剤としてダイヤモンド研磨剤を利用する。研磨テープとガラス基板とを接触させ、ダイヤモンド研磨剤を供給し、研磨テープとガラス基板とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の表面にテクスチャが形成される。このとき、ガラス基板の表面に異物が付着していたり、凸状、或いは凹状の形状が生じていると所望のテクスチャを形成することが阻害されてしまう。このため磁気ディスクに所定の磁気異方性を付与することが困難となる。本発明では、ガラス基板の表面は、凸状、凹状の形状もない鏡面状の平滑面であるので、微細領域においても均一なテクスチャを形成せしめることができる。従って、本発明は磁気ディスクの高記録密度化に資する。
本発明になる磁気ディスクは、携帯電話やナビゲーションシステム、デジタルカメラなどのモバイル機器に搭載されるハードディスクドライブ用磁気ディスクとして特に好ましい。また該磁気ディスク用ガラス基板として本発明になる磁気ディスク用ガラス基板は特に好ましい。
[実施例1]
実施例1にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、(1)荒ずり工程、(2)端面鏡面研磨工程、(3)ラッピング工程、(4)第一研磨工程、(5)第二研磨工程(主表面鏡面研磨工程)、(6)洗浄工程(鏡面研磨後洗浄工程)、(7)化学強化工程、を有する。以下、これらの工程を詳細に説明する。
まず、プレス法で成型したガラスディスクを、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工した。素材となるガラス組成物として、SiO2 を62重量%以上75重量%以下、Al2 O3を5重量%以上15重量%以下、Li2 Oを4重量%以上10重量%以下、Na2 Oを4重量%以上12重量%以下、ZrO2を5.5重量%以上15重量%以下を主成分として含有するとともに、Na2O/ZrO2 の重量比が0.5以上2.0以下、Al2O3/ZrO2 の重量比が0.4以上2.5以下であるガラス組成物を利用した。このガラス組成物は、リン酸化物や、CaOやMgOといったアルカリ土類金属酸化物を含まないガラスである。具体的にはHOYA株式会社製のアモルファスのアルミノシリケートガラスであるN5ガラス(商品名)を用いた。
次いで、上記砥石よりも粒度の細かいダイヤモンド砥石で上記ガラスディスクの両面を研削加工した。これにより、ガラス基板表面の表面粗さをRmax(JISB0601で測定)で10μm程度に仕上げた。次に、円筒状の砥石を用いてディスク状のガラス基板の中心部に孔を開けてドーナツ状のガラス基板とした。
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面の表面粗さを、Rmaxで1μm、Raで0.3μm程度に鏡面研磨した。研磨剤としては酸化セリウム研磨剤を用いた。その後ガラス基板の表面を水洗浄した。
(3)ラッピング工程
次に、ガラス基板にラッピング処理を施した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。ラッピング処理は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度を#400、#1000と替えて2回行った。詳しくは、はじめに、粒度#400のアルミナ砥粒を用い、内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面の主表面を面精度0〜1μm、表面粗さ(Rmax)6μm程度にラッピングした。次いで、アルミナ砥粒の粒度を#1000に替えてラッピングを行い、表面粗さ(Rmax)2μm程度とした。ラッピング処理を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリウレタン製の硬質研磨パッドを用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施した。研磨剤としては酸化セリウム研磨剤を用いた。上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
(5)第二研磨工程(主面鏡面研磨工程)
次に、第一研磨工程で使用したのと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに替えて、第二研磨工程を実施した。この第二研磨工程で行う処理は、上述した第一研磨工程で得られた平坦な主表面を維持しつつ、例えば主表面の表面粗さRmaxが6nm程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である。研磨パッドはアスカーC硬度で72の軟質研磨パッドを用いた。また研磨パッドの表面は発泡ポアが開口する発泡ポリウレタンとした。研磨液は、酸化セリウム研磨剤を純水に分散させた研磨液とした。研磨剤の平均粒径は0.8μmである。なお、この酸化セリウム研磨剤に含有されるフッ素量をXPS(X線光電子分光分析法)で分析したところ、F(フッ素原子)で3重量%であった。この研磨液とガラス基板に供給し、研磨パッドとガラス基板の摺動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した。
(6)洗浄工程(鏡面研磨後洗浄工程)
この洗浄工程は、鏡面研磨工程で鏡面に仕上げられたガラス基板の表面に残留する研磨剤を除去するための洗浄工程である。鏡面仕上げされたガラス表面を粗らすこと無く、研磨剤を除去する必要がある。例えば、洗浄液がガラスに対してエッチング作用やリーチング作用を有していると、折角鏡面仕上げしたガラス表面が粗されてしまい、鏡面では無く、梨子地面のガラス表面となってしまう。梨子地面のガラス基板では、磁気ヘッドの浮上量を十分に低減させることができない。従って、本発明における洗浄液はガラスに対して、エッチング作用やリーチング作用を有せず、特定の研磨剤に対して選択的溶解性能を備える洗浄液として組成される。
予め、硫酸が4.5重量%、L−アスコルビン酸が1重量%の洗浄液を作製し、この洗浄液中のフッ素イオン濃度が10ppmとなるように、フッ酸を10ppm添加した。以上のようにしてこの洗浄処理における洗浄液を組成した。この洗浄液に、第二研磨工程(主面鏡面研磨工程)で用いたのと同様の酸化セリウム研磨剤を分散させたところ、約4分程度で完全に溶解することを確認した。また、ガラス(アルミノシリケートガラス)に対して問題となるようなエッチング作用、リーチング作用が働かないことも確認した。
上述した組成の硫酸、アスコルビン酸、フッ酸からなる洗浄液に、第二研磨工程(主面鏡面研磨工程)を終えたガラス基板を浸漬し、洗浄処理を行った。約5分間、この洗浄液に浸漬させた、洗浄液の温度は摂氏約40度とした。
この洗浄処理を終えたガラス基板の主表面の縦5μm、横5μmの正方形領域の表面粗さを原子間力顕微鏡(AFM)で測定したところ、Rmaxで4.0nm、Rpで2.0nm、Rvで2.0nm、Raで0.4nmであった。また、その表面を原子間力顕微鏡及び電子顕微鏡で分析したところ鏡面状であり、凸状、凹状の欠陥や異物は観察されなかった。研磨剤の残渣も検出されなかった。
洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化処理を施した。化学強化処理は、化学強化塩を化学強化処理槽に入れ、保持部材で保持したガラス基板を溶融させた化学強化塩に浸漬して行う。化学強化処理の具体的方法は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムを混合した化学強化塩を用意し、この化学強化塩を400℃に加熱して溶融させ、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。このように、化学強化溶融塩にガラス基板を浸漬処理することによって、ガラス基板表層のリチウム、ナトリウムは、化学強化溶融塩中のナトリウム、カリウムにそれぞれ置換され、ガラス基板は化学強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μmであった。化学強化処理を終えたガラス基板を、硫酸洗浄、中性洗剤洗浄、純水洗浄、アルコール洗浄、アルコール蒸気乾燥の順に洗浄及び乾燥工程を行った。
上記の工程を経て得られたガラス基板の主表面を原子間力顕微鏡及び電子顕微鏡で分析したところ鏡面状であり、凸状、凹状の欠陥や異物は観察されなかった。研磨剤の残渣も検出されなかった。表面粗さは、(6)洗浄工程後の表面粗さと略同様であった。
以上のようにして磁気ディスク用ガラス基板が製造された。
上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面に、DCマグネトロン型スパッタリング装置を用いて、NiTaの第1下地層、Ruの第2下地層、CoCrPtB磁性層を順次成膜し、次いでプラズマCVD法により水素化炭素保護層を40オングストロームの膜厚で成膜し、ディップ法によりアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑剤を10オングストロームの膜厚で塗布成膜して磁気ディスクを製造した。この磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。
得られた磁気ディスクを、最高記録密度が1平方インチ当り60ギガビットとされるロードアンロード方式のハードディスクドライブ(HDD)に搭載した。このハードディスクドライブに搭載される磁気ヘッドの浮上量は10nmであり、スライダーはNPABスライダー(負圧スライダー)が採用されている。再生素子は磁気抵抗効果型再生素子である。このハードディスクドライブで試験を行ったところ、ヘッドクラッシュ障害、サーマルアスペリティ障害、フライスティクション障害が生じることがなく、安全に記録再生を行うことができた。ロードアンロード動作を60万回繰り返したが、故障することもなかった。
洗浄工程(鏡面研磨後洗浄工程)の洗浄液として様々な洗浄液を組成して、洗浄能力を対比した。洗浄液の組成、洗浄液の作用、洗浄液の効果については、下記表1にまとめて掲げる。これらの点以外は実施例1と同様の製造方法による同様の磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクである。評価方法等は前述の通りである。
次に、第二研磨工程(主面鏡面研磨工程)において、F(フッ素原子)で6重量%の含フッ素酸化セリウム研磨剤を用いて鏡面研磨を行った。この点以外は、実施例1と同様の製造方法による同様の磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクである。評価方法等は前述の通りである。
結果、研磨剤に対する溶解能が十分ではなく、洗浄後のガラス基板表面を原子間力顕微鏡、電子顕微鏡で観察したところ、研磨剤の残渣と思われる微細な突起が確認されるガラス基板があった。また、所々に凹みが形成されている部位、表面粗さが大きい部位が見つかったが、ガラス基板の微細な領域において研磨剤の残りがエッチング作用を働いたのでは無いかと思われる。
同様に、F(フッ素原子)の含有量を様々に変更(5重量%、2重量%、1重量%)した含フッ素酸化セリウム研磨剤を用いた実験を行ったところ、5重量%以下であれば、実施例1と同様の結果が得られることが分かった。
次に、本発明の実施形態に係る参考的実験を行ったので付記する。
実施例1の洗浄工程(鏡面研磨後洗浄工程)で利用した洗浄液と同様の組成の試薬を組成して、アルミノシリケートガラスに対する作用を調査した。具体的には硫酸、アスコルビン酸の組成は実施例1の洗浄液と同様とし、フッ酸の添加量を調整し様々なフッ素イオン濃度の試薬を組成した。通常、フッ酸はガラスに対するエッチング液として利用される液体であるので、ここで、本発明の作用効果を阻害しないフッ素イオン濃度を開示しておく方がよいと思われたからである。
次に、実施例1において、化学強化工程の後であって、磁気ディスク製造工程の前に、テープ研磨処理を行った磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクを製造した。ディスク状のガラス基板の表面にテープ研磨処理を行うことにより、ディスクの円周方向に配向する筋状の溝からなるテクスチャを形成した。具体的には、化学強化処理を行ったガラス基板の表面に、樹脂繊維の織物からなる研磨テープを当接させ、ダイヤモンド砥粒を供給しながら、ガラス基板を回転させることにより、ガラス基板の表面に微細なテクスチャを形成した。このテクスチャ形成処理を終えたガラス基板の表面を原子間力顕微鏡で観察したところ、表面粗さは実施例1と同様であったが、その表面には精緻なテクスチャ形状が形成されていた。テクスチャを構成する筋はディスクの円周方向に沿って配向していた。テクスチャ形状を乱すような、凸部、凹部や異物の噛み込みにより形成される傷なども見られなかった。このガラス基板上に実施例1と同様に成膜を行い磁気ディスクを製造した。但し、第1下地層をCrTa下地層に換え、第2下地層をAlRu下地層とし、第2下地層と磁性層の間に、第3下地層としてCrMo下地層を介挿入させた。
得られた磁気ディスクのHDD搭載試験を行ったところ実施例1と同様の好適な結果が得られた。次に磁気ディスクの磁気異方性を調べた。具体的には、磁気ディスクの円周方向の保磁力(Hc1)と半径方向の保磁力(Hc2)を測定し、Hc1/Hc2を磁気異方性指数(OR)として評価した。保磁力の測定はVSM(振動試料型磁化測定装置)による磁気特性評価方法を利用した。このとき、最大印加外部磁場は8キロエルステッドとした。結果、ORは1.2程度付与されていた。即ちこの磁気ディスクは円周方向の磁気特性(この場合保磁力)が半径方向のそれに対して20%卓越していることを示している。
Claims (7)
- ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
フッ素含有量が5重量%以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、3重量%以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は、0.1重量%以上とすることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記洗浄液に含有されるフッ素イオンの含有量は1ppm以上40ppm以下とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラスの製造方法。
- 前記ガラス基板を構成するガラスは、SiO2 が58重量%以上75重量%以下、Al2 O3が5重量%以上23重量%以下、Li2 Oが3重量%以上10重量%以下、Na2 Oが4重量%以上13重量%以下を主成分として含有するアモルファスのアルミノシリケートガラスであることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記洗浄処理後のガラス基板の表面は、最大谷深さRvが、4nm以下である鏡面とされることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1乃至5の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも磁性層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
- 1平方インチ当り60ギガビット以上のビット記録密度で情報を記録再生するための磁気ディスクを製造することを特徴とする請求項6に記載の磁気ディスクの製造方法。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008269767A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 |
JP2009231350A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Stella Chemifa Corp | 洗浄液及び洗浄方法 |
US8328602B2 (en) | 2009-07-09 | 2012-12-11 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate for information recording medium and method for manufacturing the same, and magnetic recording medium |
WO2013008639A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
US8580411B2 (en) | 2010-10-26 | 2013-11-12 | Asahi Glass Company, Limited | Glass for substrate, and glass substrate |
WO2014002825A1 (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | コニカミノルタ株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
US8647445B1 (en) | 2012-11-06 | 2014-02-11 | International Business Machines Corporation | Process for cleaning semiconductor devices and/or tooling during manufacturing thereof |
WO2014034746A1 (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2014157004A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法 |
US9058976B2 (en) | 2012-11-06 | 2015-06-16 | International Business Machines Corporation | Cleaning composition and process for cleaning semiconductor devices and/or tooling during manufacturing thereof |
CN103747917B (zh) * | 2011-07-12 | 2016-11-30 | 旭硝子株式会社 | 玻璃制品的制造方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4795614B2 (ja) | 2002-10-23 | 2011-10-19 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 |
TW201109285A (en) * | 2009-09-10 | 2011-03-16 | Applied Vacuum Coating Technologies Co Ltd | Method of strengthening glass plate |
JP2011129232A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の製造方法 |
WO2012093516A1 (ja) * | 2011-01-07 | 2012-07-12 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法および磁気記録媒体 |
MY165019A (en) * | 2011-03-31 | 2018-02-28 | Hoya Corp | Method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk and method of manufacturing a magnetic disk |
JP5976829B2 (ja) | 2011-11-10 | 2016-08-24 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスの酸強化 |
JP5701736B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2015-04-15 | 株式会社東芝 | 平坦化方法および平坦化装置 |
US11352287B2 (en) | 2012-11-28 | 2022-06-07 | Vitro Flat Glass Llc | High strain point glass |
CN104291681A (zh) * | 2013-06-27 | 2015-01-21 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板 |
CN104250065A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001206737A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-07-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基板及びその洗浄方法 |
JP2002109727A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2004059419A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基材の製造方法及びその製造方法で得られたガラス基材 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4064636B2 (ja) * | 2001-02-07 | 2008-03-19 | 三井金属鉱業株式会社 | セリウム系研摩材粒子及びその製造方法 |
US20030134734A1 (en) * | 2001-08-08 | 2003-07-17 | Shiro Nishimoto | Press molding method for glass and manufacturing method for glass substrate using this method |
JP2003348338A (ja) | 2002-05-29 | 2003-12-05 | Canon Inc | 情報処理装置 |
US7384870B2 (en) * | 2002-05-31 | 2008-06-10 | Hoya Corporation | Method for manufacturing glass substrate |
JP4042107B2 (ja) * | 2003-02-14 | 2008-02-06 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 磁気転写用マスタディスクの製造方法 |
-
2004
- 2004-09-29 JP JP2004283125A patent/JP4041110B2/ja active Active
-
2005
- 2005-09-29 US US11/237,868 patent/US7314575B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001206737A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-07-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基板及びその洗浄方法 |
JP2002109727A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2004059419A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-02-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基材の製造方法及びその製造方法で得られたガラス基材 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008269767A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 |
JP2009231350A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Stella Chemifa Corp | 洗浄液及び洗浄方法 |
US8328602B2 (en) | 2009-07-09 | 2012-12-11 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate for information recording medium and method for manufacturing the same, and magnetic recording medium |
US8580411B2 (en) | 2010-10-26 | 2013-11-12 | Asahi Glass Company, Limited | Glass for substrate, and glass substrate |
WO2013008639A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法 |
CN103747917B (zh) * | 2011-07-12 | 2016-11-30 | 旭硝子株式会社 | 玻璃制品的制造方法 |
CN103747917A (zh) * | 2011-07-12 | 2014-04-23 | 旭硝子株式会社 | 玻璃制品的制造方法 |
JPWO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2015-05-11 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
WO2014002825A1 (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | コニカミノルタ株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JPWO2014002825A1 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-05-30 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
WO2014034746A1 (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-06 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JPWO2014034746A1 (ja) * | 2012-08-28 | 2016-08-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
US9058976B2 (en) | 2012-11-06 | 2015-06-16 | International Business Machines Corporation | Cleaning composition and process for cleaning semiconductor devices and/or tooling during manufacturing thereof |
US8647445B1 (en) | 2012-11-06 | 2014-02-11 | International Business Machines Corporation | Process for cleaning semiconductor devices and/or tooling during manufacturing thereof |
WO2014157004A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法 |
JPWO2014157004A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-02-16 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法 |
Also Published As
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