JP2006087977A - 半導体装置の除塵用基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板の少なくとも一方の面にブタジエン−アクリロニトリル共重合体を構造単位の一部として主鎖中に有するポリイミド樹脂層を有する半導体装置の除塵用基板。
【選択図】 なし
Description
しかしながら、これら低弾性率のポリイミドはシリコーンを含有するジアミン、またはテトラカルボン酸無水物を共重合して得られるため、HDD用途や、一部半導体用途など、シリコーンの汚染により重大な障害が発生する用途においては使用することができなかった。
(1)基板の少なくとも一方の面にブタジエン−アクリロニトリル共重合体を構造単位の一部として主鎖中に有するポリイミド樹脂層を有する半導体装置の除塵用基板。
(2)該ポリイミド樹脂層が、基板上にブタジエン−アクリロニトリル共重合体を構造単位の一部として主鎖中に有するポリアミック酸を含有する層を形成し、該層を熱処理して形成したものであることを特徴とする上記(1)に記載の半導体装置の除塵用基板。
(4)上記(1)〜(3)のいずれかに記載の基板の樹脂面を接触させることで、半導体装置の接触面を除塵する方法。
但し、テトラカルボン酸二無水物成分とジアミン成分の少なくともいずれかがブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有する化合物である。好ましくは、ジアミン成分がブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有する。
ブタジエン単位及びアクリロニトリル単位のモル比は、通常20:1〜1:1、好ましくは9:1〜7:3である。
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格の数平均分子量は、通常300〜5000、好ましくは1000〜3000である。
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有するジアミン成分は、特に限定されないが、例えば、下記式(1)で示される脂肪族ジアミン化合物を挙げることができる。
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有するテトラカルボン酸無水物としては、例えば、ヒドロキシル基末端ブタジエン−アクリロニトリル共重合体とトリメリット酸又はトリメリット酸無水物の縮合物が挙げられる。
テトラカルボン酸無水物成分としては、例えば、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4'−オキシジフタル酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールビストリメリット酸二無水物等が挙げられ、それらは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ジアミン成分としては、例えば、4,4'−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4'−ジアミノジフェニルエ−テル、3,3'−ジアミノジフェニルエ−テル、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、3,3'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ヘキサメチレンジアミン、1,8−ジアミノオクタン、1,12−ジアミノドデカン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン等のジアミンが挙げられる。
せることができる。
上記で調製されたポリアミック酸溶液の層を、基板上に形成し、乾燥後、好ましくは不活性雰囲気下、高温で熱処理し、最終的なイミド樹脂層とすることができる。
試験法JISK7127に準ずる方法を用いた。
〔除塵性〕
クリーニングシート製造用のライナーフィルム剥離装置(日東精機製、HR−300CW)を用いて除塵性評価を行った(装置A)。まず装置のチャックテーブルに1mm×1mmに裁断したアルミ片を20片設置した。次に装置Aにクリーニング搬送部材のクリーニング層側をダミー搬送させ、チャックテーブルに真空吸着(0.5kg/cm2)させ、ク
リーニング層とチャックテーブル接触部位と強く接着させた。その後、真空吸着を解除し、クリーニング搬送部材をチャックテーブル上から取り除いたときの、チャックテーブル上のアルミ片の数より除塵率を測定した。測定は3度行い、その平均をもとめた。
上記装置にて同様にチャックテーブル上に搬送し、真空吸着を行い、真空を解除した後、リフトピンにてクリーニング部材をチャックテーブルから剥離できるかどうかを評価した。剥離できたものを○、剥離できないものを×とした。
〔真空到達時間〕
昇温脱離質量分析装置(電子科学製EMD−WA1000S)に該クリーニング搬送部材1cm2を投入した場合に、50℃保持下で初期真空度5×10-9torrに復帰する時間を測定した。
真空到達時間が小さいことが、真空下でに本生産に影響が小さく好ましい。
エチレン−1,2−ビストリメリテート,テトラカルボン酸二無水物(以下TMEGと略する)30.0gを窒素気流下、190gのN−メチル−2−ピロリドン中(以下NMPと略する)、下記式(1)で示されるジアミン(宇部興産ATBN1300×42、アミン当量450、アクリロニトリル含有量18%)39.5g、および2,2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン12.0gとを120℃で混合し、反応させてポリアミック酸溶液を得た。冷却後、得られた、ポリアミック酸溶液をスピンコーターで8インチシリコンウエハーの鏡面上、および圧延銅箔シャイン面上に塗布し、90℃で20分乾燥後した。これを、窒素雰囲気下、270℃で2時間熱処理して、厚み30μmの耐熱性樹脂皮膜を形成した。耐熱性樹脂皮膜を形成した8インチシリコンウエハーは樹脂皮膜を除塵面として、上記方法にて除塵性、搬送性ならびに真空到達時間の評価を行った。また、銅箔上に形成した耐熱性樹脂については、銅箔を塩化第二鉄溶液にてエッチング除去したあと、上記方法に従い、引張弾性率を測定した。
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下BPDAと略す)21.5gを窒素気流下、180gのN−メチル−2−ピロリドン中(以下NMPと略する)、実施例1において使用した式(1)で示されるジアミン46.1g、および2,2'−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン9.0gとを120℃で混合し、反応させてポリアミック酸溶液を得た。冷却後、得られた、ポリアミック酸溶液をスピンコーターで8インチシリコンウエハーの鏡面上、および圧延銅箔シャイン面上に塗布し、90℃で20分乾燥後した。これを、窒素雰囲気下、270℃で2時間熱処理して、厚み30μmの耐熱性樹脂皮膜を形成した。耐熱性樹脂皮膜を形成した8インチシリコンウエハーは樹脂皮膜を除塵面として、上記方法にて除塵性、搬送性ならびに真空到達時間の評価を行った。また、銅箔上に形成した耐熱性樹脂については、銅箔を塩化第二鉄溶液にてエッチング除去したあと、上記方法に従い、引張弾性率を測定した。
BPDAの代わりに、4,4'−オキシジフタル酸二無水物(以下ODPAと略す)22.7gを用いた以外は、実施例2と同様にして実験を行った。
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物30.0gを窒素気流下、82gのNMP中、実施例1において使用した式(1)で示されるジアミン41.4g、および1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン11.0gとを120℃で混合し、反応させてポリアミック酸溶液を得た以外は、実施例1と同様にして実験を行った。
8インチシリコンウエハーの上に樹脂を塗布せず、鏡面を接着面として、除塵性、真空到達時間、ならびに、搬送性の評価を行った。
Claims (4)
- 基板の少なくとも一方の面にブタジエン−アクリロニトリル共重合体を構造単位の一部として主鎖中に有するポリイミド樹脂層を有する半導体装置の除塵用基板。
- 該ポリイミド樹脂層が、基板上にブタジエン−アクリロニトリル共重合体を構造単位の一部として主鎖中に有するポリアミック酸を含有する層を形成し、該層を熱処理して形成したものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の除塵用基板。
- 該ポリイミド樹脂層を構成するポリイミド樹脂の室温(23℃)での引張弾性率が1.5GPa以下である請求項1又は2に記載の半導体装置の除塵用基板。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の基板の樹脂面を接触させることで、半導体装置の接触面を除塵する方法。
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