JP2006078930A - Liquid crystal device, electronic equipment, and method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents

Liquid crystal device, electronic equipment, and method for manufacturing liquid crystal device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device in which display unevenness produced by adhesion of an impurity ion to an alignment layer of a display region is prevented at a low cost and with simple structure. <P>SOLUTION: The liquid crystal device 1 is constituted by placing a TFT substrate 10 and a counter substrate 20 opposing the TFT substrate 10 opposite to each other via a sealing material 52 and interposing a liquid crystal between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20, wherein alignment layers 16 to align the liquid crystal are formed on the sides facing the liquid crystal of the TFT substrate 10 and the counter substrate 20. The liquid crystal device 1 is characterized in that it has an alignment layer 16k formed on a region 10k surrounded by the display region 10h and a sealing material 52 forming region on the TFT substrate 10, and an alignment layer 16h formed on a region 20k surrounded by a region 20h opposing the display region 10h and a sealing material 52 forming region on the counter substrate 20 out of the alignment layers 16 wherein characteristics of the alignment layers 16k and 16h are different from each other. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶を配向させる配向膜が形成された、素子基板と該素子基板に対向する基板とを有する液晶装置、及び電子機器、液晶装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device having an element substrate and a substrate facing the element substrate, on which an alignment film for aligning liquid crystals is formed, an electronic apparatus, and a method for manufacturing the liquid crystal device.

周知のように、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチング素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に共通電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。   2. Description of the Related Art As is well known, a liquid crystal device is configured by enclosing liquid crystal between two substrates made of a glass substrate, a quartz substrate, etc., and a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) is provided on one substrate, for example. ) And other switching elements and pixel electrodes are arranged in a matrix, a common electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are changed according to the image signal. Display is possible.

また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造される。ＴＦＴ基板及び対向基板は、例えばガラス又は石英基板上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって構成される。層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって形成されるのである。   In addition, the TFT substrate on which the TFT is disposed and the counter substrate disposed to face the TFT substrate are manufactured separately. The TFT substrate and the counter substrate are configured by, for example, laminating a semiconductor thin film, an insulating thin film, or a conductive thin film having a predetermined pattern on a glass or quartz substrate. Each layer is formed by repeating a film forming process and a photolithography process for various films.

このようにして形成されたＴＦＴ基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされる。このパネル組立工程は、先ず、各基板の製造工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶の分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成し、該配向膜に、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。   The TFT substrate and the counter substrate thus formed are bonded with high accuracy in the panel assembly process. In this panel assembling process, first, an alignment film for aligning liquid crystal molecules along the substrate surface is formed on the surfaces of the TFT substrate and the counter substrate, which are manufactured in the manufacturing process of each substrate, in contact with the liquid crystal layer. Then, the alignment film is subjected to a rubbing process for determining the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied.

次いで、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール材を設け、このシール材を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール材の一部に設けられた切り欠きを介して液晶が封入され、最後に切り欠きが封止材で封止されることにより液晶装置は製造される。   Next, a sealing material as an adhesive is provided on the peripheral edge of one substrate, and the TFT substrate and the counter substrate are bonded together using this sealing material, and are cured by pressure bonding while performing alignment, and then provided on a part of the sealing material. The liquid crystal is sealed through the notches, and finally the notches are sealed with a sealing material to manufacture the liquid crystal device.

ところで、このように製造された液晶装置において、シール材及び封止材からは、未硬化の成分または硬化した生成物等の不純物イオンが発生する。該不純物イオンが発生すると、液晶を駆動した際、不純物イオンがＴＦＴ基板または対向基板の表示領域上に形成された配向膜に吸着されてしまう場合があり、表示領域にコントラストムラ等の表示ムラが発生してしまうといった問題があった。   By the way, in the liquid crystal device thus manufactured, impurity ions such as uncured components or cured products are generated from the sealing material and the sealing material. When the impurity ions are generated, when the liquid crystal is driven, the impurity ions may be adsorbed to the alignment film formed on the display region of the TFT substrate or the counter substrate, and display unevenness such as contrast unevenness may occur in the display region. There was a problem that would occur.

このような問題に鑑み、例えば特許文献１では、シール材をアクリル樹脂からなる線状のスペーサ壁で囲むことにより、シール材からの不純物イオンが、表示領域に侵入し、該表示領域上の配向膜に吸着して表示ムラとなるのを防止する技術の提案がなされている。
特開２００２−４０４４２号公報 In view of such problems, for example, in Patent Document 1, by surrounding the sealing material with a linear spacer wall made of acrylic resin, impurity ions from the sealing material enter the display region, and the orientation on the display region There has been proposed a technique for preventing display unevenness due to adsorption to a film.
JP 2002-40442 A

しかしながら、特許文献１に開示された技術においては、液晶装置を製造する際、スペーサ壁を新たに形成する必要があるため、液晶装置の構造が複雑化し、また製造コストが増大してしまうといった問題がある。   However, in the technique disclosed in Patent Document 1, since it is necessary to newly form a spacer wall when manufacturing a liquid crystal device, the structure of the liquid crystal device becomes complicated and the manufacturing cost increases. There is.

さらに、スペーサ壁自体からアクリル樹脂を成分とする不純物イオンが発生してしまい、該不純物が表示領域に侵入し、該表示領域上の配向膜に吸着して表示ムラを発生させてしまう可能性がある。   Furthermore, impurity ions containing acrylic resin as a component are generated from the spacer wall itself, and the impurity may enter the display region and be adsorbed on the alignment film on the display region, thereby causing display unevenness. is there.

本発明は上記問題点及び事情に着目してなされたものであり、その目的は、表示領域の配向膜に不純物イオンが吸着することにより発生する表示ムラを低コストかつ簡単な構造で防止する液晶装置、及び電子機器、液晶装置の製造方法を提供するにある。   The present invention has been made paying attention to the above-mentioned problems and circumstances, and the purpose thereof is a liquid crystal that prevents display unevenness caused by impurity ions adsorbing to the alignment film in the display region with a low-cost and simple structure. It is in providing the manufacturing method of an apparatus, an electronic device, and a liquid crystal device.

上記目的を達成するために本発明に係る液晶装置は、表示領域に複数の第１電極が形成された第１基板と、該第１基板に対向し、第２電極が形成された第２基板とを前記表示領域の外側に形成されたシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置において、前記第１基板及び前記第２基板の前記液晶に面する側に前記液晶を配向させる配向膜が形成されており、前記配向膜のうち、前記第１基板における前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第１の配向膜と、前記第２基板の前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第２の配向膜とを有し、前記第１の配向膜と第２の配向膜とは特性が異なっていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention includes a first substrate on which a plurality of first electrodes are formed in a display region, and a second substrate on which a second electrode is formed opposite to the first substrate. In a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the first substrate and the second substrate, and the first substrate and the second substrate An alignment film for aligning the liquid crystal is formed on the side of the substrate facing the liquid crystal, and the alignment film includes a region surrounded by the display region and the sealing material formation region of the first substrate. A first alignment film formed; and a second alignment film formed in a region surrounded by a region facing the display region of the second substrate and a formation region of the sealing material, The first alignment film and the second alignment film have different characteristics. That.

また、表示領域に複数の第１電極が形成された第１基板と、該第１基板に対向し、第２電極が形成された第２基板とを前記表示領域の外側に形成されたシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置において、前記第１基板及び前記第２基板の前記液晶に面する側に前記液晶を配向させる配向膜が形成されており、前記配向膜のうち、前記第１基板における前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第１の配向膜と、前記第２基板の前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第２の配向膜とを形成することで、前記表示領域と前記シール材の形成領域との間の領域と前記表示領域とで電位差が生じ、前記表示領域と前記シール材の形成領域との間の領域に不純物イオンが吸着されることを特徴とする。   Further, a sealing material formed on the outside of the display region, the first substrate having a plurality of first electrodes formed in the display region, and the second substrate having the second electrode formed opposite to the first substrate. In a liquid crystal device having a liquid crystal interposed between the first substrate and the second substrate, the liquid crystal is aligned on the liquid crystal facing side of the first substrate and the second substrate. A first alignment film formed in a region surrounded by the display region and the sealing material formation region of the first substrate, and the second alignment film. By forming a second alignment film formed in a region surrounded by a region facing the display region of the substrate and a region for forming the sealant, the display region and the region for forming the sealant A potential difference occurs between the display area and the display area, and Impurity ions in the region between the formation region of the sealant, characterized in that it is adsorbed.

本発明の液晶装置によれば、囲まれた領域のみが、第１基板と該第１基板に対向する第２基板とで、配向膜の特性が異なることから、液晶を駆動すると、囲まれた領域において、第１基板上の配向膜と、第２基板上の配向膜とで、電荷の吸着の偏りが生じ、囲まれた領域に内部オフセット電圧が生じる。   According to the liquid crystal device of the present invention, only the enclosed region is enclosed when the liquid crystal is driven because the characteristics of the alignment film are different between the first substrate and the second substrate facing the first substrate. In the region, there is a bias in charge adsorption between the alignment film on the first substrate and the alignment film on the second substrate, and an internal offset voltage is generated in the enclosed region.

このことから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域上の配向膜に吸着するため、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   Therefore, even if impurity ions are eluted from the sealing material or the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are adsorbed to the alignment film on the enclosed region, so that the impurity ions are aligned in the display region. It has the effect that it can prevent that it adsorb | sucks to a film | membrane and a display nonuniformity generate | occur | produces.

また、配向膜の特性を変えるだけで、不純物イオンが表示領域上の配向膜に吸着してしまうことを防ぐことができるため、低コストかつ簡単な構造で、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   In addition, it is possible to prevent impurity ions from adsorbing to the alignment film on the display region simply by changing the characteristics of the alignment film, so that display unevenness occurs with a low-cost and simple structure. It has the effect that it can be prevented.

また、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜とは帯電性が異なることにより特性が異なることを特徴とする。さらに、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜とは、分子構造、材質または基板との密着性を高める添加物の有無が異なることにより、特性が異なることを特徴とする。   Further, the first alignment film and the second alignment film have different characteristics due to different charging properties. Furthermore, the first alignment film and the second alignment film are characterized in that their characteristics are different depending on the molecular structure, the material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the substrate.

本発明の液晶装置によれば、囲まれた領域のみが、第１基板と該第１基板に対向する第２基板とで、帯電性、または、分子構造、材質もしくは基板との密着性を高める添加物の有無が異なることによる配向膜の特性が異なることから、液晶を駆動すると、囲まれた領域において、第１基板上の配向膜と、第２基板上の配向膜とで、電荷の吸着の偏りが生じ、囲まれた領域に内部オフセット電圧が生じる。   According to the liquid crystal device of the present invention, only the enclosed region increases the chargeability or the adhesion between the first substrate and the second substrate facing the first substrate, or the molecular structure, the material, or the substrate. Since the characteristics of the alignment film differ depending on the presence or absence of the additive, when the liquid crystal is driven, charge adsorption between the alignment film on the first substrate and the alignment film on the second substrate is performed in the enclosed region. This causes an internal offset voltage in the enclosed region.

このことから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域上の配向膜に吸着するため、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   Therefore, even if impurity ions are eluted from the sealing material or the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are adsorbed to the alignment film on the enclosed region, so that the impurity ions are aligned in the display region. It has the effect that it can prevent that it adsorb | sucks to a film | membrane and a display nonuniformity generate | occur | produces.

さらに、前記第１基板の前記表示領域上、及び前記第２基板の前記表示領域に対向する領域上には前記第１の配向膜が形成されていることを特徴とする。   Furthermore, the first alignment film is formed on the display area of the first substrate and on the area of the second substrate facing the display area.

また、前記第１基板は素子基板であって、前記表示領域に複数のスイッチング素子を有し、前記第１の電極は前記スイッチング素子に対応して設けられた画素電極であり、前記第２基板は対向基板で、前記第２の電極は対向電極であることを特徴とする。   The first substrate is an element substrate, and the display region includes a plurality of switching elements, the first electrode is a pixel electrode provided corresponding to the switching element, and the second substrate Is a counter substrate, and the second electrode is a counter electrode.

本発明の液晶装置によれば、素子基板と該素子基板に対向する対向基板とのいずれかの表示領域上と囲まれた領域とにおいて、電荷の吸着の偏りが確実に生じ、また確実に囲まれた領域に内部オフセット電圧が生じることから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは、確実に囲まれた領域の配向膜に吸着する。よって、不純物イオンが表示領域上の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができるという効果を有する。   According to the liquid crystal device of the present invention, the non-uniformity of the charge adsorption is surely generated in the region surrounded by any one of the display region of the element substrate and the counter substrate facing the element substrate, and is reliably surrounded. Since an internal offset voltage is generated in the sealed region, even if impurity ions are eluted from the sealing material or the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are surely adsorbed to the alignment film in the enclosed region. To do. Therefore, there is an effect that it is possible to prevent the impurity ions from adsorbing to the alignment film on the display region and causing display unevenness.

さらに、前記囲まれた領域に形成される前記配向膜は、表示領域の外側に設けられたダミーの画素電極上に形成されることを特徴とし、また前記ダミーの画素電極は、前記表示領域の外周を規定する遮光膜により被覆されたことを特徴とする。   Further, the alignment film formed in the enclosed region is formed on a dummy pixel electrode provided outside the display region, and the dummy pixel electrode is formed on the display region. It is characterized by being covered with a light-shielding film that defines the outer periphery.

また、本発明に係る電子機器は、請求項１〜８のいずれかの液晶装置を用いて構成したことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention is configured using the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 8.

本発明の電子機器によれば、不純物イオンが表示領域上の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを低コストかつ簡単な構造で防ぐことができる液晶装置を備えた電子機器を提供することができるという効果を有する。   According to the electronic apparatus of the present invention, an electronic device including a liquid crystal device that can prevent display of uneven display due to impurity ions adsorbed on the alignment film on the display region with a low-cost and simple structure. It has the effect that a device can be provided.

本発明に係わる液晶装置の製造方法は、表示領域に複数の電極を有する第１基板と該第１基板に対向する第２基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、前記第１基板の表示領域上の前記液晶に面する側に、第１の配向膜を形成する工程と、前記第１基板の、少なくとも前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の前記第１の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、前記第２基板に、前記第１の配向膜と同一の配向膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。   In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a first substrate having a plurality of electrodes in a display area and a second substrate facing the first substrate are arranged to face each other via a sealing material provided outside the display area. In the method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the first substrate and the second substrate, a first alignment film is formed on the display area of the first substrate facing the liquid crystal And a second alignment film having a characteristic different from that of the first alignment film in the display region in a region surrounded by at least the display region and the sealing material formation region of the first substrate. And forming the same alignment film as the first alignment film on the second substrate.

また、表示領域に複数の画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを有する素子基板と該素子基板に対向する対向基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記素子基板と前記対向基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、前記素子基板の表示領域上の前記液晶に面する側に、第１の配向膜を形成する工程と、前記素子基板の前記内面上の、少なくとも前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の前記第１の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、前記対向基板に、前記第１の配向膜と同一の配向膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。   In addition, an element substrate having a plurality of pixel electrodes and switching elements provided corresponding to the pixel electrodes in the display region and a counter substrate facing the element substrate are provided via a sealant provided outside the display region. In a method of manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is disposed between the element substrate and the counter substrate, a first alignment film is formed on the liquid crystal facing side on the display region of the element substrate. And a second region having a characteristic different from that of the first alignment film in the display region in a region surrounded by at least the display region and the formation region of the sealing material on the inner surface of the element substrate. A step of forming an alignment film; and a step of forming the same alignment film as the first alignment film on the counter substrate.

本発明の液晶装置の製造方法によれば、素子基板の表示領域に配向膜を形成し、素子基板の少なくとも表示領域と該表示領域の外側に形成された前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、表示領域の配向膜とは、特性の異なる配向膜を形成することにより、囲まれた領域のみが、素子基板と該素子基板に対向する基板とで、配向膜の特性が異なる。   According to the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, an alignment film is formed in the display region of the element substrate, and is surrounded by at least the display region of the element substrate and the formation region of the sealing material formed outside the display region. By forming an alignment film having different characteristics from the alignment film of the display region in the region, the characteristics of the alignment film differ only in the enclosed region between the element substrate and the substrate facing the element substrate.

よって、液晶を駆動すると、素子基板上の表示領域上と囲まれた領域とにおいて、配向膜間に電荷の吸着の偏りが生じ、囲まれた領域上に内部オフセット電圧が生じることから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域上の配向膜に吸着する。   Accordingly, when the liquid crystal is driven, the charge adsorption is biased between the alignment films in the display region on the element substrate and in the surrounded region, and an internal offset voltage is generated in the surrounded region. Alternatively, even if impurity ions are eluted from the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are adsorbed to the alignment film on the enclosed region.

このことから、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる液晶装置の製造方法を提供することができるという効果を有する。   Accordingly, there is an effect that it is possible to provide a method for manufacturing a liquid crystal device that can prevent impurity ions from adsorbing to the alignment film in the display region and causing display unevenness.

また、配向膜の特性を変えるだけで、不純物イオンが表示領域上の配向膜に吸着してしまうことを防ぐことができるため、低コストかつ簡単な構造で、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる液晶装置の製造方法を提供することができるという効果を有する。   In addition, it is possible to prevent impurity ions from adsorbing to the alignment film on the display region simply by changing the characteristics of the alignment film, so that display unevenness occurs with a low-cost and simple structure. It has the effect that the manufacturing method of the liquid crystal device which can be prevented can be provided.

本発明に係わる液晶装置の製造方法は、表示領域に複数の画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを有する素子基板と、該素子基板に対向する対向基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記素子基板と前記対向基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、前記対向基板の前記表示領域に対向する領域に、第１の配向膜を形成する工程と、前記対向基板の、少なくとも前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、前記素子基板上に、前記第１の配向膜と同一の前記配向膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。   In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, an element substrate having a plurality of pixel electrodes and a switching element provided corresponding to the pixel electrode in a display region, and a counter substrate facing the element substrate are displayed on the display. In a method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the element substrate and the counter substrate, the liquid crystal device is disposed opposite to each other via a sealing material provided outside the region, The step of forming the first alignment film and the region of the counter substrate surrounded by at least the region facing the display region and the formation region of the sealing material have characteristics different from the alignment film of the display region. A step of forming a second alignment film; and a step of forming the same alignment film as the first alignment film on the element substrate.

本発明の液晶装置の製造方法によれば、素子基板に対向する対向基板の表示領域に配向膜を形成し、対向基板の少なくとも表示領域と該表示領域の外側に形成された前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、素子基板の表示領域の配向膜とは、分子構造、材質または基板との密着性を高める添加物の有無が異なる特性の異なる配向膜を形成することにより、囲まれた領域のみが、素子基板と対向基板とで、配向膜の特性が異なる。   According to the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, the alignment film is formed in the display area of the counter substrate facing the element substrate, and the sealing material is formed at least on the display area of the counter substrate and outside the display area. In the region surrounded by the region, the alignment film in the display region of the element substrate is surrounded by forming alignment films having different characteristics with different molecular structures, materials, or presence or absence of additives that enhance adhesion to the substrate. Only in the region thus formed, the characteristics of the alignment film are different between the element substrate and the counter substrate.

よって、液晶を駆動すると、囲まれた領域において、素子基板の配向膜と対向基板の配向膜との間に電荷の吸着の偏りが生じ、囲まれた領域に内部オフセット電圧が生じることから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域上の配向膜に吸着する。   Therefore, when the liquid crystal is driven, in the enclosed region, a bias of charge adsorption occurs between the alignment film of the element substrate and the alignment film of the counter substrate, and an internal offset voltage is generated in the enclosed region. Even if impurity ions are eluted from the material or the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are adsorbed to the alignment film on the enclosed region.

このことから、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる液晶装置の製造方法を提供することができるという効果を有する。   Accordingly, there is an effect that it is possible to provide a method for manufacturing a liquid crystal device that can prevent impurity ions from adsorbing to the alignment film in the display region and causing display unevenness.

また、配向膜の特性を変えるだけで、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまうことを防ぐことができるため、低コストかつ簡単な構造で、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる液晶装置の製造方法を提供することができるという効果を有する。   In addition, since impurity ions can be prevented from adsorbing to the alignment film in the display region simply by changing the characteristics of the alignment film, display unevenness can be prevented with a low-cost and simple structure. It has the effect that the manufacturing method of the liquid crystal device which can be provided can be provided.

さらに、前記第１の配向膜及び前記第２の配向膜は帯電性が異なることにより特性が異なることを特徴とする。また、前記表示領域の配向膜と前記囲まれた領域の配向膜とは、分子構造、材質または基板との密着性を高める添加物の有無が異なることにより、特性が異なることを特徴とする。   Further, the first alignment film and the second alignment film have different characteristics due to different charging properties. Further, the alignment film in the display region and the alignment film in the enclosed region have different characteristics depending on the molecular structure, the material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the substrate.

本発明の液晶装置の製造方法によれば、囲まれた領域のみが、第１基板と該第１基板に対向する第２基板とで、帯電性、または、分子構造、材質もしくは基板との密着性を高める添加物の有無が異なることによる配向膜の特性が異なることから、液晶を駆動すると、囲まれた領域において、第１基板上の配向膜と、第２基板上の配向膜とで、電荷の吸着の偏りが生じ、囲まれた領域に内部オフセット電圧が生じる。   According to the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, only the enclosed region is charged between the first substrate and the second substrate facing the first substrate, or is in close contact with the molecular structure, material, or substrate. When the liquid crystal is driven, the alignment film on the first substrate and the alignment film on the second substrate in the enclosed region are different because the characteristics of the alignment film are different due to the presence or absence of additives that enhance the properties. A bias in charge adsorption occurs, and an internal offset voltage occurs in the enclosed region.

このことから、シール材または該シール材を封止する封止材から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域上の配向膜に吸着するため、不純物イオンが表示領域の配向膜に吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる液晶装置の製造方法を提供することができるという効果を有する。   Therefore, even if impurity ions are eluted from the sealing material or the sealing material that seals the sealing material, the impurity ions are adsorbed to the alignment film on the enclosed region, so that the impurity ions are aligned in the display region. There is an effect that it is possible to provide a method of manufacturing a liquid crystal device that can prevent the display unevenness due to adsorption to the film.

以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態では、液晶装置は、例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のスイッチング素子が形成された素子基板及び該素子基板に対向配置される基板を用いた液晶装置を例に挙げて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present embodiment, the liquid crystal device will be described by taking as an example a liquid crystal device using an element substrate on which a switching element such as a TFT (thin film transistor) is formed and a substrate disposed opposite to the element substrate.

図１は、本発明の一実施の形態を示す液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。   FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention as viewed from the counter substrate side together with the components formed thereon, and FIG. 2 is a cross section taken along line II-II in FIG. FIG.

同図に示すように、液晶装置１は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いた第１基板である素子基板（以下、ＴＦＴ基板と称す）１０と、該ＴＦＴ基板１０に対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた第２基板である対向基板２０との間の内部空間に液晶５０を封入して構成される。対向配置されたＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、シール材５２によって貼り合わされている。   As shown in the figure, the liquid crystal device 1 includes, for example, an element substrate (hereinafter referred to as a TFT substrate) 10 which is a first substrate using a quartz substrate, a glass substrate, and a silicon substrate, and an opposing arrangement to the TFT substrate 10. For example, the liquid crystal 50 is sealed in an internal space between the counter substrate 20 that is a second substrate using, for example, a glass substrate or a quartz substrate. The TFT substrate 10 and the counter substrate 20 that are arranged to face each other are bonded together by a sealing material 52.

ＴＦＴ基板１０の内面である表面１０ａに、画素を構成する第１の電極である画素電極（ＩＴＯ）９（図２参照）等がマトリクス状に配置されて液晶装置１の表示領域４０を構成するＴＦＴ基板の表示領域１０ｈが構成される。また、対向基板２０の内面である表面２０ａの全面に、第２の電極である共通電極（ＩＴＯ）２１が設けられる。   A pixel electrode (ITO) 9 (see FIG. 2), which is a first electrode constituting a pixel, is arranged in a matrix on the surface 10a, which is the inner surface of the TFT substrate 10, to constitute the display region 40 of the liquid crystal device 1. A display area 10h of the TFT substrate is formed. A common electrode (ITO) 21 as a second electrode is provided on the entire surface 20 a that is the inner surface of the counter substrate 20.

ＴＦＴ基板１０の画素電極９上及び対向基板２０上の全面に渡って形成された共通電極２１上に、ラビング処理が施された配向膜１６が設けられている。配向膜１６は、例えば、ポリイミド膜等の透明な有機膜からなる。尚、配向膜１６の詳細な構成は、後述する。   On the common electrode 21 formed over the entire surface of the pixel electrode 9 and the counter substrate 20 of the TFT substrate 10, an alignment film 16 subjected to a rubbing process is provided. The alignment film 16 is made of a transparent organic film such as a polyimide film. The detailed configuration of the alignment film 16 will be described later.

対向基板２０に、表示領域４０を構成するＴＦＴ基板１０の表示領域１０ｈ及び対向基板２０の表示領域２０ｈの外周を規定し区画する額縁としての遮光膜５３が設けられている。   The counter substrate 20 is provided with a light shielding film 53 as a frame defining and defining the outer periphery of the display region 10 h of the TFT substrate 10 constituting the display region 40 and the display region 20 h of the counter substrate 20.

また、対向基板２０の遮光膜５３の外側の後述するシール材形成領域２０ｓ（図４参照）において、液晶を封入するシール材５２が、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０間に形成されている。尚、シール材５２は、ＴＦＴ基板１０の後述するシール材形成領域１０ｓ（図３参照）において形成されていてもよい。   In addition, a sealing material 52 that encloses liquid crystal is formed between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 in a sealing material forming region 20s (see FIG. 4) described later outside the light shielding film 53 of the counter substrate 20. The sealing material 52 may be formed in a sealing material forming region 10s (see FIG. 3) described later of the TFT substrate 10.

シール材５２は対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０を相互に固着する。シール材５２は、ＴＦＴ基板１０の１辺の一部において欠落しており、該欠落した箇所に、貼り合わされたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０との間に液晶５０を注入するための液晶注入口１０８が形成されている。液晶注入口１０８は、液晶注入後、封止材１０９で封止される。   The sealing material 52 is disposed so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. The sealing material 52 is missing in a part of one side of the TFT substrate 10, and a liquid crystal injection port for injecting the liquid crystal 50 between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 bonded to the missing part. 108 is formed. The liquid crystal injection port 108 is sealed with a sealing material 109 after the liquid crystal is injected.

シール材５２の外側の領域に、ＴＦＴ基板１０の図示しないデータ線に画像信号を所定のタイミングで供給して該データ線を駆動するデータ線駆動回路１０１及び外部回路との接続のための外部接続端子１０２が、ＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられている。   An external connection for connecting the data line driving circuit 101 for driving the data line by supplying an image signal to a data line (not shown) of the TFT substrate 10 at a predetermined timing in a region outside the sealing material 52. A terminal 102 is provided along one side of the TFT substrate 10.

この一辺に隣接する二辺に沿って、ＴＦＴ基板１０の図示しない走査線及びゲート電極に走査信号を所定のタイミングで供給することによりゲート電極を駆動する走査線駆動回路１０３，１０４が設けられている。走査線駆動回路１０３，１０４は、シール材５２の内側の遮光膜５３に対向する位置においてＴＦＴ基板１０上に形成される。   Scan line drive circuits 103 and 104 are provided along two sides adjacent to the one side to drive the gate electrodes by supplying scan signals to the scan lines and gate electrodes (not shown) of the TFT substrate 10 at a predetermined timing. Yes. The scanning line driving circuits 103 and 104 are formed on the TFT substrate 10 at positions facing the light shielding film 53 inside the sealing material 52.

また、ＴＦＴ基板１０上に、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０３，１０４、外部接続端子１０２及び上下導通端子１０７を接続する配線１０５が、遮光膜５３の３辺に対向して設けられている。   Further, on the TFT substrate 10, wiring 105 connecting the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuits 103 and 104, the external connection terminal 102, and the vertical conduction terminal 107 is provided to face the three sides of the light shielding film 53. ing.

上下導通端子１０７は、シール材５２のコーナー部の４箇所のＴＦＴ基板１０上に形成される。そして、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０相互間に、下端が上下導通端子１０７に接触し上端が共通電極２１に接触する上下導通材１０６が設けられており、上下導通材１０６によって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通がとられている。     The vertical conduction terminals 107 are formed on the four TFT substrates 10 at the corners of the sealing material 52. Between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20, a vertical conduction material 106 having a lower end in contact with the vertical conduction terminal 107 and an upper end in contact with the common electrode 21 is provided. Electrical continuity is established with the counter substrate 20.

ここで、配向膜１６が形成されたＴＦＴ基板１０の表面１０ａ及び対向基板２０の表面２０ａの構成について説明する。図３は、表面に配向膜が形成された図１のＴＦＴ基板の概略平面図、図４は、表面に配向膜が形成された図１の対向基板の概略平面図、図５は、図３のＴＦＴ基板と図４の対向基板とを対向配置させたときのＴＦＴ基板及び対向基板の配向膜の位置を示す断面図である。   Here, the configuration of the surface 10a of the TFT substrate 10 on which the alignment film 16 is formed and the surface 20a of the counter substrate 20 will be described. 3 is a schematic plan view of the TFT substrate of FIG. 1 having an alignment film formed on the surface, FIG. 4 is a schematic plan view of the counter substrate of FIG. 1 having an alignment film formed on the surface, and FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the positions of the TFT substrate and the alignment film of the counter substrate when the TFT substrate of FIG. 4 and the counter substrate of FIG.

図３に示すように、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａに形成される配向膜１６は、第１の配向膜１６ｈと、第２の配向膜１６ｋとにより構成されている。
第１の配向膜１６ｈは、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａであって表示領域１０ｈに形成されている。また、第２の配向膜１６ｋは、少なくとも表示領域１０ｈと該表示領域１０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域１０ｓとで囲まれた領域１０ｋに形成されている。 As shown in FIG. 3, the alignment film 16 formed on the surface 10a of the TFT substrate 10 is composed of a first alignment film 16h and a second alignment film 16k.
The first alignment film 16h is formed on the surface 10a of the TFT substrate 10 and in the display region 10h. The second alignment film 16k is formed in a region 10k surrounded by at least the display region 10h and the formation region 10s of the sealing material 52 formed outside the display region 10h.

尚、囲まれた領域１０ｋの画素電極９は、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを対向配置させた際、対向基板２０に形成された遮光膜５３により覆われるため、駆動はするが表示に寄与しない電極、即ちダミー電極９ｄとなっている。   The pixel electrode 9 in the enclosed region 10k is covered with a light shielding film 53 formed on the counter substrate 20 when the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged to face each other. This is a dummy electrode 9d.

第２の配向膜１６ｋは、第１の配向膜１６ｈと異なる特性（特に帯電性）を有している。具体的には、第２の配向膜１６ｋは、第１の配向膜１６ｈと、分子構造、材質、またはＴＦＴ基板との密着性を高める添加物の有無が相違している。   The second alignment film 16k has characteristics (particularly chargeability) different from those of the first alignment film 16h. Specifically, the second alignment film 16k is different from the first alignment film 16h in terms of molecular structure, material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the TFT substrate.

配向膜には通常ポリイミドを用いるが、上述のような材質あるいは分子構造が異なるポリイミドの例としては、芳香族ポリイミド、脂環式ポリイミド、フッ素変性ポリイミド、カルコン系ポリイミド、シクロブタン系ポリイミド、ビフェニル系ポリイミド、アクリレート基を有するポリイミド、アゾベンゼン基を有するポリイミド、などが挙げられる。   Polyimide is usually used for the alignment film. Examples of polyimides having different materials or molecular structures as described above include aromatic polyimide, alicyclic polyimide, fluorine-modified polyimide, chalcone polyimide, cyclobutane polyimide, and biphenyl polyimide. , A polyimide having an acrylate group, a polyimide having an azobenzene group, and the like.

また、図４に示すように、対向基板２０の表面２０ａに形成される配向膜１６は、第１の配向膜１６ｈにより構成されている。
第１の配向膜１６ｈは、対向基板２０の表面２０ａであって表示領域２０ｈ及び少なくとも表示領域２０ｈと該表示領域２０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域２０ｓとで囲まれた領域２０ｋに形成されている。即ち、表面２０ａの全面に形成されている。 Further, as shown in FIG. 4, the alignment film 16 formed on the surface 20a of the counter substrate 20 is constituted by a first alignment film 16h.
The first alignment film 16h is the surface 20a of the counter substrate 20 and is a region 20k surrounded by the display region 20h and at least the display region 20h and the formation region 20s of the sealing material 52 formed outside the display region 20h. Is formed. That is, it is formed on the entire surface 20a.

よって、図５に示すように、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とをシール材５２を介して対向配置させたときは、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋと、該領域１０ｋに対向する対向基板２０の囲まれた領域２０ｋとで、異なる特性を有する２種類の配向膜１６ｈ、１６ｋが形成されている。   Therefore, as shown in FIG. 5, when the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are disposed to face each other via the sealant 52, the region 10k surrounded by the TFT substrate 10 and the counter substrate facing the region 10k are arranged. Two kinds of alignment films 16h and 16k having different characteristics are formed in the 20 surrounded region 20k.

次に、このように構成された液晶装置１の製造方法について、図６を用いて説明する。図６は、本実施の形態を示す液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。尚、配向膜１６の形成工程以外の製造工程は、従来と同じであるため、説明を省略する。   Next, a manufacturing method of the liquid crystal device 1 configured as described above will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a flowchart showing a method for manufacturing the liquid crystal device according to the present embodiment. In addition, since manufacturing processes other than the formation process of the alignment film 16 are the same as those in the related art, description thereof is omitted.

同図に示すように、先ずステップＳ１において、画素電極９等が形成されたＴＦＴ基板１０を配向膜形成装置にセットする。次いで、ステップＳ２において、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上であって、表示領域１０ｈに、第１の配向膜１６ｈが、例えば印刷またはインクジェットと同等の構成を有する液滴吐出手段等により形成される。その後、ステップＳ３に移行する。   As shown in the figure, first, in step S1, the TFT substrate 10 on which the pixel electrodes 9 and the like are formed is set in an alignment film forming apparatus. Next, in step S2, the first alignment film 16h is formed on the surface 10a of the TFT substrate 10 in the display region 10h by, for example, a droplet discharge unit having a configuration equivalent to printing or inkjet. Thereafter, the process proceeds to step S3.

ステップＳ３では、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上であって、少なくとも表示領域１０ｈと該表示領域１０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域１０ｓとで囲まれた領域１０ｋに、第１の配向膜１６ｈと、分子構造、材質、またはＴＦＴ基板との密着性を高める添加物の有無等が異なる第２の配向膜１６ｋが、例えば印刷またはインクジェットと同等の構成を有する液滴吐出手段等により形成される。その後、ステップＳ４に移行する。   In step S3, the first alignment is performed on a region 10k on the surface 10a of the TFT substrate 10 and surrounded by at least the display region 10h and the formation region 10s of the sealing material 52 formed outside the display region 10h. A second alignment film 16k that is different from the film 16h in terms of molecular structure, material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the TFT substrate is formed by, for example, a droplet discharge means having a configuration equivalent to printing or inkjet. Is done. Thereafter, the process proceeds to step S4.

ステップＳ４では、共通電極２１等が形成された対向基板２０を配向膜形成装置にセットする。次いで、ステップＳ５では、対向基板２０の表面２０ａ上であって、表示領域２０ｈ及び少なくとも表示領域２０ｈと該表示領域２０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域２０ｓとで囲まれた領域２０ｋ、即ち、表面２０ａの全面に、第１の配向膜１６ｈが形成される。   In step S4, the counter substrate 20 on which the common electrode 21 and the like are formed is set in the alignment film forming apparatus. Next, in step S5, a region 20k on the surface 20a of the counter substrate 20 and surrounded by the display region 20h and at least the display region 20h and the formation region 20s of the sealing material 52 formed outside the display region 20h. That is, the first alignment film 16h is formed on the entire surface 20a.

最後に、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に形成された配向膜１６に、液晶５０の分子をＴＦＴ基板及び対向基板面に沿って配向させるためのラビング処理が施され、本工程は終了する。このようにして、液晶装置１に用いるＴＦＴ基板１０の表面１０ａ及び対向基板２０の表面２０ａに、配向膜１６は形成される。   Finally, the alignment film 16 formed on the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 is subjected to a rubbing process for aligning the molecules of the liquid crystal 50 along the surfaces of the TFT substrate and the counter substrate, and this process ends. In this way, the alignment film 16 is formed on the surface 10 a of the TFT substrate 10 used in the liquid crystal device 1 and the surface 20 a of the counter substrate 20.

このように、本実施の形態を示す液晶装置においては、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上の表示領域１０ｈに形成される第１の配向膜１６ｈと、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上の囲まれた領域１０ｋに形成される第２の配向膜１６ｋとは、特性が異なる、具体的には、分子構造、材質、またはＴＦＴ基板との密着性を高める添加物の有無等が異なると示した。   Thus, in the liquid crystal device according to the present embodiment, the first alignment film 16h formed in the display region 10h on the surface 10a of the TFT substrate 10 and the enclosed region on the surface 10a of the TFT substrate 10 It is shown that the second alignment film 16k formed at 10k has different characteristics, specifically, a molecular structure, a material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the TFT substrate.

よって、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とをシール材５２を介して対向配置させたときは、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋに、第２の配向膜１６ｋが形成され、囲まれた領域１０ｋに対向する対向基板２０の囲まれた領域２０ｋに、第１の配向膜１６ｈが形成される。   Therefore, when the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are disposed to face each other via the sealing material 52, the second alignment film 16k is formed in the region 10k surrounded by the TFT substrate 10, and the region 10k surrounded A first alignment film 16h is formed in a region 20k surrounded by the counter substrate 20 that faces the counter.

このことにより、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋのみが、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とで、配向膜の特性が異なることから、液晶５０を駆動すると、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間において、配向膜の電荷の吸着に偏りが生じ、囲まれた領域１０ｋに内部オフセット電圧が生じる。   As a result, only the region 10k surrounded by the TFT substrate 10 has different alignment film characteristics between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20. Therefore, when the liquid crystal 50 is driven, the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 have different characteristics. In the meantime, the charge adsorption of the alignment film is biased, and an internal offset voltage is generated in the enclosed region 10k.

よって、シール材５２または該シール材５２を封止する封止材１０９から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域１０ｋ上の第２の配向膜１６ｋに吸着するため、不純物イオンが表示領域１０ｈ上の第１の配向膜１６ｈに吸着してしまい、表示ムラが発生してしまうことを防ぐことができる。   Therefore, even if impurity ions are eluted from the sealing material 52 or the sealing material 109 that seals the sealing material 52, the impurity ions are adsorbed to the second alignment film 16k on the surrounded region 10k, It can be prevented that ions are adsorbed to the first alignment film 16h on the display region 10h and display unevenness occurs.

また、配向膜の特性を変えるだけで、不純物イオンが表示領域１０ｈの第１の配向膜１６ｈに吸着してしまうことを防ぐことができるため、低コストかつ簡単な構造で、表示ムラを防ぐことができる。   Further, it is possible to prevent the impurity ions from being adsorbed to the first alignment film 16h in the display region 10h only by changing the characteristics of the alignment film, so that display unevenness can be prevented with a low-cost and simple structure. Can do.

よって、ＴＦＴ基板１０の表示領域１０ｈの第１の配向膜１６ｈに不純物イオンが吸着することにより発生する表示ムラを、低コストかつ簡単な構造で防止する液晶装置１、及び液晶装置１の製造方法を提供することができる。   Therefore, the liquid crystal device 1 that prevents display unevenness caused by impurity ions adsorbing to the first alignment film 16h in the display region 10h of the TFT substrate 10 with a low-cost and simple structure, and a method for manufacturing the liquid crystal device 1 Can be provided.

以下、変形例を示す。本実施の形態においては、第２の配向膜１６ｋは、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａの少なくとも表示領域１０ｈと該表示領域１０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域１０ｓとで囲まれた領域１０ｋに形成されると示した。   Hereinafter, a modification is shown. In the present embodiment, the second alignment film 16k is a region surrounded by at least the display region 10h of the surface 10a of the TFT substrate 10 and the formation region 10s of the sealing material 52 formed outside the display region 10h. It was shown to be formed at 10k.

これに限らず、表示領域１０ｈの外側であれば、シール材形成領域１０ｓ及び該シール材形成領域１０ｓの外側に第２の配向膜１６ｋを形成しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   The present invention is not limited to this, and if it is outside the display area 10h, the same effect as in the present embodiment can be obtained even if the sealing material forming area 10s and the second alignment film 16k are formed outside the sealing material forming area 10s. be able to.

また、以下、別の変形例を示す。図７は、表面に配向膜が形成された図３のＴＦＴ基板の変形例を示す概略平面図、図８は、表面に配向膜が形成された図４の対向基板の変形例を示す概略平面図である。   Hereinafter, another modification will be described. 7 is a schematic plan view showing a modified example of the TFT substrate of FIG. 3 having an alignment film formed on the surface, and FIG. 8 is a schematic plan view showing a modified example of the counter substrate of FIG. 4 having an alignment film formed on the surface. FIG.

本実施の形態においては、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａの表示領域１０ｈに第１の配向膜１６ｈが形成され、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上の囲まれた領域１０ｋに、第１の配向膜１６ｈとは、特性が異なる第２の配向膜１６ｋが形成されていると示した。   In the present embodiment, the first alignment film 16h is formed in the display region 10h of the surface 10a of the TFT substrate 10, and the first alignment film 16h and the region 10k surrounded on the surface 10a of the TFT substrate 10 are formed. Indicated that the second alignment film 16k having different characteristics was formed.

これに限らず、図７に示すように、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上の表示領域１０ｈ、及び少なくとも表示領域１０ｈと該表示領域１０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域１０ｓとで囲まれた領域１０ｋに、第１の配向膜１６ｈを形成し、図８に示すように、対向基板２０の表面２０ａ上の表示領域２０ｈに第１の配向膜１６ｈを形成し、また、ＴＦＴ基板２０の表面２０ａ上の囲まれた領域２０ｋに、第１の配向膜１６ｈとは、特性が異なる第２の配向膜１６ｋを形成しても、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   Not limited to this, as shown in FIG. 7, the display region 10h on the surface 10a of the TFT substrate 10 and at least the display region 10h and the formation region 10s of the sealing material 52 formed outside the display region 10h are surrounded. A first alignment film 16h is formed in the region 10k, and as shown in FIG. 8, the first alignment film 16h is formed in the display region 20h on the surface 20a of the counter substrate 20, and the TFT substrate 20 Even if the second alignment film 16k having characteristics different from those of the first alignment film 16h is formed in the enclosed region 20k on the surface 20a, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

尚、この場合も、表示領域２０ｈの外側であれば、シール材形成領域２０ｓ及び該シール材形成領域２０ｓの外側にも第２の配向膜１６ｋを形成してもよい。   In this case, the second alignment film 16k may also be formed outside the seal material forming region 20s and the seal material forming region 20s as long as it is outside the display region 20h.

次に、この場合の液晶装置１の製造方法について、図９を用いて説明する。図９は、図６の液晶装置の製造方法の変形例を示すフローチャートである。尚、この場合も配向膜１６の形成工程以外の製造工程は、従来と同じであるため、説明を省略する。   Next, a manufacturing method of the liquid crystal device 1 in this case will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a flowchart showing a modification of the method for manufacturing the liquid crystal device of FIG. In this case as well, the manufacturing steps other than the step of forming the alignment film 16 are the same as those in the prior art, and thus the description thereof is omitted.

同図に示すように、先ずステップＳ１１において、共通電極２１等が形成された対向基板２０を配向膜形成装置にセットする。次いで、ステップＳ１２において、対向基板２０の表面２０ａ上であって、表示領域２０ｈに、第１の配向膜１６ｈが、例えば印刷またはインクジェットと同等の構成を有する液滴吐出手段等により形成される。その後、ステップＳ１３に移行する。   As shown in the figure, first, in step S11, the counter substrate 20 on which the common electrode 21 and the like are formed is set in an alignment film forming apparatus. Next, in step S12, the first alignment film 16h is formed on the surface 20a of the counter substrate 20 and in the display region 20h by, for example, a droplet discharge unit having a configuration equivalent to printing or inkjet. Thereafter, the process proceeds to step S13.

ステップＳ１３では、対向基板２０の表面２０ａ上であって、少なくとも表示領域２０ｈと該表示領域２０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域２０ｓとで囲まれた領域２０ｋに、第１の配向膜１６ｈと、分子構造、材質、またはＴＦＴ基板との密着性を高める添加物の有無等が異なる第２の配向膜１６ｋが、例えば印刷またはインクジェットと同等の構成を有する液滴吐出手段等により形成される。その後、ステップＳ１４に移行する。   In step S13, the first alignment is performed on a region 20k on the surface 20a of the counter substrate 20 and surrounded by at least the display region 20h and the formation region 20s of the sealing material 52 formed outside the display region 20h. A second alignment film 16k that is different from the film 16h in terms of molecular structure, material, or the presence or absence of an additive that enhances adhesion to the TFT substrate is formed by, for example, a droplet discharge means having a configuration equivalent to printing or inkjet. Is done. Thereafter, the process proceeds to step S14.

ステップＳ１４では、画素電極９等が形成されたＴＦＴ基板１０を配向膜形成装置にセットされる。次いで、ステップＳ１５では、ＴＦＴ基板１０の表面１０ａ上であって、表示領域１０ｈ及び少なくとも表示領域１０ｈと該表示領域１０ｈの外側に形成されたシール材５２の形成領域１０ｓとで囲まれた領域１０ｋに、第１の配向膜１６ｈが形成される。   In step S14, the TFT substrate 10 on which the pixel electrodes 9 and the like are formed is set in the alignment film forming apparatus. Next, in step S15, the region 10k on the surface 10a of the TFT substrate 10 and surrounded by the display region 10h and at least the display region 10h and the formation region 10s of the sealing material 52 formed outside the display region 10h. In addition, the first alignment film 16h is formed.

最後に、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に形成された配向膜１６に、液晶５０の分子をＴＦＴ基板及び対向基板面に沿って配向させるためのラビング処理が施され、本工程は終了する。このようにして、液晶装置１に用いるＴＦＴ基板１０の表面１０ａ及び対向基板２０の表面２０ａに、配向膜１６が形成される。   Finally, the alignment film 16 formed on the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 is subjected to a rubbing process for aligning the molecules of the liquid crystal 50 along the surfaces of the TFT substrate and the counter substrate, and this process ends. In this way, the alignment film 16 is formed on the surface 10 a of the TFT substrate 10 used in the liquid crystal device 1 and the surface 20 a of the counter substrate 20.

よって、シール材５２または該シール材５２を封止する封止材１０９から不純物イオンが溶出したとしても、該不純物イオンは囲まれた領域２０ｋの第２の配向膜１６ｋに吸着するため、不純物イオンが表示領域２０ｈの第１の配向膜１６ｈに吸着してしまい、表示ムラが発生することを防ぐことができる。   Therefore, even if impurity ions are eluted from the sealing material 52 or the sealing material 109 that seals the sealing material 52, the impurity ions are adsorbed to the second alignment film 16k in the enclosed region 20k, and thus the impurity ions Can be prevented from adhering to the first alignment film 16h in the display region 20h and causing display unevenness.

また、配向膜の特性を変えるだけで、不純物イオンが表示領域２０ｈ上の第１の配向膜１６ｈに吸着してしまうことを防ぐことができるため、低コストかつ簡単な構造で、表示ムラを防ぐことができる。   Further, since it is possible to prevent the impurity ions from being adsorbed to the first alignment film 16h on the display region 20h only by changing the characteristics of the alignment film, display unevenness can be prevented with a low-cost and simple structure. be able to.

よって、対向基板２０の表示領域２０ｈの第１の配向膜１６ｈに不純物イオンが吸着することにより発生する表示ムラを低コストかつ簡単な構造で防止する液晶装置１、及び液晶装置１の製造方法を提供することができる。   Therefore, there is provided a liquid crystal device 1 and a method for manufacturing the liquid crystal device 1 that prevent display unevenness caused by impurity ions adsorbing to the first alignment film 16h of the display region 20h of the counter substrate 20 with a low cost and simple structure. Can be provided.

また、さらに別の変形例を示す。図１０は、表面に配向膜が形成された図３のＴＦＴ基板のさらに別の変形例を示す概略平面図、図１１は、表面に配向膜が形成された図４の対向基板のさらに別の変形例を示す概略平面図である。   Still another modification is shown. FIG. 10 is a schematic plan view showing still another modified example of the TFT substrate of FIG. 3 having an alignment film formed on the surface, and FIG. 11 is still another example of the counter substrate of FIG. 4 having an alignment film formed on the surface. It is a schematic plan view which shows a modification.

本実施の形態においては、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを対向配置させた際、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋと、該領域１０ｋに対向する対向基板２０の囲まれた領域２０ｋとで、形成される配向膜が異なると示した。   In the present embodiment, when the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged to face each other, the region 10k surrounded by the TFT substrate 10 and the region 20k surrounded by the counter substrate 20 facing the region 10k. The alignment film to be formed is different.

即ち、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋに、第２の配向膜１６ｋが形成されており、囲まれた領域１０ｋに対向する対向基板２０の囲まれた領域２０ｋに、第１の配向膜１６ｈが形成されている、または対向基板２０の囲まれた領域２０ｋに、第２の配向膜１６ｋが形成されており、囲まれた領域２０ｋに対向するＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋに、第１の配向膜１６ｈが形成されていると示した。   That is, the second alignment film 16k is formed in the region 10k surrounded by the TFT substrate 10, and the first alignment film 16h is formed in the region 20k surrounded by the counter substrate 20 facing the surrounded region 10k. Or the second alignment film 16k is formed in the region 20k surrounded by the counter substrate 20, and the second alignment film 16k is formed in the region 10k of the TFT substrate 10 facing the surrounded region 20k. 1 alignment film 16h is formed.

これに限らず、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを対向配置させた際、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋと、該領域１０ｋに対向する対向基板２０の囲まれた領域２０ｋとに形成された配向膜が対向面で特性が異なっていれば、どのように形成してもよい。   Not limited to this, when the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged to face each other, the TFT substrate 10 is formed in a region 10k surrounded by the TFT substrate 10 and a region 20k surrounded by the counter substrate 20 facing the region 10k. The alignment film may be formed in any way as long as the characteristics are different on the opposing surface.

具体的には、図１０、図１１に示すように、ＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋの上半部に、第２の配向膜１６ｋを形成し、またＴＦＴ基板１０の囲まれた領域１０ｋの下半部に、第１の配向膜１６ｈを形成し、さらに、対向基板２０の囲まれた領域１０ｋの上半部に、第１の配向膜１６ｈを形成し、また対向基板２０の囲まれた領域１０ｋの下半部に、第１の配向膜１６ｋを形成しても、上述した本実施の形態と同様の効果を得ることができる。   Specifically, as shown in FIGS. 10 and 11, a second alignment film 16k is formed in the upper half of the region 10k surrounded by the TFT substrate 10, and the region 10k surrounded by the TFT substrate 10 is formed. The first alignment film 16h is formed in the lower half of the substrate, and the first alignment film 16h is formed in the upper half of the region 10k surrounded by the counter substrate 20, and the counter substrate 20 is surrounded by the first alignment film 16h. Even if the first alignment film 16k is formed in the lower half of the region 10k, the same effects as those of the present embodiment described above can be obtained.

さらに、本発明の液晶装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶装置は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールにも適用することができる。   Further, the liquid crystal device of the present invention is not limited to the illustrated examples described above, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the above-described liquid crystal device has been described by taking an active matrix type liquid crystal display module using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) as an example. The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal display module using active elements (active elements).

さらに、本発明に係る液晶装置が用いられる電子機器としては、プロジェクタ等の光投写型表示装置や、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、電気光学装置である液晶表示モジュールを用いる機器が挙げられる。したがって、これらの電子機器においても、本発明が適用可能であることはいうまでもない。   Furthermore, as an electronic device in which the liquid crystal device according to the present invention is used, an optical projection display device such as a projector, a mobile phone, a portable information device called PDA (Personal Digital Assistants), a portable personal computer, a personal computer, Digital still camera, in-vehicle monitor, digital video camera, LCD TV, viewfinder type, monitor direct-view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, video phone, POS terminal, etc. And an apparatus using a liquid crystal display module which is an electro-optical device. Therefore, it goes without saying that the present invention can also be applied to these electronic devices.

本発明の一実施の形態を示す液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。The top view which looked at the liquid crystal device which shows one embodiment of this invention from the opposing board | substrate side with each component formed on it. 図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図。Sectional drawing which follows the II-II line | wire in FIG. 表面に配向膜が形成された図１のＴＦＴ基板の概略平面図。FIG. 2 is a schematic plan view of the TFT substrate of FIG. 1 with an alignment film formed on the surface. 表面に配向膜が形成された図１の対向基板の概略平面図。FIG. 2 is a schematic plan view of the counter substrate of FIG. 1 having an alignment film formed on the surface. 図３のＴＦＴ基板と図４の対向基板とを対向配置させたときのＴＦＴ基板及び対向基板の配向膜の位置を示す断面図。Sectional drawing which shows the position of the orientation film | membrane of a TFT substrate and a counter substrate when the TFT substrate of FIG. 3 and the counter substrate of FIG. 本実施の形態を示す液晶装置の製造方法を示すフローチャート。6 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present embodiment. 表面に配向膜が形成された図３のＴＦＴ基板の変形例を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the modification of the TFT substrate of FIG. 3 with which the orientation film was formed in the surface. 表面に配向膜が形成された図４の対向基板の変形例を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the modification of the opposing board | substrate of FIG. 4 with which the oriented film was formed in the surface. 図６の液晶装置の製造方法の変形例を示すフローチャート。7 is a flowchart showing a modification of the method for manufacturing the liquid crystal device of FIG. 表面に配向膜が形成された図３のＴＦＴ基板のさらに別の変形例を示す概略平面図。The schematic plan view which shows another modification of the TFT substrate of FIG. 3 by which the alignment film was formed in the surface. 表面に配向膜が形成された図４の対向基板のさらに別の変形例を示す概略平面図。The schematic plan view which shows another modification of the opposing board | substrate of FIG. 4 with which the oriented film was formed in the surface.

符号の説明Explanation of symbols

１…液晶装置、９…画素電極、９ｄ…ダミー電極、１０…ＴＦＴ基板、１０ａ…ＴＦＴ基板表面、１０ｈ…ＴＦＴ基板の表示領域、１０ｋ…ＴＦＴ基板の囲まれた領域、１０ｓ…ＴＦＴ基板のシール材の形成領域、１６…配向膜、１６ｈ…第１の配向膜、１６ｋ…第２の配向膜、２０…対向基板、２０ａ…対向基板表面、２０ｈ…対向基板の表示領域、２０ｋ…対向基板の囲まれた領域、２０ｓ…対向基板のシール材の形成領域、２１…共通電極、４０…液晶装置の表示領域、５０…液晶、５２…シール材、５３…遮光膜。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal device, 9 ... Pixel electrode, 9d ... Dummy electrode, 10 ... TFT substrate, 10a ... TFT substrate surface, 10h ... Display area of TFT substrate, 10k ... Area surrounded by TFT substrate, 10s ... Seal of TFT substrate Material forming region, 16 ... alignment film, 16 h ... first alignment film, 16 k ... second alignment film, 20 ... counter substrate, 20 a ... counter substrate surface, 20 h ... display region of counter substrate, 20 k ... of counter substrate Enclosed area, 20 s ... forming area of sealing material of counter substrate, 21 ... common electrode, 40 ... display area of liquid crystal device, 50 ... liquid crystal, 52 ... sealing material, 53 ... light shielding film.

Claims (14)

表示領域に複数の第１電極が形成された第１基板と、該第１基板に対向し、第２電極が形成された第２基板とを前記表示領域の外側に形成されたシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置において、
前記第１基板及び前記第２基板の前記液晶に面する側に前記液晶を配向させる配向膜が形成されており、
前記配向膜のうち、前記第１基板における前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第１の配向膜と、前記第２基板の前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第２の配向膜とを有し、
前記第１の配向膜と第２の配向膜とは特性が異なっていることを特徴とする液晶装置。 A first substrate on which a plurality of first electrodes are formed in a display area and a second substrate on which the second electrodes are formed opposite to the first substrate via a sealing material formed outside the display area In a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the first substrate and the second substrate,
An alignment film for aligning the liquid crystal is formed on the first substrate and the second substrate facing the liquid crystal;
Of the alignment film, a first alignment film formed in a region surrounded by the display region and the sealing material formation region in the first substrate, and a region facing the display region of the second substrate And a second alignment film formed in a region surrounded by the formation region of the sealing material,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first alignment film and the second alignment film have different characteristics. 表示領域に複数の第１電極が形成された第１基板と、該第１基板に対向し、第２電極が形成された第２基板とを前記表示領域の外側に形成されたシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置において、
前記第１基板及び前記第２基板の前記液晶に面する側に前記液晶を配向させる配向膜が形成されており、
前記配向膜のうち、前記第１基板における前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第１の配向膜と、前記第２基板の前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に形成された第２の配向膜とを形成することで、
前記表示領域と前記シール材の形成領域との間の領域と前記表示領域とで電位差が生じ、前記表示領域と前記シール材の形成領域との間の領域に不純物イオンが吸着されることを特徴とする液晶装置。 A first substrate on which a plurality of first electrodes are formed in a display area and a second substrate on which the second electrodes are formed opposite to the first substrate via a sealing material formed outside the display area In a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the first substrate and the second substrate,
An alignment film for aligning the liquid crystal is formed on the first substrate and the second substrate facing the liquid crystal;
Of the alignment film, a first alignment film formed in a region surrounded by the display region and the sealing material formation region in the first substrate, and a region facing the display region of the second substrate And forming a second alignment film formed in a region surrounded by the formation region of the sealing material,
A potential difference is generated between the display region and the region where the seal material is formed, and the display region, and impurity ions are adsorbed in the region between the display region and the seal material formation region. A liquid crystal device. 前記第１の配向膜と前記第２の配向膜とは帯電性が異なることにより特性が異なることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first alignment film and the second alignment film have different characteristics due to different charging properties. 前記第１の配向膜と前記第２の配向膜とは、分子構造、材質または基板との密着性を高める添加物の有無が異なることにより、特性が異なることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。   The characteristics of the first alignment film and the second alignment film are different depending on a molecular structure, a material, or presence / absence of an additive that enhances adhesion to the substrate. LCD device. 前記第１基板の前記表示領域上、及び前記第２基板の前記表示領域に対向する領域上には前記第１の配向膜が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first alignment film is formed on the display region of the first substrate and on a region of the second substrate facing the display region. . 前記第１基板は素子基板であって、前記表示領域に複数のスイッチング素子を有し、前記第１の電極は前記スイッチング素子に対応して設けられた画素電極であり、
前記第２基板は対向基板で、前記第２の電極は対向電極であることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。 The first substrate is an element substrate and has a plurality of switching elements in the display region, and the first electrode is a pixel electrode provided corresponding to the switching element,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the second substrate is a counter substrate, and the second electrode is a counter electrode. 前記囲まれた領域に形成される前記配向膜は、表示領域の外側に設けられたダミーの画素電極上に形成されることを特徴とする請求項６に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 6, wherein the alignment film formed in the enclosed region is formed on a dummy pixel electrode provided outside the display region. 前記ダミーの画素電極は、前記表示領域の外周を規定する遮光膜により被覆されたことを特徴とする請求項７に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 7, wherein the dummy pixel electrode is covered with a light shielding film that defines an outer periphery of the display region. 請求項１〜８のいずれかの液晶装置を用いて構成したことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1. 表示領域に複数の電極を有する第１基板と該第１基板に対向する第２基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、
前記第１基板の表示領域上の前記液晶に面する側に、第１の配向膜を形成する工程と、
前記第１基板の、少なくとも前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の前記第１の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、
前記第２基板に、前記第１の配向膜と同一の配向膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 A first substrate having a plurality of electrodes in a display region and a second substrate facing the first substrate are arranged to face each other via a sealing material provided outside the display region, and the first substrate and the second substrate In a method for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is interposed between
Forming a first alignment film on the liquid crystal facing side of the display area of the first substrate;
Forming a second alignment film having a characteristic different from that of the first alignment film of the display region in a region surrounded by at least the display region and the formation region of the sealing material of the first substrate; ,
Forming the same alignment film as the first alignment film on the second substrate;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: 表示領域に複数の画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを有する素子基板と該素子基板に対向する対向基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記素子基板と前記対向基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、
前記素子基板の表示領域上の前記液晶に面する側に、第１の配向膜を形成する工程と、
前記素子基板の前記内面上の、少なくとも前記表示領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の前記第１の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、
前記対向基板に、前記第１の配向膜と同一の配向膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 An element substrate having a plurality of pixel electrodes and switching elements provided corresponding to the pixel electrodes in the display area and a counter substrate facing the element substrate are arranged to face each other through a sealing material provided outside the display area. In the method of manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is interposed between the element substrate and the counter substrate,
Forming a first alignment film on the liquid crystal facing side of the display region of the element substrate;
A second alignment film having a characteristic different from that of the first alignment film of the display region is formed on at least the region surrounded by the display region and the sealing material forming region on the inner surface of the element substrate. And a process of
Forming the same alignment film as the first alignment film on the counter substrate;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: 表示領域に複数の画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを有する素子基板と、該素子基板に対向する対向基板とを前記表示領域の外に設けるシール材を介して対向配置させ、前記素子基板と前記対向基板との間に液晶を介在させた液晶装置の製造方法において、
前記対向基板の前記表示領域に対向する領域に、第１の配向膜を形成する工程と、
前記対向基板の、少なくとも前記表示領域に対向する領域と前記シール材の形成領域とで囲まれた領域に、前記表示領域の配向膜とは異なる特性の第２の配向膜を形成する工程と、
前記素子基板上に、前記第１の配向膜と同一の前記配向膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 An element substrate having a plurality of pixel electrodes and switching elements provided corresponding to the pixel electrodes in the display area, and a counter substrate facing the element substrate are opposed to each other through a sealing material provided outside the display area. In a method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is interposed between the element substrate and the counter substrate,
Forming a first alignment film in a region facing the display region of the counter substrate;
Forming a second alignment film having a characteristic different from the alignment film of the display region in a region surrounded by at least the region facing the display region and the formation region of the sealing material of the counter substrate;
Forming the same alignment film as the first alignment film on the element substrate;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: 前記第１の配向膜及び前記第２の配向膜は帯電性が異なることにより特性が異なることを特徴とする請求項１１または１２に記載の液晶装置の製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 11, wherein the first alignment film and the second alignment film have different characteristics due to different charging properties. 前記表示領域の配向膜と前記囲まれた領域の配向膜とは、分子構造、材質または基板との密着性を高める添加物の有無が異なることにより、特性が異なることを特徴とする請求項１１または１２に記載の液晶装置の製造方法。   12. The characteristics of the alignment film in the display region and the alignment film in the enclosed region are different depending on a molecular structure, a material, or presence / absence of an additive that enhances adhesion to the substrate. Or a method for producing a liquid crystal device according to item 12.
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